JPH0624622B2 - 液体処理装置 - Google Patents
液体処理装置Info
- Publication number
- JPH0624622B2 JPH0624622B2 JP1174026A JP17402689A JPH0624622B2 JP H0624622 B2 JPH0624622 B2 JP H0624622B2 JP 1174026 A JP1174026 A JP 1174026A JP 17402689 A JP17402689 A JP 17402689A JP H0624622 B2 JPH0624622 B2 JP H0624622B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- temperature
- tube
- gelatin
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/002—Avoiding undesirable reactions or side-effects, e.g. avoiding explosions, or improving the yield by suppressing side-reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は液体処理装置、特にフォトレジストを一定温度
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウエーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウエーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
一般に固体撮像素子には、色分解フィルタとして一種の
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウエーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約２
５℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約２５℃
以上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できな
い。さらにゼラチンは、またウエーハも塗布膜厚が均一
で膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定の温度
に温調する必要がある。
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウエーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約２
５℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約２５℃
以上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できな
い。さらにゼラチンは、またウエーハも塗布膜厚が均一
で膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定の温度
に温調する必要がある。
これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗布システムを
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽１，ヒータ２，温度センサ３，撹拌器４および温度調
節器５により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の
収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７
をゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させ
る。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系を内部に
注入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２と、この
外部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１２との間
に入れられたヒータ１４および温度センサ１５と、温度
調節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定温度で吐
出させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよびフ
ィルタとからなるファンヒータユニットとにより、温風
１７をダクト１８を通じて塗布室１０へ送り込み、回転
するように構成されているチャック１９に吸着されたウ
エーハ２０を一定温度に加熱するようになっている。な
お、２１は廃液回収容器、２２はウエーハ２０の回転時
に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３はゼラチン
を吐出させるための所定の圧力に制御されたN2ガス、２
４はフィルタ、２５，２６は注入管１１の開閉，吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽１，ヒータ２，温度センサ３，撹拌器４および温度調
節器５により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の
収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７
をゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させ
る。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系を内部に
注入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２と、この
外部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１２との間
に入れられたヒータ１４および温度センサ１５と、温度
調節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定温度で吐
出させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよびフ
ィルタとからなるファンヒータユニットとにより、温風
１７をダクト１８を通じて塗布室１０へ送り込み、回転
するように構成されているチャック１９に吸着されたウ
エーハ２０を一定温度に加熱するようになっている。な
お、２１は廃液回収容器、２２はウエーハ２０の回転時
に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３はゼラチン
を吐出させるための所定の圧力に制御されたN2ガス、２
４はフィルタ、２５，２６は注入管１１の開閉，吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室１０内のゼラチン
温度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウエーハ加熱用の温風を塗布室１０へ送り込まなけ
れば注入管１１の末端からゼラチンが凝固してくる問題
もあった。
