JPS60121820A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPS60121820A JPS60121820A JP59176653A JP17665384A JPS60121820A JP S60121820 A JPS60121820 A JP S60121820A JP 59176653 A JP59176653 A JP 59176653A JP 17665384 A JP17665384 A JP 17665384A JP S60121820 A JPS60121820 A JP S60121820A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor region
- input
- coupled
- gate
- integrated circuit
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/003—Modifications for increasing the reliability for protection
- H03K19/00315—Modifications for increasing the reliability for protection in field-effect transistor circuits
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- Logic Circuits (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、Mis(金属絶縁膜半導体)論理回路にお
ける入力保護回路に関する。
ける入力保護回路に関する。
従来、MIS論理入力回路におけるゲート保眼回路とし
て、第1図、第2図に示すような回路が公知である。
て、第1図、第2図に示すような回路が公知である。
これらの回路は、保護抵抗(R)とクランプ用〜ll5
FET(Q4 )とにより、高電圧入力に対するゲート
破壊防止を行なおうとするものである。
FET(Q4 )とにより、高電圧入力に対するゲート
破壊防止を行なおうとするものである。
すなわち、高電圧入力に対して、−クランプ用MISF
ET(Q4)のザーフェイスブレイダウン又はドレイン
、基板間の接合ダイオード(D、D’)のブレークダウ
ン動作により、高電圧入力をクランプして、ゲート破壊
防止を行なおうとするものである。
ET(Q4)のザーフェイスブレイダウン又はドレイン
、基板間の接合ダイオード(D、D’)のブレークダウ
ン動作により、高電圧入力をクランプして、ゲート破壊
防止を行なおうとするものである。
しかし2、従来のゲート保護回路にあっては、クランプ
用MI 5FET (Q4 )と、論理回路を構成する
MISFET((L 、Qt )等と同一のしき℃・値
電圧を有するものを用(・ろものであったため、入力信
号の負のアンダーシュートにより、入力回路か誤動作す
るという問題が判明し7た。
用MI 5FET (Q4 )と、論理回路を構成する
MISFET((L 、Qt )等と同一のしき℃・値
電圧を有するものを用(・ろものであったため、入力信
号の負のアンダーシュートにより、入力回路か誤動作す
るという問題が判明し7た。
すなわち、第1図の回路において、アンダーシュー 1
−0)(IK カ入力伝送ゲー1− M T sJ’
E ’J’ (Ql )のしぎい値fii:圧により太
きいと、入力伝送ゲートへ41SFE’J’(Ql )
のゲートがオフl/ベルである接地電位におさえられて
いてもオンして、入力へ41 S F IE’1.’
(Q3 )のゲー トに蓄積されていた一電荷がリーク
するものどなる。
−0)(IK カ入力伝送ゲー1− M T sJ’
E ’J’ (Ql )のしぎい値fii:圧により太
きいと、入力伝送ゲートへ41SFE’J’(Ql )
のゲートがオフl/ベルである接地電位におさえられて
いてもオンして、入力へ41 S F IE’1.’
(Q3 )のゲー トに蓄積されていた一電荷がリーク
するものどなる。
ま1こ、FV 2図に示すように、iσ接ヌクロックド
インパーク(入力するものにあっても、第3図に示すよ
うに、負のアンダーシュ・−トが入力されると、クラン
プ用〜17. S F E T (Q< )のドレイン
(D)が負の51L圧となり、基板(、P)との間が+
+Btバイアスされる。これらをエミッタ、ベースとし
、クロックドインバー タを構成するI’vlI 5F
ET CQs )のドレイン(1))をコレクタとする
寄生ラテラルトランジスタにより、クロックドインバー
タの出力に蓄積されていた電荷がリークするものとなる
。
インパーク(入力するものにあっても、第3図に示すよ
うに、負のアンダーシュ・−トが入力されると、クラン
プ用〜17. S F E T (Q< )のドレイン
(D)が負の51L圧となり、基板(、P)との間が+
+Btバイアスされる。これらをエミッタ、ベースとし
、クロックドインバー タを構成するI’vlI 5F
ET CQs )のドレイン(1))をコレクタとする
寄生ラテラルトランジスタにより、クロックドインバー
タの出力に蓄積されていた電荷がリークするものとなる
。
そして、第2図に示すように、基板にバックバイアスケ
印加するものにおいては、従来のクランプ用MISFE
T(Ql )等のしきし・値電圧が、接合ダイオード(
、D)の順方向電圧(VF)より絶対値的に太きいもの
であった1こめ、1■BB+■F1より大きなアンタ゛
−シ、、 −)が入力されると基板から入力端子(P
、)になって電流が流れるTこめ、基板バイアス電圧が
変動して論理回路の動作マージンが減少するものとなる
。
印加するものにおいては、従来のクランプ用MISFE
T(Ql )等のしきし・値電圧が、接合ダイオード(
、D)の順方向電圧(VF)より絶対値的に太きいもの
であった1こめ、1■BB+■F1より大きなアンタ゛
−シ、、 −)が入力されると基板から入力端子(P
、)になって電流が流れるTこめ、基板バイアス電圧が
変動して論理回路の動作マージンが減少するものとなる
。
なお、MISFETの保護装置としては、特公昭51−
32511号公報に記載され1こものが公知である。
