JPS597169A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents
カルボスチリル誘導体Info
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- JPS597169A JPS597169A JP57117312A JP11731282A JPS597169A JP S597169 A JPS597169 A JP S597169A JP 57117312 A JP57117312 A JP 57117312A JP 11731282 A JP11731282 A JP 11731282A JP S597169 A JPS597169 A JP S597169A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規カルボスチリル誘導体、さらに詳しくは、
一般式 〔式中 R1は水素原子、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルギニ/L/またはフェニル低級アルキ7L
/ ; R2は水素原子、水酸基または低級アルコキシ
、 R3は水酸基、・・ロゲン原子、低級アルカノイ低
級アルキル R5は低級アルカノイlv)を示し。
一般式 〔式中 R1は水素原子、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルギニ/L/またはフェニル低級アルキ7L
/ ; R2は水素原子、水酸基または低級アルコキシ
、 R3は水酸基、・・ロゲン原子、低級アルカノイ低
級アルキル R5は低級アルカノイlv)を示し。
カルボスチリル骨核の3位と4位間の結合は一重結合ま
たは二重結合を示す。置換基の置換位置はカルボスチリ
ル骨核の8.4.5,6.7または8位のいずれかであ
る。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体およびその塩に関す
る。
たは二重結合を示す。置換基の置換位置はカルボスチリ
ル骨核の8.4.5,6.7または8位のいずれかであ
る。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体およびその塩に関す
る。
本発明の化合物は、それ自体抗潰瘍作用を有するほか、
すぐれた抗潰瘍作用を有する、とくに。
すぐれた抗潰瘍作用を有する、とくに。
実験酢酸潰瘍や焼灼潰瘍などの慢性潰瘍病態一対して顕
著な予防および治療効果を有する下記一般式(2)で示
される化合物の合成中間体として有用である。
著な予防および治療効果を有する下記一般式(2)で示
される化合物の合成中間体として有用である。
〔式中 R1は水素原子、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニルまたはフェニル低級アルギル、 R
2は水素原子、水酸基または低級アルコキシ;R′は水
素原子または低級アルキル;R“は水素原子または基−
COR(Rはアミノ基またはフェニル低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基を置換基として有することのある低級
アルキル、シクロアルギル、またはフェニル環上に置換
基としてハロゲン原子、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロおよびアミノから選ばれる基の1〜3個を有す
ることのあるフェニル基)を示し、置換基の式は二重結
合であることを意味し、かつこの置換基の置換位置はカ
ルボスチリル骨核の3.4.5.6.7または8位のい
ずすLかである。またカルボスチリル骨核の3位と4位
の結合は一重結合捷たは二重結合を示す〕 本明細書において、低級アルキルとしては炭素数1〜6
個の直鎖または分枝鎖アルキル、例えばメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペン
チル、ヘキシルなトカ挙ケられ、低級アルケニルとして
は炭素数2〜6個の直鎖または分枝鎖アルケニル、例え
ばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、】−
メチルアリル、2−ペンテニル、2−へキセニルナト。
ル、低級アルキニルまたはフェニル低級アルギル、 R
2は水素原子、水酸基または低級アルコキシ;R′は水
素原子または低級アルキル;R“は水素原子または基−
COR(Rはアミノ基またはフェニル低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基を置換基として有することのある低級
アルキル、シクロアルギル、またはフェニル環上に置換
基としてハロゲン原子、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロおよびアミノから選ばれる基の1〜3個を有す
ることのあるフェニル基)を示し、置換基の式は二重結
合であることを意味し、かつこの置換基の置換位置はカ
ルボスチリル骨核の3.4.5.6.7または8位のい
ずすLかである。またカルボスチリル骨核の3位と4位
の結合は一重結合捷たは二重結合を示す〕 本明細書において、低級アルキルとしては炭素数1〜6
個の直鎖または分枝鎖アルキル、例えばメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペン
チル、ヘキシルなトカ挙ケられ、低級アルケニルとして
は炭素数2〜6個の直鎖または分枝鎖アルケニル、例え
ばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、】−
メチルアリル、2−ペンテニル、2−へキセニルナト。
さらに低級アルキニルとしては炭素数2〜6個の直鎖ま
たは分枝鎖アルキニル、例えばエチニル。
たは分枝鎖アルキニル、例えばエチニル。
2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−メ
チ)v−2−フロビニル、2−ペンチニル、2−ヘキシ
ニルなどが挙げられる。
チ)v−2−フロビニル、2−ペンチニル、2−ヘキシ
ニルなどが挙げられる。
フェニル低級アルキルとしては、そのアルキル部分が炭
素数1〜6個の直鎖または分枝鎖アルキルであるフェニ
ルアルキル、例エバベンジル、2−フェニルエチル、■
−フェニルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェニ
ルブチル、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル、5
−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、2−メチ
ル−3−フェニルプロピルなどが挙げられ、シクロアル
キルとしては炭素数3〜8個のシクロアルキル、例えば
シクロプロピル、シクロブチ/L/+ シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチ/1./+ シクロオ
クチルなどが挙げられる。
素数1〜6個の直鎖または分枝鎖アルキルであるフェニ
ルアルキル、例エバベンジル、2−フェニルエチル、■
−フェニルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェニ
ルブチル、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル、5
−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、2−メチ
ル−3−フェニルプロピルなどが挙げられ、シクロアル
キルとしては炭素数3〜8個のシクロアルキル、例えば
シクロプロピル、シクロブチ/L/+ シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチ/1./+ シクロオ
クチルなどが挙げられる。
低級アルコキシとしては炭素数1〜6個の直鎖捷たは分
枝鎖アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ。
枝鎖アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ。
tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ
などが挙けられ、ハロゲン原子としてはフッ素。
などが挙けられ、ハロゲン原子としてはフッ素。
塩素、臭素およびヨウ素が挙けられる。
フェニル低級アルコギシカルボニルアミノ基トしては、
アルコキシ部分が炭素数1〜6個の直鎖捷たは分枝鎖ア
ルコキシであるフェニルアルコギシカルボニルアミノで
あって、例えばベンジルオキシカルボニルアミノ、2−
フェニルエトキシカルボニルアミノ、1−フェニルエト
キシカルボニルアミノ、3−フェニルプロポキシカルボ
ニルアミノ、4−フェニルエトキシカルボニルアミノ。
アルコキシ部分が炭素数1〜6個の直鎖捷たは分枝鎖ア
ルコキシであるフェニルアルコギシカルボニルアミノで
あって、例えばベンジルオキシカルボニルアミノ、2−
フェニルエトキシカルボニルアミノ、1−フェニルエト
キシカルボニルアミノ、3−フェニルプロポキシカルボ
ニルアミノ、4−フェニルエトキシカルボニルアミノ。
■、1−ジメチ/I/−2−フェニルエトキシカルボニ
ルアミノ、5−フェニルペンチルオキシカルボニルアミ
ノ、6−フエニルヘキジルオキシカルボニルアミノ、2
−メチ)v−3−フェニルプロポキシカルボニルアミノ
などが例示される。しかして。
ルアミノ、5−フェニルペンチルオキシカルボニルアミ
ノ、6−フエニルヘキジルオキシカルボニルアミノ、2
−メチ)v−3−フェニルプロポキシカルボニルアミノ
などが例示される。しかして。
アミン基マたはフェニル低級アルコキシカルボニルアミ
ノ基ヲ有していることのある低級アルキルとしては、置
換基のない場合は前記のごとき低級アルキルが挙げられ
1置換基を有する場合は、例えばアミノメチル、2−ア
ミノエチル、2−寸たは3−アミノプロピル、1−メチ
)L/−2−アミノエチル、2−13−または4−アミ
ノブチル、1゜1−ジメチル−2−アミノブチル、2−
4り1riB−アミノペンチル、4−アミノヘキシル、
ペンジルオギシ力ルポニルアミノメチル、2−ペンジル
オキシカルボニルアミノエチル、2−ペンシルオキシカ
ルボニルアミノプロピル、3−ペンシルオキシカルボニ
ルアミノプロピル、4−ペンジルオギシ力ルポニルアミ
ノブチル、3−ペンシルオキシカルボニルアミノブチル
、5−ベンジルオキシカルボニルアミノペンチル、6−
ベンジルオキジカルボニルアミノヘキシル22−フェニ
ルエトキシカルボニルアミノメチル、l−フェニルエト
キシカルボニルアミノメチル、2−(2−フェ= )V
エトキシカルボニルアミノ)エチル、3−(1−フェニ
ルエトキシカルボニルアミノ)プロピル。
ノ基ヲ有していることのある低級アルキルとしては、置
換基のない場合は前記のごとき低級アルキルが挙げられ
1置換基を有する場合は、例えばアミノメチル、2−ア
ミノエチル、2−寸たは3−アミノプロピル、1−メチ
)L/−2−アミノエチル、2−13−または4−アミ
ノブチル、1゜1−ジメチル−2−アミノブチル、2−
4り1riB−アミノペンチル、4−アミノヘキシル、
ペンジルオギシ力ルポニルアミノメチル、2−ペンジル
オキシカルボニルアミノエチル、2−ペンシルオキシカ
ルボニルアミノプロピル、3−ペンシルオキシカルボニ
ルアミノプロピル、4−ペンジルオギシ力ルポニルアミ
ノブチル、3−ペンシルオキシカルボニルアミノブチル
、5−ベンジルオキシカルボニルアミノペンチル、6−
ベンジルオキジカルボニルアミノヘキシル22−フェニ
ルエトキシカルボニルアミノメチル、l−フェニルエト
キシカルボニルアミノメチル、2−(2−フェ= )V
エトキシカルボニルアミノ)エチル、3−(1−フェニ
ルエトキシカルボニルアミノ)プロピル。
2−(3−フェニルプロポキシカルボニルアミノ)エチ
ル、4−(4−フェニルブトキシカルボニルアミノ)ブ
チル、2−(5−フェニルペンチルオキシカルボニルア
ミノ)エチル、2−(6−フエニルヘキジルオキシカル
ボニルアミノ)エチル、1.1−ジメチ/l/−2−(
ベンジルオキシカルボニルアミノ)エチル、(1,1−
ジメチル−2−フェニルエトキシカルボニルアミノ)メ
チルな1どが挙げられる。
ル、4−(4−フェニルブトキシカルボニルアミノ)ブ
チル、2−(5−フェニルペンチルオキシカルボニルア
ミノ)エチル、2−(6−フエニルヘキジルオキシカル
ボニルアミノ)エチル、1.1−ジメチ/l/−2−(
ベンジルオキシカルボニルアミノ)エチル、(1,1−
ジメチル−2−フェニルエトキシカルボニルアミノ)メ
チルな1どが挙げられる。
フェニル環上に置換基としてノ・ロゲン原子、低級アル
キル、低級アルコキシ、ニトロおよびアミノから選ばれ
る基を1〜3個有することのあるフェニル環上ては、例
えばフェニル、2−.3−または4−クロロフェニル、
2−13−または4−フルオロフェニル、2−.3−ま
た1d4−ブロモフェニル、2−13−または4−ヨー
ドフェニ/1/。
キル、低級アルコキシ、ニトロおよびアミノから選ばれ
る基を1〜3個有することのあるフェニル環上ては、例
えばフェニル、2−.3−または4−クロロフェニル、
2−13−または4−フルオロフェニル、2−.3−ま
た1d4−ブロモフェニル、2−13−または4−ヨー
ドフェニ/1/。
3.5−ジクロロフェニル+ 2.6−シクロロフfニ
ル、 3.4−ジクロロフエニ/l/、 3.4−
ジフルオロフェニル−3,5−ジブロモフェニル、2−
.3−またば4−メチルフェニル、2−.3−捷たは4
−エチルフェニル、4−プロピルフェニル、3−イソプ
ロピルフェニル、2−ブチルフェニル、4−へキシルフ
ェニル、3−ペンチルフェニル、4− tert−プチ
ルフエニ/l/、 3.4−ジメチルフェニル、2,
5−ジメチルフェニル、2−.34たは4−メトキシフ
ェニル、2−1s−′!!:たは4−エトキシフェニル
、3−プロポキシフェニル、4−インプロポキシフェニ
ル、3−ブトキシフェニル、2−ペンチルオキシフェニ
ル、4− LerL−ブトキシフェニル、4−へキシル
オキシフェニル、3.4−シメトキシフエニル、3.4
−ジェトキシフェニル、2.5−ジメトキシフェニル、
2−18−4+”tは4−ニトロフェニル、2.4−ジ
ニトロフェニル、2−13−またば4−アミノフェニル
、2,4−ジアミノフェニル+3−メチル−4−クロロ
フェニル、2−クロロ−6−メチルフェニル、2−メト
キシ−3−クロロフェニル、 8,4.5− )リメト
キシフェニル、8,4.5−)リメチルフェニ)v 、
3.4゜5−トリクロロフェニルなどが挙げられる
。
ル、 3.4−ジクロロフエニ/l/、 3.4−
ジフルオロフェニル−3,5−ジブロモフェニル、2−
.3−またば4−メチルフェニル、2−.3−捷たは4
−エチルフェニル、4−プロピルフェニル、3−イソプ
ロピルフェニル、2−ブチルフェニル、4−へキシルフ
ェニル、3−ペンチルフェニル、4− tert−プチ
ルフエニ/l/、 3.4−ジメチルフェニル、2,
5−ジメチルフェニル、2−.34たは4−メトキシフ
ェニル、2−1s−′!!:たは4−エトキシフェニル
、3−プロポキシフェニル、4−インプロポキシフェニ
ル、3−ブトキシフェニル、2−ペンチルオキシフェニ
ル、4− LerL−ブトキシフェニル、4−へキシル
オキシフェニル、3.4−シメトキシフエニル、3.4
−ジェトキシフェニル、2.5−ジメトキシフェニル、
2−18−4+”tは4−ニトロフェニル、2.4−ジ
ニトロフェニル、2−13−またば4−アミノフェニル
、2,4−ジアミノフェニル+3−メチル−4−クロロ
フェニル、2−クロロ−6−メチルフェニル、2−メト
キシ−3−クロロフェニル、 8,4.5− )リメト
キシフェニル、8,4.5−)リメチルフェニ)v 、
3.4゜5−トリクロロフェニルなどが挙げられる
。
低級アルカノイルオキシとしては、炭素数1〜6個の直
鎖または分枝鎖アルカノイルオキシ、゛例えばホルミル
オキシ、アセチルオキシ、プロピニルオキシ、ブチリル
オキシ、インブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、
tert−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイルオキ
シなどが挙げられる。
鎖または分枝鎖アルカノイルオキシ、゛例えばホルミル
オキシ、アセチルオキシ、プロピニルオキシ、ブチリル
オキシ、インブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、
tert−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイルオキ
シなどが挙げられる。
本発明の化合物は光学異性体が存在し、それらも本発明
に含まれる。
に含まれる。
本発明の化合物は各種の方法で製造でき1例えハ、置換
JE R3が低級アルカノイルオキシ以外の基(−R1
である場合(すなわぢ、R3′−水酸基、・・3′ 下記反応式−■に示す方法によシ製造できる。
JE R3が低級アルカノイルオキシ以外の基(−R1
である場合(すなわぢ、R3′−水酸基、・・3′ 下記反応式−■に示す方法によシ製造できる。
(1b) (1c)〔式中
、R1、R2,R4、R5,R6およびカルボスチリル
骨核の3位と4位間の結合は前記に同じ。Rは示す〕 上記反応式−■におけるカルボン酸化合物(3)とアル
コ−/L/(4)との反応は通常のエステル化反応の反
応条件がいずれも採用され1例えば(1)溶媒中脱水剤
の存在下に脱水縮合させるか、(11)酸性または塩基
性触媒の存在下に適当な溶媒中で反応させる。(1)の
方法で使用される溶媒としては1例えば塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロルエタンなどのハロゲン化炭素類
、ベンゼン、トルエン。
、R1、R2,R4、R5,R6およびカルボスチリル
骨核の3位と4位間の結合は前記に同じ。Rは示す〕 上記反応式−■におけるカルボン酸化合物(3)とアル
コ−/L/(4)との反応は通常のエステル化反応の反
応条件がいずれも採用され1例えば(1)溶媒中脱水剤
の存在下に脱水縮合させるか、(11)酸性または塩基
性触媒の存在下に適当な溶媒中で反応させる。(1)の
方法で使用される溶媒としては1例えば塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロルエタンなどのハロゲン化炭素類
、ベンゼン、トルエン。
キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルヌルホキシト、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドなどの非プロトン性極性溶
媒などが挙げられる。
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルヌルホキシト、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドなどの非プロトン性極性溶
媒などが挙げられる。
また脱水剤としては1例えばジシクロへキシルカルボジ
イミド、カルボニルジイミダゾールなどが例示できる。
イミド、カルボニルジイミダゾールなどが例示できる。
化合物(3)に対するアルコ−/L/(4)の使用割合
は少なくとも等モル、好ましくは等モル−1,5倍七ル
である。脱水剤の使用割合は化合物(3)に対して少な
くとも等モル、好ましくは等モ)V〜1.5倍モルであ
る。反応温度は通常室温〜150°C1好ましくは50
〜100°Cで、該反応は一般に1〜10時間で終了す
る。
は少なくとも等モル、好ましくは等モル−1,5倍七ル
である。脱水剤の使用割合は化合物(3)に対して少な
くとも等モル、好ましくは等モ)V〜1.5倍モルであ
る。反応温度は通常室温〜150°C1好ましくは50
〜100°Cで、該反応は一般に1〜10時間で終了す
る。
(11)の方法で用いられる酸性触媒としては1例えば
塩酸ガス、濃硫酸、リン酸、ポリリン酸、三フッ化ホウ
素、過塩素酸などの無機酸、トリフロロa酸、)リフロ
ロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、P−トシ
ル酸、ベンゼンスルホン酸。
塩酸ガス、濃硫酸、リン酸、ポリリン酸、三フッ化ホウ
素、過塩素酸などの無機酸、トリフロロa酸、)リフロ
ロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、P−トシ
ル酸、ベンゼンスルホン酸。
エタンスルホン酸などの有機酸、トリクロロメタンスル
ホン酸無水物、トリフロロメタンスルホン酸無水物など
の酸無水物、塩化チオニル、アセトンジメチルアセター
ルなどが例示できる。さらに酸性イオン交換樹脂も本発
明の触媒として用いることができる。塩基性触媒として
は公知のものを広く使用でき1例えば、水酸化す1−リ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀など
の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ートなどのアルコラードが挙げられる。
ホン酸無水物、トリフロロメタンスルホン酸無水物など
の酸無水物、塩化チオニル、アセトンジメチルアセター
ルなどが例示できる。さらに酸性イオン交換樹脂も本発
明の触媒として用いることができる。塩基性触媒として
は公知のものを広く使用でき1例えば、水酸化す1−リ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀など
の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ートなどのアルコラードが挙げられる。
本反応は無溶媒もしくは溶媒中のいずれでも進行する。
用いられる溶媒としては1通常のエヌテル化反応に使用
される溶媒が有効に使用でき、具体的にはベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロルエタン。
される溶媒が有効に使用でき、具体的にはベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロルエタン。
クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテ
ル類が挙げられる。さらに上記反応は無水塩化カルシウ
ド、無水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リンなど
の乾燥剤の使用により有利に行なわれる。該反応におけ
る化合物(3)とアルコ−)v(4)との使用割合は特
に限定されず広い範囲から適宜選択できるが、無溶媒の
場合は前者に対して後者を大過剰に用い、溶媒を用いる
場合には前者に対して後者を等モ/I/〜5倍モル、好
ましくは等モ/V〜2倍モル用込る。反応温度は特に限
定されないが1通常−20〜200°C程度。
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテ
ル類が挙げられる。さらに上記反応は無水塩化カルシウ
ド、無水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リンなど
の乾燥剤の使用により有利に行なわれる。該反応におけ
る化合物(3)とアルコ−)v(4)との使用割合は特
に限定されず広い範囲から適宜選択できるが、無溶媒の
場合は前者に対して後者を大過剰に用い、溶媒を用いる
場合には前者に対して後者を等モ/I/〜5倍モル、好
