JPS6017741A - 帯電防止写真ベ−ス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は写真分野で特に有効な帯電防止ベース、その製
法、およびそれ？使用した写真要素に関する。

技術背景 一般に、写真要素は写真層を片面または両面に被覆して
有するベースからなる。写真層は例えば感光性ハロケゝ
ン化銀乳剤層、中間層、保護層、・・レーション防止層
、等々である。

詳しく云うと、ベースはポリ−α−オレフィン（例えば
、ポリエチレンやポリスチレン）、セルロースエステル
（例エバ、三酢酸セルｏ　−Ｘ　）、ポリエステル（例
えは、ポリエチレンテレツクレート）、承りカーボネー
トまたはペーパーのような自己支持性の天然または合成
重合体化合物のフィルムからなる。

大抵の写真感光性要素は支持体の片面にのみ被覆された
写真層Ｙ有し、その反対面には写真層が存在しない。カ
ラー複製に迩する写真要素は、例えは、片面に宵感性ハ
ロヶり化銀乳剤ゼラチン層、緑感性ハロゲン化銀乳剤ゼ
ラチン層および赤感性・・ロケゝン化銀乳剤ゼラチン層
を保護層、中間層およびバレージョン防止層と組合わせ
て被覆し・て有するベースからなる。写真像乞得るため
には、一般に、該ハロゲン化銀写真要素χ蕗光し、そし
て現像剤、鋏白および定漕浴中で処理する。写真要素の
刈造および使用中に他の表面との接触によって起る何ら
かの表面摩擦が原因となって静電荷が蓄積する傾向のあ
ることは知られている。感光性層は蓄積静電荷の放電に
よって感光されるので、現（象時に斑点や分枝線マーク
（「スタチック・マーク」と称される）が形成される。

静電荷の蓄積によってもたらされる悪影響？克服するた
めに、写真要素に帯電防止層ン包含せしめることが通常
行われている。

スルホン比重合体のような導電性の水溶性重合体は導電
性によって静電蓄積を阻止することＫよって帯電防止を
行うバッキング層として写真要素中に広く使用されてい
る。これ等帯電防止層がかかえる問題は写真処理浴に耐
えられないことと、写真シートまたはフィルム同志ンま
たはそれ等を他の表（８）とくつつき易くすることであ
る。このような問題は該帯電防止層上に疎水性電合体か
らなる保映層を被覆することによって解決されてきた。

しかし、このような帯電防止２重層構造でも尚、別の欠
点をかかえている。例えば、特に写真要素が処理前に高
温多湿で貯蔵された場合には、写真現像時に「クレータ
−」現象および不透明化が起る。処理後に顕微鏡検査し
たところ、上記の帯電防止２重バッキング層構造からな
る要素の断面は多分バッキング層中への処理液の浸透に
よるのであろうが、元の２重層構造が破壊されたことを
示していた。

発明の概要 本発明によれば、ベース上に被覆された耐久性、耐摩耗
性、非粘着性および写真処理に使用される水性処理浴に
対する耐性を有する改善された帯電防止層が提供され、
該帯電防止層は該ベースの片面上にエポキシ−シラン化
合物の存在下で親水性非拡散性スルホン化厘合体からな
る液状組成物によって形成された第１ノーと、疎水性皮
躾形成性質合体物賀かもなる液状物置によって形成され
た第２層を被覆することによって形成されている。

発明の詳細 従つ−〔、本発明は第１の親水性常電防止層と該第１層
上に被覆された第２の疎水性保ａ層とによって被覆され
ている重合体フィルム支持体からなる写真ベースであっ
て、該第１層がエポキシ−シラン化合ｑｖの存在下で親
水性非拡散性スルホン化重合体からなる液状被覆性組成
物ン該支持体上に被覆することによつＣ形成された、写
真ベースに関ずろ。

特に、本発明は該重合体フィルム支持体がセルロース誘
導体、好ましくは三酢酸セルロースである上記写真ベー
スに関する。さらに特に、本発明は該親水性スルホン化
１台体かポリスチレンスルホン酸、ポリビニルトルエン
スルホン酸、ポリインデンスルホン酸、（ブチルメタク
リレート−ビニルトルエンスルホン酸）共重合体、（フ
チルアクリレート−スチレンスルホン酸）共重合体、ポ
リビニルスルホン酸またはポリビニルベンずルー２．４
−ジスルホン酸であり、そして好ましくはポリスチレン
スルホン酸である上記写真ベースに関する。

