JPS60143348A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １、　ＷｌＩＭ＊　彦ｔｈ　の′！’Ｊ用６５本発明は
、キャリア発生相とキャリア輸送相とからなる感光層を
有する感光体、例えば電子写真感光体に関するものであ
る。

２、従来技術 従来から知られている電子写真感光体によれば、可視光
を吸収して荷電キャリア（以下、単に「キャリア」とい
う。）を発生するキャリア発生物質（以下、ｒｃＧＭＪ
ということがある。）を含有して成るキャリア発生層（
以下、ｒＣＧＬＪということがある。）と、このＣＧＬ
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送物質（以下、ｒＣＴＭＪと
いうことがある。）を含有して成るキャリア輸送層（以
下、ｒｃＴＬＪということがある。）とを組合せること
によシ感光層を構成せしめている。このように、キャリ
アの発生と、その輸送という必要な２つの基礎的機能を
、感光層を構成する別個の層に夫々分担せしめることに
よシ、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が広範と
なる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独立に選
定することが可能と讐る。　又、これによシ、電子写Ｉ
。

真プロセスにおいて要求される緒特性、例えば帯電せし
めたときの表面電位が高く、電荷保持能が大きく、光感
度が高く、シかも反復使用における安定性が大きい等の
優れた特性を有する電子写真感光体を得ることが可能と
なる。

上記のような感光層を構成するＣＴＭの種類と゛　して
は、例えばビジゾリン化合物←特願昭５３−７５８５４
号）が提案されている０　このピラゾリン化合物は種々
の長所を有しているが、なお改善されるべき問題を含ん
でいることが分った。

即ち、ピラゾリン化合物を単独でＣＴＭとして使用する
場合、放電曲線の裾切れが不充分で６．？、低電界領域
での感度が低くなシ易いことに加え、紫外光に対する安
定性が不足し、紫外光照射によって感度が低下し易いの
で、複写機のメンテナンス時に螢光灯や日光の下ではそ
れらの紫外光成分によって感光体が劣化し易いことであ
る。

３、発明の目的 本発明の目的は、感光体の感度と紫外光安定性を向上さ
せることにある。

４、発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、キャリア発生相とキャリア輸送相とか
らなる感光層を有する感光体において、下記一般式〔Ａ
〕で表わされるピラゾリン化合物と、側鎖に縮合芳香環
又は複素環を有する高分子有機半導体とが前記キャリア
輸送相に含有されていることを特徴とする感光体に係る
ものである。

一般式〔Ａ〕： 〔但、この一般式中、 ｔ：０又は１１ Ｒ１、Ｒ２およびＲ３：置換若しくは未置換のアリール
基、 ＲおよびＲ：水素原子、炭素原子数 １〜４のアルキル基、 又は置換若しくは装置 換のアリール基若しく はアラルキル基（但、 Ｒ４およびＲ５は共に水素 原子であることはなく、 ｔが０のときはＲ４は 水素原子ではない。）〕 ここで、上記の「相」とはいわゆる層をなして層ス煽仝
のイ山−外朧膚物暫値冨互いに枡１−合うフェイズをな
している場合も包含する。

本発明によれば、ＣＴＭとして、上記ピラゾリン化合物
と共に上記高分子有機半導体を使用しているので、この
高分子有機半導体が紫外光吸収によって光キャリアを生
成する性質を有していて、光増感に効果的に寄与する。

　このため、放電曲線の裾切れが良くなシ、特に低電界
領域での感度が向上する。　この結果、導電性又は絶縁
性−成分現像プロセスにおいて、現像段階でバイアス電
圧を印加しなくてもカプリのない良好なコピー画像を得
ることができる。　−成分現像プロセスにおいてバイア
ス電圧を印加すると、いわゆるフリンジ現象によって画
像端部の鮮明度が低下し、滲みを生じるが、本発明によ
ればそうした問題はなくなる。

また、上記高分子有機半導体は紫外光領域の吸光度が高
くて大部分の紫外光を吸収し、紫外光に対して一種のフ
ィルター効果を有するので、ピラゾリ／化合物の劣化を
防止する作用があ、９、ＣＴＬの紫外光安定性を向上さ
せることができる０なお、本発明において、後述の電子
受容性物質又はルイス酸をＣＴＬ及びＣＧＬの少なくと
も一方に添加すれば、電荷移動錯体を形成するため、増
感効果をより向上させることができる。

５、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。

まず、本発明においてＣＴＭとして使用する上記一般式
［Ａ）のピラゾリン化合物を例示すると、例えば次の構
造式を有するものを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。

