JPS5984249A - 有機被膜 - Google Patents

有機被膜

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JPS5984249A
JPS5984249A JP57194349A JP19434982A JPS5984249A JP S5984249 A JPS5984249 A JP S5984249A JP 57194349 A JP57194349 A JP 57194349A JP 19434982 A JP19434982 A JP 19434982A JP S5984249 A JPS5984249 A JP S5984249A
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馬渕　稔
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石川　昌三
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哲夫 有田
Kiyoshi Sakai
酒井　清志
Masashige Umehara
正滋 楳原
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザ特に長波長側に発振波長を有する半導
体レーザを効果的に吸収し、別のエネルギーに変換しう
る有機被膜に関し、詳しくは半導体レーザを光源とした
電子写真方式プリンターの電子写真用感光被膜、半導体
レーザによる書込みと再生が可能な光デイスク用被膜あ
るいけ赤外線カットフィルターなどに適用できる新規な
有機被膜に関する。
レーザを光源とした電子写真方式プリンターは、画像情
報に応じた電気信号によって、レーザの変調を行なわせ
、この変調されたレーザをガルバノミラ−などによって
感光体上に光走査して静電潜像を形成した後、トナー現
像および転写を順次施すことにより、所望の再生画像を
形成することができる。この際に用いられていたレーザ
け、一般にヘリウム−カドミウム（発振波長＋４４１．
６ｎｍ）やヘリウム−ネオン（発振波長：６３２．８ｎ
ｍ）などのガスレーザであった。
従って、この様な光源に対して用いられる感光体は、６
５０ｎｍ程度までに分光増感されていればよく、例えば
ポリビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンとの
電荷移動錯体を感光層に用いたもの、セレンによって増
感させたテルル蒸着層を感光体に用いたもの、電荷輸送
層としてセレン蒸着層を導電層上に形成し、とのセレン
蒸着層上にセレン−テルル蒸着層を形成させたことから
なる感光層を用いたもの、増感色素によって分光増感さ
せた硫化カドミウムを感光層に用いたもの、捷だ有機顔
料を含有した電荷発生層と電荷輸送層に機能分離し、そ
の感光波長域を長波長側まで増感した感光層を用いたも
のなどが知られている。
一方、光デイスク技術で用いる記録被膜は、光学的に検
出可能な小さな（例えば、約１μ）ピットをらせん状又
は円形のトラック形態にして、高密度情報を記憶するこ
とができる。この様なディスクに情報を書込むには、レ
ーザ感応層の表面に集束したレーザを走査し、とのレー
ザ光線が照射された表面のみがピットを形成し、このビ
ラトラらせん状又は円形トラックの形態で形成する。レ
ーザ感応層は、レーザ・エネルギーを吸収して光学的に
検出可能なピットを形成できる。例えば、ヒートモード
記録方式では、レーザ感応層は熱エネルギーを吸収し、
その個所に蒸発又は融解により小さな凹部（ピット）を
形成できる。また、別のヒートモード記録方式では、照
射されたレーザ・エネルギーの吸収により、その個所に
光学的に検出可能な濃度差を有するピットを形成できる
。
この光ディスクに記録された情報は、レーザをトラック
に沿って走査し、ピットが形成された部分とピットが形
成されていない部分の光学的変化を読み取ることによっ
て検出される。例えば、レーザがトラックに沿って走査
され、ディスクにより反射されたエネルギーがフォトデ
ィテクターによってモニターされる。ピットが形成され
ていない時、フォトディテクターの出力は低下し、一方
ピットが形成されている時はレーザ光線は下層の反射面
によって充分に反射されフォトディテクターの出力は犬
きくなる。
この様な光ディスクに用いる記録媒体として、これまで
アルミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマスｉ［、酸
化テルル薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜などの
無機物質を主に用いたものが提案されている。
ところで、近年レーザとして小型でしかも低コストの上
、直接変調が可能な半導体レーザが開発されているが、
とのレーザの発振波長が７５０ｎｍ以上の波長を有して
いることが多い。
従って、この様な半導体レーザを用いて記録及び（又は
）再生を行なう場合には、レーザ感応被膜の吸収特性は
長波長側に吸収ピーク（一般に７５０ｎｍ〜８５０ｎｍ
の領域）を有する必要がある。
しかし、これまでのレーザ感応被膜、特に無機材料を主
成分として形成した被膜は、レーザ光に対する反射率が
高いため、レーザの利用率が低くなり、高感度特性が得
られない欠点を有しており、しかも感応波長域ｔ７５０
ｎｍ以上とすることは、レーザ感応被膜の層構成を複雑
化したり、特に電子写真用感光被膜の場合では使用した
増感染料が繰り返し帯電−露光を行なっているうちに、
退色してしまうなどの欠点を有している。
この様なことから、近年７５０ｎｍ以上の波長光に対し
て高感度特性を示す有機被膜が提案されている。例えば
、米国特許第４３１５９８３号、［Ｒｅ５ｅａｃｈ　Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｊ　２０５１７　（１９８１，５
）に開示のビリリウム系染料やｒ　Ｊ、　Ｖａｃ、　Ｓ
ｃ１．　Ｔ−ｅｃｈｏｌ、　、　１８（ＩＬ　Ｊａｎ、
／Ｆｅｂ、　１９８１．　　Ｐ　１０５〜Ｐ１０９に開
示のスクェアリリウム染料を含有した有機被膜が７５０
ｎｍ以上のレーザに対して感応性であることが知られて
いる。
しかし、一般に有機化合物は吸収特性が長波長領域にな
るほど不安定で、わずかの温度上昇によって分解されや
すいなどの問題点を有すると同時に電子写真方式プリン
ターあるいは光ディスクで要求される各種の特性を満足
する必要があるため、必ずしも実用性の点で十分に満足
できる有機被膜が開発されているものとは言えないのが
現状である。
従って、本発明の第１の目的は、新規且つ有用な有機被
膜を提供することにある。
本発明の＠２の目的は、長波長側、特に７５０ｎｍ以上
に吸収帯をもつ有機被膜を提供することにある。
本発明の第３の目的は、熱と昇華に対して安定な有機被
膜を提供することにある。
本発明の第４の目的は、レーザを光源とした電子写真方
式プリンターの電子写真用感光被膜を提供することにあ
る。
本発明の第５の目的は、７５０　ｎｍ以上の波長域で高
感度な特性を有する電子写真用感光被膜を提供すること
にある。
本発明の第６の目的は、光デイスク記録用被膜を提供す
ることにある。
本発明の第７の目的は、７５０　ｎｍ以上の波長域で高
感度であり、しかも十分なＳ／Ｎ比を有する光デイスク
記録用被膜を提供することにある。
本発明のかかる目的は、下記一般式（１）で示される化
合物を含有する有機被膜に達成される。
式中Ｒ，Ｈメチル、エチル、プロピル、イングロビル、
ブチル、ヘキシル等のアルキル基、置換基を有していて
も良いフェニル基又はステリル基を表わす。置換基とし
てはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、
塩素、臭素。
ヨウ１等のハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル等のアルキル基、ニトロ基、があげられる
。Ｒｔけｐ−７エニレン、１．４−ナフチレン等の隣接
した２つの−ＣＨ−ロト基と共役二重結合系を形成する
置換基を有していても良いアリーレン基を示す。置換基
としては塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、メチル
。
エチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ等のアルコ
キシ基があげられる。Ｒ３Ｖｉ置換基を有していても良
いフェニル基又はナフチル基を示す。置換基としてはジ
メチルアミノ、ジエチルアミン、ジプロピルアミノ、ジ
プチルアミノ。
ジフェニルアミノ、フェニルアミノ、フェニルベンジル
アミン、フェニルエチルアミノ等の置換アミン基、モル
ホリノ、ピペリジニル、ピロリジノ等の環状アミン基、