さらに特に、本発明は該疎水性皮膜形成性保護層が二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セ
ルロース、酢酸酪酸セルロース、メチルセルロースまた
はエチルセルロースのようナセｖ　ｏ−ス誘導体、好ま
しくは三酢酸セルロースからなる液状組成物を被覆する
ことによって形成された上記写真ベースに関する。

さらに特に、本発明は該疎水性皮膜形成性保護層が合成
重合体または共重合体、好ましくは、スチレン、ビニル
エーテル、ビニルエステル、アクリル酸エステル、ビニ
ルケトン、塩化ビニルおよびアクリロニトリルのような
重合性モノマーの重合体または共重合体を含有する液状
組成物を被覆することによって形成された上記写真ベー
スに関する。

さらに特に、本発明は該エポキシ−シラン化合物が次の
一般式によって表わされる化合物の中から選はれる上記
写真ペースに関する： （式中、 Ｂは炭素原子２０個未満の２価の炭化水素基である（そ
の骨格は炭素原子だけからなるか又は咳２価基の骨格中
に珪素と酸素以外に隣合うペテロ原子が存在しないこと
Ｙ条件に炭素原子の他に窒素、硫黄、珪素および酸素原
子が包含されていてもよい）； Ｒ１は水素、炭素原子１０個未満の脂肪族炭化水素基、
炭素原子１ｏ個未満のアシル基である：ｎはＯまたは１
である：そして ｍは１〜６である。

最も好ましいエポキシ−シラン化合物は式（式中、 Ｒ２およびＲ３は個別に、炭素原子１〜４個のアルキレ
ン基である；そして Ｒ４は水素または炭素原子１〜１０個、最も好ましくは
１〜４個のアルキル基である） Ｙ有するものである。

本発明に有効なエポキシ−シラン化合物は好ましくはｒ
−グリシドキシプロピル−トリメトキシ−シランおヨヒ
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−二チルトリ
メトキシーシランであり、最も好ましくはγ−グリシド
キシグロビルートリメトキシーシランである。

別の面からみると、本発明は重合体フィルム支持体、該
支持体の片面上に被覆された感光性像形成層少なくとも
１層、および該支持体の反対面上の帯′鑞防止層からな
る写真要素であって、該帯電防止層が第１の親水性帯電
防止層および該第１層上に被覆された第２の疎水性保護
層によって形成されており、該第１層が上記のようなエ
ポキシ−シラン化合物の存在下で親水性非拡散性スルホ
ン化重合体からなる敵状被覆性組成物を該支持体上に被
覆することによって形成された、与Ｘ要素に関する。

さらに別の面からみると、本発明は感光性像形成層少な
くとも１層で片面ン被覆されたｌ（合体支持体フィルム
からなる写真要素用の帯電防止層の作製方法であって、 該支持体の反対面上に非拡散性親水性スルホン化患合体
とエポキシ−シラン化合物からなる第１液状組成物を被
覆し、そして被覆された組成物を乾燥して第１帯電防止
層馨形成し、それから疎水性皮膜形成性重合体物質から
なる第２液状組成物乞該第１層上に被覆することからな
り、該第２液状組成物の溶剤が第１帯電防止層の親水性
スルホン化重合体を來質的に溶解できないことを特徴と
する、 耐久性、耐摩耗性、非粘着性、および水性処理浴による
攻撃に対する耐性を有する帯電防止層の作製方法に関す
る。

本発Ｅ１４によって使用されるスルホン化重合体は非拡
散性親水性スルホン化重合体であるべきである。それは
重合体を十分に親水性にするために十分な楓のスルホン
酸基が結合されている重合体鎖（好ましくはポリスチレ
ン鎖）を包含していなけれはならない。実際、重合体の
ｔｉｔｉ：防止特性の効力は重合体の水分保持能に関係
すると考えられ、それは該重合体を本発明の目的に必要
な程度に迄親水性または水分保持可能にするに十分な量
（後で具体的に記述する）で本発明の第１層内に使用さ
れるべきである。好ましくは、実用のためには、スルホ
ン化重合体の少なくとも２０重量％、最も好ましくは６
０重量％がスルホン酸基で構成されるべきである。酸型
合体分子全体に対するスルホン酸基の相対量の通電の上
限は合成によって決まる。合理的な上限は５０重１にチ
であるようである。

