JPS60184847A - 化粧面の立体化装置 - Google Patents
化粧面の立体化装置Info
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- JPS60184847A JPS60184847A JP59040907A JP4090784A JPS60184847A JP S60184847 A JPS60184847 A JP S60184847A JP 59040907 A JP59040907 A JP 59040907A JP 4090784 A JP4090784 A JP 4090784A JP S60184847 A JPS60184847 A JP S60184847A
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主に化粧塗膜、またはフィルムからなる化粧被
膜などを有する金属薄板に任意の凹凸模様をエンボス加
工により形成すると共に、この凹凸模様に立体感助長剤
を塗布して機械的な凹凸模様に、色により立体感を視覚
的に簡単に付加し、より深みのある凹凸模様面を有する
化粧面の金属薄板を容易に製造しうる立体化装置に関す
るものである。
膜などを有する金属薄板に任意の凹凸模様をエンボス加
工により形成すると共に、この凹凸模様に立体感助長剤
を塗布して機械的な凹凸模様に、色により立体感を視覚
的に簡単に付加し、より深みのある凹凸模様面を有する
化粧面の金属薄板を容易に製造しうる立体化装置に関す
るものである。
一般に金属薄板、特に有機塗装鋼板、フッソ樹脂塗装鋼
板、ステンレス板、アルミニウム板、銅板、塩ビ鋼板な
どが多用途に亘って使用されつつある。これは、この種
鋼板が加工性と意匠性にすぐれ、しかも耐久性を有する
ためである。そして、最近では平坦な上記鋼板は表面に
立体感やツートンカラー等を付加してファツション性を
強化した金属薄板に需要が移行してきている。これに対
応した金属薄板、例えばエンボス加工によって凹凸状の
任意模様を形成した鋼板が市販されている。
板、ステンレス板、アルミニウム板、銅板、塩ビ鋼板な
どが多用途に亘って使用されつつある。これは、この種
鋼板が加工性と意匠性にすぐれ、しかも耐久性を有する
ためである。そして、最近では平坦な上記鋼板は表面に
立体感やツートンカラー等を付加してファツション性を
強化した金属薄板に需要が移行してきている。これに対
応した金属薄板、例えばエンボス加工によって凹凸状の
任意模様を形成した鋼板が市販されている。
しかしながら、これら鋼板に対し塩水噴霧試験(J l
5−A−2371)を行ったところ、500〜1000
時間で屈曲部に錆、塗膜の剥離が見られた。また、この
種鋼板の表面を30倍に拡大して観察すると、凹部、凸
部の屈曲部分で塗膜が一部、剥離してしわになったり、
きすがついていたり、割れていたり、薄くなったり、ク
ラ、7りが生じたりしていた。これはエンボス加工ライ
ンに無理があるためである。また、単に化粧面にツート
ンカラー等を付加しただけでは、ファツション性と立体
感を視覚的に強化することが困難であった。
5−A−2371)を行ったところ、500〜1000
時間で屈曲部に錆、塗膜の剥離が見られた。また、この
種鋼板の表面を30倍に拡大して観察すると、凹部、凸
部の屈曲部分で塗膜が一部、剥離してしわになったり、
きすがついていたり、割れていたり、薄くなったり、ク
ラ、7りが生じたりしていた。これはエンボス加工ライ
ンに無理があるためである。また、単に化粧面にツート
ンカラー等を付加しただけでは、ファツション性と立体
感を視覚的に強化することが困難であった。
本発明はこのような欠点を除去するため、エンボス加工