ましくは等モ/V〜2倍モル用込る。反応温度は特に限
定されないが1通常−20〜200°C程度。
好ましくはO〜150°C程度であり1反応時間は通常
1〜20時間程度である。
1〜20時間程度である。
該エステル化によシ得られた化合物(5)を還元して本
発明の化合物の1種である化合物(1a)に導くことが
できる。なおこの化合物(1a)は化合物(3)を直接
還元しても得られる。これらの還元反応は1通常、水素
化還元剤を用いて行なわれる。
発明の化合物の1種である化合物(1a)に導くことが
できる。なおこの化合物(1a)は化合物(3)を直接
還元しても得られる。これらの還元反応は1通常、水素
化還元剤を用いて行なわれる。
その水車化還元剤としては1例えば水素化硼素ナトリウ
ム、水素化アルミニウムリチウム、ジボランなどが挙げ
られ、その使用量は、通常、化合物(3)または(5)
に対して少なくとも等モル程度。
ム、水素化アルミニウムリチウム、ジボランなどが挙げ
られ、その使用量は、通常、化合物(3)または(5)
に対して少なくとも等モル程度。
好捷しくは等モ/L/〜3倍モルの範囲である。水素化
還元剤として水素化アルミニウムリチウムを用いた場合
には化合物(3)または(5)と等重量用いるのが好都
合である。この還元反応は1通常、適当な溶媒、例えば
水、メタノール、エタノール。
還元剤として水素化アルミニウムリチウムを用いた場合
には化合物(3)または(5)と等重量用いるのが好都
合である。この還元反応は1通常、適当な溶媒、例えば
水、メタノール、エタノール。
イソプロパツールなどの低級アルコール類、テトラヒド
ロフラン、エチルエーテル、ジグライムなどのエーテル
類などを用い、約−60〜50°C1好ましくは一30
〜室温にて、約10分間〜5時間程度で行なわれる。な
お、還元剤として水素化アルミニウムリチウムやジボラ
ンを用いた場合にはエチルエーテlv、テトラヒドロフ
ラン、ジグライムなどの無水の溶媒を用いるのがよい。
ロフラン、エチルエーテル、ジグライムなどのエーテル
類などを用い、約−60〜50°C1好ましくは一30
〜室温にて、約10分間〜5時間程度で行なわれる。な
お、還元剤として水素化アルミニウムリチウムやジボラ
ンを用いた場合にはエチルエーテlv、テトラヒドロフ
ラン、ジグライムなどの無水の溶媒を用いるのがよい。
化合物(la)をハロゲン化して本発明化合物の他の1
種である化合物(1b)に導く反応は1通常の水酸基の
ハロゲン化反応における反応条件がいずれも採用され1
例えば、適当な不活性溶媒中または無溶媒にて化合物(
la)にノ10ゲン化剤を反応させて行なう。用いられ
るノ・ロゲン化剤としては1例えば塩酸、臭化水素酸な
どのハロゲン化水素酸、N、N−ジェチ/L’−1,2
,2−)リクロルビニルアミド、五塩化リン、五臭化リ
ン、オキシ塩化リン、チオニルクロリドなどが挙げられ
る。不活性溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、クロロホルム、塩化メチ
レン、四塩化炭素などのノ・ロゲン化炭化水素類などが
挙げられる。化合物(la)とハロゲン化剤との使用割
合は、@者に対して後者を少なくとも等モル、通常は過
剰量である。該反応は1通常。
種である化合物(1b)に導く反応は1通常の水酸基の
ハロゲン化反応における反応条件がいずれも採用され1
例えば、適当な不活性溶媒中または無溶媒にて化合物(
la)にノ10ゲン化剤を反応させて行なう。用いられ
るノ・ロゲン化剤としては1例えば塩酸、臭化水素酸な
どのハロゲン化水素酸、N、N−ジェチ/L’−1,2
,2−)リクロルビニルアミド、五塩化リン、五臭化リ
ン、オキシ塩化リン、チオニルクロリドなどが挙げられ
る。不活性溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、クロロホルム、塩化メチ
レン、四塩化炭素などのノ・ロゲン化炭化水素類などが
挙げられる。化合物(la)とハロゲン化剤との使用割
合は、@者に対して後者を少なくとも等モル、通常は過
剰量である。該反応は1通常。
室温〜150°C程度、好ましくは室温〜80°Cにて
、1〜6時間時間待なわれる。
、1〜6時間時間待なわれる。
化合物(1b)に化合物(6)を反応させれば本発明化
合物の他の1種である化合物(IC)が得られる。この
反応は適当な不活性溶媒中2塩基性化合物の存在下に、
室温〜200°C1好ましくは60〜120°Cにて1
〜24時間程度の条件で行なわれる。用いられる不活性
溶媒としては1例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
、エチンングリコー/L/+ジメチルエーテルなどのエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル。
合物の他の1種である化合物(IC)が得られる。この
反応は適当な不活性溶媒中2塩基性化合物の存在下に、
室温〜200°C1好ましくは60〜120°Cにて1
〜24時間程度の条件で行なわれる。用いられる不活性
溶媒としては1例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
、エチンングリコー/L/+ジメチルエーテルなどのエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル。
などの低級アルコール類、ジメチルホルムアミド。
ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒が挙げられる。塩
基性化合物としては、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム。
基性化合物としては、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム。
ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム
、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートなどの
無機塩基、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピ
リジン、キノリンなどの第3級アミン類などの広範囲の
ものが用いられる。上記の反応は、必要に応じて反応促
進剤として、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウムなどの
ヨウ化アルカリ金属化合物を添加して行なってもよい。
、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートなどの
無機塩基、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピ
リジン、キノリンなどの第3級アミン類などの広範囲の
ものが用いられる。上記の反応は、必要に応じて反応促
進剤として、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウムなどの
ヨウ化アルカリ金属化合物を添加して行なってもよい。
化合物(1b)と化合物(6)の使用割合は特に制限さ
れないが1通常前者に対して後者を等七ル〜過剰量、好
ましくは等セフ2〜5倍モル、よシ好ましくは等モ)V
〜1.2倍モルである。
れないが1通常前者に対して後者を等七ル〜過剰量、好
ましくは等セフ2〜5倍モル、よシ好ましくは等モ)V
〜1.2倍モルである。
式(1)の化合物を下記反応式−■およびmに示す方法
により他の式(1)の化合物に導くこともできる。
により他の式(1)の化合物に導くこともできる。
(ld) (le)〔式中 a
2、R3,Xおよびカルボスチリル骨核の3位と4位間
の結合は前記に同じ。R1′は低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニルまたはフェニル低級アルキルを
示す〕 上記化合物(1d)と化合物(7)との反応は1例えば
水素化ナトリウム、水素化カリウム、金属カリウム、金
属ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムアミドなど
の塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる
。用いられる溶媒としては1例えばジオキサン、テ1ラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルナトのエーテル類、ベンゼン、トル
エン。
2、R3,Xおよびカルボスチリル骨核の3位と4位間
の結合は前記に同じ。R1′は低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニルまたはフェニル低級アルキルを
示す〕 上記化合物(1d)と化合物(7)との反応は1例えば
水素化ナトリウム、水素化カリウム、金属カリウム、金
属ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムアミドなど
の塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる
。用いられる溶媒としては1例えばジオキサン、テ1ラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルナトのエーテル類、ベンゼン、トル
エン。
キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン酸トリア
ミドなどが挙けられる。化合物(ld)と化合物(7)
との使用割合は特に限定されないが。
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン酸トリア
ミドなどが挙けられる。化合物(ld)と化合物(7)
との使用割合は特に限定されないが。
通常、前者に6t L後者を少なくとも等モル、好まし
くは等モル−2倍モルである。該反応は通常0〜70°
C程度、好ましくは0°C〜室温付近で行なわれ、一般
に30分〜12時間程度で終了する。
くは等モル−2倍モルである。該反応は通常0〜70°
C程度、好ましくは0°C〜室温付近で行なわれ、一般
に30分〜12時間程度で終了する。
「反応式−m〕
(lf) (1g)〔式中、R
’、 R2およびR3は前記に同じ〕上記の化合物(1
f)を脱水素して化合物(1g)に導く反応は、適当な
溶媒中で脱水素剤で処坤して行なわれる。脱水素剤とし
ては1例えば2.3−シクロロー5.6−ジシアツベン
ゾキノン、 2,8,5゜6−チトラクロロペンゾキ
ノン(一般名クロラニル)などのベンゾキノン類、N−
ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イミド、臭
素などのハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウム炭素
。
’、 R2およびR3は前記に同じ〕上記の化合物(1
f)を脱水素して化合物(1g)に導く反応は、適当な
溶媒中で脱水素剤で処坤して行なわれる。脱水素剤とし
ては1例えば2.3−シクロロー5.6−ジシアツベン
ゾキノン、 2,8,5゜6−チトラクロロペンゾキ
ノン(一般名クロラニル)などのベンゾキノン類、N−
ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イミド、臭
素などのハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウム炭素
。
パラジウム黒、酸化バワシウム、ラネーニッケルなどの
脱水素化触媒が挙げられる。その脱水素剤の使用量は特
に制限されないが、ハロゲン化剤の場合には、通常、化
合物(1f)に対し1〜5倍モル、好ましくは1〜2倍
モル用いるのがよく、脱水素化触媒の場合には一般に過
剰量用いるのがよい。他の脱水素剤の場合にも通常等モ
ル〜過剰量用いる。溶媒としては、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、メトキシエタノール、ジメトキシェタ:
/−1ど(Dエーテル類、ベンゼン、トルエン−キシレ
ン、クメンナトの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素なぞのハロ
ゲン化炭化水素類、ブタノール。
脱水素化触媒が挙げられる。その脱水素剤の使用量は特
に制限されないが、ハロゲン化剤の場合には、通常、化
合物(1f)に対し1〜5倍モル、好ましくは1〜2倍
モル用いるのがよく、脱水素化触媒の場合には一般に過
剰量用いるのがよい。他の脱水素剤の場合にも通常等モ
ル〜過剰量用いる。溶媒としては、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、メトキシエタノール、ジメトキシェタ:
/−1ど(Dエーテル類、ベンゼン、トルエン−キシレ
ン、クメンナトの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素なぞのハロ
ゲン化炭化水素類、ブタノール。
アミルアルコール、ヘキサノールなどのアルコール類、
酢酸などの極性プロトン溶媒、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン酸トリアミド
などの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。該反応
は通常室温〜300°C2好寸しくは室温〜200°C
でイイなわれ、一般に1〜40時間程時間路了する。
酢酸などの極性プロトン溶媒、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン酸トリアミド
などの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。該反応
は通常室温〜300°C2好寸しくは室温〜200°C
でイイなわれ、一般に1〜40時間程時間路了する。
また化合物(1g)を還元すれば化合物(1f)に導く
ことかでき、この還元反応は通常の接触還元における条
件が適用され1例えば適当な溶媒中で金属触媒の存在下
に行なわれる。触媒としてはパラジウム、パラジウム炭
素、プラチナ、ラネーニッケルなどの金属触媒が挙げら
れ、通常の触媒量にて用いられる。用いられる溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、インプロパ
ツール、ジオキサン、テ1−ラヒドロフラン、ヘキザン
、シクロヘキザン、酢酸エチル、またはこれらの混合溶
媒が挙けられる。該反応は常圧および加圧下の論ずれで
も行ない得るが、通常、常圧〜20 kz/1yn2.
好ましくは常圧〜10 kg/cm”にて、0〜150
°C1好ましくは室温〜100°Cで行なわれる。
ことかでき、この還元反応は通常の接触還元における条
件が適用され1例えば適当な溶媒中で金属触媒の存在下
に行なわれる。触媒としてはパラジウム、パラジウム炭
素、プラチナ、ラネーニッケルなどの金属触媒が挙げら
れ、通常の触媒量にて用いられる。用いられる溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、インプロパ
ツール、ジオキサン、テ1−ラヒドロフラン、ヘキザン
、シクロヘキザン、酢酸エチル、またはこれらの混合溶
媒が挙けられる。該反応は常圧および加圧下の論ずれで
も行ない得るが、通常、常圧〜20 kz/1yn2.
好ましくは常圧〜10 kg/cm”にて、0〜150
°C1好ましくは室温〜100°Cで行なわれる。
本発明の化合物のうち、R3が水酸基、ハロゲン原子ま
たは低級アルカノイルオキシである化合物は、下記反応
式−IV〜Vllで示される方法によっても製造できる
。
たは低級アルカノイルオキシである化合物は、下記反応
式−IV〜Vllで示される方法によっても製造できる
。
[反応式−IV ]
(8) (9)、 N、a)
〔式中、R1,R2およびカルボヌチリル骨核の3位上
記反応式において化合物(8)を還元して化合物(9)
に導く反応は、 mil記反応式−■における化合物(
3)を化合物(1a)に還元する場合と同様の還元条件
下に行なわれる。この還元反応は、tた、適当な還元触
媒の存在下に接触還元することによっても行なわれ、用
いられる還元触媒としては、例えば白金、酸化白金、パ
ラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニッケルなどの通
常の接触還元用触媒が含まれ、その使用量は化合物(白
に71シ、通常約02〜0.5倍重量の範囲である。こ
の接触還元は1例えば水、メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、テ1−ラヒドロフラン、エチルエーテ
ルなどの溶媒中、1〜10気圧、好ましくは1〜3気圧
の水素雰囲気中、−30°C〜溶媒の沸点高度、好まし
くは0°C〜室篇イス]近にて、よく振り混ぜることに
よシ行なわれる。
〔式中、R1,R2およびカルボヌチリル骨核の3位上
記反応式において化合物(8)を還元して化合物(9)
に導く反応は、 mil記反応式−■における化合物(
3)を化合物(1a)に還元する場合と同様の還元条件
下に行なわれる。この還元反応は、tた、適当な還元触
媒の存在下に接触還元することによっても行なわれ、用
いられる還元触媒としては、例えば白金、酸化白金、パ
ラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニッケルなどの通
常の接触還元用触媒が含まれ、その使用量は化合物(白
に71シ、通常約02〜0.5倍重量の範囲である。こ
の接触還元は1例えば水、メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、テ1−ラヒドロフラン、エチルエーテ
ルなどの溶媒中、1〜10気圧、好ましくは1〜3気圧
の水素雰囲気中、−30°C〜溶媒の沸点高度、好まし
くは0°C〜室篇イス]近にて、よく振り混ぜることに
よシ行なわれる。
化合物(9)をさらに還元して化合物(la’)に導く
方法は、種々の方法があるが、例えば水素還元剤を用い
る還元法が好適に利用される。用いられる水素化還元剤
としては1例えば水素化アルミニウムナトリウム ルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム
、水素化1.1−ジメチ/1./−1−ジイソプロピル
メチルホウ素〔 i−C3H7)(CH3)20BH2
〕などが挙けられ,その使用量は、通常,化合物(9)
に対して等重量である。この還元反応は、例えばジエチ
ルエーテル、テ1−ラヒドロフラン,シダライムなどの
適当な溶媒中,通常,−60〜50°C程度、好ましく
は一30°C〜室温にて行なわれ、10分間〜5時間で
終了する。
方法は、種々の方法があるが、例えば水素還元剤を用い
る還元法が好適に利用される。用いられる水素化還元剤
としては1例えば水素化アルミニウムナトリウム ルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム
、水素化1.1−ジメチ/1./−1−ジイソプロピル
メチルホウ素〔 i−C3H7)(CH3)20BH2
〕などが挙けられ,その使用量は、通常,化合物(9)
に対して等重量である。この還元反応は、例えばジエチ
ルエーテル、テ1−ラヒドロフラン,シダライムなどの
適当な溶媒中,通常,−60〜50°C程度、好ましく
は一30°C〜室温にて行なわれ、10分間〜5時間で
終了する。
(10)(11)(1b′)
〔式中 R2およびXは前記に同じ〕
上記反応式中、化合物(10)を閉環させて化合物(1
1’lに導く反応は,N,N−置換ホルムアミドと酸
触媒(一般にヴイルスマイヤー試薬と呼ばれる)の存在
下に適当な溶媒中または溶媒の非存在下に行なわれる。
1’lに導く反応は,N,N−置換ホルムアミドと酸
触媒(一般にヴイルスマイヤー試薬と呼ばれる)の存在
下に適当な溶媒中または溶媒の非存在下に行なわれる。
ここで使用されるN,N−置換ホルムアミドとしては,
NUN−ジメチルホルムアミド。
NUN−ジメチルホルムアミド。
N,N−ジエチルホルムアミド、N−エチル−N−メチ
ルホルムアミド、N−メチル−N−フェニルホlレムア
ミドなどを例示できる。酸触媒としては、オキシ塩化リ
ン、チオニルクロライド、フォスゲンなどを例示できる
。使用される溶媒としては、クロロホルム+ 1.2−
ジクロロエタン、1.2−ジクロロエチレンなどの・・
ロゲン化炭化水素類,クロロベンゼン、1.2−ジクロ
ロベンゼンなどの芳香族炭化水素類などを例示できる。
ルホルムアミド、N−メチル−N−フェニルホlレムア
ミドなどを例示できる。酸触媒としては、オキシ塩化リ
ン、チオニルクロライド、フォスゲンなどを例示できる
。使用される溶媒としては、クロロホルム+ 1.2−
ジクロロエタン、1.2−ジクロロエチレンなどの・・
ロゲン化炭化水素類,クロロベンゼン、1.2−ジクロ
ロベンゼンなどの芳香族炭化水素類などを例示できる。
N,N−置換ホルムアミドと酸触媒の使用量は,一般式
(10)の化合物にxt Lで,通常大過剰量、好まし
くは,前者は2〜5倍モル、後者は5〜lO倍モル量使
用するのがよい。反応温度は通常0〜150°C,好ま
しくは50〜100°C (=f近で行なうのがよい。
(10)の化合物にxt Lで,通常大過剰量、好まし
くは,前者は2〜5倍モル、後者は5〜lO倍モル量使
用するのがよい。反応温度は通常0〜150°C,好ま
しくは50〜100°C (=f近で行なうのがよい。
反LE.V13〜24時間程度で終了する。
また化合¥//J(ll)から化合物( 1 b’)を
得る反応は。
得る反応は。
化合物(11)を例えば塩酸.臭化水素酸などの・・ロ
ゲン化水素酸類,硫酸、リン酸などの無機酸類。
ゲン化水素酸類,硫酸、リン酸などの無機酸類。
水酸化カリウム、水酸化すl・リウムなどのアルカリ金
属水酸化物,炭酸すI−1ウム、炭酸カリウム、炭酸水
素カリウムなどの無機アルカリ化合物、あるいは酢酸な
どの有機酸の存在下に、50〜150°C7好捷しくは
70〜120°Cにて、0.5〜24時間程瓜力1]熱
することにより達成され,る。
属水酸化物,炭酸すI−1ウム、炭酸カリウム、炭酸水
素カリウムなどの無機アルカリ化合物、あるいは酢酸な
どの有機酸の存在下に、50〜150°C7好捷しくは
70〜120°Cにて、0.5〜24時間程瓜力1]熱
することにより達成され,る。
(la’)
〔式中.R2i−よひXは前記に同じ〕上記反応式にお
いて,化合物(12)のハロゲン化反応は、適当な溶媒
中化合物(12)をハロゲン化剤で処理して行なわれる
。用いられるハロゲン化剤としては例えば塩素,臭素な
どのハロゲン分子。
いて,化合物(12)のハロゲン化反応は、適当な溶媒
中化合物(12)をハロゲン化剤で処理して行なわれる
。用いられるハロゲン化剤としては例えば塩素,臭素な
どのハロゲン分子。
N − フoモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イ
ミドなどのN−ハロゲノコハク酸イミド、塩化スルフリ
ル、塩化銅、臭化銅などのハロゲン化銅、などが挙げら
れる。溶媒上してはジクロロメタン。
ミドなどのN−ハロゲノコハク酸イミド、塩化スルフリ
ル、塩化銅、臭化銅などのハロゲン化銅、などが挙げら
れる。溶媒上してはジクロロメタン。
ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素ナトのハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸などが例示で
きる。このノ・ロゲン化剤の使用量は、化合物(12)
に対して等モル−過剰量、好ましくは等モ/I/〜1.