スルホン酸基は臨界的であると考えられる。それン例え
ばカルボン酸基で置き換えることはできなかった。

スルホン化重合体は本発明の実施においては非拡散性で
あるべきであると云うことも判明した。

スルホン化厘合体の非拡散性に関与し得るパラメーター
は（スルホン酸基を結合させる前に測定される）電合体
自体の固有粘度である。重合体の固有粘度がｉ％くなる
程、それから誘導されたスルホン化厘合体は拡散し難く
なる。公知のように、重合体浴液の固有粘度は重合体の
分子量に関連している（固有粘度の定義およびその測定
方法についてはＪ　、ＢｒａｎｄｒｕｐとＥ、Ｈ，Ｔｍ
ｍｅｒｇｕｔの共著ポリマーハンドブック、インターサ
イエンス発行、１９６５年、頁ＩＶ　−１ｆｆおよびＦ
　、Ｗ、Ｂｉ　ｌ１ｍｅｙｅｒ著テキストブック・オプ
・ポリマーケミストリー、インターサイエンス発行、１
９５７年、頁１２８ｆｆ参照）。ベンゼン中で３０’Ｃ
に於いて測定したときに、本発明に必要な最小粘度は約
０．４　ａｌ／ｇ（デシリットル／グラム）に等しいと
考えることが合理的であり、より好ましくは肌８〜１．
４゜ｃｌｄｌｉである。

場合によっては、スルホン化重合体からなる帯電防止被
覆性組成物に、１％未満のように非常に低い水に対する
溶解度欠有する樹脂である実質的に疎水性のバインダー
樹脂、例えばセルロースエステル、セルロースエーテル
、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ビニル夏合体お
よびアクリル重合体、を添加することも有効である。三
酢酸セルロースフィルム支持体の場合、良好な組合わせ
は該帯電防止被覆性組成物中にスルホン化重合体と二酢
酸セルロースを分散させるものである。実際、上記の通
り、二酢酸セルロースは「実質的に」疎水性のバインダ
ー樹脂であり、水に対するその低溶解性は二酢酸セルロ
ース樹脂中にはセルロースヒドロキシル基の約１４以下
しか非エステル化形態が残っていないことと関係付ける
ことができ、そして水に対する二酢酸セルロース樹脂の
溶解度は１チ未満である。

この分野で知られているように、スルホン化］ｉ合体か
らなる本発明の第１帯電防止層の液状被覆性組成物はス
ルホン化重合体があまり可溶性でない（例えば１チ未？
４　）第１溶剤とスルホン化重合体が非常に溶解性であ
る（例えば１０チより大きい）！４２溶剤を包含する。

第１１−の特性は成る程度、第１浴剤に対する第２雛剤
の相対量に依存するようである。さらに明確に云うと、
＃ｌ／第１溶剤比が高くなる程、要素の帯電防止層上も
高くなる。（二昨醒セルロースの有無にかかわらず）ポ
リスチレンスルホン酸の場合の良好な活剤混合物は相対
容量比的１：１のアセトンとメタノールで構属さ九たも
のであることが知られている。アセトン／メタノールの
１．５／１より大きい比は乏しい帯電防止特性を有する
非常に透明な支持ベースを与えるのに対し、メタノール
／アセトンの１．Ｖｌより大きい比は非常に良好な帯Ｎ
、特性を示すが透明性を喪失させる。被優性組成物の熱
安定性を教書するために当業者に知られているように付
加的なｉ時沸点有機溶剤例えば酢酸メチルセルロースを
使用してもよい。加えて、第１ｍ剤の存在は三酢酸セル
ロース支持体に対する良好な層付着性ン確保するために
有効であることが知られている（これは支持体に対する
溶剤の攻撃によると考えられる）。

帯電防止層上にその保線として被覆されるべき重合体物
質は皮膜形成性で且つ疎水性であらねばならない。皮膜
形成性重合体物質の具体例はセルロース紡導体（例えば
二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、三プロピオン酸セ
ルロース、メチルセルロースおヨヒエチルセルロース）
、ｘ合性モノマー（例エバスチレン、ビニルエーテル、
ビニルエステル、アクリル酸エステル、ビニルケトン、
塩化ビニルおよびアクリロニトリル）の合成付加重合体
および共重合体、および合成縮合重合体（例えばポリエ
ステルおよびポリウレタン）である。

