JPS60143352A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １、産業上の利用分野 本発明は、キャリア発生相とキャリア輸送層とからなる
感光層を有する感光体、例えば電子写真感光体に関する
ものである。

２、従来技術 従来から知られている電子写真感光体によれば、可視光
を吸収して荷電キャリア（以下、単に「キャリア」とい
う。）を発生ずるキャリア発生物質（以下、ｒｃＧＭＪ
ということがある。）を含有して成るキャリア発生層（
以下、ｒｃＧＬＪということがある。）と、このＣＧＬ
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送物質（以下、ｒｃＴＭＪと
いうことがある。）を含有して成るキャリア輸送層（以
下、ｒｃＴＬｊということがある。）とを組合せること
により感光層を構成せしめている。このように、キャリ
アの発生と、その輸送という必要な２つの基礎的機能を
、感光層を構成する別個の層に夫々分担せしめることに
より、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が広範と
なる上、各機能を最適に果す物質または物質系を独立に
選定することが可能となる。又、これにより、電子写真
プロセスにおいて要求される緒特性、例えば帯電せしめ
たときの表面電位が高く、電荷保持能が大きく、光感度
が高（、しかも反復使用における安定性が大きい等の優
れた特性を有する電子写真感光体を得ることが可能とな
る。

上記のような感光層を構成するＣＴＭの種類としては、
例えばヒドラゾン化合物（特願昭５７−１７７６５号、
及び特願昭５７−４９３９４号）が提案されている。

これらのヒドラゾン化合物は種々の長所ををしているが
、なお改善されるべき問題を含んでいることが分った。

即ち、上記のヒドラゾン化合物を単独でＣＴＭとして使
用する場合、放電曲線の裾切れが不充分であり、低電界
領域での感度が低くなり易いことに加え、紫外光に対す
る安定性が不足し、紫外光照射によって感度が低下し易
いので、複写機のメンテナンス時に螢光灯や日光の下で
はそれらの紫外光成分によって感光体が劣化し易いこと
である。

３、発明の目的 本発明の目的は、感光体の感度と紫外光安定性を向上さ
せることにある。

４、発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、キャリア発生相とキャリア輸送層とか
らなる感光層を有する感光体において、下記一般式ＣＡ
）及び一般式ＣＢ）で表わされるヒドラゾン化合物の少
なくとも一方と、側鎖に縮合芳香環又は複素環を有する
高分子有機半導体とが前記キャリア輸送層に含有されて
いることを特徴とする感光体に係るものである。

一般式〔Ａ〕　： 〔但、この一般式中、 Ｒ１、置換若しくは未置換のア リール基または置換若し くは未置換の複素環基、 ぴ：水素原子、置換若しくは 未置換のアルキル基、ま たは置換若しくは未置換 のアリール基、 Ｘ：水素原子、ハロゲン原子、 アルキル基、置換アミン 基、アルコキシ基または シアノ基、 ｐ：Ｏまたは１の整数を表わ す。〕 一般式〔Ｂ〕　： 〔但、この一般式中、Ｒ１、プ、ｘ、ｐは前記したもの
と同じである。〕 ここで、上記の「相」とはいわゆる層をなしている場合
の他、各構成物質が互いに接し合・うフェイズをなして
いる場合も包含する。

本発明によれば、ＣＴＭとして、上記のヒドラゾン化合
物と共に上記高分子有機半導体を使用しているので、こ
の高分子有機半導体が紫外光吸収によって光キャリアを
生成する性質を有していて、光増感に効果的に寄与する
。このため、放電曲線の裾切れが良くなり、特に低電界
領域での感度が向上する。この結果、導電性又は絶縁性
−成分現像プロセスにおいて、現像段階でバイアス電圧
を印加しなくてもカブリのない良好なコピー画像を得る
ことができる。−成分現像プロセスにおいてバイアス電
圧を印加すると、いわゆるフリンジ現象によって画像端
部の鮮明度が低下し、滲みを生しるが、本発明によれば
そうした問題はなくなる。

また、上記高分子有機半導体は紫外光領域の吸光度が高
くて大部分の紫外光を吸収し、紫外光に対して一種のフ
ィルター効果を有するので、上記ヒドラゾン化合物の劣
化を防止する作用があり、ＣＴＬの紫外光安定性を向上
させることができる。

なお、本発明において、後述の電子受容性物質又はルイ
ス酸をＣＴＬ及びＣＧＬの少なくとも一方に添加すれば
、電荷移動錯体を形成するため、増感効果をより向上さ
せることができる。