（Ａ−１） （Ａ−２） （Ａ−６） ＣＲ３ （Ａ−９） Ａ−１２） （−１３） （Ａ−１４） （Ａ−１５） Ｃ２Ｈ３ （Ａ−１７） （Ａ−１８） （Ａ−１９） 前記した本発明において用いられるピラゾリン化合物は
公知の方法、たとえばα、β−不飽和ケトンとフェニル
ヒドラジンとを酸触媒存在下で脱水縮合することによっ
て合成される。

また、本発明においてＣＴＭとして、上記のピラゾリン
化合物と併用して使用する上記高分子有機半導体として
は、例えば次に例示するものを挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。

（３３−５）　（−ＣＨ−ＣＨ２す□ ０ 嘱 ＣＨ２ ＣＨ２ ■ （Ｂ−１０）　（−ＣＨ−ＣＨ２す 瞥 （Ｂ−１２）　（−ｃＨ−ＣＨ２＋ｎ （Ｂ−１３）　（−ＣＨ−ＣＨ２−）ｎ−０ ２ＨＢ （Ｂ−１７）　（−ｏ　−ＣＨ−ＣＨ２−）−。

ＣＨ２ （Ｂ−２０）　（−ＣＨ−ＣＨ２＋ｎ 瞥 本発明のＣＴＬに用いられる高分子有機半導体のうちポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール又はその誘導体が効果が大
であシ、好ましく用いられる。

かかるポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体とは、その
繰シ返し単位における全部又は一部のカルバノール環が
種々の置換基、例えばアルキル基、ニトロ基、アミノ基
、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によって置換されたも
のである。

また、本発明において、ＣＧＭとしては可視光を吸収し
てフリーキャリアを発生するものであれば、無機顔料及
び有機色素の何れをも用いることができる。

無定形セレン、三方晶系セレン、セレン−砒素合金、セ
レン−テルル合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウ
ム、硫セレン化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛
等の無機顔料の他、次の代表例で示されるような有機色
素を用いてもよい０（１）モノアゾ色素、ポリアゾ色素
、金属錯塩アゾ色素、ピラゾロンアゾ色素、スチルベン
アゾ色素及びチアゾールアゾ色素等のアゾ系色素（２）
ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリレン系
色素 （３）アントラキノン誘導体、アントアントロン肪導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系乃至多環キノン系色素 （４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド系色素 （５）金属の７タロシアニン及び無金属フタロシアニン
等のフタルシアニン系色素 （６）　ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色
素、キサンチン色素及びアクリジン色素等のカルボニウ
ム系色素 （７）アジン色素、オキサジン色素及びチアジン色素等
のキノンイミン系色素 （８）シアニン色素及びアゾメチン色素等のメチン系色
素 （９）　キノリン系色素 αα　ニトロ系色素 Ｑｌｌ　ニトロソ系色素 Ｑ２＋　ベンゾキノン及びナフトキノン系色素αＪ　ナ
フタルイミド系色素 αａ　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系色
素 α９　キナクリドン系色素 次に、図面によって本発明を具体的に説明する。

本発明の感光体は例えば第１図に示すように構、成され
る。　即ち、導電性支持体１上に既述したＣＧＭを主成
分として含有するＣＧＬ２を形成せしめ、このキャリア
発生層２上に前述のピラゾリ／化合物及び高分子有機半
導体を主成分として含有するＣＴＬ３を積層し、ＣＧＬ
２とＣＴＬ３とで感光層４を構成する。

ここで、導電性支持体１の材質としては、例えばアルミ
ニウム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジ
ウム、錫、白金、金、ステンレス鋼、真鍮等の金属のシ
ートを用いることができるが、これらに限定されるもの
ではなく、例えば第２図に示すように絶縁性基体ＩＡ上
に導電層ＩＢを設けて導電性支持体１を構成せしめるこ
ともできる。　この場合において、基体ＩＡとしそは紙
、プラスチックシート等の可撓性を有し、しかも曲げ、
引張シ等の応力に対しても十分な強度を有するものが適
当である。　又、導電層ＩＢは、金属シートをラミネー
トし或いは金属を真空蒸着せしめることによシ、又はそ
の他の方法によって設けることができる。

ＣＧＬ２は、上述のＣＧＭ単独によシ、又はこれに適当
なバインダー樹脂を加えたものによシ、或いは更に特定
乃至非特定の極性のキャリアに対する移動度の大きい物
質（即ちキャリア輸送物質）を添加したものによシ形成
することができる。

具体的な形成法としては、前記支持体上にＣＧ　Ｍを真
空蒸着せしめる方法、ＣＧＭを適当な溶剤に単独で若し
くは適当なバインダー樹脂と共に溶解若しくは分散せし
めたものを塗布して乾燥せしめる方法を挙げることがで
きる。