この事合体物員はフィルムベースの性質および起り得る
技術的必要性に依存して選択される。例えば、三酢酸セ
ルロースフィルムベースの場合、それは二酢酸セルロー
スまたは好ましくは三酢酸セルロースである。ポリエス
テルベースの場合、それはポリエステル樹脂（下引きを
もって、又は下引き無しで）または三酢酸セルロース樹
脂である。

上記重合体物質からなる被覆性組成物の溶剤はスルホン
化嵐合体がその中で可溶性でも膨潤性でもない有機液体
化合物、例えばジオキサン、クロロホルム、塩化メチレ
ン等である。

本発明のエボキシーシジン化合物はエポキシ基と官能性
（または反応性）基即ちシラノール基？包含しており、
そのシラノール基の水素原子は直換されていないか又は
該化合物の通常の反応、即ち、公知のように珪素−酸素
結合の分裂もしくはヒドロキシル基（シラン誘導体の中
に存在するか又はその加水分解によって遊離する：この
ためには、かかる反応７行うことができない、珪素原子
に直接結合したアルキル基Ｙ有するシラン化合物は本発
明に使用できないと云うことに留意せよ）での反応のど
ちらかによって多分行われる該化合物の通常の反応Ｙ　
ＯＪ能にする置換基で置換されている。このようなエポ
キシ基とシラン基は安定で且つ特に非加水分解性の脂肪
族、芳香族、または脂肪族と芳香族の２１１１［ｉのブ
リッジ（または鎖）（それは結合鎖中に窒素、硫黄、珪
素および酸素原子を有していてもよい）を介して互いに
結合されている。一般に、これ等結合鎖は周知のように
置換されていてもよい、何故なら鋼上のこれ等置換基は
該化合物のエポキシ基および官能性シラン基馨介して本
賀的反応乞行う機能に大きな影響を与えないからである
。結合部分に存在していてもよい置換基の例はＮＯ２、
アルキル、アルコキシ、ハロゲン等のような基である。

本発明の実施に有効な好ましいエポキシ−シラン化合物
の例は次の一般式乞有する化合物である＝（頂点を点で
示した六角形の内の符号Ａは芳香核を表わし、Ｓは飽和
核ン表わす）： 式中、 Ｒは炭素原子２０個未満の２価の非加水分解性炭化水素
基（脂肪族、芳香族、または脂肪族と芳香族）であり、
炭素、水素、窒素、硫黄、珪素およびば素原子（これ等
原子だけが２価基の主鎖中に存仕可能である）から構成
され、最後の原子はエーテル結合または５１−０結合の
形態である。ペテロ原子は５１−０結合の珪素と酸素を
除いて２価の炭化水素基の主鎖中で隣合うことはできな
い： ｎは０〜１であろ： Ｂ１は水素、炭素原子１０個未満の脂肪族炭化水素基、
または炭素原子１０個未満のアシル基であろ；そして ｍは１〜６である。

本発明に使用されろ組成物は、Ｒが２価の炭化水素基例
えはメチレン、エチレン、デカンタ、フェニレン、シク
ロヘキシレン、シクロベンチレフ、メチルシクロヘキシ
レン、２−エチルブチレンおよびアレン、エーテル基例
えば−ＣＨ２−ＣＨ２−０−ＣＨ２−ＣＨ２７＋び−Ｃ
Ｈ２−０−（ＣＨ２）３−１またはシロキサン基例えば
−ＣＨ２（ＣＨ３）２Ｓｉ−０−１−（ＣＨ２）２（Ｃ
Ｈ３）２Ｓｌ−０−；−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３（ＣＨ３
）２Ｓｉ−０−であり；Ｒ工が炭素原子１０個未満の脂
肪族炭化水素基例えばメチル、エチル、イソプロピル、
ブチル、ビニル、または炭素原子１０個未満のアシル基
例えはホルミル、アセチル、プロピオニルであってもよ
い上記式のエポキシ−シラ７を用いることができる。

本発明の最も好ましいエポキシ−シラン化合物は次の弐
ン有するものである： （式中、 Ｒ２およびＲ３は個別に、炭素原子１〜４個のアルキレ
フ基である：そして Ｒ４は水素または炭素原子１〜１０個、より好ましくは
１〜４個のアルキル基である。

