JPS60150657A - レジンモ−ルド半導体装置 - Google Patents
レジンモ−ルド半導体装置Info
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- JPS60150657A JPS60150657A JP59005570A JP557084A JPS60150657A JP S60150657 A JPS60150657 A JP S60150657A JP 59005570 A JP59005570 A JP 59005570A JP 557084 A JP557084 A JP 557084A JP S60150657 A JPS60150657 A JP S60150657A
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- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/59—Bond pads specially adapted therefor
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- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/951—Materials of bond pads
- H10W72/952—Materials of bond pads comprising metals or metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
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- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体素子をレジンで覆ってなる半導体装置に
関する。
関する。
従来レジンモールド半導体装置は半導体素子領域を有す
る半導体基体上にアルミニウム電極を形成後、基体全体
を外気や湿気から保護するためエポキシ樹脂々どのレジ
ンによりモールドすることが行われている。第1図は従
来公知のレジンモールド半導体装置の一例の断面を示す
。
る半導体基体上にアルミニウム電極を形成後、基体全体
を外気や湿気から保護するためエポキシ樹脂々どのレジ
ンによりモールドすることが行われている。第1図は従
来公知のレジンモールド半導体装置の一例の断面を示す
。
同図において1は半導体基体、2はアルミニウム電極、
3はリードフレーム、4は金線、5はレジンである。
3はリードフレーム、4は金線、5はレジンである。
この様な構成のレジンモールド半導体装置においては、
レジン5が本質的に透湿、吸湿性を有すること、異種材
料の組合せのため、熱的、機械的ストレスにより異種材
料間の界面剥離が生じ易く、その界面より水分が侵入す
る危険性を有すること等の欠点がある。このため侵入し
た水分により、アルミニウム電極2が腐食し、断線不良
が発生し易い。
レジン5が本質的に透湿、吸湿性を有すること、異種材
料の組合せのため、熱的、機械的ストレスにより異種材
料間の界面剥離が生じ易く、その界面より水分が侵入す
る危険性を有すること等の欠点がある。このため侵入し
た水分により、アルミニウム電極2が腐食し、断線不良
が発生し易い。
この様なレジンモールド半導体装置の欠点を解決する方
法として、アルミニウム電極2の上に保護膜を形成する
手段が一般に用いられている。この保護膜は例えばプラ
ズマCVD(ChemicalVaper Depos
ition ) テ成長さセタシリコン窒化膜であり、
透湿率が極めて小さいため、下地のアルミニウム電極の
腐食防止に有効である。しかし、第2図に示す様に金線
4をアルミニウム電極2にボンディングする部分は上記
保護膜6をエツチングによシ除去するため、アルミニウ
ム電極2の一部が露出し、侵入水分により腐食する危険
性を有する。特に近年半導体基体1が大形化するのに対
し、レジンモールド半導体装置全体の外形は変らないた
めに、第1図において、レジン5とリードフレーム3、
金線4との界面を水分が侵入する際の侵入経路が短くな
ってお□す、上記アルミニウム電極の金線ボンディング
部分の腐食は従来のレジンモールド半導体装置の最大の
欠点となっている。
法として、アルミニウム電極2の上に保護膜を形成する
手段が一般に用いられている。この保護膜は例えばプラ
ズマCVD(ChemicalVaper Depos
ition ) テ成長さセタシリコン窒化膜であり、
透湿率が極めて小さいため、下地のアルミニウム電極の
腐食防止に有効である。しかし、第2図に示す様に金線
4をアルミニウム電極2にボンディングする部分は上記
保護膜6をエツチングによシ除去するため、アルミニウ
ム電極2の一部が露出し、侵入水分により腐食する危険
性を有する。特に近年半導体基体1が大形化するのに対
し、レジンモールド半導体装置全体の外形は変らないた
めに、第1図において、レジン5とリードフレーム3、
金線4との界面を水分が侵入する際の侵入経路が短くな
ってお□す、上記アルミニウム電極の金線ボンディング
部分の腐食は従来のレジンモールド半導体装置の最大の
欠点となっている。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を3なくシ、
レジンモールド半導体装置の耐湿信頼性を改善する方法
を提供するにある。
レジンモールド半導体装置の耐湿信頼性を改善する方法
を提供するにある。
〔発明の概要〕
上記従来技術の欠点をなくシ、上記目的を達成するため
に、本発明は水分侵入の重要な経路であるレジンと金線
との界面に着目し、金線の表面にアルミニウムを被覆し
た細線を用いることによシ、水分侵入途中で水分中にア
ルミニウムイオンが飽和量含まれる様にして、上記アル
ミニウム電極に到達した水分のアルミニウム腐食を無く
するようにしたものである。
に、本発明は水分侵入の重要な経路であるレジンと金線
との界面に着目し、金線の表面にアルミニウムを被覆し
た細線を用いることによシ、水分侵入途中で水分中にア
ルミニウムイオンが飽和量含まれる様にして、上記アル
ミニウム電極に到達した水分のアルミニウム腐食を無く
するようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第3図により説明する。
半導体基体1上には従来技術を用いてアルミニウム電極
2、シリコン窒化膜6を施し、ボンディング部分のシリ
コン窒化膜を除去する。かかる半導体素子を第1図の如
くリードフレーム3上に固着した後、金線40表面にア
ルミニウム7を蒸着した細線をボンディングする。その
後レジンでモールドする。
2、シリコン窒化膜6を施し、ボンディング部分のシリ
コン窒化膜を除去する。かかる半導体素子を第1図の如
くリードフレーム3上に固着した後、金線40表面にア
ルミニウム7を蒸着した細線をボンディングする。その
後レジンでモールドする。
本実施例に示した構成を持つレジンモールド半導体装置
においては、外部よりレジンとIJ−ドフレームとの界
面に侵入した水分がレジンとアルミニウム7を被覆した
金線との界面に到達すると、アルミニウム7が溶解し、
水分はアルミニウムイオンを飽和量含むようになる。従
ってさらに水分がアルミニウム電極2に到達するときは
十分な飽和状態となっているためにアルミニウム電極の
腐食は生じない。
においては、外部よりレジンとIJ−ドフレームとの界
面に侵入した水分がレジンとアルミニウム7を被覆した
金線との界面に到達すると、アルミニウム7が溶解し、
水分はアルミニウムイオンを飽和量含むようになる。従
ってさらに水分がアルミニウム電極2に到達するときは
十分な飽和状態となっているためにアルミニウム電極の