この後者の方法においては、バインダー樹脂若しくはキ
ャリア輸送物質を添加してもよく、その場合における、
キャリア発生物質：バインダー樹脂：キャリア輸送物質
の割合は、重量比で１：（０〜１ｏｏ）：（ｏ〜５００
）、特に１：（θ〜１０）：（θ〜５０）であることが
好ましい。　、上記方法で使用する溶媒或いは分散媒と
しては、例えばｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エ
チレンジアミン、インプロパツールアミン、モノエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロホルム、１．２−ジクロロエタン
、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
メタノール、エタノール、インプロパツール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキーシト、その他を用
いることができる。

また、バインダー樹脂としては、例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化
ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキ
ッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型
樹脂、並びにこれらの樹脂の繰ジ返し単位のうちの２つ
以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ボＩＪ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾール等の高分子有機半導体を挙げることが
できる。そして、このバインダー樹脂のＣＧＭに対する
割合は、０〜１００重量％、特に０〜１０重量−の範囲
である。

前記ＣＧＬ２には、必要に応じて適宜のＣＴＭを添加し
てもよい。

更に、とのＣＧＬには感度の向上、残留電位乃至反復使
用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以上の電
子受容性物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水７タル酸、
４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン
、１．３，５−トリニトロンベンゼン、バラニトロベン
ゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブルマニル、ジクロロジシアノバラベン
ゾキノン、アント２キノン、ジニトロアントラキノン、
２．７−シクロヘキサノン、２，４１７−）１ｊニトロ
フルオレノン、２．４，５．７−チトラニトロンルオレ
ノン、９−フルオレニリデン〔ジシアノメチレンマロノ
ジニトリル〕、ポリニトロ−９−フルオレニリテンー〔
ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ヒフリン酸、０
−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３．５−ジニ
トロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサ
リチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メ
リット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げる
ことができる。　また、電子受容性物質の添加割合は、
重量比でＣＧＭ：電子受容性物質−１００：　０．０１
〜２００好ましくはｉｏｏ　：　ｏ、ｉ〜１００である
。

以上のようにして形成される前記ＣＧＬ２の厚さは、好
ましくは０．００５〜２０μｍ１特に好ましくは０．０
５〜５μｍである。　０．００５μｍ未満では充分な光
感度が得られず、また２０μｍを越えると充分な電荷保
持性が得られない。

また、前記ＣＴＬ３は、既述の化合物を、上述のＣＧＬ
２と同様にして（即ち、単独で或は上述のバインダー樹
脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して）形
成することができる。

そして、他のＣＴＭを含有せしめてもよい。

この場合、バインダー樹脂と全ＣＴＭとの配合割合は、
バインダー樹脂１００重量部当シ全ｃＴＭを１０〜５０
０重量部とするのが好ましく、バインダー樹脂としてポ
リカーボネートを用いる場合はその１００重量部当シ２
０〜２００重量部の全ＣＴＭを用いると、優れた電子写
真特性が得られるので好ましい。

更に、とのＣＴＬには感度の向上、残留電位乃至反復使
用時の疲労を更に低減する目的で前述した電子受容性物
質を添加することもできる。　この電子受容性物質をＣ
ＧＬ及びＣＴＭの両層に加える場合、各層に加える電子
受容性物質は全く同一あるいは一部同一であってもよく
、場合によっては全く別であってもかまわない。　なお
、電子受容性物質は、ＣＧＬ、ＣＴＬのいずれか一方に
添加してもよい。

ＣＴＬへの電子受容性物質の添加割合は重量比で全ＣＴ
Ｍ：電子受容性物質＝　１００　：　０．０１〜１００
好ましくはｉｏｏ　：　ｏ、ｉ〜５０である。

このようにして形成されるＣＴＬ３の厚さは２〜１００
μｍ好ましくは５〜３０μｍである。

以上、本発明を第１図又は第２図に示した具体的構成例
に従って説明したが、本発明においては、ＣＧＬと組み
合わせられるＣＴＬとして既述の構成成分を含有せしめ
ればそれで充分であシ、電子写真感光体として機械的構
成は任意に選定できる。

例えば、第３図に示すように、導電性支持体ｌ上に適当
な中間層５を設け、これを介してＣＧＬ２を形成し、そ
の上にＣＴＬ３を形成してもよい。

この中間層５には、感光層４の帯電時において導電性支
持体１から感光層４にフリーキャリアが注入されること
を阻止する機能、並びに感光層４を導電性支持体に対し
て一体的に接着せしめる接着層としての機能を有せしめ
ることができる。　かかる中間層５の材質としては、酸
化アルミニウム、酸化インジウム等の金属酸化物、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール
樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体樹脂等の高分子物質を用いるこ
とができる。