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室１０内のゼラチン
温度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウエーハ加熱用の温風を塗布室１０へ送り込まなけ
れば注入管１１の末端からゼラチンが凝固してくる問題
もあった。
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、被加工物に
塗布される処理液を収容する収容容器と、上記処理液を
被加工物に塗布する塗布室と、上記処理液の温度を調節
するための液体を供給するための手段とを具備して成
り、上記処理液は第１の管を経由して上記塗布室に配置
された被加工物に供給され、上記処理液の温度を調節す
るための液体は、第２の管に供給され、上記第１の管
は、上記第２の管の内側に設けることにより、上記処理
液の温度を調節するための液体を上記第１の管の外側
で、上記第２の管の内側に流すことにより、上記処理液
の温度を調節し、上記処理液の温度を調節するための液
体を供給するための手段は、温度を感知する温度センサ
と、上記液体の温度を調節するヒーターと、上記温度セ
ンサと上記ヒーターとに接続された温度調節機とを有
し、上記塗布室に温風を送りこむ手段を有し、かつ、上
記第１の管を上記第２の管の内側に設ける部分は、上記
塗布室まで設けられていることを特徴とする液体処理装
置とし、更に、上記被加工物に塗布される処理液はフォ
トレジストである液体処理装置とし、更に、上記被加工
物に塗布される処理液はゼラチンである液体処理装置と
し、更に、上記被加工物は、ウェーハである液体処理装
置とし、更に、上記温度センサは、処理液の温度を調節
するための液体の温度を感知する液体処理装置とした。
塗布される処理液を収容する収容容器と、上記処理液を
被加工物に塗布する塗布室と、上記処理液の温度を調節
するための液体を供給するための手段とを具備して成
り、上記処理液は第１の管を経由して上記塗布室に配置
された被加工物に供給され、上記処理液の温度を調節す
るための液体は、第２の管に供給され、上記第１の管
は、上記第２の管の内側に設けることにより、上記処理
液の温度を調節するための液体を上記第１の管の外側
で、上記第２の管の内側に流すことにより、上記処理液
の温度を調節し、上記処理液の温度を調節するための液
体を供給するための手段は、温度を感知する温度センサ
と、上記液体の温度を調節するヒーターと、上記温度セ
ンサと上記ヒーターとに接続された温度調節機とを有
し、上記塗布室に温風を送りこむ手段を有し、かつ、上
記第１の管を上記第２の管の内側に設ける部分は、上記
塗布室まで設けられていることを特徴とする液体処理装
置とし、更に、上記被加工物に塗布される処理液はフォ
トレジストである液体処理装置とし、更に、上記被加工
物に塗布される処理液はゼラチンである液体処理装置と
し、更に、上記被加工物は、ウェーハである液体処理装
置とし、更に、上記温度センサは、処理液の温度を調節
するための液体の温度を感知する液体処理装置とした。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第２図は本発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室１０を経由し、再び恒温槽１までポ
ンプ２７を通してチューブ２８が配管されている。そし
て、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注入管１
１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１０内の
ゼラチン吐出部分は第３図に要部断面図で示すような構
造を有している。すなわち、第３図において、２９はコ
ネクタであり、このコネクタ２９には前記チューブ２８
が通常用いられているチューブ継手３０により接続され
ている。また、前記注入管１１の先端はフランジ加工さ
れ、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル３１によ
り、コネクタ２９に締付固定されている。なお、３２は
シール材である。
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室１０を経由し、再び恒温槽１までポ
ンプ２７を通してチューブ２８が配管されている。そし
て、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注入管１
１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１０内の
ゼラチン吐出部分は第３図に要部断面図で示すような構
造を有している。すなわち、第３図において、２９はコ
ネクタであり、このコネクタ２９には前記チューブ２８
が通常用いられているチューブ継手３０により接続され
ている。また、前記注入管１１の先端はフランジ加工さ
れ、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル３１によ
り、コネクタ２９に締付固定されている。なお、３２は
シール材である。
このように配管された注入系において、ポンプ２７を作
動させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管１１
のまわりを包むようにしてチューブ２８とコネクタ２９
とを通って循環する。一方、液体６は前述したように恒
温となるように常時加熱温調されている。したがって、
この定温注入システムによれば、収入容器８内のゼラチ
ン７の温度を一定に保つと同時に注入管１１内のゼラチ
ン温度も一定に保つことが出来る。また、液体６の温度
はそのまま収容容器８および注入管１１内のゼラチン温
度となるため、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐出
温度とが同一となる。
動させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管１１
のまわりを包むようにしてチューブ２８とコネクタ２９
とを通って循環する。一方、液体６は前述したように恒
温となるように常時加熱温調されている。したがって、
この定温注入システムによれば、収入容器８内のゼラチ
ン７の温度を一定に保つと同時に注入管１１内のゼラチ
ン温度も一定に保つことが出来る。また、液体６の温度
はそのまま収容容器８および注入管１１内のゼラチン温
度となるため、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐出
温度とが同一となる。
このように、温度調節機５の設定温度とゼラチン吐出温
度とが同一になるように温度調節できるのは、上述のい
わば２重の管状にした部分を塗布室１０まで設けてお
り、かつ、この塗布室１０に温風を送りこむ手段を有し
ているので、処理液の温度変化を被加工物に吐出する瞬
間まで極めて少なくすることが出来るからである。
度とが同一になるように温度調節できるのは、上述のい
わば２重の管状にした部分を塗布室１０まで設けてお
り、かつ、この塗布室１０に温風を送りこむ手段を有し
ているので、処理液の温度変化を被加工物に吐出する瞬
間まで極めて少なくすることが出来るからである。
また、処理液の注入管１１と容器８とを同じ液体６で温
度調節しているので、或は、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入されていないチュ
ーブ２８の部分に取り付けられているため、取り付けが
簡単である。