メトキシ、エトキシ。
ブトキシ等のアルコキシ基があげられる。炉はＢＦ？、
ｃｔＯ？、ＣＦ、Ｃ００°、ＰＦ′ｌ）、ｃ　ｔｅ、Ｂ
ｒ０、Ｉｏ、ｃｚｓｏ？　、ＣＨｓＳＯ（？、Ｃ，Ｈ，
Ｓ　Ｏ♀、Ｃｓ　Ｈ？　Ｓｏ？、ｃ、ｎ、ｓｏ？。
０５Ｈ＋、ｓｏ？、Ｃａ　Ｈａｓ　ＳＯ２、ＣＨｓＣＨ
ｃｔｓｏ？、ｃｔＣＬ　ＣＨｔ　ｓｏ？、０Ｈ’　＞　
ＣＨ−ｓＯ（？、工ＣＨ２５Ｏ♀、悔ｃｎｔｓｏ？、Ｃ
Ｈ。
ｃｔ＋ｃＨ，ｓｏ？’、條ＣＨ，ＣＨ，ＳＯ♀、ＣＦ）
Ｏｓ　Ｓ　Ｃルｓｏ？、”Ｏｓ　Ｓ　ＣＨ２ＣＨｔ　Ｓ
Ｏ２，００ＩＩＳＣルＣＨ−ＣＨ，ＳＯ２、％３ＳＣＨ
，ＣＴ（、ＣＨ，ＳＯ２、ＣＨ。
％ｊｓｃＨ，ＣＨＩＣＨＩＣＨＩＣＨ２ＣＨ，ＳＯ２、
θ０ｓＳＣＨｔＣＨｔ　−ｏ−ＣＨｔＣＨ，Ｓ♂オン残
基′ｆｒ表わす。
具体的な化合物例 本発明の有機被膜は、光デイスク記録に用いることがで
きる。例えば、第１図に示すような基板１の上に前述の
有機被膜２を形成し７た記録媒体とすることができる。
かかる有機被膜２は、前述の化合物を真空蒸着によって
形成でき、またバインダー中に前述のナフトチオピリリ
ウム化合物を含有させた塗工液を塗布することによって
も形成することができる。塗工によって被膜を形成する
際、前述の化合物はバインダー中に分散状態で含有され
ていてもよく、あるいは非晶質状態で含有されていても
よい。好適なバインダーとしては、広範な樹脂から選択
することができる。具体的Ｖｃｌ−１、ニトロセルロー
ス。
リン酸セルロース、硫酸セルロース、　酢酸セルロース
、フロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ミリスチ
ン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロ
ピオン酸セルロース。
酢酸・酪酸セルロースなどのセルロースエステル類、メ
チルセルロース、エチルセルロー　ス。
プロピルセルロース、ブチルセルロースなどのセルロー
スエーテル類、ポリスプレン、ポリ塩化ヒニル、ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンな戸
のビニル樹脂類、スチレン−ブタジェンコポリマー、ス
チレン−アクリロニトリルコポリマー、スチレンブタジ
ェン−アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタ
クリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアク
リレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹
脂類、ポリエ、チレンテレフタレートなどのポリエステ
ル類、ポリ（４，４’−イソブロピリデンジフエニレン
ーコー１．４−シクロヘキシレンジメチレンカーボネー
ト）、ポリ（エチレンジオキシ−３，３′−）ユニレン
チオカーボネート）。
ポリ（４，４’−インプロビリデンジフエニレンカーボ
ネートーローテレ７タレート）、ポリ（４゜４′−イソ
プロピリデンジフエニレンカーボネート）、ポリ（４，
４’−気一ブチリデンジフェニレンカーボネート）、ポ
リ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネ
ート−ブロック−オキシエチレン）などのボリアリレー
ト樹脂類、あるいけポリアミド類、ポリイミド類、エポ
キシ樹脂類、フェノール樹脂類、ポリエチレン。
ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポリオレフ
ィン類などを用いることができる。
塗工の際に使用できる有機溶剤は、バインダーの種類や
前述の化合物をバインダー中に含有させる際、分散状態
とするか、あるいは非晶質状態とするかによって異なっ
てくるが、一般には、メタノール、エタノール、イソプ
ロパツールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メ
チル。
酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロルエチレン。
四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロゲン
化炭化水素類あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、
リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンな
どの芳香族類などを用いることができる。
塗工ば、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、
マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法
、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法な
どのコーティング法を用いて行なうことができる。
バインダーとともに有機被膜２を形成する際、前述のナ
フトチオビＩＪ　ＩＪウム化合物の含有量は、有機被膜
２中において１〜９０重景％重量ましくは２０〜７０重
量％である。寸だ、有機被膜２の乾燥膜厚あるいは蒸着
膜厚は、１０ミクロン以下、好ましくは２ミクロン以下
である。
基板１としては、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリア
ミド、ポリイミドなどのプラスチック、ガラスあるいけ
金属類などを用いることができる。
また、本発明け、第２図に示す様に基板１と有機被膜２
の間に反射層３を設けることができる。反射層３は、ア
ルミニウム、銀、クロムなどの反射性金属の蒸着層又は
ラミネート層とすることができる、 有機被膜２け、第３図に示す集束されたレーザ光線４の
照射によってビット５を形成することができる。ビット
５の深さを有機被膜２の膜厚と同一にすると、ビット領
域における反射率を増加させることができる。読み出し
の際、書込みに用いｔレーザ光線と同一の波長を有する
が、強度の小さいレーザ光線を用いれば、読み出し光が
ビット領域で大きく反射されるが、非ビット領域におい
ては吸収される。また、別の方法は有機被膜２が吸収す
る第１の波長のレーザ光線で実時間書込みを行ない、読
み出しに有機被膜２を実質的に透過する第２の波長のレ
ーザ光線を用いることである。読み出しレーザ光線は、
ビット領域と非ピット領域における異なる膜厚によって
生じる反射層の変化に応答することができる。
本発明の有機被膜は、アルゴンレーザ（発振波長４８８
ｎｍ）、ヘリウム−ネオンレーザ（発振波長６３３ｎｍ
）、ヘリウム−カドミウムレーザ（発振波長４４２　ｎ
ｍ　）などのガスレーザーの照射によって記録すること
も可能であるが、好ましくけ７５０　ｎｍ以上の波長を
有するレーザ、外領域に発振波長を有するレーザ光線の
照射によって記録する方法が適している。寸た、読み出
しのためには、前述のレーザ光線を用いることができる
。この際、書込みと読み出しを同一波長のレーザで行な
うことができ、また異なる波長のレーザで行なうことが
できる。
本発明の別の具体例では、電子写真感光体の感光層とし
て適用することができる。また、かかる感光層を電荷発
生層と電荷輸送層に機能分離した電子写真感光体におけ
る電荷発生層としても適用することができる、 電荷発生層は、十分な吸光度を得るために、できる限り
多くの前述の光導電性を示す化合物を含有し、且つ発生
した電荷キャリアの飛程を短かくするために薄膜層、例
えば５ミクロン以下、軽重しくは０．０１ミクロン〜１
ミクロンの膜厚をもつｉ１Ｆ膜層とすることが好ましい
。このことは、入射光量の大部分が電荷発生層で吸収さ
れて、多くの電荷キャリアを生成すること、さらに発生
した電荷キャリアを再結合や捕獲（トラップ）により失
活することなく電荷輸送層に注入する必要があることに
帰因している。
電荷発生層は、前述の化合物を適当なバインダーに分散
させ、これを基体の上に塗工することによって形成でき
、また真空蒸着装置により蒸着膜全形成することによっ
て得ることができる、電荷発生層を塗工によって形成す
る際に用いうるバインダーとしては広範な絶縁性樹脂か
ら選択でき、またポＩＪ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポ
リビニルアントラセンやポリビニルピレンなどの有機光
導電性ポリマーから選択できる、軽重しくハ、ポリビニ
ルブチラール、ボリアリレート（ビスフェノールＡとフ
タル酸の縮重合体など）、ポリカーボネート、ポリエス
テル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂
、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド、ポリビニルピ
リジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドンなどの絶縁性樹脂を挙げることができる。電荷発
生層中に含有する樹脂は、８０重量％以下、好ましくは
４０重量％以下が適している。
これらの樹脂を溶解する溶剤は、樹脂の種類によって異
なり、また下達の電荷輸送層や下引層を溶解しないもの
から選択することが好ましい。具体的な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノンなどのケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、二手レンゲリコールモノメチ
ルエーテルナトＦ）エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなど
の脂肪族ハロゲン化炭化水素類あるいはベンゼン、トル
エン、キシレン、リフロイン、モノクロルベンゼン、ジ
クロルエンゼンｌｋト（Ｄ芳香族類などを用いることが
できる。
塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、
マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法
、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法な
どのコーティング法を用いて行なうことができる。乾燥
は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方法が好ま
しい。加熱乾燥は、３０°Ｃ〜２００°Ｃの温度で５分
〜２時間の範囲の時間で、静止または送風下で行なうこ
とができる。
電荷輸送層は、前述の電荷発生層と電気的に接続されて
おり、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これらの電荷キャリアを表
面１で輸送できる機能を有している、この際、この電荷
輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
たその下に積層されていてもよい。しかし、電荷輸送層
は、電荷発生層の上に積層されていることが望ましい。
電荷輸送層における電荷キャリアを輸送する物質（以下
、単に電荷輸送物質という）６−ｉ、前述の電荷発生層
が感応する電磁波の波長域に実質的に非感応性であるこ
とが好ましい。ここで言う「電磁波」とは、γ線、Ｘ線
、紫外線、可視光線、近赤外線、赤外線、遠赤外線など
を包含する広義の「光線」の定義を包含する。電荷輸送
層の光感応性波長域が電荷発生層のそれと一致またはオ
ーバーラツプする時には、両者で発生した電荷キャリア
が相互に捕獲し合い、結果的には感度の低下の原因とな
る。
電荷輸送物質としては電子輸送性物質と正孔輸送性物質
があり、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロ
モアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、２，４．７−ドリニトロー９−フルオレノン、
２．４．５．７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２
．４．７−）ジニトロ−９−ジシアノメチレンフルオレ
ノン、２、４．５．７−チトラニトロキサントン、２，
４．８−やこれら電子吸引物質を高分子化したもの等が
へ ある。
正孔輸送性物質としては、ピレン、Ｎ−−ｒ−ｆルカル
バゾール、Ｎ−イソプロピルカルバソール、Ｎ−メチル
−Ｎ−フェニルヒドラジノ−３−メテリテン−９−エチ
ルカルバソール、Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−
メチリデン−９−エチルカルバゾール、Ｎ、Ｎ−ジフェ
ニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０−エチルフェノ
チアジン、Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリ
ゾンーｌＯ−エチルフェノキサジン、Ｐ−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−Ｎ、　Ｎ−ジフェニルヒドラゾン
、Ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドーＮ−α−ナフ
チル−Ｎ−フェニルヒドラゾン、Ｐ−ピロリジノベンズ
アルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、１，３．
３−）リメチルインドレニンーω−アルデヒ）”−Ｎ、
Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｐ−ジエチルベンズアルデ
ヒド−３−メチルベンズチアゾリノン−２−ヒドラゾン
等のヒドラゾン類、２．５−ビス（Ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）−Ｌ３，４−オキサジアゾール、１−フェニ
ル−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−
ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔キノリル
（２）］−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピ
リジル（２）　］　−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン
、１−［６−メドキシービリジル（２）］−］３ｉＰ−
ジエチルアミノスチリル−５−（Ｐ−ジエチルアミノフ
ェニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル（８＞　）　−３
−（Ｐ　−ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピラゾリン、１−〔レビジル（２
）　）　−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（Ｐ−ジエチルアミノフェニル〕ピラゾリン、１−〔ピ
リジル（２）３−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）
−４−メチル−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピ
ラゾリン、１−〔ピリジル（２）　］　−３−（α−メ
チル−Ｐ−ジエチルアミノステリル）−５−（Ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピラゾリン、１−フェニル−３−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５−（
Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−フェニ
ル−３−（α−ベンジル−Ｐ−ジエチルアミノスチリル
）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、
スピロピラゾリンなどのピラゾリン類、２−（Ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−６−ジニチルアミノペンズオキ
サゾール、２−（Ｐ−ジエチルアミンフェニル）−４−
（Ｐ−ジメチルアミノフェニル）−５−（２−クロロフ
ェニル）オキサゾール等のオキサゾール系化合物、２−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−６−ジニチルアミノ
ベンゾチアゾール等のチアゾール系化合物、ビス（４−
ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−フェニルメタ
ン等のトリアリールメタン系化合物、１，１−ビス（４
−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）へブ
タン、１．１，２．２−テトラキス（４−Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミン−２−メチル７エ二ル）エタン等のボリアリ
ールアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ポリとニルピレン、ポリビニルアント
ラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９−ビニルフェ
ニルアントラセン、ヒレンーホルムアルデヒ）”ｍ　脂
、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂等がある。
これらの有機電荷輸送物質の他に、セレン、セレン−テ
ルルアモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無機
材料も用いることができる。
また、これらの電荷輸送物質は、１種または２種以上組
合せて用いることができる。
電荷輸送物質に成膜性を有していない時には、適当なバ
インダーを選択することによって被膜形成できる。バイ
ンダーとして使用できる樹脂は、例えばアクリル樹脂、
ボリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、
アクリロニトリル−ブタジェンコポリマー、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポ
リアクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁
性樹脂、あるいけポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導
電性ポリ！−を挙げることができる。
電荷輸送層は、電荷キャリアを輸送できる限界があるの
で、必要以上に膜厚を厚くすることかで＠ない。一般的
には、５ミクロン〜３０ミクロンであるが、好まし論範
囲ｔ／ｉ８ミクロン〜２０ミクロンである。塗工によっ
て電荷輸送層を形成する際には、前述した様な適当なコ
ーティング法を用いることができる。
この様な電荷発生層と電荷輸送層の積層構造からなる感
光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導電層
を有する基体としては、基体自体が導電性をもつもの、
例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ス
テンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン、
ニッケル、インジウム、金や白金などを用いることがで
き、その他にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化インジウム−酸化錫合金などを
真空蒸着法によって被膜形成された層を有するプラスチ
ック（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、
ポリフッ化エチレンなど）、導電性粒子（例えば、カー
ボンブラック、銀粒子など）を適当なバインダーととも
にプラスチックの上に被覆した基体、導電性粒子をプラ
スチックや紙に含浸した基体や導電性ポリマーを有する
プラスチックなどを用いることができる。
導電層と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機能をも
つ下引層を設けることもできる。下引層ハ、カゼイン、
ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸コホリマー、ポリアミド（ナイロン６、ナイ
ロン６６、ナイロン６１０、共重合ナイロン、アルコキ
シメチル化ナイロンなど）、ポリウレタン、ゼラチン、
酸化アルミニウムなどによって形成できる。
下引層の膜厚は、０．１ミクロン〜５ミクロン、好まし
くけ０．５ミクロン〜３ミクロンが適当である。
導電層、電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した感光体
を使用する場合において電荷輸送物質が電子輸送性物質
からなるときは、電荷輸送層表面を正に帯電する必要が
あり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層において
生成した電子が電荷輸送層に注入され、そのあと表面に
達して正電荷を中和し、表面電位の減衰が生じ未露光部
との間に静電コントラストが生じる。
この様にしてできた静電潜像を負荷電性のトナーで現像
すれば可視像が得られる。これを直接定着するか、ある
いけトナー像を紙やプラスチックフィルム等に転写後、
現像し定着することができる、 また、感光体上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後
現像し、定着する方法もとれる。現像剤の種類や現像方
法、定着方法は公知のものや公知の方法のいずれを採用
して吃良く、特定のものに限定されるものではない。
一方、電荷輸送物質が正孔輸送物質から成る場合、電荷
輸送層表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光す
ると露光部でｆ′ｉ電荷発生層において生成した正孔が
電荷輸送層に注入され、その後表面に達して負電荷を中
和し、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コン
トラストが生じる。現像時には電子輸送物質を用いた場
合とは逆に正電荷性トナーを用いる必要がある。
また、本発明の別の具体例では、前述のヒドラゾン類、
ピラゾリン類、オキサゾール類、チアゾール類、トリア
リールメタン類、ポリアリールアルカン類、トリフェニ
ルアミン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール類など有機光
導電性物質や酸化亜鉛、硫化カドミウム、セレンなどの
無機光導電性物質の増感剤として前述のナフトチオピＩ
Ｊ　リウム化合物を含有させた有機被膜とすることがで
きる。この有機被膜は、これらの光導電性物質と前述の
化合物をバインダーとともに塗工によって被膜形成され
る。また、別の具体例では、前述のナフトチオピリリウ
ム化合物を含有する有機被膜を感光層として用すること
かできる。
いずれの感光体においても、用いる顔料は一般式（］）
で示される化合物から選ばれる少なくとも１種類の顔料
を含有し、必要に応じて光吸収の異なる顔料を組合せて
使用した感光体の感度を高めたり、パンクロマチックな
感光体を得るなどの目的で一般式（１）で示される化合
物を２種類以上組合せたり、または公知の染料、顔料か
ら選ばれた電荷発生物質と組合せて使用することも可能
である。
本発明の有機被膜は、前述の光デイスク記録体や電子写
真感光体のレーザ感応被膜として用いる他に、赤外線カ
ットフィルター、太陽電池あるいは光センサーなどに１
ｉ、用いることができる。太陽電池は、例えば酸化イン
ジウムとアルミニウムを電極として、これらの間に前述
の有機被膜をサンドイッチ構造とすることによって調製
できる。
本発明の有機被膜は、従来のレーザ用電子写真感光体と
比較して７５０　ｎｍ以上の波長域で著しく高感度とす
ることができ、また従来の光デイスク記録体と比較して
も高感度でしかも十分に改善されたＳ／Ｎ比を与えるこ
とができる。さらに、本発明で用いる化合物は、７５０
　ｎｒｎ以上に吸収ピークを有しているにもかかわらず
、熱に対して極めて安定している利点を有している。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
実施例１゜ アルミニウムシリンダー上にカゼインのアンモニア水溶
液（カゼイン１１．２ｇ、２８％アンモニア水１ｇ、水
’２２２ｍｔ）ｆｆｉ浸清コ・−ティング法で塗工し、
乾燥して塗工量１．０ｇ／ｍ″の下引層を形５’ｉ、　
した。
次に、前述の化合物Ａ（１）の化合物１重量部、ブチラ
ール樹脂（エスレツクＢＭ−２：積水化学■製）１重量
部とイソプロピルアルコール３０重量部をボールミル分
散機で４時間分散した。
この分散液を先に形成した下引層の上に浸漬コーティン
グ法で塗工し、乾燥して電荷発生層を形成した。この時
の膜厚は０．３μであった。
次に、Ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ−フェ
ニル−Ｎ−α−ナフチルヒドラゾン１重量部、ポリスル
ホン樹脂（Ｐ１７００　：ユニ　　′オンカーバイド社
製、）１重量部とモノクロルパフ９フ６重量ａｔ混合し
、攪拌機で攪拌溶解した。この液を電荷発生層の上に浸
漬コーティング法で塗工し、乾燥して電荷輸送層を形成
した。
この時の膜厚け、１２μであった。
こうして調製した感光体に一５ＫＶのコロナ放電を行な
った。この時の表面電位を測定した（初期電位Ｖ。）。
さらに、この感光体を５秒間暗所で放置した後の表面電
位を測定した（暗減衰Ｖａ　）。感度は、暗減衰した後
の電位Ｖ、を１／２に減衰するに必要な露光量（Ｅｌ／
２マイクロジュール／ｃＩＡ）を測定することによって