時に化粧被膜を柔らかくして延性を発揮させ、化粧被膜
の剥離、しわ、きす、クランクのないしかもエンボス加
工時の残留歪を容易に矯正して美しい化粧面とし、かつ
、凹凸模様の少なくとも凸模様の傾斜面(側面)に一方
向のみから影的機能を発揮する立体感助長剤を塗布する
ようにして視覚的に簡単に立体感を強化した化粧面の立
体化装置を提案するものである。
時に化粧被膜を柔らかくして延性を発揮させ、化粧被膜
の剥離、しわ、きす、クランクのないしかもエンボス加
工時の残留歪を容易に矯正して美しい化粧面とし、かつ
、凹凸模様の少なくとも凸模様の傾斜面(側面)に一方
向のみから影的機能を発揮する立体感助長剤を塗布する
ようにして視覚的に簡単に立体感を強化した化粧面の立
体化装置を提案するものである。
以下に、図面を用いて本発明に係る化粧面の立体化装置
(以下、単に立体化装置という)について詳細に説明す
る。第1図は上記装置の一例を示す構成略図であり、上
はヒータ部で定尺に切断された金属薄板A(以下、単に
コイルという)をガイドすると共に送給するピンチロー
ラ2とコイルAの化粧被膜、実質上はコイルAそのもの
を約30〜60℃に加温して化粧被膜を柔らかくし、エ
ンボス加工時に化粧被膜がコイルから剥離したり、化粧
被膜が割れたり、きすがついたり、クランクが発生した
りしないようにするヒータ3とから構成したものである
。その加熱方式としては、熱風方式、直火方式、熱線方
式のいずれかである。4はピンチローラでコイルAを所
定速度でエンボスロール5に送給すると共に、エンボス
加工時にコイルAの送給とバタつき抑えとして機能する
ものである。また、エンボスロール5は雄部の凹凸部か
らなる模様を外周面に形成した上、下ロール5a、5b
を噛み合わせてコイルAに任意の凹凸模様、例えば第2
図(al、(blに示すような凹凸模様を施すものであ
り、上、下ロール5a、5bのギヤツブは凹凸模様の高
さ、コイルAの板厚によって定まるものである。工はレ
ベラでエンボス加工されたコイルA′に存在する残留歪
を矯正するものであり、上ローラ6a1.6a2.6a
3、・・ ・ ・6a、n(第3図では6a3まで示す
)、Tローラ6b+、6b2.6bg、・・・・6b、
(第3図では6b4まで示す)の順にジグザグ状に配列
し、かつ、上ローラ群6aと下ローラ群6b間のギャッ
プ7を調整しうるようにしたものである。8は引張り用
ピンチローラでエンボスロール5の回転より速くし、コ
イルA′を引張った状態(テンション下)でエンボスロ
ール5、レベ56の工程を通過させるようにしたもので
ある。9は立体感助長剤塗布機(以下、単に塗布機とい
う)で立体感助長剤(以下、単に助長剤という)Dを凹
凸模様の一方向のみから塗布し、第4図Ta)〜(C1
に示ずような凹模様面Bと凸模様Cの頂面部と凸模様の
側面において助長剤りの塗膜1方向σとコイルA′の進
行方向βとが衝突する面にのみ助長剤りを塗布するもの
である。助長剤Eの凹凸模様面における分布状態は塗膜
状、点状、線状、しま状などである。なお、塗布機9の
角度θ1は立体感の要求に応じて任意に選択するもので
ある。勿論、助長剤りを一方向のみから凹凸模様面に塗
布するため、立体感が大幅に助長されるばかりでなく、
見る方向によって凹凸模様が逆に見える錯覚を招くよう
に形成しうるものである。
(以下、単に立体化装置という)について詳細に説明す
る。第1図は上記装置の一例を示す構成略図であり、上
はヒータ部で定尺に切断された金属薄板A(以下、単に
コイルという)をガイドすると共に送給するピンチロー
ラ2とコイルAの化粧被膜、実質上はコイルAそのもの
を約30〜60℃に加温して化粧被膜を柔らかくし、エ
ンボス加工時に化粧被膜がコイルから剥離したり、化粧