又、第４図に示すように、導電性支持体ｌ上に、前記中
間層５を介して又は介さずに、ＣＴＬ３を形成してその
上にＣＧＬ２を形成して感光層４を構成せしめてもよい
。

また、第５図は、上記のＣＧＭを上記ＣＴＭが含有され
たキャリア輸送相中に分散せしめてなる（即ち、キャリ
ア発生物質相とキャリア輸送物質相との混合層からなる
）単層の感光層４を形成した例を示す。

以下、本発明を具体的な実施例について更に詳細に説明
する。

実施例１ アルミニウムを蒸着した厚さ１００μｍのポリエチレン
テレフタレートよ構成る導電性支持体上に、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体「エスレノクＭ
Ｆ−１０Ｊ（種水化学工業■製）よ構成る厚さ約Ｏ１１
μｍの中間層を設け、２〜３Ｘ１０−’　Ｔｏｒｒの真
空雰囲気中にて蒸発源温度３５０℃で３分間、多環キノ
ン系色素である４、１０−ジブロムアントアントロン（
モノライトレット２ＹＣ−１，Ａ３９３００　）を前記
中間層上に蒸着して厚さ約０．５μｍのＣＧＬを形成し
た。

一方、次の手順によ、９ＣＴＬ形成用塗布液を調製した
。　高分子有機半導体として上述の（Ｂ−６）で示され
るポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール「ルビカンＭ１７０Ｊ
　（ＢＡＳＦ社製）５２をモノクロルベンゼン５０−に
溶解した。　次に、ピラゾリン化合物（Ａ−２）６９と
ポリカーボネート樹脂「パンライトＬ−１２５０Ｊ（余
人化成社製）３．５２とを１，２−ジクロルエタン４０
−に溶解し、得られた溶液を前記モノクロルベンゼン溶
液に加えて充分混合し、調製を完了した。

得られた溶液を前記ＣＧＬ上にドクターブレードを用い
て塗布し、８０℃で１時間乾燥させて、厚さ１３μｍの
ＣＴＬを形成し、以って本発明の電子写真感光体（試料
ＡＩ）を作成した。

去遺上■ 実施例１におけるＣＴＬ形成用塗布液の調製に際し、ピ
ラゾリン化合物として例示化合物（Ａ−２）の代わシに
例示化合物（Ａ−１３）を用い、更に電子受容性物質と
して２．４．７−ドリニトロー９−フルオレノン００５
２を加えた他は実施例１と同様にして、厚さ約０．５μ
ｍ　のＣＧＬ及び厚さ１３μｍのＣＴＬを形成して本発
明の電子写真感光体（試料扁２）を作成した。

実施例３ ポリカーボネート樹脂２ｖとテトラブロム無水フタルｅ
Ｏ，２ｔとを１．２−ジクロルエタン１００ゴに溶解さ
せた溶液に、４．１０−ジブロムアントアントロン４２
を加えて超音波分散を行ない、この分散液を実施例１と
同じ中間層を有する導電性支持体上に塗布し、厚さ１μ
ｍのＣＧＬを形成した０ 一方、次の方法によｊＯｃＴＬ形成用塗布液を調製シた
。ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール５ｔをモノクロルベン
ゼン５０−に溶解した。　次に、ピラゾリン化合物（Ａ
−１９）６ｆとビクリルクロライド０．０２Ｆ　とポリ
カーボネート樹脂３．５２とを１．２−ジクロルエタン
４０−に溶解し、得られた溶液を前記モノクロルベンゼ
ン溶液に加えて充分混合し、調製を完了した。

得られた溶液を前記ＣＧＬ上にドクターブレードを用い
て塗布し、８０°Ｃで１時間乾燥させて、厚さ１３μｍ
のＣＴＬを形成し、以って本発明の電子写真感光体（試
料燕３）を作成した。

実施例４ 実施例２における多環キノン系色素の代わシにペリレン
系色素であるＮ、Ｎ−ジメチルペリレン−３，４，９，
１０−テトラカルボン酸ジイミド（パリオゲンマルーン
３９２０　Ｃ−Ｉ−Ａ７１１３０　）を用いた他は実施
例２と同様にして、厚さ約０．５μｍのＣＧＬ及び厚さ
１３μｍのＣＴＬを形成して本発明の電子写真感光体（
試料Ａ４）を作成した。