評価した。
この際、光源としてガリウム、アルミニウム・ヒ素半導
体レーザー（発振波長７８０　ｎｍ　）を用いた、これ
らの結果は、次のとおりであった。
ＶＯ：　　−４８０ボルト Ｖ６：　　　４６５ボルト Ｅ、イ：　　９．８マイクロジユ一ル／ｃＩＡ実施例２
．〜１０ 実施例１で用いた化合物Ａ　（１）の化合物に代えて、
第１表に示す化合物をそれぞれ用いたほかは、実施例１
と全く同様の方法で感光体を調製し、この感光体の特性
を測定した。これらの結果を第１表に示す。
第１表 ２　　４９０　　４７０　　１０．３ ３　　４７５　　４５０　　　９．５ ４　　４９０　　４６５　　　８．８ ５　　４８０　　４５５　　１１．０ ６　　５００　　４８０　　１０．１ ７　　４７０　　４４５　　　８．５ ８　　４８５　　４６０　　　９．５ ９　　４８０　　４６０　　１１．２ １０　　４９０　　４８０　　１０．８実施例１１゜ 厚さ１００ミクロン厚のアルミ板上にカゼインのアンモ
ニア水溶液全塗布し、乾燥して膜厚１．１ミクロンの下
引層を形成した。
次［，２，４，７−トＩＪニトロ−９−フルオレノン５
ｇとポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール（数平均分子量３０
０，０００　）５　ｇｅテトラヒドロフラン７０　ｍｌ
に溶かして電荷移動錯化合物を形成した。
この電荷移動錯化合物と前述の化合物＆（Ｂ）の化合物
１ｇをポリエステル樹脂（バイロン：東洋紡製）５ｇを
テトラヒドロフラン７０　ｍｌに溶がした液に加え、分
散した。との分散液を下引層の上に乾燥後の膜厚が１２
ミクロンとなる様にて 塗布し、乾燥した。こうし為調製した感光体の帯電特性
を実施例１と同様の方法で測定した。
これの結果は、次のとおりであった。但し、帯電極性は
のとした。
Ｖｏ：５１０ボルト ＶＰ：４８５ボルト Ｅ、イ：１２．５マイクロジュール／一実施例１２゜ アルミ蒸着ポリエチレンテレフタレートフィルムのアル
ミ面上に膜厚１．１ミクロンのポリビニルアルコールの
被膜を形成した。
次に、実施例１で用いた前述の化合物産（４）の化合物
の分散液を先に形成したポリビニルアルコール層の上に
乾燥後の膜厚が０．５ミクロンとなる様にマイヤーバー
で塗布し、乾燥して電荷発生層を形成した、 次に、構造式 のピラゾリン化合物５ｇとボリアリレート樹脂（ビスフ
ェノールＡとテレフタル酸−イノフタル酸の縮重合体）
５ｇをテトラヒドロ７ラン７０ｍ１　Ｋ溶かした液を電
荷発生層の上に乾燥後の膜厚が１０ミクロンとなる様に
塗布し、乾燥して電荷輸送層を形成した。
こうして調製した感光体の帯電特性を実施例１と同様の
方法によって測定した。これの結果は、次のとおりであ
った。
ｖｏ　　コ　−４７０ボルト Ｖ、：　　　４５０ボルト 鮨イ：１１．２マイクロジュール／− 前述の各実施例から判るとおり、本発明の電子写真感光
体は、７５０　ｎｍ以上の波長域で著しい高感度特性を
有するとともに、初期電位や暗減衰などの帯電特性に優
れている。
実施例１３゜ ニトロセルロース溶液（ダイセル化学工業■製；オーバ
ーレスラッカー：ニトロセルロース２５重量％のメチル
エチルケトン溶液）１２重量部、前述の化合物産（４）
の化合物３重量部およびメチルエチルケトン７０重量部
を混合し、十分に攪拌した。この溶液をアルミ蒸着ガラ
ス板上に浸漬コーティング法により塗布した後、乾燥し
て０．６　ｇ／ｍｊの記録層を得た。
こうして作成した光デイスク記録体をターンテーブル上
に取り付け、ターンテーブルをモータで１８０　Ｏｒｐ
ｍの回転を与えながら、スポットサイズ１．０ミクロン
に集束した５ｍＷおよび８ＭＨｚのガリウムーアルミニ
ウムーヒ素半導体レーザ（発振波長７８０ｎｍ）’（ｒ
記録層面にトラック状で照射して記録を行なった。
この記録された光ディスクの表面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なピットが認められた。オだ、こ
の元ディスクに低出力のガリウムーアルミニウムーヒ素
半導体レーザを入射し、反射光の検知を行なったところ
、十分なＳ／Ｎ比を有する波形が得られた。
実施例】４゜ 前述の化合物層（５）の化合物５００ｍｇを蒸着用モリ
ブテンボートに入れ、Ｉ　Ｘ　１０　ｍｍＨｇ以下に排
気した後、アルミ蒸着ガラス板に蒸着した。
蒸着中は真空室内の圧力が１０　ｍｍＨｇ以上に上昇し
ない様にヒーターを制御しながら、０．２ミクロンの蒸
着膜を形成させた。
こうして作成した光デイスク記録体に実施例１３と同様
の方法で情報を記憶させたところ、実施例１３と同様の
鮮明なピットが認められ、また実施例１３と同様の方法
で情報を再生したが、この際十分なＳ／Ｎ比を有する波
形が認められた。
実施例１５゜ 前述の化合物層αＱの化合物を実施例１３と同様の方法
でアルミ蒸着ガラス板の上に蒸着して、０．２ミクロン
の記録層を有する光デイスク記録体を作成した。
この光デイスク記録体に実施例１３と同様の方法で情報
を記憶させてから、再生したところ、十分なＳ／Ｎ比を
有する波形が認められた。又、情報を書き込みした後の
記録層面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、鮮明な
ピットが形成されていた。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は、本発明の有機被膜を光デイスク
記録体に用いた時の断面図で、第３図はこの光デイスク
記録体の実施態様を示す説明図である。 １・・・・・基板　　　　２・・・・・・有機被膜３・
・・・・・反射層　　　４・・・・・レーザ光線５・・
・・・ピット コ　　２ ３８ 　−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（１）で示される化合物を含有することを特
    徴とする有機被膜。 （式中Ｒ１はアルキル基、置換基を有していても良いフ
    ェニル基又はスチリル基を表わす。 Ｒ７け隣接した２つの−ＣＨ＝ＣＨ−基と共役二重結合
    系を形成する置換基を有していても良いアリーレン基を
    表わす、Ｒｓは置換基を有していても良いフェニル基又
    はす７ｆｋ基を表わす。Ａけアニオン残基を表わす、、
    ）
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Cited By (125)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1223467A2 (en) 2001-01-12 2002-07-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive image-forming material
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1627735A2 (en) 2004-08-20 2006-02-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1627732A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1629975A1 (en) 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
EP1629977A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and printing process
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1640173A1 (en) 2004-09-27 2006-03-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP1690685A2 (en) 2005-02-09 2006-08-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1705002A1 (en) 2005-03-23 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and plate-making method thereof
EP1705004A1 (en) 2005-03-22 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1707397A1 (en) 2005-03-29 2006-10-04 Fuji Photo Film Co. Ltd. Lithographic printing plate comprising support and imaging layer