本発明の目的に有効な好ましいエボキシーシラン化合物
の具体例は次の通りである： １）４さ。□−Ｃｌ−Ｔ２−０−（。□２）３−８ｉ。

。。□３）３１０＼ ３、）　ＣＨ２−ＣＨ−Ｃ１２−ＣＨ２−８ｉ（ＯＣ２
Ｈ５）３１０＼ ４）　ＣＥ（２−ＣＨ−ＣＩ（２−０−（ＣＨ２）３−
８ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３上記のエポキシ−シラン化合物は
既知の方法例えはＷ、Ｎｏ１ｌ著シリコーンの化学と技
術（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｙ　ｏｆ　５ｉｌｉｃｏｎｅｓ　）、アカデミツク出版
（１９６８年）、１１７１〜１７６頁、およびアメリカ
ン・ケミカル・ソサイエテイ第８１巻（１９５９年）第
２６６２に記載された方法に従って合成できる。

本発明による、エポキシ−シラン化合物と親水性スルホ
ン化重合体からなる液状組成物を支持体ベース上に塗布
することによって形成された帯電防止層は水にも写真処
理溶液にも不溶性になったが、エポキシ−シラン化合物
が存在しない場合には容易に可溶であった。

エポキシ−シラン化合物が帯電防止層ン不溶性にするメ
カニズムの解説は確定的なものではないが、シラノール
基（シラン誘導体中に存在するか又はその加水分解によ
って生成される）がヒドロキシル基を介してスルホン化
ｔｅ体と反応し、それから残りのヒドロキシル基を介し
て重合してポリシロキサンになる；または、エポキシ基
がスルホン化重合体と反応し、そしてシラノール基が重
合してポリシロキサンになる；またはエポキシ基かスル
ホン化里合体と反応し、そしてシランがその′１能基に
よって支持体ベース光面に固定される：またはそれ等メ
カニズムの組合わせが作用して層を不俗化すると考える
ことが合理的であろう。

本発明の目的には、エポキシ基とシラン基の両方の存在
は欠くことかでき／よい。ポリグリシジルメククリレー
トのようにエポキシ基のみを有する化合物、またはエポ
キシ基以外の壱機基例えばアミン、メルカプト、ビニル
またはアクリロイル基を４１するシラン化合物は、まさ
に他の架橋剤例えばグルタルアルデヒド、グリオキサー
ル、ジメチロール尿素、レデルシノールアルデヒド、ジ
クロロヒドロキシトリアジン等がそうであるように、（
ｔ）電防＋ｈ　ｉｉｌ’ｌを不溶化しない。

本発明の２重層の帯電防止構造ケ作製する成分の割合は
’ｉｔ）電防止層を設けるべき具体的写真要素またはベ
ースの要求な満足させるように広く変動ｉｉＪ龍である
。一般的に、第１帯蹴防止層の屑水性非拡故性スルホン
化乗合体は支持体ベース１　ｒｎ２当り約０．０５〜０
．５ｇ、好ましくは約０．１〜０，１５Ｊの鷲で使用さ
れ、そしてシラン／スルホン化重合体の重量比は約０．
２５〜約１、好ましくは約０．４〜０．６の範囲にある
。第２保磯層乞形成する疎水性皮膜形成性貞合体物質は
一般に支持体１１ｒＬｉｉ当り約０．０５〜０．５ｇ、
好ましくは約０．１〜０．２ｙの世で使用される。本発
明の帯電防止２重層構造は親水性非拡散性スルホン化重
合体に、エポキシ−シラン化合物に、また疎水性皮膜形
成性電合体物質に加えてその他成分ン含有することも可
能である。例えば、公知のように、各種目的に望ましい
その他添加剤が導入されてもよい：例えば、第１帯電防
止層中に界面活性剤、染料、可塑剤；第２保護層中にマ
ット剤、界面活性剤、滑り剤。

本発明に有効な感光性および／または輻射線感受性層は
画像形成、印刷、医療および情報システムのような分野
における像形成および複製用に周知のものでよい。ハロ
ゲン化銀に加えて、フォトポリマー、ジアゾ、ビゾキュ
ラー像形成組成物、およびその他システムχ使用しても
よい。写真Ｉ・ロダン化銀乳剤はいろいろな含量のもの
であってよく、またネガおよび／またはポジ作業である
。

・・ロダン化銀乳剤の応答性はボラン、アミン、ポリエ
チレンオキシド、デトラアずインデン、ベンゾトリアゾ
ール、ノーロデン化アルカリ、フェニルメルカプトテト
ラゾールおよび金、水銀および硫黄の化合物のような化
学薬品によって増強されたり、安定化されたりしてもよ
い。さらに、写真分野で公知の染料、現像剤改質剤、被
横力重合体、界面活性剤、ラテックス、硬膜剤およびそ
の他添加剤を写真・・ロデン化銀乳剤と共に使用しても
よい。