被膜が割れたり、きすがついたり、クランクが発生した
りしないようにするヒータ3とから構成したものである
。その加熱方式としては、熱風方式、直火方式、熱線方
式のいずれかである。4はピンチローラでコイルAを所
定速度でエンボスロール5に送給すると共に、エンボス
加工時にコイルAの送給とバタつき抑えとして機能する
ものである。また、エンボスロール5は雄部の凹凸部か
らなる模様を外周面に形成した上、下ロール5a、5b
を噛み合わせてコイルAに任意の凹凸模様、例えば第2
図(al、(blに示すような凹凸模様を施すものであ
り、上、下ロール5a、5bのギヤツブは凹凸模様の高
さ、コイルAの板厚によって定まるものである。工はレ
ベラでエンボス加工されたコイルA′に存在する残留歪
を矯正するものであり、上ローラ6a1.6a2.6a
3、・・ ・ ・6a、n(第3図では6a3まで示す
)、Tローラ6b+、6b2.6bg、・・・・6b、
(第3図では6b4まで示す)の順にジグザグ状に配列
し、かつ、上ローラ群6aと下ローラ群6b間のギャッ
プ7を調整しうるようにしたものである。8は引張り用
ピンチローラでエンボスロール5の回転より速くし、コ
イルA′を引張った状態(テンション下)でエンボスロ
ール5、レベ56の工程を通過させるようにしたもので
ある。9は立体感助長剤塗布機(以下、単に塗布機とい
う)で立体感助長剤(以下、単に助長剤という)Dを凹
凸模様の一方向のみから塗布し、第4図Ta)〜(C1
に示ずような凹模様面Bと凸模様Cの頂面部と凸模様の
側面において助長剤りの塗膜1方向σとコイルA′の進
行方向βとが衝突する面にのみ助長剤りを塗布するもの
である。助長剤Eの凹凸模様面における分布状態は塗膜
状、点状、線状、しま状などである。なお、塗布機9の
角度θ1は立体感の要求に応じて任意に選択するもので
ある。勿論、助長剤りを一方向のみから凹凸模様面に塗
布するため、立体感が大幅に助長されるばかりでなく、
見る方向によって凹凸模様が逆に見える錯覚を招くよう
に形成しうるものである。
10は拭き取り機で凸模様頂面に存在する助長剤りを拭
き取り、コイルA′自体、もしくは化粧塗膜を露出させ
るものである。さらに説明すると、拭き取り機10は1
段、あるいは図示しないが、複数段を並列に配列し、徐
々に上記したような部分にある助長剤りを拭き取るもの
である。その具体例としては、拭き取りローラlOaと
ハックアップローラ10bとフィードローラIOCとド
クターブレード10dとからなり、フィードローラ1゜
Cには溶剤Eが送給され、拭き取りローラ10aの表面
に付着した助長剤りを洗い流すと共に、新しい拭き取り
面をくり返して形成するものである。
き取り、コイルA′自体、もしくは化粧塗膜を露出させ
るものである。さらに説明すると、拭き取り機10は1
段、あるいは図示しないが、複数段を並列に配列し、徐
々に上記したような部分にある助長剤りを拭き取るもの
である。その具体例としては、拭き取りローラlOaと
ハックアップローラ10bとフィードローラIOCとド
クターブレード10dとからなり、フィードローラ1゜
Cには溶剤Eが送給され、拭き取りローラ10aの表面
に付着した助長剤りを洗い流すと共に、新しい拭き取り
面をくり返して形成するものである。
11は乾燥炉で凹凸模様面の凸模様頂面を乾燥せしめる
と共に、助長剤りを乾燥、もしくは焼付は等するもので
ある。
と共に、助長剤りを乾燥、もしくは焼付は等するもので
ある。
次ぎに本発明に係る立体化装置の動作について説明する
と、10尺に切断されたコイルAを1枚づつ、ピンチロ
ーラ2を介してヒータ3に送給シ、ヒータ3で約30〜
60℃に加温し、化粧被膜を柔らかくしてピンチローラ
4に送給する。次ぎにピンチローラ4から送出されたコ