５、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。

まず、本発明においζＣＴＭとして使用する上記一般式
ＣＡ）のヒドラゾン化合物を例示すると、例えば次の構
造式を有するものを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。

（Ａ−１） （Ａ−２） （Ａ−３） （Ａ−４） （Ａ−５） Ｃ４Ｈ暫 （Ａ−６） （Ａ−７） （Ａ−８） （Ａ−９） （Ａ−１０） （Ａ−１１） （Ａ−１２） ＣＨン （Ａ−１３） （Ａ−１４） Ｃβ （Ａ−１５） （Ａ−１６） （Ａ−１７） （Ａ−１８） （Ａ−１９） （Ａ−２０） ＣＡ−２１） （Ａ−２２） （Ａ−２３） （Ａ−２４） ＣＨ。

（１−２５） （Ａ−２６） （Ａ−２７） ＣＨプ （Ａ−３３） （Ａ−３４） （Ａ　３５） Ｎ （Ａ−３７） （Ａ−３８） （Ａ−３９） （Ａ−４０） （Ａ−４１） （Ａ−４２） ２Ｈｋ また、上記一般式ＣＢ）のヒドラゾン化合物の具体例は
次の構造式で示されるものが挙げられるが、これらに限
定されるものではない。

（Ｂ−１） （Ｂ−２） し２１１ツ （Ｂ−３） （Ｂ−’４） （Ｂ−５） （１３−６） （Ｂ−７） ＣＨ３ （Ｂ−８） （Ｂ−１６） （Ｂ−１７） （８７１８） （Ｂ−１９） （Ｂ−２０） し唱５ （Ｂ−２１） （Ｂ−２２） （Ｂ−２３） （Ｂ−２４） （Ｂ−２５） （１ ＣＨ３ （Ｂ−２７） （Ｂ−２８） （Ｂ−２９） Ｃ２Ｈジ （Ｂ−３０） （Ｂ−３１） （Ｂ−３２） （Ｂ−３３） （Ｂ−３４） ＣＨ３ ：Ｂ−３５） Ｂ−３６） １３−３７） ＣＨ。

（Ｂ−３８） （Ｂ　−３９） Ｈ５ ＣＢ−４１） ＣＢ　−４２） （Ｂ−４３） （Ｂ　−４４） （Ｂ−４５） （Ｂ−４６） また、本発明においてＣＴＭとして、上記のアミン誘導
体と併用して使用する上記高分子有機半導体としては、
例えば次に例示するものを挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。

（Ｃ−１） （＋、−２） （Ｃ−３） （（、−４） （Ｃ−５） −（−ＣＨ−ＣＨ２＋Ｌ 嘔 （Ｃ−６） 一＋ＣＨ−ＣＨ２鈷 （Ｃ−７） 一＋ＣＨ−ＣＨ＾ （Ｃ−８） 一＋ＣＨ−ＣＨ入 ＣＨ２ （Ｃ−９） −ＧＣＨ−ＣＨ＾ ＣＨ２ Ｃ１（２ （Ｃ−１０） −（−ＣＨ−ＣＨ２＋？１ （Ｃ−１１＞　（ （Ｃ−４２） ＋ＣＨ−ＣＨ２轍 （Ｃ−１３） べＣＨ−ＣＨ，％ 瑠 Ｃ＝０ ＞１４） （ｃ−ｍ （Ｃ−１８） （Ｃ−１９） （Ｃ−２０） 本発明のＣＴＬに用いられる高分子有機半導体のウジポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール又はその誘導体が効果が大
であり、好ましく用いられる。かかるポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール誘導体とは、その繰り返し単位における全
部又は一部のカルバゾール環が種々の置換基、例えばア
ルキル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子によって置換されたものである。

また、本発明において、ＣＧＭとして可視光を吸収して
フリーキャリアを発生するものであれば、無機顔料及び
有機色素の何れをも用いることができる。無定形セレン
、三方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル
合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン
化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料
の他、次の代表例で示されるような有機色素を用いても
よい。

