JPS60109215A - 酸化鉄磁性薄膜形成用スパッタ・タ−ゲット - Google Patents
酸化鉄磁性薄膜形成用スパッタ・タ−ゲットInfo
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- JPS60109215A JPS60109215A JP21731183A JP21731183A JPS60109215A JP S60109215 A JPS60109215 A JP S60109215A JP 21731183 A JP21731183 A JP 21731183A JP 21731183 A JP21731183 A JP 21731183A JP S60109215 A JPS60109215 A JP S60109215A
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- iron oxide
- thin film
- fe3o4
- magnetic thin
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Links
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク装置等において磁気記録媒体とし
て用いられる酸化物磁性薄膜形成に使用するスパッタ・
ターゲットに関する。
て用いられる酸化物磁性薄膜形成に使用するスパッタ・
ターゲットに関する。
磁気記録装置における記録密度の向上は斯界の変らぬ趨
勢であり、これを実現する為には磁気記録媒体の薄層化
、薄膜化が不可欠である。そこで高性能磁気記録媒体と
して、薄膜化が容易な連続薄膜媒体、特に酸化物磁性薄
膜が注目を集めている。その理由は、（１）残留磁束密
度が小さい、（２）機械的強度と化学的安定性に富み、
金属薄膜に必要とされる保護膜を必要と７せず、その結
果、（３）磁気ヘッド−媒体間がより小さく出来、高密
度と低価格化に適しているという点にある。
勢であり、これを実現する為には磁気記録媒体の薄層化
、薄膜化が不可欠である。そこで高性能磁気記録媒体と
して、薄膜化が容易な連続薄膜媒体、特に酸化物磁性薄
膜が注目を集めている。その理由は、（１）残留磁束密
度が小さい、（２）機械的強度と化学的安定性に富み、
金属薄膜に必要とされる保護膜を必要と７せず、その結
果、（３）磁気ヘッド−媒体間がより小さく出来、高密
度と低価格化に適しているという点にある。
酸化物磁性薄膜としては、その形成が容易であることか
ら酸化鉄薄膜が専ら用いられ、その製造方法としては種
々あるが、マグネタイト（Ｆｅｓ０４）をターゲットと
してスパッタリングすることによりマグネタイを主成分
とする強磁性酸化鉄薄膜を直接基板上に形成する簡便で
再現性のよい方法が提案されている（特開昭５１−８２
００号公報参照）。
ら酸化鉄薄膜が専ら用いられ、その製造方法としては種
々あるが、マグネタイト（Ｆｅｓ０４）をターゲットと
してスパッタリングすることによりマグネタイを主成分
とする強磁性酸化鉄薄膜を直接基板上に形成する簡便で
再現性のよい方法が提案されている（特開昭５１−８２
００号公報参照）。
この方法において磁気特性の制御のためコバルトを添加
物として用いればスパッタされたマグネタイト膜の保磁
力を任意に制御出来る。形成された膜はその後磁気特性
の向上及び膜の安定化のため比較的高い温度でγ比処理
（Ｆｅ、０．からγ−Ｆｅ２Ｏ３にする処理）が施され
る。通常基板としてはアルマイト被覆を施こしたアルミ
ニウム合金基板が使用されるが、この種の基板は高温に
さらされた場合、表面の平面度が損なわれたり被覆され
たアルマイト層に基体アルミニウム合金との熱膨張率の
差からクラックが発生するなどの問題が生じる為、ｒ化
処理温度は出来るだけ低い方が好ましい。
物として用いればスパッタされたマグネタイト膜の保磁
力を任意に制御出来る。形成された膜はその後磁気特性
の向上及び膜の安定化のため比較的高い温度でγ比処理
（Ｆｅ、０．からγ−Ｆｅ２Ｏ３にする処理）が施され
る。通常基板としてはアルマイト被覆を施こしたアルミ
ニウム合金基板が使用されるが、この種の基板は高温に
さらされた場合、表面の平面度が損なわれたり被覆され
たアルマイト層に基体アルミニウム合金との熱膨張率の
差からクラックが発生するなどの問題が生じる為、ｒ化
処理温度は出来るだけ低い方が好ましい。
また最近、さらに基板として欠陥面で有利な非磁性Ｎｉ
Ｐメッキアルミニウム合金、またはさらにプラスチック
