JPH0667465B2 - 被加工物の処理方法 - Google Patents
被加工物の処理方法Info
- Publication number
- JPH0667465B2 JPH0667465B2 JP1174022A JP17402289A JPH0667465B2 JP H0667465 B2 JPH0667465 B2 JP H0667465B2 JP 1174022 A JP1174022 A JP 1174022A JP 17402289 A JP17402289 A JP 17402289A JP H0667465 B2 JPH0667465 B2 JP H0667465B2
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- JP
- Japan
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- liquid
- temperature
- pipe
- temperature control
- container
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/002—Avoiding undesirable reactions or side-effects, e.g. avoiding explosions, or improving the yield by suppressing side-reactions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は液体処理装置、特にフォトレジストを一定温度
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
一般に固体撮像素子には、色分解フィルタとして一種の
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上にに形成された絵素上に回転塗布
法により被着形成される。そして、このゼラチンは、約
25℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約25℃以
上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できない。
さらにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で膜
欠点もない良好な塗布を行うためには所定の温度に温調
する必要がある。
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上にに形成された絵素上に回転塗布
法により被着形成される。そして、このゼラチンは、約
25℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約25℃以
上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できない。
さらにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で膜
欠点もない良好な塗布を行うためには所定の温度に温調
する必要がある。
これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗布システムを
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽1,ヒータ2,温度センサ3,攪拌器４および温度調節器５
により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の収容容
器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７をゾル
状態にしておくとともに、一定温度に保温させる。また
恒温槽１から塗布室10までの注入系を内部に注入管11が
通された弗素樹脂製チューブ12と、この外部を覆った断
熱材13と、これとチューブ12との間に入れられたヒータ
14および温度センサ15と、温度調節器16とにより温調
し、ゼラチン７を一定温度で吐出させる。さらに図示し
ないファンと、ヒータおよびフィルタとからなるファン
ヒータユニットとにより、温風17をダクト18を通じて塗
布室10へ送り込み、回転するように構成されているチャ
ック19に吸着されたウェーハ20を一定温度に加熱するよ
うになっている。なお、21は廃液回収器、22はウェーハ
20の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、23は
ゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御されたN2
ガス、24はフィルタ、25,26は注入管11の開閉，吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽1,ヒータ2,温度センサ3,攪拌器４および温度調節器５
により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の収容容
器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７をゾル
状態にしておくとともに、一定温度に保温させる。また
恒温槽１から塗布室10までの注入系を内部に注入管11が
通された弗素樹脂製チューブ12と、この外部を覆った断
熱材13と、これとチューブ12との間に入れられたヒータ
14および温度センサ15と、温度調節器16とにより温調
し、ゼラチン７を一定温度で吐出させる。さらに図示し
ないファンと、ヒータおよびフィルタとからなるファン
ヒータユニットとにより、温風17をダクト18を通じて塗
布室10へ送り込み、回転するように構成されているチャ
ック19に吸着されたウェーハ20を一定温度に加熱するよ
うになっている。なお、21は廃液回収器、22はウェーハ
20の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、23は
ゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御されたN2