＋１１　モノアゾ色素、ポリアゾ色素、金属錯塩アゾ色
素、ピラゾロンアゾ色素、スチルヘンアゾ色素及びチア
ゾールアゾ色素等のアゾ系色素（２）　ペリレン酸無水
物及びペリレン酸イミド等のペリレン系色素 （３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系乃至多環キノン系色素 （４）　インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンジゴイド系色素 （５）金属のフタロシアニン及び無金属フタロシアニン
等のフタロシアニン系色素 （６）　ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色
素、キサンチン色素及びアクリジン色素等のカルボニウ
ム系色素 （７）　アジン色素、オキサジン色素及びチアジン色素
等のキノンイミン系色素 （８）　シアニン色素及びアゾメチン色素等のメチン系
色素 （９）　キノリン系色素 Ｃ０）　ニトロ系色素 Ｃ１１）ニトロソ系色素 （１２）ベンゾキノン及びナフトキノン系色素（１３）
ナフタルイミド系色素 （１４）ビスヘンズイミダゾール誘導体等のペリノン系
色素 （１５）キナクリドン系色素 次に、図面によって本発明を具体的に説明する。

本発明の感光体は例えば第１図に示すように構成される
。即ち、導電性支持体１上に既述したＣＧＭを主成分と
して含有するＣＣｌ２を形成せしめ、このキャリア発生
層２上に前述のヒドラゾン化合物及び高分子有機半導体
を主成分として含をするＣＴＬ３を積層し、ＣＣｌ２と
ＣＴＬ３とで感光層４を構成する。

ここで、導電性支持体ｌの材質としては、例えばアルミ
ニウム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジ
ウム、錫、白金、金、ステンレス鋼、真鍮等の金属のシ
ートを用いることができるが、これらに限定されるもの
ではなく、例えば第２図に示すように絶縁性基体ＩＡ上
に導電層ＩＢを設けて導電性支持体ｌを構成せしめるこ
ともできる。この場合において、基体ｌＡとしては紙、
プラスチックシート等の可撓性ををし、しかも曲げ、引
張り等の応力に対しても十分な強度を有するものが適当
である。又、導電層ＩＢは、金属シートをラミネートし
或いは金属を真空蒸着せしめることにより、又はその他
の方法によって設けることができる。

ＣＧＬ２は、上述のＣ０Ｍ単独により、又はこれに適当
なバインダー樹脂を加えたものにより、或いは更に特定
乃至非特定の極性のキャリアに対する移動度の大きい物
質（即ちキャリア輸送物質）を添加したものにより形成
することができる。

具体的な形成法としては、前記支持体上にＣＧＭを真空
蒸着せしめる方法、ＣＧＭを適当な溶剤に単独で若しく
は適当なバインダー樹脂と共に溶解若しくは分散せしめ
たものを塗布して乾燥せしめる方法を挙げることができ
る。

この後者の方法においては、バインダー樹脂若しくはキ
ャリア輸送物質を添加してもよく、その場合における、
キャリア発生物質：バインダー樹脂：キャリア輸送物質
の割合は、重量比でｌ：　（θ〜１００）：（０〜５０
０）、特に１：　（０＾１０）：（０〜５０）であるこ
とが好ましい。

上記方法で使用する溶媒或いは分散媒としては、例えば
ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン
、イソプロパツールアミン、モノエアセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキザノン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、１．２−ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチル、
酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、その他を用いるこ
とができる。

また、バインダー樹脂としては、例えばポリエチル、ポ
リプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミ
ン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹
脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以
上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル
共ｆｆｉ　合体４１　ＢＶＩ、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポ
ＩＪ　Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体を
挙げることができる。そして、このバインダー樹脂のＣ
ＧＭに対する割合は、０〜１００重量％、特に０〜１０
重量％の範囲である。

前記ＣＧＬ２には、必要に応じて適宜のＣＴＭを添加し
てもよい。

更に、このＣＧＬには感度の向上、残留電位乃至反復使
用時の疲労低減等を目的として、一種又はｌ二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、
４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロノリソ１〜酸、無水
メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼ
ン、１．３．５’−トリニトロンベンゼン、バラニトロ
ベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイ
ミド、クロラニル、ブルマニル、ジクロロジシアノバラ
ヘンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、２．７−シニトロフルオレノン、２，４．７−１−
リニトロフルオレノン、２．４，５．７−テトラニトロ
フルオレノン、９−フルオレニリデン〔ジシアノメチレ
ンマロノジニトリル〕、ポリニトロ−９−フニオレニリ
デンー〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ピクリ
ン酸、０−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３．
５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−
ニトロサリチル酸、３．５−ジニトロサリチル酸、フタ
ル酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物
を挙げることができる。また、電子受容性物質の添加割
合は、重量比でＣ０Ｍ二電子受容性物資−１００：ｏ、
ｏｉ〜２００、好ましくは１００　：０．１〜１００で
ある。