2倍モルである。該反応は通常0“″C−溶媒の沸点イ
二1近、好ましくは室温〜40°Cであり、通常1〜1
0時間程時間路了する。なお、この反応に過酸化ペンシ
イlし、過酸化水素などの過酸化物のようなラジカル反
応開始剤を用いてもよい。
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸などが例示で
きる。このノ・ロゲン化剤の使用量は、化合物(12)
に対して等モル−過剰量、好ましくは等モ/I/〜1.
2倍モルである。該反応は通常0“″C−溶媒の沸点イ
二1近、好ましくは室温〜40°Cであり、通常1〜1
0時間程時間路了する。なお、この反応に過酸化ペンシ
イlし、過酸化水素などの過酸化物のようなラジカル反
応開始剤を用いてもよい。
化合物(13)を閉環させて化合物(la’lに導く反
応は適当な溶媒中、縮合剤の存在下に行なわれる。
応は適当な溶媒中、縮合剤の存在下に行なわれる。
用いられる縮合剤としては、例えば五酸化リン。
フッ化水素、硫酸、ポリリン酸、塩化アルミニウム、塩
化亜鉛などのlレイス酸などが挙けられる。
化亜鉛などのlレイス酸などが挙けられる。
溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、■。
2−ジクロロエタンなどの)・ロゲン化炭化水素類、ジ
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、ニトロ
ベンゼン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類など
が例示できる。化合物(11)と縮合剤との使用割合は
特に限定されないが1通常1mI者に対して後者を等モ
ル−10倍モル、好ましくは3〜6倍モルとするのがよ
い。この反応は1通常、50〜250°C1好ましくは
70〜200°Cにて20分〜6時間程度行なわれる。
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、ニトロ
ベンゼン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類など
が例示できる。化合物(11)と縮合剤との使用割合は
特に限定されないが1通常1mI者に対して後者を等モ
ル−10倍モル、好ましくは3〜6倍モルとするのがよ
い。この反応は1通常、50〜250°C1好ましくは
70〜200°Cにて20分〜6時間程度行なわれる。
3位と4位の結合は前記に同じ。R9は低級アルカノイ
ルを示す〕 上記反応式における化合物(lb)と化合物(14)と
の反応は、好ましくは塩基性化合物を脱ハロゲン化水素
剤として用い、適当な溶媒中、室温〜200゛C1好ま
しくは室温〜150°Cにて数時間〜15時間時間性な
われる。用いられる溶媒としては。
ルを示す〕 上記反応式における化合物(lb)と化合物(14)と
の反応は、好ましくは塩基性化合物を脱ハロゲン化水素
剤として用い、適当な溶媒中、室温〜200゛C1好ま
しくは室温〜150°Cにて数時間〜15時間時間性な
われる。用いられる溶媒としては。
例エバメタノール、エタノール、イソプロパツールなど
の低級アルコ−Iし類、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキザン、エチレングリコール七ツメチル
エーテル、ジエチレンクリコールジメチルエーテル トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類.アセトン
、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル、リン酸
トリアミド、無水酢酸などが挙げられる。塩基性化合物
としては,例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム。
の低級アルコ−Iし類、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキザン、エチレングリコール七ツメチル
エーテル、ジエチレンクリコールジメチルエーテル トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類.アセトン
、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル、リン酸
トリアミド、無水酢酸などが挙げられる。塩基性化合物
としては,例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム。
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水−カリウム
,炭酸銀などの無機塩基、ナトリウム、カリウムなどの
アルカリ金属,ナトリウムアミド。
,炭酸銀などの無機塩基、ナトリウム、カリウムなどの
アルカリ金属,ナトリウムアミド。
水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラート、カリウムエチラートなどのアルコラード、
トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キ
ノリン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホ
リンなどの第3級アミ、/類が挙げられる。上記反応に
おいて反応促進剤としてヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリ
ウムなどのヨウ化アルカリ金属を用いてもより0化合物
(lb’)と化合物(14)との使用割合は特に制限さ
れないが。
エチラート、カリウムエチラートなどのアルコラード、
トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キ
ノリン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホ
リンなどの第3級アミ、/類が挙げられる。上記反応に
おいて反応促進剤としてヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリ
ウムなどのヨウ化アルカリ金属を用いてもより0化合物
(lb’)と化合物(14)との使用割合は特に制限さ
れないが。
通常,前者に対して後者を少なくても等モル、好ましく
は1〜5モル程度である。
は1〜5モル程度である。
得られる本発明化合物の1種である化合物(1h)を加
水分解すれば本発明化合物の1種である化合物(l a
’)に導かれる。この加水分解反応は2例えば塩酸,臭
化水素酸などのハロゲン化水素酸類2硫酸,リン酸など
の鉱酸類、水酸化カリウム、水酸化す)IJウムなどの
アルカリ金属水酸化物.炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または
重炭酸塩などの存在下に,通常.50 〜150°c2
好ましくは70〜100’Cにて3〜24時間程時間熱
反応することにより行なわれる。
水分解すれば本発明化合物の1種である化合物(l a
’)に導かれる。この加水分解反応は2例えば塩酸,臭
化水素酸などのハロゲン化水素酸類2硫酸,リン酸など
の鉱酸類、水酸化カリウム、水酸化す)IJウムなどの
アルカリ金属水酸化物.炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または
重炭酸塩などの存在下に,通常.50 〜150°c2
好ましくは70〜100’Cにて3〜24時間程時間熱
反応することにより行なわれる。
なお1本発明の化合物(1)のうち、R1が水素原子で
かつカルボスチリル骨核の3位と4位間の結合が二重結
合である化合物は下記の式で示されるようにラクタムー
ラクチム型の互変異性をとり得る。
かつカルボスチリル骨核の3位と4位間の結合が二重結
合である化合物は下記の式で示されるようにラクタムー
ラクチム型の互変異性をとり得る。
〔式中 R2およびR3は前記に同じ〕一般式(1)で
表わされる化合物のうち、酸性基を有する化合物は薬理
的に許容し得る塩基性化合物と塩を形成し得る。かかる
塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム。
表わされる化合物のうち、酸性基を有する化合物は薬理
的に許容し得る塩基性化合物と塩を形成し得る。かかる
塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム。
水酸化カルシウムなどの金属酸化物、炭酸ナトリウム、
炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または重
炭酸塩、ナトリウムメチラート、カリウムエチラートな
どのアルカリ金属アルコラードなどが挙げられる。
炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または重
炭酸塩、ナトリウムメチラート、カリウムエチラートな
どのアルカリ金属アルコラードなどが挙げられる。
上記の方法で製造される本発明の化合物は1通常の分離
手段、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィ、プレバリテイプ薄層クロマトグラフィ、溶媒抽出法
などにより容易に反応系より、単離、精製できる。
手段、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィ、プレバリテイプ薄層クロマトグラフィ、溶媒抽出法
などにより容易に反応系より、単離、精製できる。
前記反応式−■における出発物質および中間体の化合物
(3)および(5)は1:記反応式−■〜刈で示される
方法により製造できる。
(3)および(5)は1:記反応式−■〜刈で示される
方法により製造できる。
(5a)
[式中、R2は前記に同じ。R10は水素原子または低
級アルキルを示す] 上記反応式において、化合物(15)のニトロ基の還元
反応は通常のニトロ基の還元反応条件がいずれも採用さ
れ1例えば(1)適当な溶媒中接触還元触媒を用いて還
元するか、(11)適当な不活性溶媒中、金属または金
属塩と酸、あるいは金属または金属塩とアルカリ金属水
酸化物、硫化物またはアンモニウム塩などとの混合物を
還元剤として用いて還元することにより行なわれる。
級アルキルを示す] 上記反応式において、化合物(15)のニトロ基の還元
反応は通常のニトロ基の還元反応条件がいずれも採用さ
れ1例えば(1)適当な溶媒中接触還元触媒を用いて還
元するか、(11)適当な不活性溶媒中、金属または金
属塩と酸、あるいは金属または金属塩とアルカリ金属水
酸化物、硫化物またはアンモニウム塩などとの混合物を
還元剤として用いて還元することにより行なわれる。
(1)の接触還元による場合、用いられる溶媒としては
1例えば水、酢酸、メタノール、エタノール。
1例えば水、酢酸、メタノール、エタノール。
イソプロパツール、ブタノール、エチレングリコールな
どのアルコール類、ジエチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、
ジグライムなどのエーテル類。
どのアルコール類、ジエチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、
ジグライムなどのエーテル類。
ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭イヒ水素類、酢酸メ
チル、酢酸エチルなどのエステル類、N、N−ジメチル
ホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙けら
れる。接触還元触媒としては1例えばパラジウム、パラ
ジウム黒、パラジウム炭素。
チル、酢酸エチルなどのエステル類、N、N−ジメチル
ホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙けら
れる。接触還元触媒としては1例えばパラジウム、パラ
ジウム黒、パラジウム炭素。
白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケルなどが
挙げられる。これら触媒の使用量は、化合物(15)に
対して0202〜1.00倍(重量)用いるのがよい。
挙げられる。これら触媒の使用量は、化合物(15)に
対して0202〜1.00倍(重量)用いるのがよい。
反応は通常−20〜150°C1好ましくは0°C〜室
温付近、水素圧l〜10慨圧で30分〜10時間程度行
なわれる。
温付近、水素圧l〜10慨圧で30分〜10時間程度行
なわれる。
(11)の方法を用いる場合にd、還元剤として鉄、亜
鉛、錫または塩化第一錫と塩酸、硫酸などの鉱酸との組
合せ、鉄、硫酸第一鉄、亜鉛または錫と水酸化ナトリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物。
鉛、錫または塩化第一錫と塩酸、硫酸などの鉱酸との組
合せ、鉄、硫酸第一鉄、亜鉛または錫と水酸化ナトリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物。
硫化アンモニウムなどの硫化物、アンモニア水。
塩化アンモニウムなどのアンモニウム塩などとの組合せ
が用いられる。使用される不活性溶媒としては1例えば
水、酢酸、メタノール、エタノール。
が用いられる。使用される不活性溶媒としては1例えば
水、酢酸、メタノール、エタノール。
ジオキサンなどが挙げら力、る。反応温度1時間は用い
られる触媒の種類により適宜選択され1例えば硫酸第一
鉄とアンモニア水との組合せの場合には50〜150°
C付近で30.1分〜10時間程度で有利に行なわれる
。還元剤の使用量は1通常、化合物(15)に対して少
なくとも等モル、好ましくは等モ)V〜5倍モルである
。
られる触媒の種類により適宜選択され1例えば硫酸第一
鉄とアンモニア水との組合せの場合には50〜150°
C付近で30.1分〜10時間程度で有利に行なわれる
。還元剤の使用量は1通常、化合物(15)に対して少
なくとも等モル、好ましくは等モ)V〜5倍モルである
。
化合物(16)と化合物(17)との反応は、塩基性化
合物の存在下、適当な溶媒中で行なうことができる。塩
基性化合物としては例えば水酸化すトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化
ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムメチラ
ートなどの無機塩基。
合物の存在下、適当な溶媒中で行なうことができる。塩
基性化合物としては例えば水酸化すトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化
ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムメチラ
ートなどの無機塩基。
1−リエチルアミン、ピリジン、α−ピコリン、NN−
ジメチルアニリン、N−メチルモルボリン。
ジメチルアニリン、N−メチルモルボリン。
ピペリジン、ピロリジンなどのアミン類なト広範囲のも
のが用すられる。溶媒としてはジオキサン、テトラヒド
ロフラン、グライム、ジグライムなどのエーテル類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水R類、メタノール
、エタノール、イソプロパツールなどの低級アルコール
類、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
の極性溶媒が挙けられる。反応は室温〜150″C1好
ましくは60〜120°Cにて1〜24時間程時間衣わ
れる。化合物(16)と化合物(17)の使用割合は特
に制限されないが1通常曲者に対して後者を等モル−過
剰昂、好寸しくは等モ/I/〜5倍モル用いる。
のが用すられる。溶媒としてはジオキサン、テトラヒド
ロフラン、グライム、ジグライムなどのエーテル類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水R類、メタノール
、エタノール、イソプロパツールなどの低級アルコール
類、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
の極性溶媒が挙けられる。反応は室温〜150″C1好
ましくは60〜120°Cにて1〜24時間程時間衣わ
れる。化合物(16)と化合物(17)の使用割合は特
に制限されないが1通常曲者に対して後者を等モル−過
剰昂、好寸しくは等モ/I/〜5倍モル用いる。
す〕
上記の反応は、化合物(]8)をRCOXまたは(RC
O)20[式中、Rは[′Ii丁記に同じ。Xはハロゲ
ン原子を示す]と反応させて、化合物(18a)にし。
O)20[式中、Rは[′Ii丁記に同じ。Xはハロゲ
ン原子を示す]と反応させて、化合物(18a)にし。
つづ込で加水分解することにより化合物(3a)を得る
ことができる。一般式(18)とRCOXまたは(RC
O)20との反応は塩基性化り物の存在上首たは非存在
下に行なわれる。使用される塩基性化合物としては1例
えば金属ナトリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属
およびこれらアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩1重炭酸
塩あるいはピリジン、ピペリジンなどの芳香族アミン化
合物などが挙げられる。該反応は無溶媒もしくは溶媒中
のいずれでも進行する。溶媒としては、例えばアセトン
、メチルエチルケトンなとのケトン類、エーテル。
ことができる。一般式(18)とRCOXまたは(RC
O)20との反応は塩基性化り物の存在上首たは非存在
下に行なわれる。使用される塩基性化合物としては1例
えば金属ナトリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属
およびこれらアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩1重炭酸
塩あるいはピリジン、ピペリジンなどの芳香族アミン化
合物などが挙げられる。該反応は無溶媒もしくは溶媒中
のいずれでも進行する。溶媒としては、例えばアセトン
、メチルエチルケトンなとのケトン類、エーテル。
ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、1゛ルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類、水、ピリジンなどが
挙けられる。RCOXまたは(Rco)2゜の化合物の
使用量は、一般式(18)の化合物に対して、少くとも
等モル用すられるが、一般には1等モル〜犬過剰量用す
るのがよい。また該反応け、0〜200°cで進行する
が、一般ニid′o〜15゜°Cで行なうのがよい。反
応時間は、0.5〜10時間程時間路了する。
キシレンなどの芳香族炭化水素類、水、ピリジンなどが
挙けられる。RCOXまたは(Rco)2゜の化合物の
使用量は、一般式(18)の化合物に対して、少くとも
等モル用すられるが、一般には1等モル〜犬過剰量用す
るのがよい。また該反応け、0〜200°cで進行する
が、一般ニid′o〜15゜°Cで行なうのがよい。反
応時間は、0.5〜10時間程時間路了する。
一般式(18a)の加水分解反応は、水溶液中加水分解
触媒1例えば水酸化カリウム、水酸化す)IJウムなど
のアルカリ金属水酸化物、炭酸すトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウムなどの無機アルカリ化合物の存
在下に1通常50〜150°C1好捷しくは70〜10
0’C[テ0.5〜10時間程度加熱して行なわれる。
触媒1例えば水酸化カリウム、水酸化す)IJウムなど
のアルカリ金属水酸化物、炭酸すトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウムなどの無機アルカリ化合物の存
在下に1通常50〜150°C1好捷しくは70〜10
0’C[テ0.5〜10時間程度加熱して行なわれる。
(3)(5)
〔式中、R1,R2,R7、Xおよびカルボスチリル骨
核の3位と4位間の結合はnjI記に同じ。R11は芳
香族アミン残基を示す〕 上記反応式におりて、化合物(19)と芳香族アミン(
20)との反応は、適当な溶媒中または無溶媒下に行な
われる。溶媒上しては反応に悪影響を与えない不活性の
ものがすべて用いられ、例えばクロロホルム、塩化メチ
レン、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭
化水累類、ジェチルエ−チル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンナトのエーテル類、メタノ
ール、ニゲノール、イソプロパツール、ブタノールなど
のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルヌルホ
キザイド、ヘキザメチルリン酸トリアミドなどの非プロ
トン性極性溶媒、アセトニトリルなどが挙けられる。芳
香族アミンとしては、ピリジン、ギノリンなどが例示で
きる。該芳香族アミンの使用量は、化合物(19)に対
して少なくとも等モル、好ましくは大過剰量で用いる。
核の3位と4位間の結合はnjI記に同じ。R11は芳
香族アミン残基を示す〕 上記反応式におりて、化合物(19)と芳香族アミン(
20)との反応は、適当な溶媒中または無溶媒下に行な
われる。溶媒上しては反応に悪影響を与えない不活性の
ものがすべて用いられ、例えばクロロホルム、塩化メチ
レン、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭
化水累類、ジェチルエ−チル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンナトのエーテル類、メタノ
ール、ニゲノール、イソプロパツール、ブタノールなど
のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルヌルホ
キザイド、ヘキザメチルリン酸トリアミドなどの非プロ
トン性極性溶媒、アセトニトリルなどが挙けられる。芳
香族アミンとしては、ピリジン、ギノリンなどが例示で
きる。該芳香族アミンの使用量は、化合物(19)に対
して少なくとも等モル、好ましくは大過剰量で用いる。
反応温度は50〜200℃、好ましくは70〜150°
Cであり、3〜10時間程度で反応は終了する。
Cであり、3〜10時間程度で反応は終了する。
得られた化合物(21)の加水分解は、水中、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのような無機塩基の存在下に
室幅〜150°Cにて1〜10時間程度処理して行なわ
れる。
トリウム、水酸化カリウムのような無機塩基の存在下に
室幅〜150°Cにて1〜10時間程度処理して行なわ
れる。
また化合物(21)の化合物(4)によるエヌテル化は
塩基性化合物の存在下、溶媒中捷たは無溶媒にて反応さ
せることにより行なわれる。使用される溶媒としては、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンな
どのノ・ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、ギ
シレンなどの芳香1M炭化水素類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、シメトギシエタンな
どのエーテル類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
の非プロトン性溶媒などを例示できる。使用される塩基
性触媒としては、例えばトリエチルアミン、l−リメチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモ
ルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、1.5−ジア
ザビシクロ[4,8,0]ノネン−5(DBNI、1.