EP1707353A2 (en) 2005-03-29 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor having an image-recording layer containing and infrared ray absorbent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a thiol compound
EP1754614A1 (en) 2004-04-09 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
WO2007136005A1 (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corporation 被乾燥物の乾燥方法及び装置
EP1872943A2 (en) 1999-05-21 2008-01-02 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
EP1925447A1 (en) 2002-09-17 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Image forming material
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1939244A2 (en) 2006-12-27 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP1964675A1 (en) 2007-02-27 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Infrared laser-sensitive planographic printing plate precursor
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2036721A1 (en) 2000-11-30 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
WO2009038038A1 (ja) 2007-09-19 2009-03-26 Fujifilm Corporation アセチレン化合物、その塩、その縮合物、及びその組成物
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2042306A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
EP2042310A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2042309A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method of producing a negative planographic printing plate
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
EP2042308A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2042305A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2058123A2 (en) 2007-11-08 2009-05-13 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082874A1 (en) 2008-01-25 2009-07-29 Fujifilm Corporation Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2085220A2 (en) 2008-01-29 2009-08-05 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2093055A1 (en) 2003-03-26 2009-08-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
EP2095947A1 (en) 2008-02-28 2009-09-02 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2095970A1 (en) 2008-02-29 2009-09-02 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
EP2105795A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
WO2009119687A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法
WO2009119430A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
EP2106907A2 (en) 2008-04-02 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2106906A1 (en) 2008-03-31 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2161129A2 (en) 2008-09-09 2010-03-10 Fujifilm Corporation Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser
EP2165828A1 (en) 2008-09-17 2010-03-24 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2236293A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2295247A1 (en) 2003-07-07 2011-03-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
WO2011037005A1 (ja) 2009-09-24 2011-03-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2354854A1 (en) 2002-09-20 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Method of making lithographic printing plate
EP2357530A2 (en) 2010-02-17 2011-08-17 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
WO2011102485A1 (ja) 2010-02-19 2011-08-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
WO2011125913A1 (ja) 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
EP2381312A2 (en) 2000-08-25 2011-10-26 Fujifilm Corporation Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2471654A2 (en) 2010-12-28 2012-07-04 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and lithographic printing method thereof
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2551112A2 (en) 2011-07-29 2013-01-30 Fujifilm Corporation Flexographic printing plate precursor for laser engraving and process for producing same, and flexographic printing plate and process for making same
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