ガス、24はフィルタ、25,26は注入管11の開閉，吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室10内のゼラチン温
度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウェーハ加熱用温風を塗布室10へ送り込まなければ
注入管11の末端からゼラチンが凝固してくる問題もあっ
た。
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室10内のゼラチン温
度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウェーハ加熱用温風を塗布室10へ送り込まなければ
注入管11の末端からゼラチンが凝固してくる問題もあっ
た。
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、固定台に設
置された被加工物に対して吐出するための処理液を収す
る収容容器と、該収容容器から上記処理液を上記被加工
物に供給するための第１の管と、該第１の管の上記処理
液の吐出部分先端近傍から所定の部分まで覆う第１の部
分と上記吐出部分先端近傍の位置で該第１の部分と接続
されて上記第１の管を内部に配置しない第２の部分とか
らなる第の管と、上記第２の部分に設けられ、上記第１
の管の外側と上記第２の管の内側に上記処理液の温度を
調節するための温度調節用液体を流動させるためのポン
プと、該温度調節用液体の温度を制御するための温度調
節機とを備えた液体処理装置を用いた被加工物の処理方
法において、上記温度調節機は上記温度調節用液体の温
度に応じて該温度調節用液体を加熱制御し、上記ポンプ
は加熱制御された上記温度調節用液体を上記第１の管の
外側と上記第２の管の内側に流し、上記第１の管の中の
上記処理液の温度を上記吐出部分先端近傍まで調節し、
上記処理液を上記被加工物に対して吐出することを特徴
とする被加工物の処理方法とし、更に、上記ポンプは、
上記吐出部分先端近傍から上記収容容器の方向へ上記温
度調節用液体を流動させるようにしたことを特徴とする
被加工物の処理方法とし、更に、上記液体処理装置は更
に上記温度調節用液体を収容する温度調節容器を有し、
かつ、上記第１の管は、上記温度調節容器の中で上記第
２の管の内側から外側に出る構造を有することを特徴と
する被加工物の処理方法とし、更に、上記液体処理装置
は、更にに上記温度調節用液体を収容する温度調節容器
を有し、かつ、上記処理液を収容する収容容器は、上記
温度調節容器中に設けられる構造を有することを特徴と
する被加工物の処理方法とし、更に、上記被加工物に塗
布される処理液はフォトレジストである被加工物の処理
方法とし、更に、上記被加工物に塗布される処理液はゼ
ラチンである被加工物の処理方法とし、更に、上記被加
工物は、ウェーハである被加工物の処理方法とした。
置された被加工物に対して吐出するための処理液を収す
る収容容器と、該収容容器から上記処理液を上記被加工
物に供給するための第１の管と、該第１の管の上記処理
液の吐出部分先端近傍から所定の部分まで覆う第１の部
分と上記吐出部分先端近傍の位置で該第１の部分と接続
されて上記第１の管を内部に配置しない第２の部分とか
らなる第の管と、上記第２の部分に設けられ、上記第１
の管の外側と上記第２の管の内側に上記処理液の温度を
調節するための温度調節用液体を流動させるためのポン
プと、該温度調節用液体の温度を制御するための温度調
節機とを備えた液体処理装置を用いた被加工物の処理方
法において、上記温度調節機は上記温度調節用液体の温
度に応じて該温度調節用液体を加熱制御し、上記ポンプ
は加熱制御された上記温度調節用液体を上記第１の管の
外側と上記第２の管の内側に流し、上記第１の管の中の
上記処理液の温度を上記吐出部分先端近傍まで調節し、
上記処理液を上記被加工物に対して吐出することを特徴
とする被加工物の処理方法とし、更に、上記ポンプは、
上記吐出部分先端近傍から上記収容容器の方向へ上記温
度調節用液体を流動させるようにしたことを特徴とする
被加工物の処理方法とし、更に、上記液体処理装置は更
に上記温度調節用液体を収容する温度調節容器を有し、
かつ、上記第１の管は、上記温度調節容器の中で上記第
２の管の内側から外側に出る構造を有することを特徴と
する被加工物の処理方法とし、更に、上記液体処理装置
は、更にに上記温度調節用液体を収容する温度調節容器
を有し、かつ、上記処理液を収容する収容容器は、上記
温度調節容器中に設けられる構造を有することを特徴と
する被加工物の処理方法とし、更に、上記被加工物に塗
布される処理液はフォトレジストである被加工物の処理
方法とし、更に、上記被加工物に塗布される処理液はゼ
ラチンである被加工物の処理方法とし、更に、上記被加
工物は、ウェーハである被加工物の処理方法とした。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第２図は本発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室10を経由し、再び恒温槽１までポン
プ27を通してチューブ28が配管されている。そして、こ
のチューブ28の内部にはゼラチン７の注入管11が塗布室
10まで通されている。また塗布室10内のゼラチン吐出部
分は第３図に要部断面図で示すような構造を湯してい
る。すなわち、第３図において、29はコネクタであり、
このコネクタ29には前記チューブ28が通常用いられてい
るチューブ継手30により接続されている。また、前記注
入管11の先端はフランジ加工され、コネクタ29の一端に
ねじ込まれるノズル31により、コネクタ29に締付固定さ
れている。なお、32はシール材である。
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室10を経由し、再び恒温槽１までポン
プ27を通してチューブ28が配管されている。そして、こ
のチューブ28の内部にはゼラチン７の注入管11が塗布室
10まで通されている。また塗布室10内のゼラチン吐出部
分は第３図に要部断面図で示すような構造を湯してい
る。すなわち、第３図において、29はコネクタであり、
このコネクタ29には前記チューブ28が通常用いられてい
るチューブ継手30により接続されている。また、前記注