5−ジアザビシクロ[5,4,0’lウンデセン−5(
DBU )、 1.4−ジアザビシクロE2.2.2
3オクタン(DABCO)などの有機塩基および炭酸カ
リウム、炭酸すトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
ナトリウムなどの無機塩基などを例示できる。ここで使
用される塩基性化合物の使用割合としては、一般式(2
1)の化合物に対して、少くとも等七ル、好捷しくけ1
〜1.5倍モル量使用するのがよい。一般式(4)の化
合物の使用割合は、一般式(21)の化合物に対して、
少なくとも等モル、通常大過剰量で使用するのがよい。
塩基性化合物の存在下、溶媒中捷たは無溶媒にて反応さ
せることにより行なわれる。使用される溶媒としては、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンな
どのノ・ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、ギ
シレンなどの芳香1M炭化水素類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、シメトギシエタンな
どのエーテル類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
の非プロトン性溶媒などを例示できる。使用される塩基
性触媒としては、例えばトリエチルアミン、l−リメチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモ
ルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、1.5−ジア
ザビシクロ[4,8,0]ノネン−5(DBNI、1.
5−ジアザビシクロ[5,4,0’lウンデセン−5(
DBU )、 1.4−ジアザビシクロE2.2.2
3オクタン(DABCO)などの有機塩基および炭酸カ
リウム、炭酸すトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
ナトリウムなどの無機塩基などを例示できる。ここで使
用される塩基性化合物の使用割合としては、一般式(2
1)の化合物に対して、少くとも等七ル、好捷しくけ1
〜1.5倍モル量使用するのがよい。一般式(4)の化
合物の使用割合は、一般式(21)の化合物に対して、
少なくとも等モル、通常大過剰量で使用するのがよい。
反応温度は1通常室温〜150°C1好ましくは50〜
100°C伺近であり、該反応は一般に30分〜10時
間で終了する。
100°C伺近であり、該反応は一般に30分〜10時
間で終了する。
(25)
(26)(31))
1式中、Xはii、I記に同じ、X′は水素原子寸たけ
・・ロゲン原子、R12は水素原子または低級アルキル
を示す〕 上記反応式において、化合物(22)と化合物(23)
または(24)との反応は一般にフリーデルクラフッ反
応と呼ばれるものであり1通常、適当な溶媒中。
・・ロゲン原子、R12は水素原子または低級アルキル
を示す〕 上記反応式において、化合物(22)と化合物(23)
または(24)との反応は一般にフリーデルクラフッ反
応と呼ばれるものであり1通常、適当な溶媒中。
ルイス酸の存在下に行なわノ1.る。用いられる溶媒と
してはこの種の反応に通常使用されるものが有利に用い
られ1例えば二硫化炭素、ニトロベンセン、クロロベン
ゼン、シフ110メタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、四塩化炭素などが挙げられる。ルイス酸として
も通常用いられるものがすべて使用され1例えば塩化ア
ルミニウム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化ホウ素
、三フッ化ホウ素、a硫酸などが挙げられる。ルイス酸
の使用量は適宜決定されつるが1通常、化合物(22)
に対して2〜6倍モル程度、好ましくは3〜4倍モルで
あり、化合物(23)または(24)の使用量は化合物
(22)に対して、通常、少なくとも等モル、好ましく
は等モル−3倍モルである。反応温度は通常−50〜1
20°C程度、好ましくば0〜70°Cであり、また反
応時間は用いる原料、触媒、反応温度などによっても異
なるが1通常、30分〜24時間程度である。
してはこの種の反応に通常使用されるものが有利に用い
られ1例えば二硫化炭素、ニトロベンセン、クロロベン
ゼン、シフ110メタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、四塩化炭素などが挙げられる。ルイス酸として
も通常用いられるものがすべて使用され1例えば塩化ア
ルミニウム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化ホウ素
、三フッ化ホウ素、a硫酸などが挙げられる。ルイス酸
の使用量は適宜決定されつるが1通常、化合物(22)
に対して2〜6倍モル程度、好ましくは3〜4倍モルで
あり、化合物(23)または(24)の使用量は化合物
(22)に対して、通常、少なくとも等モル、好ましく
は等モル−3倍モルである。反応温度は通常−50〜1
20°C程度、好ましくば0〜70°Cであり、また反
応時間は用いる原料、触媒、反応温度などによっても異
なるが1通常、30分〜24時間程度である。
得られた化合物(25)のニトロ化は、通常の芳香族化
合物のニトロ化反応と同様の条件下に行なわれ1例えば
適当な不活性溶媒中または無溶媒下にニトロ化剤を作用
させて行なう。不活性溶媒としては1例えば酢酸、無水
酢酸、a硫酸などが挙げられ、またニトロ化剤としては
1例えば発煙硝酸。
合物のニトロ化反応と同様の条件下に行なわれ1例えば
適当な不活性溶媒中または無溶媒下にニトロ化剤を作用
させて行なう。不活性溶媒としては1例えば酢酸、無水
酢酸、a硫酸などが挙げられ、またニトロ化剤としては
1例えば発煙硝酸。
濃硝酸、硝酸と他の酸(硫酸、発煙硫酸、リン酸。
無水酢酸)との混酸、硝酸カリウム、硝酸ナトリウムな
どのアルカリ金属硝酸塩と硫酸などの鉱酸との混合物な
どが挙げられる。該ニトロ化剤の使用量は化合物(25
)に対して等モル以上、通常過剰量であり、反応温度は
一1O°C〜室温付近が好ましく、5分〜4時間反応さ
れる。
どのアルカリ金属硝酸塩と硫酸などの鉱酸との混合物な
どが挙げられる。該ニトロ化剤の使用量は化合物(25
)に対して等モル以上、通常過剰量であり、反応温度は
一1O°C〜室温付近が好ましく、5分〜4時間反応さ
れる。
得られた化合物(26)は還元、閉環によシ化合物(3
b)に導かれる。この反応は前記反応式−■における化
合物(15)の還元反応条件と同様の条件下に行なわれ
るが、(i)の接触還元方法を用いる場合は。
b)に導かれる。この反応は前記反応式−■における化
合物(15)の還元反応条件と同様の条件下に行なわれ
るが、(i)の接触還元方法を用いる場合は。
反応温度は、好ましくは0〜50°Cであシ、また反応
系内に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性
化合物を存在させることにより反応が有利に進行する。
系内に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性
化合物を存在させることにより反応が有利に進行する。
さらに(II)の方法を用いる場合には、通常−50〜
100°Cにおいて反応は進行し、0.5〜10時間程
度で反応は終了する。例えば。
100°Cにおいて反応は進行し、0.5〜10時間程
度で反応は終了する。例えば。
塩化第1錫と塩酸とを還元剤として用いる場合。
有利には一20〜50°C刊近にて反応を行なうのがよ
い。還元剤の使用量としては、原料化合物に対して少な
くとも等モル量、通常は等モル−3倍モル量用いるのが
よい。上記の方法によジニトロ基の還元と同時に閉環し
て化合物(3b)が得られる。
い。還元剤の使用量としては、原料化合物に対して少な
くとも等モル量、通常は等モル−3倍モル量用いるのが
よい。上記の方法によジニトロ基の還元と同時に閉環し
て化合物(3b)が得られる。
ただし、(1)の接触還元触媒を用いる場合にはカルボ
ニル基も還元されてメチレンに変換される場合もあるが
、反応条件を適当に選択することによりそのような変換
は避けられる。
ニル基も還元されてメチレンに変換される場合もあるが
、反応条件を適当に選択することによりそのような変換
は避けられる。
(27)
(29) (B、−)〔式
中、R2およびXはm[記に同じ。R12は水素原子ま
たは低級アルキル、Rは低級アルキルを示す〕 上記反応式において化合物(27)と化合物(28)と
の反応は1通常、脱ハロゲン化水素剤の存在下または不
存在下に適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素
剤としては通常塩基性化合物が用いられ2例えば、トリ
エチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチル
アニリン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネ
ン−5(DBN)、1.5−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデセン−5(DBU)、1.4−ジアザビシク
ロ[2,2,2〕オクタン(DABCO)などの有機塩
基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム
。
中、R2およびXはm[記に同じ。R12は水素原子ま
たは低級アルキル、Rは低級アルキルを示す〕 上記反応式において化合物(27)と化合物(28)と
の反応は1通常、脱ハロゲン化水素剤の存在下または不
存在下に適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素
剤としては通常塩基性化合物が用いられ2例えば、トリ
エチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチル
アニリン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネ
ン−5(DBN)、1.5−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデセン−5(DBU)、1.4−ジアザビシク
ロ[2,2,2〕オクタン(DABCO)などの有機塩
基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム
。
炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム−水(m化カリ
ウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム。
ウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム。
炭酸銀、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
などのアルカリ金属アルコラードなどが挙げられる。な
お反応化合物の化合物(30)を過剰量用いて脱ハロゲ
ン化水素剤として兼用させることもできる。溶媒として
は塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンなどの
ハロゲン化炭素類。
などのアルカリ金属アルコラードなどが挙げられる。な
お反応化合物の化合物(30)を過剰量用いて脱ハロゲ
ン化水素剤として兼用させることもできる。溶媒として
は塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンなどの
ハロゲン化炭素類。
ベンゼン、トルエン、キシレンナトの芳香族炭化水素類
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン。
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン。
ジメトキシエタンなどのエーテル類、 酢酸メチル。
酢酸エチルなどのエヌテル類、ジメチルホルムアミド2
ジメチルヌルホキシト、ヘキサメチルリン酸トリアミド
などの非プロトン性極性溶媒、ピリジン、アセトン、ア
セトニトリル、さらにメタノール、エタノール、プロパ
ツール、ブタノ−lv+3−メトキシ−1−ブタノール
、エチルセロン/レブ、メチルセロソルブなどのアルコ
ール類、ピリジン、アセトン、アセトニトリルなど、ま
たはそれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。化合物
(27)と化合物(28)との1吏用割合は特に限定さ
れず広範囲に選択されるが1通常−1]者に対して後者
を少なくとも等モル、好ましくけ等モ/V〜5倍モル用
因られる。反応温度は通常−30〜180”C程度、好
1しくは約0〜150’Cで、一般に5分〜30時間で
反応は完結する。
ジメチルヌルホキシト、ヘキサメチルリン酸トリアミド
などの非プロトン性極性溶媒、ピリジン、アセトン、ア
セトニトリル、さらにメタノール、エタノール、プロパ
ツール、ブタノ−lv+3−メトキシ−1−ブタノール
、エチルセロン/レブ、メチルセロソルブなどのアルコ
ール類、ピリジン、アセトン、アセトニトリルなど、ま
たはそれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。化合物
(27)と化合物(28)との1吏用割合は特に限定さ
れず広範囲に選択されるが1通常−1]者に対して後者
を少なくとも等モル、好ましくけ等モ/V〜5倍モル用
因られる。反応温度は通常−30〜180”C程度、好
1しくは約0〜150’Cで、一般に5分〜30時間で
反応は完結する。
化合物(29)の閉環反応は、適当な溶媒中または無溶
媒下に酸の存在下に行なわれる。酸としては特に限定さ
れず通常の有機酸または無機酸が用いられ、例えば塩酸
、臭化水素酸、硫酸などの無機酸、塩化アルミニウム、
三フッ化ホウ素、四塩化チタンなどのルイス酸、ギ酸、
酢酸、エタンスルホン酸、p−)ルエンスルホン酸など
の有機酸が挙げられる。これらのうち、塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの無機酸が好ましい。酸の使用量は特に限
定されず1通常、化合物(29)に対して少なくとも等
重量、好ましくは10〜50倍重量である。
媒下に酸の存在下に行なわれる。酸としては特に限定さ
れず通常の有機酸または無機酸が用いられ、例えば塩酸
、臭化水素酸、硫酸などの無機酸、塩化アルミニウム、
三フッ化ホウ素、四塩化チタンなどのルイス酸、ギ酸、
酢酸、エタンスルホン酸、p−)ルエンスルホン酸など
の有機酸が挙げられる。これらのうち、塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの無機酸が好ましい。酸の使用量は特に限
定されず1通常、化合物(29)に対して少なくとも等
重量、好ましくは10〜50倍重量である。
また溶媒としては通常の不活性溶媒が用いられ。
細見Id 水、メタノール、エタノール、プロパツール
などの低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素などの7、。ゲン化炭化水素類、アセトン
、ジメチルヌルホキシト、ジメチルホルムアミド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの非プロl−ン性極性溶
媒などが挙げられる。これらのうち、低級アルコール類
、エーテル類、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
の水溶性溶媒が好ましい。該反応は通常O〜100’C
,好ましくは室部〜60”Cで行なわれ、通常5分〜6
時間程度で終了する。
などの低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素などの7、。ゲン化炭化水素類、アセトン
、ジメチルヌルホキシト、ジメチルホルムアミド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの非プロl−ン性極性溶
媒などが挙げられる。これらのうち、低級アルコール類
、エーテル類、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
の水溶性溶媒が好ましい。該反応は通常O〜100’C
,好ましくは室部〜60”Cで行なわれ、通常5分〜6
時間程度で終了する。
なお、該化合物(3)は、前記反応式−■に示されるN
−アルキル化方法ならびに反応式−■に示される脱水素
反応または還元反応を利用する方法などにより、同様に
他の式(3)の化合物に導くこともできる。
−アルキル化方法ならびに反応式−■に示される脱水素
反応または還元反応を利用する方法などにより、同様に
他の式(3)の化合物に導くこともできる。
さらに、前記反応式−Xにおける出発物質である化合物
(19)は下記反応式−順に示される方法によっても製
造される。
(19)は下記反応式−順に示される方法によっても製
造される。
C式中、R1,X、 X’およびカルボスチリル骨抜の
3位と4位間の結合は前記と同じ] 上記の化合物(30)と化合物(23)または(24)
との反応は、前記反応式−■における化合物(22)と
化合物(23)または(24)との反応と同様の条件下
に行なわれる。ただし1反応基度は通常20〜120°
C1好1しくは40〜70°C程度で、反応時°間は原
料、触媒1反応基度によシ異なるが1通常30分〜24
時間程度である。
3位と4位間の結合は前記と同じ] 上記の化合物(30)と化合物(23)または(24)
との反応は、前記反応式−■における化合物(22)と
化合物(23)または(24)との反応と同様の条件下
に行なわれる。ただし1反応基度は通常20〜120°
C1好1しくは40〜70°C程度で、反応時°間は原
料、触媒1反応基度によシ異なるが1通常30分〜24
時間程度である。
また自iI記反応式−IVKおける中間体の化合物(9
)は例えば下記反応式−XIvで示される方法で製造で
きる。
)は例えば下記反応式−XIvで示される方法で製造で
きる。
[反応式−XIV ]
(81) (82)(9a )〔式中 a
2は前記に同じ〕 上記反応式中、化合物(31)を閉環させて化合物(8
2)に導く反応は、 1fiJ記反応式−■における化
合物(lO)の閉環反応の場合と同様の条件下に行なわ
れる。
2は前記に同じ〕 上記反応式中、化合物(31)を閉環させて化合物(8
2)に導く反応は、 1fiJ記反応式−■における化
合物(lO)の閉環反応の場合と同様の条件下に行なわ
れる。
また化合物(32)から化合物(9a)を得る反応は、
化合物(32)を例えば塩酸、臭化水素酸などのハロゲ
ン化水素酸類、硫酸、リン酸などの無機酸類。
化合物(32)を例えば塩酸、臭化水素酸などのハロゲ
ン化水素酸類、硫酸、リン酸などの無機酸類。
水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属
水酸化物、炭酸すトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カ
リウムなどの無機アルカリ化合物、あるいは酢酸などの
有機酸の存在下に、50〜150°C1好ましくは70
〜120°Cにて0.5〜24時間時間別熱することに
より達成される。
水酸化物、炭酸すトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カ
リウムなどの無機アルカリ化合物、あるいは酢酸などの
有機酸の存在下に、50〜150°C1好ましくは70
〜120°Cにて0.5〜24時間時間別熱することに
より達成される。
本発明の化合物(1)から抗潰瘍剤として有用な化合物
を製造するには例えば下記反応式−XVに示す方法があ
る。
を製造するには例えば下記反応式−XVに示す方法があ
る。
[反応式−XV ]
(2d)
〔式中、R,R,R,R,R,fおよびカルボヌチリル
骨核の3位と4位間の結合は前記と同じ。
骨核の3位と4位間の結合は前記と同じ。
Alkは低級アルキルを示す〕
すなわち1式(IC)の化合物を加水分解し、所望によ
りその生成物をアシル化、エステル化、またはそれらの
組合せによりカルボスチリル誘導体(2)に導く。
りその生成物をアシル化、エステル化、またはそれらの
組合せによりカルボスチリル誘導体(2)に導く。
この化合物(IC)を加水分解して化合物(2)の1つ
である式(2a)の化合物に導く反応は、適当な加水分
解触媒1例えば塩酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、水酸化すl・リウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩または重炭酸塩などの無機アルカリ化合
物の存在下に。
である式(2a)の化合物に導く反応は、適当な加水分
解触媒1例えば塩酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、水酸化すl・リウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩または重炭酸塩などの無機アルカリ化合
物の存在下に。
無溶媒または適当な溶媒中(例えば、水、または水トメ
タノール、エタノールなどの低級ア)V =+ −ルと
の混合溶媒)、50〜150°C1好ましくは70〜1
00°Cにて、3〜24時間程度処理すればよい。
タノール、エタノールなどの低級ア)V =+ −ルと
の混合溶媒)、50〜150°C1好ましくは70〜1
00°Cにて、3〜24時間程度処理すればよい。
化合物(2a)iたは化合物(2C)を式(33)のカ