32511号公報に記載され1こものが公知である。
この発明は、これらの問題を解決する1こめなされ1こ
もσ)で、入力信号の負のアンダーシュートに対する論
理回路及び入力回路の誤動作をも防止したMIS入力保
護回路を提供する1こめになされ1こ。
もσ)で、入力信号の負のアンダーシュートに対する論
理回路及び入力回路の誤動作をも防止したMIS入力保
護回路を提供する1こめになされ1こ。
この発明の一実施例においては、クランプ用MI 5F
ETとして、入力回路等の論理回路を構成するMISF
ETのしきい値電圧より絶対値的に小さなしきい値電圧
のものが用いられる。
ETとして、入力回路等の論理回路を構成するMISF
ETのしきい値電圧より絶対値的に小さなしきい値電圧
のものが用いられる。
以下、実施例により、この発明を具体的に説明1−ろ。
第1図又は第2図に示すようなゲート保護回路において
、クランプ用MISFE’r(Q4 )のしき℃・値’
14JJ:を、通常の論理回路を構成するM I 5F
ET (Ql −Qs ) ノシきい値電圧(0,8〜
]、2V程瓜)より絶対値的に小さく、例えは02〜0
.3 V程度とする。一般にMlrSFETのしきい値
電圧は、チャンネルの表面不純物濃度、ゲート絶縁膜の
膜質及び1模厚等により決定されるが、製造工程等にお
いて簡便であり、かつ、その制御が容易なイオン打ち込
み法によりチャンネルの表面不純物濃度を制御ずろこと
が望ましい。すなわち、上記クランプ用ダイオード(Q
4)がnチャンネル型MJSFE’l”である場合には
、11型不純物をゲート絶縁膜を通して選択的にチャン
ネル領域表面に導入l−ることにより実現できる。
、クランプ用MISFE’r(Q4 )のしき℃・値’
14JJ:を、通常の論理回路を構成するM I 5F
ET (Ql −Qs ) ノシきい値電圧(0,8〜
]、2V程瓜)より絶対値的に小さく、例えは02〜0
.3 V程度とする。一般にMlrSFETのしきい値
電圧は、チャンネルの表面不純物濃度、ゲート絶縁膜の
膜質及び1模厚等により決定されるが、製造工程等にお
いて簡便であり、かつ、その制御が容易なイオン打ち込
み法によりチャンネルの表面不純物濃度を制御ずろこと
が望ましい。すなわち、上記クランプ用ダイオード(Q
4)がnチャンネル型MJSFE’l”である場合には
、11型不純物をゲート絶縁膜を通して選択的にチャン
ネル領域表面に導入l−ることにより実現できる。
この実施例によれば、正の高電圧(11チャンネルMI
SFETの場@)に対するゲート破壊防止動作は、従来
と同様にクランプ用MI 5FET(Q4)のザーフェ
イスブレイクダウン又はドレイン、基板間のp 11接
合ダイオード(1))によるブレイクダウンにより、所
定の電1■−でクランプすることにより行なわれるもの
である。
SFETの場@)に対するゲート破壊防止動作は、従来
と同様にクランプ用MI 5FET(Q4)のザーフェ
イスブレイクダウン又はドレイン、基板間のp 11接
合ダイオード(1))によるブレイクダウンにより、所
定の電1■−でクランプすることにより行なわれるもの
である。
そして、入力信号の負(nチャンネルMISFETの場
合)のアンダーシュートに対しては、クランプ用MIS
F’ET(Q4 )のしきい値電圧が小さいことより、
−〇2〜−〇、3Vでオンして、この電圧にクランプす
るものであるため、第1図の回路にあっては、伝送ゲー
トMI 5FET (Ql )がオンしないから、入力
MrSFET(Q3 )のゲートに蓄積された情報(電
荷)の破壊が防止できるものとなる。
合)のアンダーシュートに対しては、クランプ用MIS
F’ET(Q4 )のしきい値電圧が小さいことより、
−〇2〜−〇、3Vでオンして、この電圧にクランプす
るものであるため、第1図の回路にあっては、伝送ゲー
トMI 5FET (Ql )がオンしないから、入力
MrSFET(Q3 )のゲートに蓄積された情報(電
荷)の破壊が防止できるものとなる。
また、第2図の回路においても、寄生ラテラルトランジ
スタのベース、エミッタ間電圧力ー上記電圧(0,2〜
0.3V)でクランプさfl、ラテラルトランジスタの
しきい値電圧(07■程度)以下に抑えられるから、コ
レクタを構成するMISFET(Q3)のドレインに蓄
積されていた情報(電荷)の破壊が防止できる。
スタのベース、エミッタ間電圧力ー上記電圧(0,2〜
0.3V)でクランプさfl、ラテラルトランジスタの
しきい値電圧(07■程度)以下に抑えられるから、コ
レクタを構成するMISFET(Q3)のドレインに蓄
積されていた情報(電荷)の破壊が防止できる。
そ1−7で、同図に示すように、基板バックバイアス電
圧(−■BB)を印加するものにおし・でも、入力信号
の仙のアンター−シュートが、l VlIB−1−’V
F1より大きくなっても、その前にM I S F E
T(Q4 )がオンして、入力電圧を−02〜0.3
■にクランプトるものでおる1こめ、ダイオード(A′
)は逆バイアスされfこ状態、もしくレコ−1そのしき
い値電圧(■F)を超えるように順バイアスされること
がないから、基板バックバイアス電圧が変動することな
く、動作マージンが減少′1〜ることもない。
圧(−■BB)を印加するものにおし・でも、入力信号
の仙のアンター−シュートが、l VlIB−1−’V
F1より大きくなっても、その前にM I S F E
T(Q4 )がオンして、入力電圧を−02〜0.3
■にクランプトるものでおる1こめ、ダイオード(A′
)は逆バイアスされfこ状態、もしくレコ−1そのしき
い値電圧(■F)を超えるように順バイアスされること
がないから、基板バックバイアス電圧が変動することな
く、動作マージンが減少′1〜ることもない。
この発明は、前記説明した入力回路の他、第41々の入
力回路に適用することができる。すなわち、前記伝送ゲ
ー1− M I S F ETによるもの、クロンクド
インバータ回路によるものの他何んであってよい。ま1
こ、各回路を構成するMISFETは、pチャンネル型
M L S I” E Tであっても同様に適用できる
ものである。
力回路に適用することができる。すなわち、前記伝送ゲ
ー1− M I S F ETによるもの、クロンクド
インバータ回路によるものの他何んであってよい。ま1
こ、各回路を構成するMISFETは、pチャンネル型