腐食は生じない。
本発明lこよれば、レジンとボンディング細線との界面
よりアルミニウム電極へと侵入する水分中にアルミニー
ラムイオンを飽和量含ませることができるため、アルミ
ニウム電極の腐食を防止し、レジンモールド半導体装置
の耐湿信頼性を向上させることができる。
よりアルミニウム電極へと侵入する水分中にアルミニー
ラムイオンを飽和量含ませることができるため、アルミ
ニウム電極の腐食を防止し、レジンモールド半導体装置
の耐湿信頼性を向上させることができる。
第1図は従来技術によるレジンモールド半導体装置の断
面図、第2図は従来技術による金線ボンディング部の断
面図、第3図は本発明の一実施例の細線ポンディング部
の断面図である。 1・・半導体基体、 2・・・アルミニウム電極、3・
・・リードフレーム、 4 ・IJm、s・・・レジン
、第 1図 躬2層 第」
面図、第2図は従来技術による金線ボンディング部の断
面図、第3図は本発明の一実施例の細線ポンディング部
の断面図である。 1・・半導体基体、 2・・・アルミニウム電極、3・
・・リードフレーム、 4 ・IJm、s・・・レジン
、第 1図 躬2層 第」
Claims (1)
- 1、 アルミニウム電極を有するレジンモールド半導体
装置において、上記アルミニウム電極とリードフレーム
とを電気的に接続するために、金線の表面にMを被覆し
たワイヤを用いることにより、レジンと上記ワイヤとの
界面よシ侵入する水分が、前記アルミニウム電極に到達
するまでにアルミニウムイオンを飽和量含むように構成
したことを特徴とするレジンモールド半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59005570A JPS60150657A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | レジンモ−ルド半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59005570A JPS60150657A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | レジンモ−ルド半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60150657A true JPS60150657A (ja) | 1985-08-08 |
Family
ID=11614870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59005570A Pending JPS60150657A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | レジンモ−ルド半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60150657A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5073210A (en) * | 1989-05-26 | 1991-12-17 | The General Electric Company, P.L.C. | Method of making electrical conductors |
| US5917707A (en) * | 1993-11-16 | 1999-06-29 | Formfactor, Inc. | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
| US6150186A (en) * | 1995-05-26 | 2000-11-21 | Formfactor, Inc. | Method of making a product with improved material properties by moderate heat-treatment of a metal incorporating a dilute additive |
| US6680545B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-01-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Semiconductor devices |
| US6727579B1 (en) | 1994-11-16 | 2004-04-27 | Formfactor, Inc. | Electrical contact structures formed by configuring a flexible wire to have a springable shape and overcoating the wire with at least one layer of a resilient conductive material, methods of mounting the contact structures to electronic components, and applications for employing the contact structures |
-
1984
- 1984-01-18 JP JP59005570A patent/JPS60150657A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5073210A (en) * | 1989-05-26 | 1991-12-17 | The General Electric Company, P.L.C. | Method of making electrical conductors |
| US5917707A (en) * | 1993-11-16 | 1999-06-29 | Formfactor, Inc. | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
| US6727579B1 (en) | 1994-11-16 | 2004-04-27 | Formfactor, Inc. | Electrical contact structures formed by configuring a flexible wire to have a springable shape and overcoating the wire with at least one layer of a resilient conductive material, methods of mounting the contact structures to electronic components, and applications for employing the contact structures |
| US6150186A (en) * | 1995-05-26 | 2000-11-21 | Formfactor, Inc. | Method of making a product with improved material properties by moderate heat-treatment of a metal incorporating a dilute additive |
| US6680545B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-01-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Semiconductor devices |
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