以上のようにして形成される前記ＣＧＬ２の厚さは、好
ましくは０．００５〜２０μｍ、特に好ましくは０．０
５〜５μｍである。０．００５μｍ未満では充分な光感
度が得られず、また２０μｍを越えると充分な電荷保持
性が得られない。

また、前記ＣＴＬ３は、既述の化合物を、上記のＣＧＬ
２と同様にして（即ち、単独で或いは上述のバインダー
樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して）
形成することができる。そして、他のＣＴＭを含有せし
めてもよい。

この場合、バインダー樹脂と全ＣＴＭとの配合割合は、
バインダー樹脂１００重量部当り全ＣＴＭを１０〜５０
０重量部とするのが好ましく、ノ＼ベングー＋ｂ１脂と
してポリカーホネ−１−を用いる場合はその１００重量
部当り２０〜２００重量部の全ＣＴＭを用いると、優れ
た電子写真特性が得られるので好ましい。

更に、このＣＴＬには感度の向上、残留電位乃至反復使
用時の疲労を更に低減する目的で前述した電子受容性物
質を添加することもできる。この電子受容性物質をＣＧ
Ｌ及びＣＴＭの両層に加える場合、各層に加える電子受
容性物質は全く同一あるいは一部同一であってもよく、
場合によっては全く別であってもかまわない。なお、電
子受容性物質は、ＣＧＬ、ＣＴＬのいずれか一方に添加
してもよい。

ＣＴＬへの電子受容性物質の添加割合は重量比で全ｃ、
’ｒＭ：電子受容性物質−１００：ｏ、ｏｔ〜１００、
好ましくは１００　：ｏ、ｔ〜５０である。

このようにして形成されるＣＴＬ３の厚さは２構成例に
従って説明したが、本発明においては、ＣＧＬと組み合
わせられるＣＴＬとして既述の構成成分を含有せしめれ
ばそれで充分であり、電子写真感光体として機械的構成
は任意に選定できる。

例えば、第３図に示すように、導電性支持体１上に適当
な中間層５を設け、これを介してＣＧＬ２を形成し、そ
の上にＣＴＬ３を形成してもよい。

この中間層５には、感光層４の帯電時において導電性支
持体１から感光層４にフリーキャリアが注入されること
を阻止する機能、並びに感光層４を導電性支持体に対し
て一体的に接着せめる接着層としての機能を有せしめる
ことができる。かかる中間層５の材質としては、酸化ア
ルミニウム、酸化インジウム等の金属酸化物、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体（ｉ（脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイ酸共重合体樹脂等の高分子物質を用いること
ができる。

又、第４図に示すように、導電性支持体１上に、前記中
間層５を介して又は介さずに、ＣＴＬ３を形成してその
上にＣＧＬ２を形成して感光層４を構成せしめてもよい
。

また、第５図は、上記のＣＧＭを上記ＣＴＭが含有され
たキャリア輸゛送相中に分散せしめてなる（即ち、キャ
リア発生物質相とキャリア輸送物質相との混合層からな
る）単層の感光層４を形成した例を示す。

以下、本発明を具体的な実施例について更に詳細に説明
する。

実胤拠上 アルミニウムを蒸着した厚さ１００　μｍのポリエチレ
ンテレフタレートより成る導電性支持体上に、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体「エスレソク
ＭＦ−１０Ｊ　（漬水化学工業９！＋　！　＞より成る
厚さ約０．１　μｍの中間層を設け、２〜３（ Ｘ１０Ｔｏｒｒの真空雰囲気中にて蒸発源温度３５０　
”Ｃで３分間、多環牛ノン系色素である４、１０−ジブ
ロムアントアントロン（モノライトレッド２ＹＣ，Ｉ　
、　ｍ５９３００　）を前記中間層上に蒸着して厚さ約
０．５μｍのＣＧＬを形成した。

一方、次の手順によりＣＴＬ形成用塗布液を調製した。

高分子有機半導体として下記表−１に示されるものを夫
々５ｇ用い、これらをモノクロルヘンゼン５０ｍＡに溶
解した。次に、下記表−１に示した各ヒドラゾン化合物
６ｇとポリカーボネート樹脂「パンライトＬ−ｆ２５０
Ｊ　（量大化成社！！り３．５ｇとを１，２−ジクロロ
エタン４０ｍβに溶解し、得られた溶液を前記モノクロ
ルベンゼン溶液に加えて充分混合し、調製を完了した。