入管11の先端はフランジ加工され、コネクタ29の一端に
ねじ込まれるノズル31により、コネクタ29に締付固定さ
れている。なお、32はシール材である。
このように配管された注入系において、ポンプ27を作動
させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管11のま
わりを包むようにしてチューブ28とコネクタ29とを循環
する。一方、液体６は前述したように恒温となるように
常時加熱温調されている。したがって、この定温注入シ
ステムによれば、収入容器８内のゼラチン７の温度を一
定に保つと同時に注入管11内のゼラチン温度も一定に保
つことが出来る。また、液体６の温度はそのまま収容容
器８および注入管11内のゼラチン温度となるため、温度
調節器５の設定温度とゼラチン吐出温度とが同一とな
る。
させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管11のま
わりを包むようにしてチューブ28とコネクタ29とを循環
する。一方、液体６は前述したように恒温となるように
常時加熱温調されている。したがって、この定温注入シ
ステムによれば、収入容器８内のゼラチン７の温度を一
定に保つと同時に注入管11内のゼラチン温度も一定に保
つことが出来る。また、液体６の温度はそのまま収容容
器８および注入管11内のゼラチン温度となるため、温度
調節器５の設定温度とゼラチン吐出温度とが同一とな
る。
このように、温度調節機５の設定温度とゼラチン吐出温
度とが同一になるように温度調節できるのは、上述のい
わば２重の管状にした部分で、一定温度の温度調整用の
液体が、処理液を包むようにながれることにより処理液
の温度変化を極めて少なくすることが出来るからであ
る。すなわち、温度調整用の液体は基本的に温度が変化
しないように制御される。よって、温度調整用の液体は
温度変化による対流等は、期待出来ず、循環用のポンプ
を設けることが必須となる。
度とが同一になるように温度調節できるのは、上述のい
わば２重の管状にした部分で、一定温度の温度調整用の
液体が、処理液を包むようにながれることにより処理液
の温度変化を極めて少なくすることが出来るからであ
る。すなわち、温度調整用の液体は基本的に温度が変化
しないように制御される。よって、温度調整用の液体は
温度変化による対流等は、期待出来ず、循環用のポンプ
を設けることが必須となる。
また、処理液の注入管11と容器８とを同じ液体６で温度
調節しているので、或いは、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ27は注入管が内側に挿入されていないチュー
ブ28の部分に取り付けられているため、取付けが簡単で
ある。
調節しているので、或いは、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ27は注入管が内側に挿入されていないチュー
ブ28の部分に取り付けられているため、取付けが簡単で
ある。
また、チューブ28が注入管11を包含する二重管構造から
チューブ28だけの単管にする位置は、第２図、第３図に
示すように、チューブ28の端部でなく、チューブ28の途
中であり、チューブ28をＴ字状に分岐させて二重管から
単管にしているので構造が簡単であり、また、処理液を
被加工物に供給するときの邪魔になることもない。
チューブ28だけの単管にする位置は、第２図、第３図に
示すように、チューブ28の端部でなく、チューブ28の途
中であり、チューブ28をＴ字状に分岐させて二重管から
単管にしているので構造が簡単であり、また、処理液を
被加工物に供給するときの邪魔になることもない。
以上説明したように本発明によれば、温度調節器の設定
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出先端からのゼラチン
の凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が得
られる。
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出先端からのゼラチン
の凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が得
られる。
第１図は従来のゼラチン塗布システムの一例を説明する
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温槽、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…攪拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、10……塗布
室、11……注入管、12……チューブ、13……断熱材、14
……ヒータ、15……温度センサ、16……温度調節器、17
……温風、18……ダクト、19……チャック、20……ウェ
ーハ、21……廃液回収容器、22……ブロア、23……N2ガ
ス、24……フィルタ、25,26……ベローズ、27……ポン
プ、28……チューブ、29……コネクタ、30……チューブ
継手、31……ノズル、32……シール材。
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温槽、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…攪拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、10……塗布
室、11……注入管、12……チューブ、13……断熱材、14
……ヒータ、15……温度センサ、16……温度調節器、17
……温風、18……ダクト、19……チャック、20……ウェ
ーハ、21……廃液回収容器、22……ブロア、23……N2ガ
ス、24……フィルタ、25,26……ベローズ、27……ポン
プ、28……チューブ、29……コネクタ、30……チューブ
継手、31……ノズル、32……シール材。
Claims (8)
- 【請求項１】固定台に設置された被加工物に対して吐出
するための処理液を収容する収容容器と、該収容容器か
ら上記処理液を上記被加工物に供給するための第１の管
と、該第１の管の上記処理液の吐出部分先端近傍から所