ルボン酸を用いてアシル化することによりそれぞれ対応
する他の化合物(21))または(,2d )に導くこ
とができるが、このアシル化は通常のアミド結合生成反
応にイ\jすことにより達成される。この場合、該カル
ボン酸(33)は活性化された化合物を用いてもよい。
ルボン酸を用いてアシル化することによりそれぞれ対応
する他の化合物(21))または(,2d )に導くこ
とができるが、このアシル化は通常のアミド結合生成反
応にイ\jすことにより達成される。この場合、該カル
ボン酸(33)は活性化された化合物を用いてもよい。
アミド結合生成反応としてアミド結合生成反応の条件を
適用することができる。例えば(イ)混合酸無水物法、
すなわちカルボン酸(33)にアルキlレノ・ロカルボ
ン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに化合物(2
a)iたは(2C)を反応させる方法、(ロ)活性エス
テル法または活性アミド法、すなわちカルホン酸(33
)ヲ例エバp−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキ
シコノ1り酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾ1
〜リアゾールエヌテルなどの活性エステル捷たはペンズ
オキザゾリンー2−千オンとの活性アミドとし、これに
化合物(2a)または(2C)を反応させる方法、(ハ
)カルボジイミド法。
適用することができる。例えば(イ)混合酸無水物法、
すなわちカルボン酸(33)にアルキlレノ・ロカルボ
ン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに化合物(2
a)iたは(2C)を反応させる方法、(ロ)活性エス
テル法または活性アミド法、すなわちカルホン酸(33
)ヲ例エバp−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキ
シコノ1り酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾ1
〜リアゾールエヌテルなどの活性エステル捷たはペンズ
オキザゾリンー2−千オンとの活性アミドとし、これに
化合物(2a)または(2C)を反応させる方法、(ハ
)カルボジイミド法。
すなわちカルボン酸(33)に化合物(2a)または(
2C)を例エバジシクロへギシル力ルポジイミド、カル
ボニルジイミダゾールなどの脱水剤の存在下に脱水結合
させる方法、に)カルボン酸ハライド法、すなわちカル
ボン酸(33)をノ・ワイド体に誘導し、これに化合物
(2a)または(2C)を反応させる方法、0→その他
の方法としてカルボン酸(33)を例えば無水酢酸など
の脱水剤により、カルボン酸無水物とし、これに化合物
(2a)または(2C)を反応させる方法。
2C)を例エバジシクロへギシル力ルポジイミド、カル
ボニルジイミダゾールなどの脱水剤の存在下に脱水結合
させる方法、に)カルボン酸ハライド法、すなわちカル
ボン酸(33)をノ・ワイド体に誘導し、これに化合物
(2a)または(2C)を反応させる方法、0→その他
の方法としてカルボン酸(33)を例えば無水酢酸など
の脱水剤により、カルボン酸無水物とし、これに化合物
(2a)または(2C)を反応させる方法。
カルボン酸(33)と例えば低級アルコールとのエステ
/I/に化合¥IIJ(2a)または(2C)を高圧高
温下に反応させる方法などを挙げることができる。また
カルボン酸(33)をトリフェニルホヌフインかジエチ
ルクロロホスフェートなどのリン化合物で活性化し。
/I/に化合¥IIJ(2a)または(2C)を高圧高
温下に反応させる方法などを挙げることができる。また
カルボン酸(33)をトリフェニルホヌフインかジエチ
ルクロロホスフェートなどのリン化合物で活性化し。
これに化合物(2a)または(2C)を反応させる方法
も採用されうる。混合酸無水物j法において使用される
アルキルハロカルボン酸としては1例えばクロルギ酸メ
チル、プロムギ酸メチル、クロルギ酸エチル、プロムギ
酸エチル、クロルギ酸イソブチルなどが挙げられる。混
合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により得
られ、これを通常単離することなく化合物(2a)また
は(2c)と反応させることにより化合物(2b)−4
たは(2d)が製造される。
も採用されうる。混合酸無水物j法において使用される
アルキルハロカルボン酸としては1例えばクロルギ酸メ
チル、プロムギ酸メチル、クロルギ酸エチル、プロムギ
酸エチル、クロルギ酸イソブチルなどが挙げられる。混
合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により得
られ、これを通常単離することなく化合物(2a)また
は(2c)と反応させることにより化合物(2b)−4
たは(2d)が製造される。
ショツテン−バウマン反応は通常塩基性化合物のrI:
在「に行なわ凡る。圧力られる塩基性化合物としてはシ
ョツテン−バウマン反応に慣用の化合物カ用いられ、例
えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、1.5−ジアザビシクロ[4,8,
0]ノネン−5(DBN)、1.5−ジアザビシクロ[
5,4,0]ウンデセン−5(DBU’)、1.4−ジ
アザビシクロ〔2゜2.2〕オクタン(DABC,0)
などの有機塩基。
在「に行なわ凡る。圧力られる塩基性化合物としてはシ
ョツテン−バウマン反応に慣用の化合物カ用いられ、例
えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、1.5−ジアザビシクロ[4,8,
0]ノネン−5(DBN)、1.5−ジアザビシクロ[
5,4,0]ウンデセン−5(DBU’)、1.4−ジ
アザビシクロ〔2゜2.2〕オクタン(DABC,0)
などの有機塩基。
炭酸カリウム、炭酸す1−リウム、炭酸水素カリウム、
炭酸水素す1−リウムなどの無機塩基が挙げられる。該
反応は一20〜100°C程度、好ましくはO〜50°
CVC,%−いて行なわれ1反応時間は5分〜10時間
程度、好ましくは5分〜2時間である。
炭酸水素す1−リウムなどの無機塩基が挙げられる。該
反応は一20〜100°C程度、好ましくはO〜50°
CVC,%−いて行なわれ1反応時間は5分〜10時間
程度、好ましくは5分〜2時間である。
得られた混合酸無水物と化合物(2a)または(2C)
との反応は一20〜150°C程度、好ましくは10〜
50°CVCて5分〜10時間程度、好オしくは5分〜
5時間程度行なわれる。混合酸無水物法は特に溶媒を用
いなくてもよいが、一般に溶媒中で行なわれる。用いら
れる溶媒は混合酸無水物法に慣用の溶媒がいずれも使用
可能であり、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロルエタンなトノハロゲン化炭素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどの
エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの非プo l−ン性極性
溶媒などが挙げられる。核法におけるカルボン酸(33
)、アルキルハロカルボン酸および化合物(2a’)t
たは(2C)の使用割合は通常少なくとも当モルづつ使
用されるが、カルボン酸(33)に対してアルキルハロ
カルボン酸および化合物(2a)または(2C)を1〜
2倍モル用いるのが好寸しい。
との反応は一20〜150°C程度、好ましくは10〜
50°CVCて5分〜10時間程度、好オしくは5分〜
5時間程度行なわれる。混合酸無水物法は特に溶媒を用
いなくてもよいが、一般に溶媒中で行なわれる。用いら
れる溶媒は混合酸無水物法に慣用の溶媒がいずれも使用
可能であり、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロルエタンなトノハロゲン化炭素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどの
エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの非プo l−ン性極性
溶媒などが挙げられる。核法におけるカルボン酸(33
)、アルキルハロカルボン酸および化合物(2a’)t
たは(2C)の使用割合は通常少なくとも当モルづつ使
用されるが、カルボン酸(33)に対してアルキルハロ
カルボン酸および化合物(2a)または(2C)を1〜
2倍モル用いるのが好寸しい。
上記(ロ)の活性エステル法寸たは活性アミド法は、例
えばベンズオキサゾリン−2−チオンアミドを用する場
合を例にとれは1反応に影響を4えない適当な溶媒1例
えば」二記混酸無水物法に用いるもと の同様の溶媒、または1−メチル−2−ピコリド△ ンなどを用い、0〜150°(、好捷しくけ10〜10
0°Cにて、5〜75時間反応させることにより行なわ
れる。この場合、化合物(2a)またid′(2c)と
ベンズオキサゾリン−2−チオンアミドとの使用割合は
、曲者に対して後者を通常少なくとも等モル、好ましく
は等モル−2倍モルとする。
えばベンズオキサゾリン−2−チオンアミドを用する場
合を例にとれは1反応に影響を4えない適当な溶媒1例
えば」二記混酸無水物法に用いるもと の同様の溶媒、または1−メチル−2−ピコリド△ ンなどを用い、0〜150°(、好捷しくけ10〜10
0°Cにて、5〜75時間反応させることにより行なわ
れる。この場合、化合物(2a)またid′(2c)と
ベンズオキサゾリン−2−チオンアミドとの使用割合は
、曲者に対して後者を通常少なくとも等モル、好ましく
は等モル−2倍モルとする。
上記(ハ)のカルボン酸ハライド法、カルボン酸(33
)VCハロケン化剤を反応させて、カルボン酸ハライド
とし、このカルボン酸ハライドを単離精製し、−!たは
単離精製することなく、これに化合物(2a)または(
2c)を反応させて行なわれる。
)VCハロケン化剤を反応させて、カルボン酸ハライド
とし、このカルボン酸ハライドを単離精製し、−!たは
単離精製することなく、これに化合物(2a)または(
2c)を反応させて行なわれる。
このカルボン酸ハライドと化合物(2a)または(2C
’)との反応は脱ハロゲン化水素剤の存在下に適当な溶
媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素剤としては通常塩
基性化合物が用いらゎ1、上記ショツテン−バウマン反
応に用込られる塩基化合物のほか、水酸化す1−リウム
、水酸化カリウム、水素化リウムエチラートなどのアル
カリ金属アルコラードなどが挙げられる。な卦反応化合
物の化合物(2a)または(2C)を過剰数州いて脱ハ
ロゲン化水素剤として兼用させることもできる。溶媒と
してはn1J記ショツテン−バウマン反応に用いられる
溶媒のタユか、例えば水、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノー
ル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブなどのアルコ
ール類、ピリジン、アセトン、アセトニトリルなど、ま
たはそれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。化合物
(2a)−4たは(2c)とカルボン酸ハライドとの使
用割合は特に限定されず広範囲に選択されるが1通常]
〕i[者に対して後者を少なくとも等モル、好ましくは
等モル−2倍モル用いられる。反応温度は通常−30〜
180°C程度、好ましくは約0〜150°Cで、一般
に5分〜30時間で反応は完結する。
’)との反応は脱ハロゲン化水素剤の存在下に適当な溶
媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素剤としては通常塩
基性化合物が用いらゎ1、上記ショツテン−バウマン反
応に用込られる塩基化合物のほか、水酸化す1−リウム
、水酸化カリウム、水素化リウムエチラートなどのアル
カリ金属アルコラードなどが挙げられる。な卦反応化合
物の化合物(2a)または(2C)を過剰数州いて脱ハ
ロゲン化水素剤として兼用させることもできる。溶媒と
してはn1J記ショツテン−バウマン反応に用いられる
溶媒のタユか、例えば水、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノー
ル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブなどのアルコ
ール類、ピリジン、アセトン、アセトニトリルなど、ま
たはそれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。化合物
(2a)−4たは(2c)とカルボン酸ハライドとの使
用割合は特に限定されず広範囲に選択されるが1通常]
〕i[者に対して後者を少なくとも等モル、好ましくは
等モル−2倍モル用いられる。反応温度は通常−30〜
180°C程度、好ましくは約0〜150°Cで、一般
に5分〜30時間で反応は完結する。
用いられるカルボン酸ハライドは、カルボン酸(33)
とハロゲン化剤を熱溶媒オたは溶媒中にて反応させて製
造される。溶媒としては1反応に悪影響を与えないもの
であれば使用でき1例えばベンセン、 トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩化メチ
レン、四塩化炭素ナトノハロゲン化炭化水素顛、ジオキ
ザン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドなどが挙けられる。ハロゲン化剤としては、カルボキ
シ基の水酸基をハロゲンに変える1通常のハロゲン化剤
を使用でき、例えば塩化チオニル。
とハロゲン化剤を熱溶媒オたは溶媒中にて反応させて製
造される。溶媒としては1反応に悪影響を与えないもの
であれば使用でき1例えばベンセン、 トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩化メチ
レン、四塩化炭素ナトノハロゲン化炭化水素顛、ジオキ
ザン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドなどが挙けられる。ハロゲン化剤としては、カルボキ
シ基の水酸基をハロゲンに変える1通常のハロゲン化剤
を使用でき、例えば塩化チオニル。
オギシ塩化リン、オキシ臭化リン、五塩化リン。
五臭化リンなどが例示される。
カルボン酸(33)とハロゲン化剤との使用割合はとく
に限定されず適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行う
場合には、通常前者に対して、後者を大過剰量、また溶
媒中で反応を行う場合には1通常前者に対して後者を少
なくとも等モ/L/量程度、好ましくは2〜4倍モル量
を用いる。その反応温度および反応時間もとくに限定さ
れないが2通常室温〜100°C程度、好ましくは50
〜80’Cにて、30分間〜6時間程度で行なわれる。
に限定されず適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行う
場合には、通常前者に対して、後者を大過剰量、また溶
媒中で反応を行う場合には1通常前者に対して後者を少
なくとも等モ/L/量程度、好ましくは2〜4倍モル量
を用いる。その反応温度および反応時間もとくに限定さ
れないが2通常室温〜100°C程度、好ましくは50
〜80’Cにて、30分間〜6時間程度で行なわれる。
またカルボン酸(88)ヲI−リフェニルホスフィンや
ジエチルクロロホヌフエートなどのリン化合物で活性化
し、これに化合物(2a)または(2c)を反応させる
方法は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては反応
に影響を与えないものならば何れも使用することができ
、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエ
タンなどのハロゲン化炭素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類
。
ジエチルクロロホヌフエートなどのリン化合物で活性化
し、これに化合物(2a)または(2c)を反応させる
方法は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては反応
に影響を与えないものならば何れも使用することができ
、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエ
タンなどのハロゲン化炭素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類
。
酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン
酸トリアミドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げら
れる。該反応では化合物(2a)または(2C)自体が
塩基性化合物として働くため、これを理論量よシ過剰に
用いることによって反応は良好に進行するが、必要に応
じて、他の塩基11:化合物、例えばトリエチルアミン
、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N
−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、1
.5−ジアザビシクロ[4,8,0]ノネン−5(DB
N)、1.5−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ
ン−5(DBU)、1.4−ジアザビシクロ[:2.2
.2]オクタン(DABCo )などの有機塩基、炭酸
カリウム、炭酸すトリウム、炭酸水素カリウム。
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキザメチルリン
酸トリアミドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げら
れる。該反応では化合物(2a)または(2C)自体が
塩基性化合物として働くため、これを理論量よシ過剰に
用いることによって反応は良好に進行するが、必要に応
じて、他の塩基11:化合物、例えばトリエチルアミン
、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N
−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、1
.5−ジアザビシクロ[4,8,0]ノネン−5(DB
N)、1.5−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ
ン−5(DBU)、1.4−ジアザビシクロ[:2.2
.2]オクタン(DABCo )などの有機塩基、炭酸
カリウム、炭酸すトリウム、炭酸水素カリウム。
炭酸水素す1−リウムなどの無機塩基を用−ることもで
きる。該反応は約0〜150’c、好ましくは約0−1
00°Cで、約1〜30時間行なうことにより達成され
る。化合物(2a)または(2C)に対するリン化合物
およびカルボン酸(33)の使用割合は。
きる。該反応は約0〜150’c、好ましくは約0−1
00°Cで、約1〜30時間行なうことにより達成され
る。化合物(2a)または(2C)に対するリン化合物
およびカルボン酸(33)の使用割合は。
それぞれ、通常少なくとも等モル量程度、好ましくは1
〜3倍モル量である。
〜3倍モル量である。
前記反応式−Xvにおいて、化合物(2a)または(2
b)ヲ式(34)のアルコールを用いてエヌテル化する
ことによりそれぞれ対応する化合物(2C)または(2
d)に導く反応は前記反応式−■における化合物(3)
の化合物(4)によるエステル化と同じ条件下に行なう
ことができる。
b)ヲ式(34)のアルコールを用いてエヌテル化する
ことによりそれぞれ対応する化合物(2C)または(2
d)に導く反応は前記反応式−■における化合物(3)
の化合物(4)によるエステル化と同じ条件下に行なう
ことができる。
本発明化合物は抗潰瘍剤としても有用であり。
通常、一般的な医薬製剤の形態で用いられる。製剤は通
常使用される充填剤、増掛剤、結合剤、 (;1湿剤、
崩壊剤1表面活性剤、滑沢剤などの希釈剤あるいは賦形
剤を用いて1.’、l製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療i的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆
粒剤、カプセル剤、全開、注射剤(液剤、懸濁剤等)な
どが挙げられる。錠剤の4態に成形するに際しては、担
体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき2例
えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、ダ
ンフン。炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、
ケイ酸などの賦形剤、水、エタノール、プロパツール、
単シロップ、ブドウ糖液、デン7”ン液、ゼラチン溶液
、力lレボキシメチフレセルロース。
常使用される充填剤、増掛剤、結合剤、 (;1湿剤、
崩壊剤1表面活性剤、滑沢剤などの希釈剤あるいは賦形
剤を用いて1.’、l製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療i的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆
粒剤、カプセル剤、全開、注射剤(液剤、懸濁剤等)な
どが挙げられる。錠剤の4態に成形するに際しては、担