フィルム（特願昭５６−０６３６６５号参照）などが適
用されるに至っているが、これらはいずれも酸化鉄薄膜
のγ−化処理等の熱処理温度はさらに制約される。した
がって、酸化鉄薄膜媒体の形成において熱処理温度の低
減は重要な課題である。
Ｐメッキアルミニウム合金、またはさらにプラスチック
フィルム（特願昭５６−０６３６６５号参照）などが適
用されるに至っているが、これらはいずれも酸化鉄薄膜
のγ−化処理等の熱処理温度はさらに制約される。した
がって、酸化鉄薄膜媒体の形成において熱処理温度の低
減は重要な課題である。
従来、熱処理温度の低減には特開昭５８−４９１４に見
られるようにＣｕを含むＦｅ５０．焼結体が用いられて
おり、さらに効果的には形成時のスパッタ圧力を高める
（特願昭５６−０６４７３４号）ことがなされている。
られるようにＣｕを含むＦｅ５０．焼結体が用いられて
おり、さらに効果的には形成時のスパッタ圧力を高める
（特願昭５６−０６４７３４号）ことがなされている。
しかしながら、スパッタ圧力の増大には限度があり、過
大な形成スパッタ圧力下では保磁力が過小となり記録媒
体として不適であった。
大な形成スパッタ圧力下では保磁力が過小となり記録媒
体として不適であった。
またｒｅ、０．ターゲットを用いて直接Ｆｅ、０４膜の
形成を行う方法において大きなスパッタ電力を投下した
場合にはＦｅ、０．より酸化度の低い膜が形成され、そ
のγ−化処理が出来ないことがあった。
形成を行う方法において大きなスパッタ電力を投下した
場合にはＦｅ、０．より酸化度の低い膜が形成され、そ
のγ−化処理が出来ないことがあった。
本発明は、かかる点を解決しようとするものでマグネタ
イトＦｅ、０４よりも酸化度の高いＦｅ５０＋＋ｚ（０
＜Ｘく０．３５）の酸化鉄−給体を酸化鉄磁性薄膜形成
用ターゲットとするもので、これを用いて中性ガス中で
スパッタリングすることにより基板上に直接望まし、（
酸化度の酸化鉄磁性薄膜が再現性よく形成出来、その後
の熱処理温度が低減出来る。
イトＦｅ、０４よりも酸化度の高いＦｅ５０＋＋ｚ（０
＜Ｘく０．３５）の酸化鉄−給体を酸化鉄磁性薄膜形成
用ターゲットとするもので、これを用いて中性ガス中で
スパッタリングすることにより基板上に直接望まし、（
酸化度の酸化鉄磁性薄膜が再現性よく形成出来、その後
の熱処理温度が低減出来る。
本発明にかかわる磁性酸化鉄薄膜形成用スパッタ・ター
ゲットは例えば次のような方法によって製作することが
できる。所定の重量比のＦｅ３Ｏ４と酸化物とした添加
物の粉末を十分粉砕、混合し、均一な粒子サイズとした
後、これを酸化性雰囲気で所定温度、時間混合し酸化さ
せ、これをプレス成型し、この成型体を不活性ガス雰囲
気中において制御された加熱、冷却過程と最高１，２５
０〜１，３００℃、数時間の熱処理を施こすことによっ
て堅牢な添加物を含むＦｅ５０＋＋ｚ （０（Ｘ （０
，５）が得られる。
ゲットは例えば次のような方法によって製作することが
できる。所定の重量比のＦｅ３Ｏ４と酸化物とした添加
物の粉末を十分粉砕、混合し、均一な粒子サイズとした
後、これを酸化性雰囲気で所定温度、時間混合し酸化さ
せ、これをプレス成型し、この成型体を不活性ガス雰囲
気中において制御された加熱、冷却過程と最高１，２５
０〜１，３００℃、数時間の熱処理を施こすことによっ
て堅牢な添加物を含むＦｅ５０＋＋ｚ （０（Ｘ （０
，５）が得られる。
以下、実施例によって本発明の意義を詳細に説明する。
実施例
上記例示した製造法によって重量パーセントでＣｏを１
．５チ含むＦｅ３Ｏ４＋Ｘ ｓここでＸ ＝ ０．１
、０．２ 。
．５チ含むＦｅ３Ｏ４＋Ｘ ｓここでＸ ＝ ０．１
、０．２ 。
０．３５であり比較例としてｘ ＝ ０ （Ｆｅ３０．
） 、 ｘ＝ Ｑ、４であるターゲ、）を用いた。基
板には磁性膜の酸化度を示す比抵抗が測定出来るガラス
基板を用い、アルゴンスパッタ圧力２Ｘ１０−３Ｔｏｒ
ｒ、スパッタ電力密度ＩＱＷ／Ｌ＊”で行ない、スパッ
タ膜厚を０．１５μｍとした。このようにして形成した
磁性膜を大気中で１時間熱酸化して、膜の比抵抗がｒ−
化領域や値に対応するｌＸｌ０’Ω−１以上となる熱処
理温度とそのときの磁性膜の磁気特性を表に示した。
） 、 ｘ＝ Ｑ、４であるターゲ、）を用いた。基
板には磁性膜の酸化度を示す比抵抗が測定出来るガラス
基板を用い、アルゴンスパッタ圧力２Ｘ１０−３Ｔｏｒ
ｒ、スパッタ電力密度ＩＱＷ／Ｌ＊”で行ない、スパッ
タ膜厚を０．１５μｍとした。このようにして形成した