EP2556959A1 (en) 2011-08-12 2013-02-13 Fujifilm Corporation Process for producing flexographic printing plate precursor for laser engraving
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013038909A1 (ja) 2011-09-13 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
WO2013046856A1 (ja) 2011-09-28 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
EP2618215A1 (en) 2004-05-31 2013-07-24 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
EP2641738A2 (en) 2012-03-23 2013-09-25 Fujifilm Corporation Method of producing planographic printing plate and planographic printing plate
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate
EP2644379A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 FUJIFILM Corporation Method of producing a planographic printing plate
WO2013145949A1 (ja) 2012-03-29 2013-10-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその印刷方法
EP2690495A1 (en) 2012-07-27 2014-01-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2014141781A1 (ja) 2013-03-14 2014-09-18 富士フイルム株式会社 製版処理廃液の濃縮方法及びリサイクル方法
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
WO2020059509A1 (ja) 2018-09-20 2020-03-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法

Cited By (130)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1872943A2 (en) 1999-05-21 2008-01-02 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
EP2381312A2 (en) 2000-08-25 2011-10-26 Fujifilm Corporation Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP2036721A1 (en) 2000-11-30 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP1223467A2 (en) 2001-01-12 2002-07-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive image-forming material
EP1925447A1 (en) 2002-09-17 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Image forming material
EP2354854A1 (en) 2002-09-20 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Method of making lithographic printing plate
EP2093055A1 (en) 2003-03-26 2009-08-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
EP2295247A1 (en) 2003-07-07 2011-03-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1754614A1 (en) 2004-04-09 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2618215A1 (en) 2004-05-31 2013-07-24 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1627732A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1627735A2 (en) 2004-08-20 2006-02-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1629975A1 (en) 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1629977A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and printing process
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP1640173A1 (en) 2004-09-27 2006-03-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP1690685A2 (en) 2005-02-09 2006-08-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
EP3086177A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Method for preparing a lithographic printing place precursor
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1705004A1 (en) 2005-03-22 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1705002A1 (en) 2005-03-23 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and plate-making method thereof
EP1707397A1 (en) 2005-03-29 2006-10-04 Fuji Photo Film Co. Ltd. Lithographic printing plate comprising support and imaging layer
EP1707353A2 (en) 2005-03-29 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor having an image-recording layer containing and infrared ray absorbent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a thiol compound
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
WO2007136005A1 (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corporation 被乾燥物の乾燥方法及び装置
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1939244A2 (en) 2006-12-27 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same