次の実験作業により、本発明をよりよく説明することが
できる。本発明の各釉層組成物を被覆するために使用し
た技術はドクターローラー法と呼ばれるものであって、
それによるとフィルムベースは＃徨性組成物（溶液形態
）含有槽に直接浸漬されずに、槽に浸漬しているフィー
ドローラーから仮覆性組成物を受け取る。

本発明の支持体ベースは層毎に約６０〜７０℃の温度で
２〜６分間乾燥してから次の被覆性組成物を約３５０　
ｍ／ｈの被覆速度で被覆する。

本発明の支持体ベースまたはそれ馨有する本発明の写真
要素について帯電防止度試験を行った。

この写真要素は片面に帯′電防止層とその保護層ン被覆
して有する本発明の支持体ベースの反対面にゼラチン・
・ロデン化嫁乳剤層、ゼラチン中間層および保護ゼラチ
ン層な被憶して有していた（％に、ハロゲン化銀乳剤層
はカップラー、分光増感剤、硬膜剤、および当業者に公
知の任意のその他の有効な化学助剤、例えばフィルター
染料、界面活性剤、かぶり防止剤、安定剤等と組付わさ
れている）。

具体的試験はカラーネガ用に通常のＣ４１ラインで処理
されたカラーネガフィルムについて行った、支持体ベー
スとカラーネガフィルム（２１°０１２５％団で１５時
間コンディショニングした）は抵抗率ケ測定することに
よって評価された。不透明シミと１クレータ−」は３Ｍ
カラープリント１００　ＡＳＡフィルムの乳剤面と接触
した帯電防止層を裏面に担持している６５關ベース２７
＋１長のサンプル７巻き上げ、そして６０℃、７０％Ｒ
Ｈで３日間コンディショニングすることによって評価さ
れた。人工老化後、サンプル１ｃ４１プロセツシングラ
インで現像し、そして不透明シミとクレータ−Ｖ慣用す
るためにサンプル表面ンレフズで走査した。

下記実施例で引用したポリスチレンスルホン酸はスルホ
ン酸基６５〜４０重−ｊ１％ヶ有し、そして非スルポン
化重合体についてベンぞン中で４０℃で測定した固有粘
度０．８５　ｄｉ／１１　’に有するものであった〔こ
れは、非スルホン化重付体について測定した固有粘度が
０．０４〜１．３１　ａ７ｉ／１／　（ベンゼン中、５
０℃で測定）の範囲にあり、そしてスルホン酸基含有量
が１５重量−から６５〜４０重量−の範囲にあるポリビ
ニルトルエンスルホン酸、ポリインデンスルホン酸、（
ブチルメタクリレート−ビニルトルエンスルホン＠）　
共Ｎ合体、（ブチルアクリレート−スチレンスルホン酸
）共重合体、（エチルへキシルアクリレート−スチレン
スルホン酸）共重合体、ポリビニルスルホン酸およヒポ
リビニルベンずルー２．４−ｙスルホン酸ヲ含めて、試
験されたスルホン北東合体の中で最も優れていた〕。こ
れ等は公知の方法で、スチレン重合体Ｙ１，２−ジクロ
ロエタン中で約−１０℃０４度で、三酸化硫黄１モル当
りジクロロエテルエーテル１〜１．５モル＆　含有スる
ジクロロエチルエーテル−三酸化硫黄錯体と反応させ、
それから一定攪拌下で室温まで温度ン上けることによっ
て合成された（米国特許第２，５３６．２１１号に記載
されている方法と類似の方法で）。