M L S I” E Tであっても同様に適用できる
ものである。
第1図、第2図は、それぞれMIS入力保詩回路の一例
を示す回路図、第3図は、第2区1の回路における一部
の構造断面図である。 第 1 第 2
を示す回路図、第3図は、第2区1の回路における一部
の構造断面図である。 第 1 第 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ]。第1導電型の第1半導体領域に形成された第2導電
型の第2.第3.第4半導体領域と、上記第2半導体領
域と」−口笛3半導体領域との間で、絶縁膜を介して上
記第1半導体領域の上に形成され1こ第1ゲーh ?l
i極と、絶縁膜を介して上記第1半導体領域a几トに形
成された第2ゲート電極とを有し、」二記第2半導体領
域は、第1電位端子に結合され、」−口笛1ゲート電極
は、第2電位端子に結合され、上記第2ゲート電極は1
、上記第3半導体領域に結合され、上記第3半導体領域
は、入力端子に結合され、」二記第2.第3半導体領域
と上記第1ゲート1L極どを有ずろMISFETのしき
い値電圧の絶対値が、上記第3半導体領域と上記第1半
嗜8体領域とにより形成される接合の順方向1L圧の絶
対値よりも小さくされていることを特徴とする半導体集
積回路装置。 2、上記第2電位端子は、上記第1電位端子であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回
路装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176653A JPS60121820A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176653A JPS60121820A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 半導体集積回路装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14239278A Division JPS5568736A (en) | 1978-11-20 | 1978-11-20 | Mis input protective circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60121820A true JPS60121820A (ja) | 1985-06-29 |
| JPH0329325B2 JPH0329325B2 (ja) | 1991-04-23 |
Family
ID=16017339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59176653A Granted JPS60121820A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60121820A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988010030A1 (en) * | 1987-06-10 | 1988-12-15 | Regents Of The University Of Minnesota | A novel family of noise-immune logic gates and memory cells |
| JP2011119672A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-06-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52127149A (en) * | 1976-04-19 | 1977-10-25 | Toshiba Corp | Semiconductor circuit |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP59176653A patent/JPS60121820A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52127149A (en) * | 1976-04-19 | 1977-10-25 | Toshiba Corp | Semiconductor circuit |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988010030A1 (en) * | 1987-06-10 | 1988-12-15 | Regents Of The University Of Minnesota | A novel family of noise-immune logic gates and memory cells |
| US4853561A (en) * | 1987-06-10 | 1989-08-01 | Regents Of The University Of Minnesota | Family of noise-immune logic gates and memory cells |
| JP2011119672A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-06-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
| US9202546B2 (en) | 2009-10-29 | 2015-12-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US9806079B2 (en) | 2009-10-29 | 2017-10-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US10720433B2 (en) | 2009-10-29 | 2020-07-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0329325B2 (ja) | 1991-04-23 |
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