体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき2例
えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、ダ
ンフン。炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、
ケイ酸などの賦形剤、水、エタノール、プロパツール、
単シロップ、ブドウ糖液、デン7”ン液、ゼラチン溶液
、力lレボキシメチフレセルロース。
セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビ
ニルピロリドンなどの結合剤、乾燥デンプン、アルギン
酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カルシウム。
ニルピロリドンなどの結合剤、乾燥デンプン、アルギン
酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カルシウム。
ポリオキシエチレンンルビクン脂肪酸エステル類、ラウ
リル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デ
ンプン、乳糖などの崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター2水素添加油などの崩壊抑制ill、第四級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸す1−リウムなどの吸収促
進剤、クリセリン、デンプンなどの保湿剤、デンプン、
乳糖、カオリン。
リル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デ
ンプン、乳糖などの崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター2水素添加油などの崩壊抑制ill、第四級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸す1−リウムなどの吸収促
進剤、クリセリン、デンプンなどの保湿剤、デンプン、
乳糖、カオリン。
ベントカイ1−.コロイド状ケイ酸などの吸着剤。
精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレン
グリコールなどの滑沢剤などが例示できる。
グリコールなどの滑沢剤などが例示できる。
さらに錠剤は必要に応じ、通常の剤皮を捲した錠剤、例
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる
。丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分
野で従来公知のものを広く使用でき1例えばブドウ糖、
乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タ
ルクなとの賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼ
ラチン、エタノールナトの結合剤、ラミナラン、カンテ
ンなどの崩壊剤などが例示できる。全開の形態に成形す
るに際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き1例えばポリエチレングリコール、カカオIIL高級
アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、
半合成グリセライドなどを挙げることができる。注射剤
として調製さり。
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる
。丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分
野で従来公知のものを広く使用でき1例えばブドウ糖、
乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タ
ルクなとの賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼ
ラチン、エタノールナトの結合剤、ラミナラン、カンテ
ンなどの崩壊剤などが例示できる。全開の形態に成形す
るに際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き1例えばポリエチレングリコール、カカオIIL高級
アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、
半合成グリセライドなどを挙げることができる。注射剤
として調製さり。
る場合には、液剤および懸濁剤は殺菌され、かつ血液と
等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤および懸濁
剤の形態に成形するのに際しては。
等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤および懸濁
剤の形態に成形するのに際しては。
希釈剤としてこの分野において慣用されているもoを−
tべて使用でき1例えば水、エチルアルコ−/L/、プ
ロピレングリコール、ニドキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシ化インステアリルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類などを挙げる
ことができる。なお。
tべて使用でき1例えば水、エチルアルコ−/L/、プ
ロピレングリコール、ニドキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシ化インステアリルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類などを挙げる
ことができる。なお。
この場合等張住の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブ
ドウ糖あるいはグリセリンを抗潰瘍剤中に含有せしめて
もよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤など
を、更に必要に応じて着色剤。
ドウ糖あるいはグリセリンを抗潰瘍剤中に含有せしめて
もよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤など
を、更に必要に応じて着色剤。
保存剤、香料、風味剤、甘味剤などや他の医薬品を該治
療剤中に含有せしめてもよい。
療剤中に含有せしめてもよい。
本発明の抗潰瘍剤中に含有されるべき本発明の化合物の
量はとくに限定されず広範囲に選択されるが、1角常全
組成物中1〜70重量%、好ましくは5〜50重量%で
ある。
量はとくに限定されず広範囲に選択されるが、1角常全
組成物中1〜70重量%、好ましくは5〜50重量%で
ある。
本発明の抗潰瘍剤の投与方法にはとくに制限はなく、各
種製剤形態、患者の年令、性別その他の条件、疾患の程
度などに応じた方法で投与される。
種製剤形態、患者の年令、性別その他の条件、疾患の程
度などに応じた方法で投与される。
例えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤および
カプセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の場
合には単独であるいはブドウ糖、アミノ酸などの通常の
補液と混合して静脈内投与され、さらには必要に応じて
単独で筋肉内、皮肉。
カプセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の場
合には単独であるいはブドウ糖、アミノ酸などの通常の
補液と混合して静脈内投与され、さらには必要に応じて
単独で筋肉内、皮肉。
皮下もしくは腹腔内投与される。全開の場合には直腸内
投与される。
投与される。
本発明の抗潰瘍剤の投与量は用法、患者の年令。
性別その他の条件、疾患の程度などにより適宜選択され
るが1通常水発明化合物の量は1日当り体重1 kg当
り0,6〜50m7とするのがよい。捷だ。
るが1通常水発明化合物の量は1日当り体重1 kg当
り0,6〜50m7とするのがよい。捷だ。
投与単位形態中に有効成分を10〜1000”V含有せ
しめるのがよい。
しめるのがよい。
つぎに参考例および実姉例を挙けて本発明をさらに具体
的に説明するが1本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
的に説明するが1本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
参考例1
m−アミノ安息香酸100gをエーテル11に懸濁し、
室温、PJt押下、β−エトギシアクリル酸クりライド
44.6f/を滴丁する。この混合物を40°Cで5時
間反応後、析出物を加増する。結晶を3回水洗、乾燥し
、メタノールよシ再結晶して無色綿状品のm−カルボキ
シ−N−(β−エトギシアクリロイ/I/)アニリン6
0fを得る。融点200.5〜202.0°C0 参考例2 3−フェニルプロピオン酸メチル50y、クロロアセチ
ルクロライド51.6yおよびジクロロメタン250m
1の混合物を0°Cに冷却する。0〜lO°Cで攪拌下
、塩化アルミニウム1221−徐々に加える。その後室
温で2時間攪拌する。室温で一夜放置後1反応混合物を
氷−a塩酸中に注ぎ、クロロホルムで抽出する。クロロ
ホルム層を/J((k、乾燥して、クロロホルムを留去
する。残/FF Kイソプロピルエーテルを加えて結晶
化し、結晶を加増し、エタノールより再結晶して無色針
状晶の3−(4−クロロアセチルフェニ/L/)プロピ
オン酸メチル534gを得る。融点90.0〜92.0
°C0参考例3 3−(4−クロロアセチルフェニル)10ピオンmメ−
t−)va 6.26 yを’/)jA hMMg20
0 mtに溶解し。
室温、PJt押下、β−エトギシアクリル酸クりライド
44.6f/を滴丁する。この混合物を40°Cで5時
間反応後、析出物を加増する。結晶を3回水洗、乾燥し
、メタノールよシ再結晶して無色綿状品のm−カルボキ
シ−N−(β−エトギシアクリロイ/I/)アニリン6
0fを得る。融点200.5〜202.0°C0 参考例2 3−フェニルプロピオン酸メチル50y、クロロアセチ
ルクロライド51.6yおよびジクロロメタン250m
1の混合物を0°Cに冷却する。0〜lO°Cで攪拌下
、塩化アルミニウム1221−徐々に加える。その後室
温で2時間攪拌する。室温で一夜放置後1反応混合物を
氷−a塩酸中に注ぎ、クロロホルムで抽出する。クロロ
ホルム層を/J((k、乾燥して、クロロホルムを留去
する。残/FF Kイソプロピルエーテルを加えて結晶
化し、結晶を加増し、エタノールより再結晶して無色針
状晶の3−(4−クロロアセチルフェニ/L/)プロピ
オン酸メチル534gを得る。融点90.0〜92.0
°C0参考例3 3−(4−クロロアセチルフェニル)10ピオンmメ−
t−)va 6.26 yを’/)jA hMMg20
0 mtに溶解し。
発煙硝酸cd=]、、52 )20.9gを氷水冷下攪
拌し・なから11g3−Fする。室温で3時間攪拌した
のち。
拌し・なから11g3−Fする。室温で3時間攪拌した
のち。
反応混合物を氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出−J−
ル。クロロホルム層を水洗、乾プ菓後、クロロホ)v
ムラWi 去スる。残渣をシリカゲルカラムクロマ1−
クジフイで精製し、エーテルを加えて結晶化する。結晶
をρ−1取し、メタノールより再結晶して淡黄色ブリズ
J・品の3−(4−カルボキシ−2−二トロフェニル)
プロピオン酸メチル26.7 gヲ?8る。融点120
0〜1220℃。
ル。クロロホルム層を水洗、乾プ菓後、クロロホ)v
ムラWi 去スる。残渣をシリカゲルカラムクロマ1−
クジフイで精製し、エーテルを加えて結晶化する。結晶
をρ−1取し、メタノールより再結晶して淡黄色ブリズ
J・品の3−(4−カルボキシ−2−二トロフェニル)
プロピオン酸メチル26.7 gヲ?8る。融点120
0〜1220℃。
参考例4
クロロアセチルクロライド467gのジクロロメタン4
00m1f8液に30°C以下で攪拌ド、塩化アルミニ
ウム735gを1/3づつ加える。次に同温度・攪拌下
刃ルポスチリル200 Q ヲjJI)える。
00m1f8液に30°C以下で攪拌ド、塩化アルミニ
ウム735gを1/3づつ加える。次に同温度・攪拌下
刃ルポスチリル200 Q ヲjJI)える。
その混合液を6時間加熱還流したのち1反応混合物を氷
−濃塩酸中に注き7析出する結晶を/戸J■νする。こ
れをメタノール、熱メタノールで洗浄して6−クロロア
セチルカルボスチリル153 Q ヲ?E4る。母液を
濃縮乾固し、残渣ケシリカゲルカラj・クロマトダラフ
ィで精製し、メタノールよす再結晶して淡黄色針状晶の
8−りIJロアセチルカルボスチリル35.41gを得
る。融点1775.〜179.0°C0 参考例5 8−クロロアセチルカルボスチリル3oダとピリジン3
00rnlを混和し、80〜90’(、で2.5時間力
1J熱攪拌する。反応液を氷水冷し、析出した結晶を加
増し、エーテルで洗浄後、メタノールより再結晶して無
色針状晶の8−(α−ピリジニウムアセチル)カルボス
チリルクロライド40.8’5 f/を得る。融点26
1゜5〜264°C(分解)。
−濃塩酸中に注き7析出する結晶を/戸J■νする。こ
れをメタノール、熱メタノールで洗浄して6−クロロア
セチルカルボスチリル153 Q ヲ?E4る。母液を
濃縮乾固し、残渣ケシリカゲルカラj・クロマトダラフ
ィで精製し、メタノールよす再結晶して淡黄色針状晶の
8−りIJロアセチルカルボスチリル35.41gを得
る。融点1775.〜179.0°C0 参考例5 8−クロロアセチルカルボスチリル3oダとピリジン3
00rnlを混和し、80〜90’(、で2.5時間力
1J熱攪拌する。反応液を氷水冷し、析出した結晶を加
増し、エーテルで洗浄後、メタノールより再結晶して無
色針状晶の8−(α−ピリジニウムアセチル)カルボス
チリルクロライド40.8’5 f/を得る。融点26
1゜5〜264°C(分解)。
参考例6
m−アミノ安息香酸メチル295gのジエチルエーテル
300i浴液に、攪拌−ド17〜27°Cでβ−工トキ
シアクリル酸クりジイド11.53gを滴下する。滴下
後、室温で1時間攪拌し、析出晶をrI取する。エーテ
ル洗浄後、粗結晶をクロロホル、z、VC溶解し、05
N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、飽A11 jE塩水
で洗浄する。乾燥後、クロロホルムヲ留去し、残mをシ
リカゲルカラムクロマトクワフイで)llIt製し、つ
いでメタノールより再結晶して、無色プリスム状品の1
3.63gのm−メトギシ力ルボニル−N−(β−エト
キシアクリロイ/I/)アニリンを得る。融点108〜
110°C0参、老f列7 (a) t’、−−(α−クロロアセチル)カルボスチ
リル60 gをピリジン0.5にりに懸濁し、80〜9
0°Cで2時間隔拌し、つづいて水冷下1時間攪拌する
。
300i浴液に、攪拌−ド17〜27°Cでβ−工トキ
シアクリル酸クりジイド11.53gを滴下する。滴下
後、室温で1時間攪拌し、析出晶をrI取する。エーテ
ル洗浄後、粗結晶をクロロホル、z、VC溶解し、05
N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、飽A11 jE塩水
で洗浄する。乾燥後、クロロホルムヲ留去し、残mをシ
リカゲルカラムクロマトクワフイで)llIt製し、つ
いでメタノールより再結晶して、無色プリスム状品の1
3.63gのm−メトギシ力ルボニル−N−(β−エト
キシアクリロイ/I/)アニリンを得る。融点108〜
110°C0参、老f列7 (a) t’、−−(α−クロロアセチル)カルボスチ
リル60 gをピリジン0.5にりに懸濁し、80〜9
0°Cで2時間隔拌し、つづいて水冷下1時間攪拌する
。
析出品をIII取し、メタノールより再結晶して無色剣
伏晶の6−(α−ピリシニウトアセチ/I/)カルボス
−1−リルクロ・ノイド1/2水和物70gを得る。
伏晶の6−(α−ピリシニウトアセチ/I/)カルボス
−1−リルクロ・ノイド1/2水和物70gを得る。
融点3()0℃1ソ、j−。
(1)+ 6− (α−ピリジニウムアセチル)カルボ
スチリルクロライド69.71−よひ水酸化すトリウム
65gを水0.6tVC溶解し、60〜70′Cで3時
間攪拌する。氷冷ド1反応混合物に濃塩酸を力[Jえて
、pHf−2とする。析出品をyr−r IIv L
、 I) M s:より再結晶して淡茶色粉末法晶の6
−カルボキシカルボスチリル4]、4gを?j)る。融
点300°C以上。
スチリルクロライド69.71−よひ水酸化すトリウム
65gを水0.6tVC溶解し、60〜70′Cで3時
間攪拌する。氷冷ド1反応混合物に濃塩酸を力[Jえて
、pHf−2とする。析出品をyr−r IIv L
、 I) M s:より再結晶して淡茶色粉末法晶の6
−カルボキシカルボスチリル4]、4gを?j)る。融
点300°C以上。
参考例8
参考例7と同様にして適当な出発原料を用いて以下の化
合物を得る。
合物を得る。
6−カルボキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル、淡
黄色針状晶(ジメチルホルムアミド)融点300°C以
−に。
黄色針状晶(ジメチルホルムアミド)融点300°C以
−に。
8−カルボキシカルボスチリル、無色針状晶(メタノー
ル−クロロホルム)、 融点320 ’C以’h−NM
R(DMSO)δ6.57 (d、 J = 9,5
11z。
ル−クロロホルム)、 融点320 ’C以’h−NM
R(DMSO)δ6.57 (d、 J = 9,5
11z。
11()、7.25 (L 、 J=8.0f(z、
1JJL、 7.94、 (d 、 d 、 J=
=8.0Hz、]、5Hz、 III )、 7.9
8(rJ、 J=9.5Hz、10 L 8.14 (
rJ、rI。
1JJL、 7.94、 (d 、 d 、 J=
=8.0Hz、]、5Hz、 III )、 7.9
8(rJ、 J=9.5Hz、10 L 8.14 (
rJ、rI。
J = 8.OH7,1,5H2,]、 H)。
参考例9
6−カルボキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル10
gおよびN−ヒドロキシコハク酸イミド60gをシオキ
ザン200m1VC懸濁させる。つぎに水冷FR,J゛
t’ F、 ジシクロヘキシルカルボジイミド124
I/の50m1ジオキサン溶液を商工する。その混合液
を90°Cで4時間加熱攪拌する。反応終了後、室温捷
で放冷し、析出晶をlJ3去し、/1′8i液を濃縮乾
固し、その残渣をジメチルホルムアミド−エタノールよ
り再結晶して無色リン片伏晶のコハク酸イミド3,4−
シヒドロカルポヌチリル−6−ガールボギシレ−1−1
0,8gを得る。融点234.5〜236℃。
gおよびN−ヒドロキシコハク酸イミド60gをシオキ
ザン200m1VC懸濁させる。つぎに水冷FR,J゛
t’ F、 ジシクロヘキシルカルボジイミド124
I/の50m1ジオキサン溶液を商工する。その混合液
を90°Cで4時間加熱攪拌する。反応終了後、室温捷
で放冷し、析出晶をlJ3去し、/1′8i液を濃縮乾
固し、その残渣をジメチルホルムアミド−エタノールよ
り再結晶して無色リン片伏晶のコハク酸イミド3,4−
シヒドロカルポヌチリル−6−ガールボギシレ−1−1
0,8gを得る。融点234.5〜236℃。
参考例In
In−カルホ゛ギシーN−(β−エトキシアクリロイル
)アニリン8gを濃硫酸80.nt、に加え、室序で2
時間、続いて50°Cで1時間攪拌する。反応液を水中
に注ぎ、ION水酸化ナトリウト水溶液で1)H3〜4
に調整する。析出品を加増し、水洗してDMFより再結
晶して淡黄色粉末状品の5−カルボキシカルボスチリル
/1.26i7を得る。融点320°C以上。
)アニリン8gを濃硫酸80.nt、に加え、室序で2
時間、続いて50°Cで1時間攪拌する。反応液を水中
に注ぎ、ION水酸化ナトリウト水溶液で1)H3〜4
に調整する。析出品を加増し、水洗してDMFより再結
晶して淡黄色粉末状品の5−カルボキシカルボスチリル
/1.26i7を得る。融点320°C以上。
NMR(DMSO)66.58 (d 、 J = 9
.5Hz。
.5Hz。
l11)、7.40〜7.8 (1(m 、 3 H)
、 8.69 (d 、 J=9.5Hz、 LH)。
、 8.69 (d 、 J=9.5Hz、 LH)。
参考例11
3−(4−カルボキシ−2−二1−ロフェニル)プロピ
オン酸メチル51i’、2.226N水酸化す1−リウ
ムメタノール溶1418.8?、nt−メタノール10
0、I/および5%pa −cr50%含水)1gを混
和し、常温、常圧で接融還元する。触媒を加力し。
オン酸メチル51i’、2.226N水酸化す1−リウ
ムメタノール溶1418.8?、nt−メタノール10
0、I/および5%pa −cr50%含水)1gを混
和し、常温、常圧で接融還元する。触媒を加力し。
母液に濃塩酸を加え、pHf−1に調整し、析出する結
晶を173取し、無色釧伏晶のメタノールより再結晶し
て、−7−カルポキンー3.4−ジヒドロカルボスチリ
ル3.62gを得る。融点320℃以」―。
晶を173取し、無色釧伏晶のメタノールより再結晶し
て、−7−カルポキンー3.4−ジヒドロカルボスチリ
ル3.62gを得る。融点320℃以」―。
NMR(DMSO)δ2.33〜2.60 (m 、
2H)、2.77〜3.05 (m、 2H)、7.2
1 (d。
2H)、2.77〜3.05 (m、 2H)、7.2
1 (d。
J = 8.5 Hz、 I H’1.7.38〜7.
