JPS60117730A - 回転塗布機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はホトレジストを回転中のウニノ・−表面に滴下
し、ホトレジスト層をウニノー−表面−ヒに形成するた
あの回転塗布機に関するものである。

〔従来技術〕

ホトレジストを回転塗布機によりウニノ・−表面に塗布
する際、発生する霧状のホトレジストがホトレジス）Ｐ
面に付着するという問題があった。

このホトレジスト表面に付着した霧状のホトレジストは
、半導体回路の断線等の問題を生じさせるので極力付着
を防止することが望まれている。

例えば実公昭５３−３７５７６に示された回転塗布装置
べではカップに形成されたはね返り防止用の垂直カバー
によって霧状のホトレジストの付着を防止［７た９、又
カップの下面に吸引孔を設け、ウェハー表面に気流を生
ぜさせ霧状ホトレジストを強制的に吸出する方法等が知
られている。

しかしながら、これ等従来方法では十分に霧状ホトレジ
ストの付着を防止することが出来なかった。

〔目　的〕

本発明の目的は霧状ホトレジストがウェハーに付着する
のを十分防止した回転塗布機を提供するものである。

そして、この目的を達成するために、本発明の回転塗布
機は２重カップを使用して、外カップと内カップの間の
間隙より霧状ホトレジストを吸引する構成を採用して〜
・る。

〔実施例〕

第１図中、１はウェハーチャックで、回転軸２によって
回転される。ウェハーチャック１は吸着孔６を有し、こ
の孔に連なる真空溝によってウェハー４を吸着する。５
，６は外カップ及び内カップである。７はホトレジスト
を滴下するためのノズルである。ノズル７からウェハー
４上に滴下されたホトレジストは遠心力によってウェハ
ー表面にホトレジスト層を形成する。この際、ホトレジ
ストの滴下、遠心力でウェハーから飛されたホトレジス
トがカップの内面に当ること等によって霧状のホトレジ
ストが発生する。この霧状のホトレジストがウェハー表
面に何着することを防止するために、カップ５，６が設
けられている。

まず、外カップ５から説明すると、カップ基体の底部に
は複数個、例えば６個、の吸引孔８が設けられている。

この吸引孔８はそれぞれ不図示の真空ポンプに接続して
いる。カップ基体の外周には断面が斜の接続部９が形成
されている。これはウェハーから飛んで来たホトレジス
ト滴を下方に向わせるものである。この接続部９に更に
水平っ）、ｒ部１０が接続している。このつば部の先端
はつｊ−バー４の外周部まで延びている。又、カップ基
体の内周にはウェハー下面を覆うためのつは部１１が形
成されている。このつば部１１によってウェハー裏面に
ホトレジストが付着するのを防止している。外カップ５
に比して径の小さな内カップ６は、不図示の支持具によ
って外カップ５によって支持されている。そして、この
内カップの基体の外周部はやはり斜の接続部１２を同様
の目的で形成されている。そして、この接続部１２の先
端は外カップの水平つば部１０との間に狭い間隙を形成
している。又、内カップ６の内周部にはっは部１〔１と
の間に狭い間隙を形成する斜面が形成されている。

内、外カップは上述の如く構成されて（・るため、図ｉ
１１′ｉ矢印で示す気流に乗って霧状ホトレジストは１
１ｉ（気孔より排出されるため、ウェハー４の上面にイ
・Ｉｆｆ→°ることが無〜・。

Ｌ幼　果〕 本発明は一１―述の如く構成されているため、霧状のホ
トレジストはウニノー−上面に付着すること力；無いた
め、半導体回路素子の断線等力；防止される等の効果を
有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の回転塗布機の断面をンＪ・、す区であ
る。 図中、１はウニノー−チャック、２は回転軸１３は吸着
孔、４はウニノ・−１５は外カップ、６＆ｉＦ’３カツ
プ、７はホトレジストノズル、８１ま吸弓１（Ｌである
。 出願人　キャノン販売株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ホトレジストを回′転中のウニノ・−表面に滴下し、該
   ホトレジストをウェハー表面に塗布する回転塗布機にお
   いて、発生する霧状ホトレジストを外カップとこの外カ
   ップより径の小さい出処カップとの間の間隙を通して外
   カップの排出孔より吸出することを特徴とする回転塗布
   機。