得られた各溶液を前記ＣＧＬ上にドクターブレードを用
いて塗布し、８０℃で１時間乾燥させて、厚さ１３μｍ
のＣＴＬを形成し、以って本発明の電子写真感光体（試
料黒１〜１ｌｋｉ５）を作成した。

ル較拠土 ＣＴＭとして下記表−１に示したものを夫々用い、実施
例１と同様にして比較用の電子写真感光体（比較試料隘
１〜４）を作成した。

表−１ 実施例１において次の手順によりＣＴＬ形成用塗布液を
調製した。高分子有機半導体として下記表−２に示され
るものを夫々５ｇ用い、これらをモノクロルヘンゼン５
０ｍｊ＋に溶解した。次に、下記表−２に示した各ヒド
ラゾン化合物６ｇとポリカーボネート樹脂「パンライト
Ｌ−１２５０Ｊ　（音大化成社製）３．５ｇとを１．２
−ジクロルエタン４０ｍ１４に溶解し、得られた溶液を
前記モノクロルベンゼン溶液に加えて充分混合し、調製
を完了した。

得られた各溶液を前記ＣＧＬ上にドクターブレードを用
いて塗布し、８０°Ｃで１時間乾燥させて、厚さ１３μ
ｍのＣＴＬを形成し、以って本発明の電子写真感光体（
試料隘６〜１０）を作成した。

比較Ｉ ＣＴＭとして、下記表−２に示したものを夫々用い、実
施例２と同様にして比較用の電子写真感光体（比較試料
隘５〜８）を作成した。

表−２ 以上の実施例及び比較例で得られた、試料ｍｌ〜Ｉｌ＆
ｌｌＯ及び比較試料隘１〜階８をエレクトロメータ５Ｐ
−４２８型（０１川日電機製作所製）に装着し、帯電器
の放電極に対する印加電圧を一６ＫＶとして５秒間帯電
操作を行ない、この帯電操作直後に於ける感光層表面の
表面電位Ｖｏ、表面電位を−５００（Ｖ）から−５０（
Ｖ）まで減衰せしめるのに必要な露光量をＥ’；’６　
（Ｒｘ　−５ｅｃ　）及び３０　（ｊ！ｘ　・ｓｅｃ　
）露光後の残留電位を■Ｐ、（■）とし、これらを測定
した。

次に、紫外光に対する安定性を調べる為に、各試料に超
高圧水銀灯ｒＳＨＬ−１００ＵＶＪ　（東芝＠１！！り
を用い、光源−試料間距離５ＣＪで６０秒間紫外光を照
射し、その後再び上述と同様の測定を行なった。結果は
下記表−３に示す通りである。

（以下、余白次頁へつづ（） 表−３ この結果から明らかなように、本発明の感光体は、光感
度が良好で、しかも紫外光に対し著しく優れた安定性を
示すことが分る。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図、第
２図、第３図、第４図、第５図は電子写真感光体の５例
の各断面図 である。 なお、図面に示された符号において、 １−一−−基体 ２−・−キャリア発生ＪＷ　（ＣＧＬ）３−−−−−キ
ャリア輸送層（ＣＴＬ）４−一感光層 である。 代理人　弁理士　逢　坂　宏（化１名）第４図 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、キャリア発生相とキャリア輸送相とからなる感光層
   を有する感光体において、下記一般式（Ａ）及び一般式
   ＣＢ）で表わされるヒドラゾン化合物の少なくとも一方
   と、側鎖に縮合芳香環又は複素環ををする高分子有機半
   導体とが前記キャリア輸送相に含有されていることを特
   徴とする感光体。 一般式〔Ａ〕　： 〔但、この一般式中、 Ｒ１、置換若しくは未置換の了 り−ル基または置換若し くは未置換の複素環基、 だ：水素原子、置換若しくは 未置換のアルキル基、ま たは置換若しくは未置換 のアリール基、 Ｘ：水素原子、ハロゲン原子、 アルキル基、置換アミン 基、アルコキシ基または シアノ基、 ｐ：０または１の整数を表わ す。〕 一般式〔Ｂ〕　： 〔但、この一般式中、Ｒ１、♂、Ｘ、ｐは前記したもの
   と同じである。〕