53 (n 、 21−1)、]0.]5(s、IH)
。
53 (n 、 21−1)、]0.]5(s、IH)
。
参考例12
m−メトキシカルボニル−N−(β−エトキシアクロイ
ル)アニリンlogをrH流酸100 ml中に徐々に
力0え、室温で2時間、45°Cで4時間攪拌する。反
応液を水中に注ぎ、析出晶を加酸、水洗する。得られた
粗結晶をメタノール−クロロホルムでIQ結晶して−6
,97gの5−メトキシカルボニルカルボスチリルを得
る。融点277.5〜279.0°(J 6 参考例13 5−)))レボギシ力ルポスチリル2 gヲ水30 m
tに懸濁し、それにION水酸化す)・リウム水溶液を
加えて結晶を溶解する。溶液に10%PL−C500r
ytを加えて、水素圧3〜4 kq/crn 、 70
°Cで接触置元する。反応後、触媒を沖去し、p液に6
13塩酸を力1]えて、1)14 中1とし、析出品を
加増し。
ル)アニリンlogをrH流酸100 ml中に徐々に
力0え、室温で2時間、45°Cで4時間攪拌する。反
応液を水中に注ぎ、析出晶を加酸、水洗する。得られた
粗結晶をメタノール−クロロホルムでIQ結晶して−6
,97gの5−メトキシカルボニルカルボスチリルを得
る。融点277.5〜279.0°(J 6 参考例13 5−)))レボギシ力ルポスチリル2 gヲ水30 m
tに懸濁し、それにION水酸化す)・リウム水溶液を
加えて結晶を溶解する。溶液に10%PL−C500r
ytを加えて、水素圧3〜4 kq/crn 、 70
°Cで接触置元する。反応後、触媒を沖去し、p液に6
13塩酸を力1]えて、1)14 中1とし、析出品を
加増し。
メタノールより11結晶して無色剣伏晶の5−カルボキ
シ−3,4−シヒドロカルホ゛スチリル820m’i/
をイル)る。融点309〜311’C。
シ−3,4−シヒドロカルホ゛スチリル820m’i/
をイル)る。融点309〜311’C。
参考例14
5−カルボキシカルボスチリル2yをメタノ−/lz1
00m/に懸濁1し、塩酸ガスをバブルして飽和したの
ち、3時間還流する。反応aνを生計Vcなるまで濃λ
イd L、析出した結晶を8月(!する。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィでオ青製し、次いでメタノール−
クロロホルムより+1丁結晶して無色粉末状品の5−メ
トキシカルボニルカルボスチリル23omyを得る。融
点277.5〜279°C6参考例15 8−(α−ピリジニウ11アセチル)カルボスチリルク
ロライド2gをメタノール20 mi VC溶解し、こ
れに1.01PのDBUを加え、1時間還流する。
00m/に懸濁1し、塩酸ガスをバブルして飽和したの
ち、3時間還流する。反応aνを生計Vcなるまで濃λ
イd L、析出した結晶を8月(!する。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィでオ青製し、次いでメタノール−
クロロホルムより+1丁結晶して無色粉末状品の5−メ
トキシカルボニルカルボスチリル23omyを得る。融
点277.5〜279°C6参考例15 8−(α−ピリジニウ11アセチル)カルボスチリルク
ロライド2gをメタノール20 mi VC溶解し、こ
れに1.01PのDBUを加え、1時間還流する。
反応液をa縮乾固し、残渣に水、クロロホルム。
IN塩酸を加える。り110ホルム層を水、飽和炭酸水
素す1−リウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥
する5、クロ11ホルムを留去し、得らヵ、た残l査を
シソ力ゲル力うムクロマトクラフィテ精製し、ついでメ
タノールより再結晶して無色別状品の8−メトキシカル
ボニルカルボスチリル130m2を得る。融点140〜
142°c0参考例16 (a)四つロフラスコに水175−と硫酸第一鉄7水和
物10.51濃塩酸0.5−およびO−ニトロベンズア
ルデヒド6gをはかり、水浴上で90°Cに加熱する。
素す1−リウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥
する5、クロ11ホルムを留去し、得らヵ、た残l査を
シソ力ゲル力うムクロマトクラフィテ精製し、ついでメ
タノールより再結晶して無色別状品の8−メトキシカル
ボニルカルボスチリル130m2を得る。融点140〜
142°c0参考例16 (a)四つロフラスコに水175−と硫酸第一鉄7水和
物10.51濃塩酸0.5−およびO−ニトロベンズア
ルデヒド6gをはかり、水浴上で90°Cに加熱する。
攪拌しながら濃アンモニア水25−を一度に加える。さ
らに2分毎にアンモニア水30mtを3度に分けて加え
る。添加終了後、直ちに水蒸、気蒸留を行なう。留g!
250−を二度集める。最初の留液を冷却し、析出品を
加増する。苺゛液と二番目の留液をあわせて1食塩で飽
和し、エーテル抽出を行なう。エーテル溶液は硫酸ナト
リウムで乾燥し、エーテルを留去する。残渣とさきの結
晶とをあわせて乾燥し、黄色鱗片状の0−アミノベンズ
アルデヒド2.9gを得る。融点88〜39℃。
らに2分毎にアンモニア水30mtを3度に分けて加え
る。添加終了後、直ちに水蒸、気蒸留を行なう。留g!
250−を二度集める。最初の留液を冷却し、析出品を
加増する。苺゛液と二番目の留液をあわせて1食塩で飽
和し、エーテル抽出を行なう。エーテル溶液は硫酸ナト
リウムで乾燥し、エーテルを留去する。残渣とさきの結
晶とをあわせて乾燥し、黄色鱗片状の0−アミノベンズ
アルデヒド2.9gを得る。融点88〜39℃。
(bl マロン酸2gをピリジン15−に溶解す芯。
これに0−アミノベンズアルデヒド1.2Fとピペリジ
ン2−と7加え、90°Cで5時間攪拌する。
ン2−と7加え、90°Cで5時間攪拌する。
反応液を塩酸水溶液にあけて析出晶を加増する。
メタノール−クロロホルムから再結晶して無色針状の3
−カルボキシカルボスチリル1.2yを得る。
−カルボキシカルボスチリル1.2yを得る。
融点300°C以上。
参考例1フ
イサチン60fに無水酢酸140rntを加えて4時間
還流を行なう。今後、析出晶を加増し、エーテルで洗浄
し、N−アセチルイサチン58gを得る。
還流を行なう。今後、析出晶を加増し、エーテルで洗浄
し、N−アセチルイサチン58gを得る。
水酸化す)IJウム30gを水1.5tに溶解する。
これに上記N−アセチルイザチン58FIを加えて1時
間還流を行なう。すこし冷却し、活性炭を加え、30分
還流する。熱時活性炭を加力する。母液を冷却し、6規
定塩酸でpH3〜4とする。析出してくる結晶をtry
取し、水で洗浄後、乾燥して。
間還流を行なう。すこし冷却し、活性炭を加え、30分
還流する。熱時活性炭を加力する。母液を冷却し、6規
定塩酸でpH3〜4とする。析出してくる結晶をtry
取し、水で洗浄後、乾燥して。
4−カルボキシカルボスチIJ /し45yを得る。融
点300℃以上。
点300℃以上。
参考例18
、(al N、 N−ジメチルホルムアミド96.、l
lに氷冷撹拌下、オキシ塩化リン322−を滴下する。
lに氷冷撹拌下、オキシ塩化リン322−を滴下する。
同温度でアセトアニリド67.5 gを加え、75°C
で18.5時間攪拌を行なう。反応液を氷にあけて析出
晶を沖取し、乾燥する。酢酸エチルから再結晶して黄色
針状の2−クロル−3−ホルミルカルボスチリル (b)2−クロ/vー3ーホルミルキノリン87fに4
規定塩酸600ffI/を加えて1時間還流する。今後
、析出品を加増し、エタノール−クロロホルムから再結
晶して淡黄色針状晶の3−ホルミルカルボスチリル84
fを得る。融点308〜309°C0参考例19 N,N−ジメチルホルムアミド11,6−にO’Cで撹
拌しながらオキシ塩化リン64.44を滴下する。
で18.5時間攪拌を行なう。反応液を氷にあけて析出
晶を沖取し、乾燥する。酢酸エチルから再結晶して黄色
針状の2−クロル−3−ホルミルカルボスチリル (b)2−クロ/vー3ーホルミルキノリン87fに4
規定塩酸600ffI/を加えて1時間還流する。今後
、析出品を加増し、エタノール−クロロホルムから再結
晶して淡黄色針状晶の3−ホルミルカルボスチリル84
fを得る。融点308〜309°C0参考例19 N,N−ジメチルホルムアミド11,6−にO’Cで撹
拌しながらオキシ塩化リン64.44を滴下する。
同温度でN−フェニル−3−クロルプロピオンアミド1
8.4fを加える。75〜80°Cで10時間攪拌する
。反応液を氷水にあけて,析出晶を加増する。エタノー
ルから再結晶して無色プリズム状の2−クロル−3−ク
ロルメチルキノリン6、71を得る。融点116〜11
8°C0 実施例 3−ホルミルカルボスチリル34gをメタノール8 0
0 mtに懸濁する。水冷攪拌下、水素化ホウ素ナト
リウム7、4gを少量づつ添加する。水冷下。
8.4fを加える。75〜80°Cで10時間攪拌する
。反応液を氷水にあけて,析出晶を加増する。エタノー
ルから再結晶して無色プリズム状の2−クロル−3−ク
ロルメチルキノリン6、71を得る。融点116〜11
8°C0 実施例 3−ホルミルカルボスチリル34gをメタノール8 0
0 mtに懸濁する。水冷攪拌下、水素化ホウ素ナト
リウム7、4gを少量づつ添加する。水冷下。
3時間攪拌を行なう。析出品を/7j取し.メタノール
から再結晶して無色プリズム状の3−ヒドロキシメチル
カルボヌチリル8B.2fを得る。融点238〜289
.5°C0 実施例2 水素化リチウムアlレミニウノ・16gを乾燥テ1−ラ
ヒドロフラン2αCjml Ic懸濁する。室温で撹拌
しなから3−メトキシカルボニルカルボスチリル16i
fを添加する。室温で5時間攪拌する。酢酸エチルヲ滴
下シ,過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解する。
から再結晶して無色プリズム状の3−ヒドロキシメチル
カルボヌチリル8B.2fを得る。融点238〜289
.5°C0 実施例2 水素化リチウムアlレミニウノ・16gを乾燥テ1−ラ
ヒドロフラン2αCjml Ic懸濁する。室温で撹拌
しなから3−メトキシカルボニルカルボスチリル16i
fを添加する。室温で5時間攪拌する。酢酸エチルヲ滴
下シ,過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解する。
さらに水を加えたのち、減圧濃縮する。残渣に希硫酸を
加え,析出品を加増し、メロ’/−ルから再結晶して無
色プリズム状の3−ヒドロキシメチルカルボメチ9ル,
3、71する。
加え,析出品を加増し、メロ’/−ルから再結晶して無
色プリズム状の3−ヒドロキシメチルカルボメチ9ル,
3、71する。
融点238〜2B9.5°C0
実施例
実施例1および2と同様にして適当な出発原料゛を用い
て次表の化合物を得る。
て次表の化合物を得る。
実施例8
3−ヒドロキシメチルカルポスチリ/し5yに47%臭
化水素酸50−を加えて、70〜80″Cで3時間攪拌
する。今後、析出品を加増し、メタノールから再結晶し
て無色針状の3−ブロムメチルカルボスチリル6fを得
る。融点21s、5〜219°C(分解)。
化水素酸50−を加えて、70〜80″Cで3時間攪拌
する。今後、析出品を加増し、メタノールから再結晶し
て無色針状の3−ブロムメチルカルボスチリル6fを得
る。融点21s、5〜219°C(分解)。
実施例9
3−ヒドロキシメチルカルポスチリル3yをクロロホル
ム100−に懸濁する。室温で攪拌しながら塩化チオニ
ル2gのクロロホルム2〇−溶液を滴下する。室温で1
時間攪拌する。減圧濃縮し。
ム100−に懸濁する。室温で攪拌しながら塩化チオニ
ル2gのクロロホルム2〇−溶液を滴下する。室温で1
時間攪拌する。減圧濃縮し。
残渣をメタノールから再結晶して無色針状の3−クロル
メチルカルポスチリlし2.91を得る。融点204〜
205°C0 実施例10 2−クロ)v−3−クロルメチルキノリン2.8gを酢
酸30−に溶解し、2時間還流を行なう。反応液を水に
あけ、析出品を沖取する。メタノールから再結晶して無
色剣状の3−クロルメチルカルポスチリル2.1fを得
る。融点204〜205°G。
メチルカルポスチリlし2.91を得る。融点204〜
205°C0 実施例10 2−クロ)v−3−クロルメチルキノリン2.8gを酢
酸30−に溶解し、2時間還流を行なう。反応液を水に
あけ、析出品を沖取する。メタノールから再結晶して無
色剣状の3−クロルメチルカルポスチリル2.1fを得
る。融点204〜205°G。
実施例11〜15
実施例10と同様にして適当な出発原料を用いて次表の
化合物を得る。
化合物を得る。
実施例16
ナトリウム1.5gと乾燥エタノール150.7とから
ナトリウムエチラートをつくる。これにアセトアミドマ
ロン酸ジエチル12gを加えて室温11時++4Jfl
する。4−クロムメチルカルボスチリル12gを加えて
、2時間還流を行なう。エタノールを留去し、残渣に水
を加え、析出晶を加増する。エタノールから再結晶して
無色プリズム状のエチル2−アセトアミド−2−カルボ
エトキシ−3−(2−キノロン−4−イル)プロピオネ
ート1317を得る。融点224〜226°C(分解)
。
ナトリウムエチラートをつくる。これにアセトアミドマ
ロン酸ジエチル12gを加えて室温11時++4Jfl
する。4−クロムメチルカルボスチリル12gを加えて
、2時間還流を行なう。エタノールを留去し、残渣に水
を加え、析出晶を加増する。エタノールから再結晶して
無色プリズム状のエチル2−アセトアミド−2−カルボ
エトキシ−3−(2−キノロン−4−イル)プロピオネ
ート1317を得る。融点224〜226°C(分解)
。
実施例17〜26
実症例16と同様にして適当な出発原料を用いて次表の
化合物を得る。
化合物を得る。
実施例27
エチル2−アセドアミド−2−カルボエトキシ−8−(
2−キノロン−3−イル)プロピオネ−)5.6gをテ
トラヒドロフラン150−に溶解する。これに室温で攪
拌しながら50%油性水素ナトリウムo、syを加える
。ヨウ化メチル4.5gを滴下し、室温で3時間攪拌す
る。減圧濃縮し、残渣を水にあけて析出品を′/Jゴ敗
する。エタノ−ノー水から再結晶して無色鱗片状のエチ
ル2−アセトアミド−2−カルボエトキシ−3−(1−
メチル−2−キノロン−3−イル)プロピオネ−)3.
5gを得る。融点190.5〜192°C0上記実施例
27と同様にして、適当な出発物質を用い°てmJ記実
症例21〜24の化合物を得る。
2−キノロン−3−イル)プロピオネ−)5.6gをテ
トラヒドロフラン150−に溶解する。これに室温で攪
拌しながら50%油性水素ナトリウムo、syを加える
。ヨウ化メチル4.5gを滴下し、室温で3時間攪拌す
る。減圧濃縮し、残渣を水にあけて析出品を′/Jゴ敗
する。エタノ−ノー水から再結晶して無色鱗片状のエチ
ル2−アセトアミド−2−カルボエトキシ−3−(1−
メチル−2−キノロン−3−イル)プロピオネ−)3.