磁性膜を大気中で１時間熱酸化して、膜の比抵抗がｒ−
化領域や値に対応するｌＸｌ０’Ω−１以上となる熱処
理温度とそのときの磁性膜の磁気特性を表に示した。
表に示したように、本実施例の範囲のターゲットを用い
ることにより、熱処理温度を従来のＦｅ、０゜ターゲッ
トを用いたときよりは大幅に減少させることが出来た。
ることにより、熱処理温度を従来のＦｅ、０゜ターゲッ
トを用いたときよりは大幅に減少させることが出来た。
またＸ ＝ ０．４ の場合は磁気特性が劣化し、好ま
しくない。
しくない。
なお、実施例１（Ｘ＝０．１） のディスクにおいて、
ヘッドにＭｎ −Ｚｎフェライトヘッド（ギャップ長０
．３μｍ）を用いて、ヘッド−媒体スペーシング０．１
５μｍの条件に保ち、記録再生特性を測定したｉｆＢ果
、再生出力が半分となる記録周波数Ｄｗ、は４１ＫＦＲ
ＰＩ （１インチ当りのフラックス・リバーサル）の良
好な特性を得ることが出来た。
ヘッドにＭｎ −Ｚｎフェライトヘッド（ギャップ長０
．３μｍ）を用いて、ヘッド−媒体スペーシング０．１
５μｍの条件に保ち、記録再生特性を測定したｉｆＢ果
、再生出力が半分となる記録周波数Ｄｗ、は４１ＫＦＲ
ＰＩ （１インチ当りのフラックス・リバーサル）の良
好な特性を得ることが出来た。
なお、本実施例では添加物としてＣＯを示したが、この
他にＣｕ 、 Ｚｎ 、 Ｔｉ 、 ｋｌ 、 Ｍｎ
、＠；の種々の元素を含有させることが出来る。
他にＣｕ 、 Ｚｎ 、 Ｔｉ 、 ｋｌ 、 Ｍｎ
、＠；の種々の元素を含有させることが出来る。
以上のように本発明にかかる酸化鉄磁性薄膜形成用スパ
ッタ・ターゲットを用いれば、磁気ディスク媒体等に用
いる酸イヒ鉄磁性薄膜であって、従来のものより熱処理
温度が低く基板への負担を軽減し、良好な特性を有する
酸化鉄磁性薄膜を形成することが可能になる。
ッタ・ターゲットを用いれば、磁気ディスク媒体等に用
いる酸イヒ鉄磁性薄膜であって、従来のものより熱処理
温度が低く基板への負担を軽減し、良好な特性を有する
酸化鉄磁性薄膜を形成することが可能になる。
Claims (1)
- Ｆｅ５ｏ４＋Ｘ （０＜ Ｘ ＜０．３５ ）で表わさ
れる酸化鉄
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21731183A JPS60109215A (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 酸化鉄磁性薄膜形成用スパッタ・タ−ゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21731183A JPS60109215A (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 酸化鉄磁性薄膜形成用スパッタ・タ−ゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60109215A true JPS60109215A (ja) | 1985-06-14 |
Family
ID=16702163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21731183A Pending JPS60109215A (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 酸化鉄磁性薄膜形成用スパッタ・タ−ゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60109215A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5182000A (ja) * | 1975-01-16 | 1976-07-17 | Hitachi Ltd | Kyojiseisankatetsuhakumakuno seizoho |
-
1983
- 1983-11-18 JP JP21731183A patent/JPS60109215A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5182000A (ja) * | 1975-01-16 | 1976-07-17 | Hitachi Ltd | Kyojiseisankatetsuhakumakuno seizoho |
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