EP2592475A1 (en) 2007-02-06 2013-05-15 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP1964675A1 (en) 2007-02-27 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Infrared laser-sensitive planographic printing plate precursor
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
WO2009038038A1 (ja) 2007-09-19 2009-03-26 Fujifilm Corporation アセチレン化合物、その塩、その縮合物、及びその組成物
EP2042310A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
EP2042308A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2042305A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP3021167A1 (en) 2007-09-28 2016-05-18 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2042309A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method of producing a negative planographic printing plate
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP2042306A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2380737A1 (en) 2007-10-29 2011-10-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2058123A2 (en) 2007-11-08 2009-05-13 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2082874A1 (en) 2008-01-25 2009-07-29 Fujifilm Corporation Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving
EP2085220A2 (en) 2008-01-29 2009-08-05 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2095947A1 (en) 2008-02-28 2009-09-02 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2095970A1 (en) 2008-02-29 2009-09-02 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
WO2009119430A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2009119687A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
EP2105795A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2106906A1 (en) 2008-03-31 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate
EP2106907A2 (en) 2008-04-02 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2161129A2 (en) 2008-09-09 2010-03-10 Fujifilm Corporation Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser
EP2165828A1 (en) 2008-09-17 2010-03-24 FUJIFILM Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
EP2236293A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
WO2011037005A1 (ja) 2009-09-24 2011-03-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2357530A2 (en) 2010-02-17 2011-08-17 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
WO2011102485A1 (ja) 2010-02-19 2011-08-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
WO2011125913A1 (ja) 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2471654A2 (en) 2010-12-28 2012-07-04 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and lithographic printing method thereof
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
EP2551112A2 (en) 2011-07-29 2013-01-30 Fujifilm Corporation Flexographic printing plate precursor for laser engraving and process for producing same, and flexographic printing plate and process for making same
EP2556959A1 (en) 2011-08-12 2013-02-13 Fujifilm Corporation Process for producing flexographic printing plate precursor for laser engraving
WO2013038909A1 (ja) 2011-09-13 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013046856A1 (ja) 2011-09-28 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
EP2641738A2 (en) 2012-03-23 2013-09-25 Fujifilm Corporation Method of producing planographic printing plate and planographic printing plate
WO2013145949A1 (ja) 2012-03-29 2013-10-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその印刷方法
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate
EP2644379A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 FUJIFILM Corporation Method of producing a planographic printing plate
EP2690495A1 (en) 2012-07-27 2014-01-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2014141781A1 (ja) 2013-03-14 2014-09-18 富士フイルム株式会社 製版処理廃液の濃縮方法及びリサイクル方法
WO2020059509A1 (ja) 2018-09-20 2020-03-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法

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JPH0211134B2 (ja) 1990-03-13

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