5gを得る。融点190.5〜192°C0上記実施例
27と同様にして、適当な出発物質を用い°てmJ記実
症例21〜24の化合物を得る。
実施例28
水素化リチウムアルミニウム1.9gを乾燥テトラヒド
ロフラン100.I/に懸濁する。これに室温で攪拌し
なから3−カルボキシカルボスチリル1゜9yを添加す
る。室温で一晩攪拌を行なう。過剰の水素化リチウムア
ルミニウムを酢酸エチルヲ滴下して分解する。希硫酸を
加えて酸性とする。テトロヒドロフランを減圧留去後、
析出してくる結晶を戸数する。メタノールから再結晶し
て無色プリズム状の3−ヒドロキシメチルカルボスチリ
ル0.5gを得る。融点238〜239.5°C0上記
実殉例28と同様にして適当な出発原料を用いて、 i
iJ記実症例3〜7の化合物を得る。
ロフラン100.I/に懸濁する。これに室温で攪拌し
なから3−カルボキシカルボスチリル1゜9yを添加す
る。室温で一晩攪拌を行なう。過剰の水素化リチウムア
ルミニウムを酢酸エチルヲ滴下して分解する。希硫酸を
加えて酸性とする。テトロヒドロフランを減圧留去後、
析出してくる結晶を戸数する。メタノールから再結晶し
て無色プリズム状の3−ヒドロキシメチルカルボスチリ
ル0.5gを得る。融点238〜239.5°C0上記
実殉例28と同様にして適当な出発原料を用いて、 i
iJ記実症例3〜7の化合物を得る。
実施例
アセト酢酸アニリド301i’をクロロホルム3〇−に
溶解する。これに室温で攪拌しながら臭素27gのクロ
ロホルム30rn1.溶液を滴下する。滴下後、30分
還流を行なう。減圧濃縮し、残渣を濃硫酸70.7中に
攪拌しながら添加する。内温を70〜75°Cに保ちな
がら加え、95°Cで30分攪拌する。反応液を氷水に
あけて析出晶を戸数する。
溶解する。これに室温で攪拌しながら臭素27gのクロ
ロホルム30rn1.溶液を滴下する。滴下後、30分
還流を行なう。減圧濃縮し、残渣を濃硫酸70.7中に
攪拌しながら添加する。内温を70〜75°Cに保ちな
がら加え、95°Cで30分攪拌する。反応液を氷水に
あけて析出晶を戸数する。
メタノール−クロロホルムから再結晶して無色針状の4
−ブロムメチルカルボスチリル20gを得る。融点26
5〜266°C0 」二記実施例29と同様にして、適当な出発原料を用い
て前記実施例8〜9,11〜13および15の化合物を
得る。
−ブロムメチルカルボスチリル20gを得る。融点26
5〜266°C0 」二記実施例29と同様にして、適当な出発原料を用い
て前記実施例8〜9,11〜13および15の化合物を
得る。
実施例30
3−クロルメチル−6−メ1−キシカルボスチリル2.
2gを無水酢酸20−に溶解する。こ力、に酢酸カリウ
ム12gを加えて、60〜7゛0℃で3時間攪拌を行な
う。反応液を氷水にあけて、析出晶を加増する。アセト
ンから再結晶して、無色プリズム状の3−アセl−キシ
メチル−6−メトキシカルボスチリル2fIを得る。融
点166〜168°C0実施例 3−アセトギシメチルカルボスチリlし2gを水酸化ナ
トリウム0.6gを含むメタノ−/I/30−に溶解し
、3時間還流を行なう。メタノールを留去後、残渣に水
を加え、析出晶を戸数する。アセトンから再結晶して淡
黄色針状の3−ヒドロキシメチル−6−メドキシカルボ
スチリル1.3gを’Aる。
2gを無水酢酸20−に溶解する。こ力、に酢酸カリウ
ム12gを加えて、60〜7゛0℃で3時間攪拌を行な
う。反応液を氷水にあけて、析出晶を加増する。アセト
ンから再結晶して、無色プリズム状の3−アセl−キシ
メチル−6−メトキシカルボスチリル2fIを得る。融
点166〜168°C0実施例 3−アセトギシメチルカルボスチリlし2gを水酸化ナ
トリウム0.6gを含むメタノ−/I/30−に溶解し
、3時間還流を行なう。メタノールを留去後、残渣に水
を加え、析出晶を戸数する。アセトンから再結晶して淡
黄色針状の3−ヒドロキシメチル−6−メドキシカルボ
スチリル1.3gを’Aる。
融点196〜197°C0
上記実症例31と同様にして適当な出発原料を用いて、
実姉例1および4〜7の化合物を得る。
実姉例1および4〜7の化合物を得る。
参考例20
エチル2−アセトアミド−2−カルボキシ−3−(2−
キノロン−4−イル)プロピオネート5gに20%塩酸
150−を加えて9時間還流を行なう。減圧濃縮し、残
渣をエタノール−水から再結晶して無色プリズム状の2
−アミノ−3−(2−キノロン−4−イル)プロピオン
酸塩酸塩−水和物3,2gを得る。融点220〜225
°C(分解)。
キノロン−4−イル)プロピオネート5gに20%塩酸
150−を加えて9時間還流を行なう。減圧濃縮し、残
渣をエタノール−水から再結晶して無色プリズム状の2
−アミノ−3−(2−キノロン−4−イル)プロピオン
酸塩酸塩−水和物3,2gを得る。融点220〜225
°C(分解)。
参考例21
2−アミノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオ
ン酸塩酸塩1.6gと炭酸カリウム2.4gとをアセト
ン60−と水3o−とに溶解する。これに水冷攪拌しな
がら塩化P−クロルベンゾイル1.2fのアセトン1o
、ll溶液を滴下する。水冷下2時間撹拌する。アセト
ンを留去後、残渣に水を加え不溶物を枦去する。’/P
Hを塩酸で酸性羨し。
ン酸塩酸塩1.6gと炭酸カリウム2.4gとをアセト
ン60−と水3o−とに溶解する。これに水冷攪拌しな
がら塩化P−クロルベンゾイル1.2fのアセトン1o
、ll溶液を滴下する。水冷下2時間撹拌する。アセト
ンを留去後、残渣に水を加え不溶物を枦去する。’/P
Hを塩酸で酸性羨し。
析出結晶を沖取する。エタノール−水から再結晶して、
白色粉末状の2−(4−クロルベンゾイルアミノ)−3
42−キノロン−3−イル)プロ1ピオン酸1,5gを
得る。融点270〜271.5°C(分解)。
白色粉末状の2−(4−クロルベンゾイルアミノ)−3
42−キノロン−3−イル)プロ1ピオン酸1,5gを
得る。融点270〜271.5°C(分解)。
参考例22
2−アミノ−3−(6〜メトキシ−2−キノロン−3−
イル)プロピオン酸塩酸塩1.57を水酸化ナトリウム
0.8gの水25−溶液に溶解する。
イル)プロピオン酸塩酸塩1.57を水酸化ナトリウム
0.8gの水25−溶液に溶解する。
水冷上塩化P−クロルベンゾイル1gを滴下し。
攪拌する。薄層クロマトグラフィにより原料が消。
失するまでN−水酸化す1−リウム水溶液および酸クロ
リドを適時加える。反応終了後、塩酸酸性とし、析出晶
を加増する。エーテルで洗浄したのち、メタノール−水
より再結晶して、黄色粉末状の2−(4−クロルベンゾ
イルアミノ)−3,(6−メドキシー2−キノロン−3
−イル)プロピオン酸0,7gを得る。融点284.5
〜236°C(分解)。
リドを適時加える。反応終了後、塩酸酸性とし、析出晶
を加増する。エーテルで洗浄したのち、メタノール−水
より再結晶して、黄色粉末状の2−(4−クロルベンゾ
イルアミノ)−3,(6−メドキシー2−キノロン−3
−イル)プロピオン酸0,7gを得る。融点284.5
〜236°C(分解)。
参考例23
2−アミノ−3−(6−ヒドロキシ−2−キノロン−3
−イル)プロピオン酸塩酸塩2gを1−メチル−2−ピ
ロリドン50−に懸濁し、3−(4−クロルベンゾイル
)ベンズオキサゾリン−2−チオン2.2gを加えて室
温で3日間攪拌する。
−イル)プロピオン酸塩酸塩2gを1−メチル−2−ピ
ロリドン50−に懸濁し、3−(4−クロルベンゾイル
)ベンズオキサゾリン−2−チオン2.2gを加えて室
温で3日間攪拌する。
反応液を氷水にあけて、゛析出晶を戸数する。結晶をN
−水酸化ナトリウム水溶液に溶解後、10%塩酸で酸性
とし、析出晶を戸数する。結晶を乾燥後、クロロホルム
で洗浄スる。メタノール−水から再結晶して淡黄色粉末
状の2−(4−クロルベンソイルアミノ)−8−(6−
ヒドロキシ−2−キノロン−3−イル)プロピオン酸1
.5yを得る。
−水酸化ナトリウム水溶液に溶解後、10%塩酸で酸性
とし、析出晶を戸数する。結晶を乾燥後、クロロホルム
で洗浄スる。メタノール−水から再結晶して淡黄色粉末
状の2−(4−クロルベンソイルアミノ)−8−(6−
ヒドロキシ−2−キノロン−3−イル)プロピオン酸1
.5yを得る。
融点223〜227°C(分解)。
参考例24
2−アミノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオ
ン酸1.217、DCCIJgおよびp−クロル安息香
酸1.Ogをジオキサン10−に懸濁させ、60〜70
°Cで5時間攪拌する。反応終了後。
ン酸1.217、DCCIJgおよびp−クロル安息香
酸1.Ogをジオキサン10−に懸濁させ、60〜70
°Cで5時間攪拌する。反応終了後。
溶媒を留去し、エーテルを加えて析出晶を枦去する。f
3液を濃縮後、残渣にクロロホルムを加えて溶解し、水
および飽和食塩水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を留去する。エタノール−水から再結晶して、白
色粉末状の2−(4−クロルヘンソイルアミノ)−3,
−(2−キノロン−3−イル)プロピオン酸850 ’
IQを得る。融点270〜271.5°C・(分解)。
3液を濃縮後、残渣にクロロホルムを加えて溶解し、水
および飽和食塩水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を留去する。エタノール−水から再結晶して、白
色粉末状の2−(4−クロルヘンソイルアミノ)−3,
−(2−キノロン−3−イル)プロピオン酸850 ’
IQを得る。融点270〜271.5°C・(分解)。
参考例25
2−アミノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオ
ン酸1.2gおよびl・リエチルアミン0.8−をテト
ラヒドロフラン10−に懸濁させ、室温攪拌下にジエチ
ルクロロホスフェ−)1.、Clのテトラヒドロフラン
10.nl、溶液を滴下し、室温で3時間攪拌する。こ
のものにp−クロル安息香酸1゜Ogのテトラヒドロフ
ラン10rnl溶Hを7m下し、室温でさらに10時間
攪拌する。反応終了後、析出晶を炉去し、枦液を濃縮し
て、残渣に飽和型ソウを注ぎ、クロロホルム抽出する。
ン酸1.2gおよびl・リエチルアミン0.8−をテト
ラヒドロフラン10−に懸濁させ、室温攪拌下にジエチ
ルクロロホスフェ−)1.、Clのテトラヒドロフラン
10.nl、溶液を滴下し、室温で3時間攪拌する。こ
のものにp−クロル安息香酸1゜Ogのテトラヒドロフ
ラン10rnl溶Hを7m下し、室温でさらに10時間
攪拌する。反応終了後、析出晶を炉去し、枦液を濃縮し
て、残渣に飽和型ソウを注ぎ、クロロホルム抽出する。
有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を留去する。エタノール−水から再結晶
して、白色粉末状の2−(4−クロルベンゾイルアミノ
)−3−(2−キノロン−3−イ/l/ )プロピオン
酸0.9gを得る。融点270〜271.5°C(分解
)。
で乾燥後、溶媒を留去する。エタノール−水から再結晶
して、白色粉末状の2−(4−クロルベンゾイルアミノ
)−3−(2−キノロン−3−イ/l/ )プロピオン
酸0.9gを得る。融点270〜271.5°C(分解
)。
参考例26
P−クロル安息香酸4.84gおよびトリエチルアミン
4−のジメチルホルムアミド5〇−溶液に、イソブチル
クロロホルムメート8.87fのジメチルホルムアミド
2−溶液を滴下する。室温で30分間攪拌後、2−アミ
ノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオン酸6.
osyのジメチルホルムアミド3−溶液を滴下し、室温
で30分、続いて50〜60°Cで1時間攪拌する。反
応混合物を多量の飽和食塩水に注ぎ込み、クロロホルム
抽出し、水洗後乾燥する。溶媒を留去して得られる粗結
晶をエタノール−水から再結晶して、白色粉末状の2−
(4−クロルベンゾイルアミノ)−3−(2−キノロン
−3−イル)プロピオン酸8.79を得る。融点270
〜271.5°C(分解)。
4−のジメチルホルムアミド5〇−溶液に、イソブチル
クロロホルムメート8.87fのジメチルホルムアミド
2−溶液を滴下する。室温で30分間攪拌後、2−アミ
ノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオン酸6.
osyのジメチルホルムアミド3−溶液を滴下し、室温
で30分、続いて50〜60°Cで1時間攪拌する。反
応混合物を多量の飽和食塩水に注ぎ込み、クロロホルム
抽出し、水洗後乾燥する。溶媒を留去して得られる粗結
晶をエタノール−水から再結晶して、白色粉末状の2−
(4−クロルベンゾイルアミノ)−3−(2−キノロン
−3−イル)プロピオン酸8.79を得る。融点270
〜271.5°C(分解)。
参考例27
エタノ−/L’1OO−にエチルP−クロルベンシェー
ド1.66g、ナトリウムエチラート0,5gおよび2
−アミノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオン
酸2.099を加えてオートクレーブ中、110気圧、
140〜150℃にて6時間反応させる。今後、反応液
を減圧上濃縮し、残渣をクロロホルム200.nlに溶
解させ、1%炭酸カリウム水溶液、希塩酸および水で順
次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、#媒を留去し、エ
タノ−)V水から再結晶して、白色粉末状の2−(4−
クロルベンゾイルアミノ)−8−(2−キノロン−3−
イル)プロピオン酸300 m?を得る。融点270〜
271.5°C(分解)。
ド1.66g、ナトリウムエチラート0,5gおよび2
−アミノ−3−(2−キノロン−3−イル)プロピオン
酸2.099を加えてオートクレーブ中、110気圧、
140〜150℃にて6時間反応させる。今後、反応液
を減圧上濃縮し、残渣をクロロホルム200.nlに溶
解させ、1%炭酸カリウム水溶液、希塩酸および水で順
次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、#媒を留去し、エ
タノ−)V水から再結晶して、白色粉末状の2−(4−
クロルベンゾイルアミノ)−8−(2−キノロン−3−
イル)プロピオン酸300 m?を得る。融点270〜
271.5°C(分解)。
特許出願人大塚製薬株式会社
代理人弁理士青山 葆ほか1名
Claims (1)
- (1)一般式 〔式中 R1は水素原子、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニルまたはフェニル低級アルキル;R2
は水素原子、水酸基または低級アルコキシ、 R3は水
酸基、・・ロゲン原子、低級アルカノイ低級アルキ、、
、 R5は低級アルカノイル)を示し。 カルボスチリル骨核の3位と4位間の結合は一重結合ま
たは二重結合を示す。置換基の位置はカルボスチル 骨
格の8.4.5.6.7または8位のいずれかである〕 で表わされるカルボヌチl))し誘導体およびその塩。
Priority Applications (23)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57117312A JPS597169A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | カルボスチリル誘導体 |
| US06/510,241 US4578381A (en) | 1982-07-05 | 1983-07-01 | Carbostyril derivatives |
| FI832425A FI80022C (fi) | 1982-07-05 | 1983-07-01 | Foerfarande foer framstaellning av ett nytt, terapeutiskt anvaendbart karbostyrilderivat. |
| ES523838A ES8500906A1 (es) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Un nuevo derivado de carbostirilo. |
| DK307883A DK168288B1 (da) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Analogifremgangsmåde til fremstilling af carbostyrilderivater |
| PT76980A PT76980B (en) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Carbostyril derivatives |
| AT0245183A AT385506B (de) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Verfahren zur herstellung von neuen carbostyrilderivaten und deren salzen |
| SE8303813A SE462848B (sv) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Karbostyrilderivat, foerfarande foer framstaellning daerav samt farmaceutiska kompositioner |
| KR1019830003040A KR900006401B1 (ko) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | 카르보스티릴 유도체의 제조방법 |
| NO832431A NO164835C (no) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive karbostyril-derivater. |
| CH3667/83A CH654578A5 (de) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Carbostyrilderivate und verfahren zu deren herstellung. |
| AU16536/83A AU552717B2 (en) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Carbostyril pharmaceuticals |
| CA000431763A CA1247624A (en) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Carbostyril derivatives |
| DE3324034A DE3324034A1 (de) | 1982-07-05 | 1983-07-04 | Carbostyrilderivate, verfahren zu deren herstellung und arzneimittel, welche diese enthalten |
| PH29177A PH21650A (en) | 1982-07-05 | 1983-07-05 | Carbostyril derivatives |
| FR8311179A FR2530626B1 (fr) | 1982-07-05 | 1983-07-05 | Composes de carbostyryle |
| GB08318174A GB2123825B (en) | 1982-07-05 | 1983-07-05 | Carbostyril derivatives |
| NL8302390A NL194165C (nl) | 1982-07-05 | 1983-07-05 | Carbostyrilderivaten, werkwijzen ter bereiding daarvan en farmaceutische samenstellingen, die deze derivaten bevatten. Derivaten van chinolonyl-2-aminocarbonzuren en farmaceutische preparaten die deze derivaten bevatten. |
| IT67731/83A IT1203676B (it) | 1982-07-05 | 1983-07-05 | Derivati carbostirilici relativo procedimento di fabbricazione e composizione farmaceutica per il trattamento dell ulcera peptica a base di tali derivati |
| ES530715A ES8505348A1 (es) | 1982-07-05 | 1984-03-16 | Un procedimiento de preparacion de un derivado de carbostirilo |
| ES530714A ES530714A0 (es) | 1982-07-05 | 1984-03-16 | Un procedimiento para la preparacion de un derivado de carbostirilo |
| ES530716A ES8504724A1 (es) | 1982-07-05 | 1984-03-16 | Un procedimiento de preparacion de un derivado de carbostirilo |
| US07/937,382 USRE34722E (en) | 1982-07-05 | 1992-08-31 | Quinoline amino acid derivatives of carbostyril compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57117312A JPS597169A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | カルボスチリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597169A true JPS597169A (ja) | 1984-01-14 |
| JPH0328425B2 JPH0328425B2 (ja) | 1991-04-19 |
Family
ID=14708629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57117312A Granted JPS597169A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | カルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597169A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100413172B1 (ko) * | 2001-09-26 | 2003-12-31 | 건일제약 주식회사 | 퀴놀리논 유도체의 제조방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5686182A (en) * | 1979-11-15 | 1981-07-13 | Squibb & Sons Inc | Imidazolylethoxy derivative of quinoline methanol |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP57117312A patent/JPS597169A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5686182A (en) * | 1979-11-15 | 1981-07-13 | Squibb & Sons Inc | Imidazolylethoxy derivative of quinoline methanol |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100413172B1 (ko) * | 2001-09-26 | 2003-12-31 | 건일제약 주식회사 | 퀴놀리논 유도체의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0328425B2 (ja) | 1991-04-19 |
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| JPH0472828B2 (ja) |