イルAはエンボスロール5に送給され、コイルAに対し
て、例えば第2図(a)、(b)に示すような凹模様B
、凸模様Cとからなるエンボス模様を形成するものであ
る。
と、10尺に切断されたコイルAを1枚づつ、ピンチロ
ーラ2を介してヒータ3に送給シ、ヒータ3で約30〜
60℃に加温し、化粧被膜を柔らかくしてピンチローラ
4に送給する。次ぎにピンチローラ4から送出されたコ
イルAはエンボスロール5に送給され、コイルAに対し
て、例えば第2図(a)、(b)に示すような凹模様B
、凸模様Cとからなるエンボス模様を形成するものであ
る。
この際、コイルAにはテンションが付加された状態での
エンボス加工となるものである。そして、エンボスロー
ル5から送出されたコイルにはレベラエによってエンボ
ス加工時に生じた残留歪をエンボスロール5と引張り用
ピンチローラ8間の引張られた状態で矯正し、塗布機9
に送給されるものである。なお、エンホスロール5と引
張用ピンチローラ8間のコイルA′に対する力関係はエ
ンボスロール5の回転を栽準とした際に、エンボスロー
ル5の回転が遅く、引張り用ピンチローラ8の回転が速
い速度関係に設定して、コイルA′が引張られた状態で
エンボス加工と平坦化と残留歪の除去を行うようにした
ものである。なお、ピンチローラ4とエンボスロール5
間においてピンチローラ4の速度が遅い場合はコイルA
がエンボスロール5の入口でバタついたりしなくなる。
エンボス加工となるものである。そして、エンボスロー
ル5から送出されたコイルにはレベラエによってエンボ
ス加工時に生じた残留歪をエンボスロール5と引張り用
ピンチローラ8間の引張られた状態で矯正し、塗布機9
に送給されるものである。なお、エンホスロール5と引
張用ピンチローラ8間のコイルA′に対する力関係はエ
ンボスロール5の回転を栽準とした際に、エンボスロー
ル5の回転が遅く、引張り用ピンチローラ8の回転が速
い速度関係に設定して、コイルA′が引張られた状態で
エンボス加工と平坦化と残留歪の除去を行うようにした
ものである。なお、ピンチローラ4とエンボスロール5
間においてピンチローラ4の速度が遅い場合はコイルA
がエンボスロール5の入口でバタついたりしなくなる。
また、引張り用ピンチローラ8とエンボスロール5、あ
るいはピンチローラ4と引張り用ピンチローラ8間の速
度差などを設定することによって、コイルAはエンボス
加工時にズしたりして模様が不鮮明となったり、2重に
噛み込むことがなくなる。また、レベラ6では一方向ヘ
テンションが付加された状態となるため、凹凸模様B、
Cを変形することなしに容易に平坦化できると共に、残
留歪も無理なく逃がすことができる。勿論、上記領域内
におけるテンションはエンボス模様に変化を与えない力
の範囲内である。引張り用ピンチローラ8から送出され
たコイル入には塗布機9によって化粧被膜と濃度、色相
、彩度の少なくとも1つが異なる助長剤りを凹凸模様i
fj全面に対し、θ1=45°の角度でコイルλの進行
方向に対しスプレーガンで対面するようにして例えば第
4図(al〜(C)に示ずような各凹凸模様に対し塗布
し、被着するものである。勿論、この際、凹模様B、凸
模様Cの各部において助長剤りの分布は均一、不均一、
その混合分布、あるいは徐々に濃淡が変化するような分
布となるものである。このような凹凸化粧面を有するコ
イルλは拭き取り機10に送給され、凸模様の頂面にの
み存在する助長剤りを拭き取り、乾燥炉11に送給し、
乾燥、あるいは焼付は等するものである。
るいはピンチローラ4と引張り用ピンチローラ8間の速
度差などを設定することによって、コイルAはエンボス
加工時にズしたりして模様が不鮮明となったり、2重に