実施例５ アルミニウムを蒸着した厚さ１００μｍ　のポリエチレ
ンテレフタレートよ９成る導電性支持体上に、２〜３　
Ｘ　１０”−５Ｔｏｒｒの真空雰囲気中に−Ｃ蒸発源温
度３００℃で１分間セレンを蒸着し、厚さ１μｍの無定
形セレンよ９成るキャリア発生層を形成した。　次に、
高分子有機半導体としてＰＶＫ（Ｂ−６）に代えて（Ｂ
−１０）を用いた他は実施例２で用いたのと同じＣＴＬ
形成溶液を塗布し７．４０℃で冴時間真空乾燥させて厚
さ１３μｍのＣＴＬを形成し、本発明の電子写真感光体
（試料扁５）を作成した。

比較例１ ピラゾリン化合物（Ａ−２）１！Ｍとポリカーボネート
樹脂１５りとを１，２−ジクロルエタン１００−に溶解
し高分子有機半導体を含まないＣＴＬ形成溶液を作成し
た。　この溶液を実施例１と同じＣＧＬ上に塗布し、厚
さ１２μｍのＣＴＬを形成し、以って比較用の電子写真
感光体（比較試料点ｌ）を作成した。

比較例２ ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール１０２をモノクロルベン
ゼン１００ｍ７！に溶解させた溶液と、ポリカーボネー
ト樹脂１．５１を１，２−ジクロルエタン１゜−に溶解
させた溶液を混合して前記一般式で示されるピラゾリン
化合物を含まないＣＴＬ形成溶液を作成した。　この溶
液を実施例１と同じＣＧＬ上に塗布し、厚さ１３μｍの
ＣＴＬを形成し、比較用の電子写真感光体（比較試料扁
２）を作成した。

比較例３ 比較例１に於けるＣＴＬ形成溶液の調整に際し、更に２
　、４　、７−）　！Ｊニトロー９−フルオレノン０．
３２を加えた他は比較例１と同様にして、厚さ１２μｍ
のＣＴＬを形成し、比較用の電子写真感光体（比較試料
扁３）を作成した。

比較例４ 高分子有機半導体として次の構造式で表わされる化合物
を用いた他は実施例２と同様にして、厚さ１３μｍのＣ
ＴＬを形成し、比較用の電子写真感光体（比較試料点４
）を作成した。

以上の実施例及び比較例で得られた、試料屋１〜屋５及
び比較試料Ａ１−應４をエレクトロメータ５Ｐ−４２８
型　（■川口電機製作所製）に装着し、帯電器の放電極
に対する印加電圧を一６ＫＶとして５秒間帯電操作を行
ない、この帯電操作直後に於ける感光層表面の表面電位
をＶｏ１表面電位を−５００（Ｖ）から−５０（Ｖ）ま
で減衰せしめるのに必要な露光量をＥ’：：　（ｔｘ−
ｓｅｃ）及び３０　（ｔｘ　、ｓｅｃ　）露光後の残留
電位をＶＲ（Ｖ）とし、これらを測定した。

次に、紫外光に対する安定性を調べる為に、各試料に超
高圧水銀灯ｒ　５ＨＬ−１００ＵＶＪ（東芝■製）を用
い、光源−試料間距離５ｍで６０秒間紫外光を照射し、
その後再び上述と同様の測定を行なった。

結果は下記表に示す通シである。

上記表中、下段０内は紫外光照射後の特性を示す。

この結果から明らかなように、本発明の感光体は、光感
度が良好で、しかも紫外光に対し著しく優れた安定性を
示すことが分る。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図、第
２図、第３図、第４図、第５図は電子写真感光体の５例
の各断面図 である。 なお、図面に示された符号において、 １−−−−−一基板 ２−−−−−−キャリア発生層（ＣＧＬ　）３、−−−
−−−キャリア輸送層（ＣＴＬ）４−−−−−−一感光
層 である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　キャリア発生相とキャリア輸送相とからなる感光
   層を有する感光体において、下記一般式（Ａ）で表わさ
   れるピラゾリン化合物と、側鎖に縮合芳香環又は複素環
   を有する高分子有機半導体とが前記キャリア輸送相に含
   有されていることを特徴とする感光体。 一般式〔Ａ〕： 〔但、この一般式中、 ｔ：０又は１、 Ｈ１、Ｒ２およびＲ３：置換若しくは未置換のアリール
   基、 ＲおよびＲ、水素原子、炭素原子数 １〜４のアルキル基、 又は置換若しくは装置 換のアリール基若しく はアラルキル基（但、 Ｒ４およびＲ５は共に水素 原子でおることはなく、 ｔが００ときはＲ４は水 素原子ではない。）〕