実施例１ 次の配合によって４種類の帯電防止被覆性組成物（ＡＸ
Ｂ、ＣおよびＤ）ン調製した：ＩＡＩＢＩｃＩＤＩ ポリスチレンスルホン酸　（ｇ１５　１５　１５　Ｉ　
５　１７セトン（＋Ｒｔ）　ｌ　５８０１５８０１５８
０１５８０　ｌメタノール　（→　１５２０１５２０１
５２０１５２０　１メチルセロンルプ”　（＋＋＋／）
　ｌ　５０　Ｉ　５０　ｌ　５０１　５０１（上面にゼ
ラチン下引き層が被覆されている）三酢酸セルロース支
持体ベースの共面の異なる筒部にそれぞれ上記被覆性組
成物を２５儒／ｍにのｉｆで被覆した。７０℃で２〜６
分乾燥した後、各帯″電防止層を次の配合の保映層で被
覆した二三酢酸セルロース　Ｕ）　４．５ 塩化メチレｙ　（ｍｔ）　９００ メチルセロソルデ■アセテ−）　（ｒｎｐ、）　１００
７０°Ｃで１０〜１２分間乾燥した後、前記のようにバ
ッキング層の抵抗率を測定し、そして不透明シミと「ク
レータ−」の生成を評価した。

次の表は抵抗率の値並びに不透明と「クレータ−」の評
価な示す。

１　２　１　Ｂ　１７．１０８１　少数　１　少数　１
１　５　１　ＣＩ７．１０８１　無　Ｉ　無　１１４１
　Ｄ　１１．１０’ｌ　無　１　無　１２重層構成の帯
電防止ノーはエポキシ−シラン化会物の存在下で耐久性
、耐摩耗性、非粘着性、水中および写真処理浴中に、不
溶性であり、不透明シミと１クレータ−」ン生成しなか
った。

実施例２ 次の帯′亀防止被覆性組成物から、実施例１のように、
帯電防止バッキング層を有する支持体ベースを作製した
： ＩＥＩＦ＋ ポリスチレンスルホン酸　（、Ｖ）＋　５．５　１　５
．！：）　１ｒ−グリシドキシゾロビルトリメト　（、
＆）１２．５　１　−　１キシシラン γ−（６，４−エボキシシクロヘキ　（ｇ）ｌ　−１２
，５１シル）−エチルトリメトキシシラン ｒ−メルカプトプロピルトリメトキシＵ）ｌ　−１−１
シラン γ−メタクリロキシプロビルトリメトキ　（、！ｉ’）
ｌ　−１−１シシラン ジメチルジェトキシシラン　（！７．）ｌ　−１−１エ
チルトリエトキシシラン　（ｇ）ｌ　−ｌ　−ｌγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン　（，９）ｌ　−ｌ　
−ｌアセトン（ｍ６）１３８０　１　３８０　１メタ／
−ル（７り１５２０　１　５２０　１メチルセロソルブ
■　（ｍ／）１　５０　１　５０　１メチルセロソルブ
■アセテートＣ＋＋＋／）１５０　Ｉ５０　１ＧＩ　Ｈ
Ｉ　ＩＩ　ＬＩ　Ｍ＋ ５．５　１　５．５　１　５．５　１　５．５　１　５
．５　１＝ｌ−１−１−１−１ −１−１−１−１−１ ２，５＋　−１−１−１−１ −１２，５１−１−１−１ −＋−＋２・ｓｌ　−＋　−１ −１−１−１２・５１　−１ −　ｌ　１−１−１２．５１ ３８０　３８０　３８０　３８０　３８０　１１　１　
Ｉ　１ ５２０　５２０　５２０　５２０　５２０　１１　１　
１　１ ５０　１　５０　５０　Ｈ５０１５０１５０（５０１５
０１５０１５０１ 次の表は上記の被覆性組成物によって形成された第１帯
電防止層および実施例１に記載されていると同じ第２保
映層をゼする支持体についての１クレータ−」の存在の
評価Ｙ示す。

１５１Ｅ　ｌ　無　１　無　１ １６１Ｆ　ｌ　無　１　無　１ １７１（］　ｌ　有　１　多数　１ １８１Ｈｌ　有　１　多数　１ １９１１　１　有　１　多数　１ １１０１Ｌ　ｌ　有　１　多数　１ １１１１Ｍ　Ｉ　有　Ｉ　多数　１ 第１帯昨防止層と第２保繰層を有する支持体は本発明に
よるエポキシ−シラン化合物の存在−トでは１クレータ
−」を生せしめることがなかった。