度調節しているので、或は、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入されていないチュ
ーブ２８の部分に取り付けられているため、取り付けが
簡単である。
また、チューブ２８が注入管１１を包含する二重管構成
からチューブ２８だけの単管にする位置は、第２図、第
３図に示すように、チューブ２８の端部でなく、チュー
ブ２８の途中であり、チューブ２８をＴ字状に分岐させ
て二重管から単管にしているので構造が簡単であり、ま
た、処理液を被加工物に供給するときの邪魔になること
もない。
からチューブ２８だけの単管にする位置は、第２図、第
３図に示すように、チューブ２８の端部でなく、チュー
ブ２８の途中であり、チューブ２８をＴ字状に分岐させ
て二重管から単管にしているので構造が簡単であり、ま
た、処理液を被加工物に供給するときの邪魔になること
もない。
以上説明したように本発明によれば、温度調節器の設定
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出部先端からのゼラチ
ンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が
得られる。
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出部先端からのゼラチ
ンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が
得られる。
第１図は従来のゼラチン塗布システムの一例を説明する
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温層、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…撹拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、１０……塗布
室、１１……注入管、１２……チューブ、１３……断熱
材、１４……ヒータ、１５……温度センサ、１６……温
度調節器、１７……温風、１８……ダクト、１９……チ
ャック、２０……ウエーハ、２１……廃液回収容器、２
２……ブロア、２３……Ｎ2ガス、２４……フィルタ、
２５，２６……ベローズ、２７……ポンプ、２８……チ
ューブ、２９……コネクタ、３０……チューブ継手、３
１……ノズル、３２……シール材。
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温層、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…撹拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、１０……塗布
室、１１……注入管、１２……チューブ、１３……断熱
材、１４……ヒータ、１５……温度センサ、１６……温
度調節器、１７……温風、１８……ダクト、１９……チ
ャック、２０……ウエーハ、２１……廃液回収容器、２
２……ブロア、２３……Ｎ2ガス、２４……フィルタ、
２５，２６……ベローズ、２７……ポンプ、２８……チ
ューブ、２９……コネクタ、３０……チューブ継手、３
１……ノズル、３２……シール材。
Claims (5)
- 【請求項１】被加工物に塗布される処理液を収容する収
容容器と、上記処理液を被加工物に塗布する塗布室と、
上記処理液の温度を調節するための液体を供給するため
の手段とを具備して成り、 上記処理液は第１の管を経由して上記塗布室に配置され
た被加工物に供給され、 上記処理液の温度を調節するための液体は、第２の管に
供給され、 上記第１の管は、上記第２の管の内側に設けることによ
り、上記処理液の温度を調節するための液体を上記第１
の管の外側で、上記第２の管の内側に流すことにより、
上記処理液の温度を調節し、 上記処理液の温度を調節するための液体を供給するため
の手段は、温度を感知する温度センサと、上記液体の温
度を調節するヒーターと、上記温度センサと上記ヒータ
ーとに接続された温度調節機とを有し、 上記塗布室に温風を送りこむ手段を有し、かつ、 上記第１の管を上記第２の管の内側に設ける部分は、上
記塗布室まで設けられていることを特徴とする液体処理
装置。 - 【請求項２】上記被加工物に塗布される処理液はフォト
レジストであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の液体処理装置。 - 【請求項３】上記被加工物に塗布される処理液はゼラチ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
液体処理装置。 - 【請求項４】上記被加工物は、ウェーハであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項の何れかに記
載の液体処理装置。 - 【請求項５】上記温度センサは、処理液の温度を調節す
るための液体の温度を感知することを特徴とする特許請
求の範囲第１項乃至第４項の何れかに記載の液体処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174026A JPH0624622B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174026A JPH0624622B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118586A Division JPS599654A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | フオトレジスト定温注入システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0290934A JPH0290934A (ja) | 1990-03-30 |
| JPH0624622B2 true JPH0624622B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=15971337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174026A Expired - Lifetime JPH0624622B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624622B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0498821A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-31 | Nec Yamagata Ltd | 半導体製造用回転塗布装置 |
| JP5302236B2 (ja) * | 2010-02-09 | 2013-10-02 | 信越化学工業株式会社 | レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747086Y2 (ja) * | 1978-04-18 | 1982-10-16 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1174026A patent/JPH0624622B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0290934A (ja) | 1990-03-30 |
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