定の部分まで覆う第１の部分と上記吐出部分先端近傍の
位置で該第１の部分と接続されて上記第１の管を内部に
配置しない第２の部分とからなる第２の管と、上記第２
の部分に設けられ、上記第１の管の外側と上記第２の管
の内側に上記処理液の温度を調節するための温度調節用
液体を流動させるためのポンプと、該温度調節用液体の
温度を制御するための温度調節機とを備えた液体処理装
置を用いた被加工物の処理方法において、 上記温度調節機は上記温度調節用液体の温度に応じて該
温度調節用液体を加熱制御し、上記ポンプは加熱制御さ
れた上記温度調節用液体を上記第１の管の外側と上記第
２の管の内側に流し、上記第１の管の中の上記処理液の
温度を上記吐出部分先端近傍まで調節し、上記処理液を
上記被加工物に対して吐出することを特徴とする被加工
物の処理方法。 - 【請求項２】上記ポンプは、上記吐出部分先端近傍から
上記収容容器の方向へ上記温度調節用液体を流動させる
ようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の被加工物の処理方法。 - 【請求項３】上記液体処理装置は、更に上記温度調節用
液体を収容する温度調節容器を有し、かつ、上記第１の
管は、上記温度調節容器の中で上記第２の管の内側から
外側に出る構造を有することを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項４】上記液体処理装置は、更に上記温度調節用
液体を収容する温度調節容器を有し、かつ、上記処理液
を収容する収容容器は、上記温度調節容器中に設けられ
る構造を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項５】上記処理液を収容する収容容器は、上記温
度調節容器中に設けられることを特徴とする特許請求の
範囲第３項記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項６】上記被加工物に吐出される処理液はフォト
レジストであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
乃至第５項の何れかに記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項７】上記被加工物に吐出される処理液はゼラチ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第
５項の何れかに記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項８】上記被加工物は、ウェーハであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項乃至第７項の何れかに記
載の被加工物の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174022A JPH0667465B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174022A JPH0667465B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118586A Division JPS599654A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | フオトレジスト定温注入システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286826A JPH0286826A (ja) | 1990-03-27 |
| JPH0667465B2 true JPH0667465B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=15971273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174022A Expired - Lifetime JPH0667465B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667465B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110875223A (zh) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 泄漏检测系统、整合装置及泄漏检测方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5081067A (ja) * | 1973-11-16 | 1975-07-01 | ||
| JPS5670869A (en) * | 1979-11-14 | 1981-06-13 | Hitachi Ltd | Spinner coating apparatus |
| JPS58128441U (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-31 | 富士通株式会社 | 現像装置 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1174022A patent/JPH0667465B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110875223A (zh) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 泄漏检测系统、整合装置及泄漏检测方法 |
| US11199466B2 (en) | 2018-08-31 | 2021-12-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and method for liquid leak detection |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0286826A (ja) | 1990-03-27 |
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