代理人　浅　村　皓 ２５８−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１第１の親水性帯′電防止層によって被覆された厘
   合体支持体フィルムおよび該第１層上に被覆された第２
   の疎水性保護層からなる写真ベースであって、該第１層
   がエポキシ−シラン化合物の存在下で親水性非拡散性ス
   ルホン化重合体からなる液状＋＆俊性組成物を該支持体
   上に被横することによって形成された、写真ベース。 （２）該支持体フィルムが三酢酸セルロースである、特
   許請求の範囲第１項の写真ベース。 （３：　該親水性スルホン化貞合体がポリスチレンスル
   ホン酸である、特許請求の範囲第１項の写真ベース。 （４）該親水性スルホン化止金体がポリビニルトルエン
   スルホン酸、ポリインデンスルホン酸、（プチルメタク
   リレートーヒニルトルエンスルホン酸）共重合体、（ブ
   チルアクリレート−スチレンスルホンＶ）共重合体、（
   エチルへキシルアクリレート−スチレンスルホン酸）共
   重合体、ポリビニルスルホン酸またはポリビニルベンず
   ルー２，４−ジスルホン酸である、特許請求の範囲第１
   項の写真ベース。 （５）　該疎水性皮膜形成性物質層が疎水性皮膜形成性
   重合体物質からなる液状組成物を被覆することによって
   形成された、特許請求の範囲第１項の写真ベース。 （６）該疎水性皮膜形成性物質がセルロース訪導体であ
   る、特許請求の範囲第５項の写真ベース。 ｆ７１　ｐ　＊　／Ｉ／　Ｏ−ス肪導体が二酢酸セルロ
   ース、三酢酸セルロース、酢酸フロピオン酸セルロース
   ｅｉｉｍセルロース、メチルセルロースまたはエチルセ
   ルロースである、特許請求の範囲第６項の写真要素。 （８）該疎水性皮膜形成性重合体物置が合成重合体また
   は共重合体である、特許請求の範囲第５項の写真ベース
   。 （９）該合成重合体または共重合体がスチレン、ビニル
   エーテル、ビニルエステル、ビニルケトン、塩化ビニル
   およびアクリロニトリルから選択された厘合性七ツマ−
   の重合体または共重合体である、特訂ｍｌ求の範囲第８
   項の写真ベース。 ｕｌｌｌ　該エポキシ−シラン化合物が式（式中、 Ｒは炭素原子２０個未満の２価の炭化水素基である： Ｂ□は水素、炭素原子１０個未満の脂肪族炭化水素基、
   炭素原子１０個未満のアシル基である：ｎはＯまたは１
   であろ；そして ｍは１〜６である） のどちらかによつ℃表わされる、特許請求の範囲第１項
   の写真ベース。 ｑリ　該エポキシ−シラン化合物が式 ％式％ （式中、 Ｒ２およびＲ３は個別に、炭素原子１〜４個のアルキレ
   ン基である；そして へは水素または炭素原子１〜１０個のアルキル基である
   ） のどちらかによって表わされる、特許請求の範囲第１項
   の写真ベース。 Ｑ２　該官能性エポキシ−シラン化合物がγ−グリシド
   キシゾロビルトリメトキシ−シランである、特許請求の
   範囲第１項の写真ベース。 （１３該エポキシ−シラン化合物がβ−（３，４−エポ
   キシシクロヘキシル）−エチルトリメトキシ−シランで
   ある、特許請求の範囲第１項の写真ベース。 Ｃ１４）重合体フィルム支持体、該支持体の片面上の感
   光性像形成鳩麦なくとも１層、および該支持体の反対面
   上の＠電防止層からなる写真要素であって、該帯電防止
   層か第１の親水性帯′成防止層と該第１層上に被覆され
   た第２の疎水性保護ノーからなり、該第１層がエポキシ
   −シラン化合物の存在下で親水性非拡敢性スルホン化恵
   合体からなる敵状被層性組成物を該支持体上に被覆する
   ことによって形成された、写真要素。 ００　感光性源形成鳩麦なくとも１層で片面乞被覆され
   た重合体支持体フィルムからなる写真要素用の帯電防止
   層の作製方法であって、該支持体の反対面上に親水性非
   拡散性スルホン化重合体とエポキシ−シラン化合物から
   なる第１液状組成物を被捷し、そして被覆された組成物
   を乾燥して第１層を形成し、それから疎水性皮膜形成性
   重合体物質からなる第２液状組成物乞被覆し、そして被
   覆物を乾燥して第２層を形成することからなり、該第２
   敵状組成物の溶剤が第１被覆層の親水性スルホン化庫合
   体を実質的に浴解できないことを特徴とする、 耐久性、剛摩耗性、非粘着性、および写真処理用水性処
   理浴による攻撃に対する耐性を有する帯電防止層の作製
   方法。