噛み込むことがなくなる。また、レベラ6では一方向ヘ
テンションが付加された状態となるため、凹凸模様B、
Cを変形することなしに容易に平坦化できると共に、残
留歪も無理なく逃がすことができる。勿論、上記領域内
におけるテンションはエンボス模様に変化を与えない力
の範囲内である。引張り用ピンチローラ8から送出され
たコイル入には塗布機9によって化粧被膜と濃度、色相
、彩度の少なくとも1つが異なる助長剤りを凹凸模様i
fj全面に対し、θ1=45°の角度でコイルλの進行
方向に対しスプレーガンで対面するようにして例えば第
4図(al〜(C)に示ずような各凹凸模様に対し塗布
し、被着するものである。勿論、この際、凹模様B、凸
模様Cの各部において助長剤りの分布は均一、不均一、
その混合分布、あるいは徐々に濃淡が変化するような分
布となるものである。このような凹凸化粧面を有するコ
イルλは拭き取り機10に送給され、凸模様の頂面にの
み存在する助長剤りを拭き取り、乾燥炉11に送給し、
乾燥、あるいは焼付は等するものである。
実施例
コイルAとしては板厚が0.27mmの着色亜鉛鉄板(
J I 5−G−3312)を用い、ヒータ5の温度は
10〜80℃まで変化させ、エンボスの深さは0.9+
u、凹模様Bと凸模様Cの割合を1:1としたものであ
り、エンボス加工速度を38m/minとした。また、
ピンチローラ4と引張り用ピンチローラ8間の速度差は
3%位とした。さらに、助長剤りとしては黒色系のアル
キッド樹脂からなる塗料をスプレーガンで塗布し、乾燥
炉11において90℃で5分間予熱し、200 ”cで
1分間焼付けた。なお、コイルAの塗料は白色でビヒク
ルとしてアルキッド樹脂系を用いたものとする。そして
、コイルA′表面の温度、所謂、化粧被膜(この場合は
塗膜)の温度を0〜80℃に変化した際の化粧塗膜の剥
離の、割れ◎、クランクθ、縮み○、きず■の状態を第
5図に折れ線グラフで示す。
J I 5−G−3312)を用い、ヒータ5の温度は
10〜80℃まで変化させ、エンボスの深さは0.9+
u、凹模様Bと凸模様Cの割合を1:1としたものであ
り、エンボス加工速度を38m/minとした。また、
ピンチローラ4と引張り用ピンチローラ8間の速度差は
3%位とした。さらに、助長剤りとしては黒色系のアル
キッド樹脂からなる塗料をスプレーガンで塗布し、乾燥
炉11において90℃で5分間予熱し、200 ”cで
1分間焼付けた。なお、コイルAの塗料は白色でビヒク
ルとしてアルキッド樹脂系を用いたものとする。そして
、コイルA′表面の温度、所謂、化粧被膜(この場合は
塗膜)の温度を0〜80℃に変化した際の化粧塗膜の剥
離の、割れ◎、クランクθ、縮み○、きず■の状態を第
5図に折れ線グラフで示す。
また、レベラ■から送出されたコイルA′の平坦度と残
留歪の度合(ペコッキ)は目視により観察したものであ
る。なお、検査法としては(1)コイルA′の1メ一ト
ル当たりに存在する見掛上のペコッキの数、(2)ペコ
ッキの分布状態、(3)ペコッキの高低差(設計上の凹
凸状部の底面、頂面と現実の底面、頂面との差) 、(
4重全体の外観についての観察を示す。さらに、(5)
凹凸模様面の立体感を目視によりコイルλの進行方向で
、その逆方向の順に立て掛けて観察した場合の印象を示
す。
留歪の度合(ペコッキ)は目視により観察したものであ
る。なお、検査法としては(1)コイルA′の1メ一ト
ル当たりに存在する見掛上のペコッキの数、(2)ペコ
ッキの分布状態、(3)ペコッキの高低差(設計上の凹
凸状部の底面、頂面と現実の底面、頂面との差) 、(
4重全体の外観についての観察を示す。さらに、(5)
凹凸模様面の立体感を目視によりコイルλの進行方向で
、その逆方向の順に立て掛けて観察した場合の印象を示
す。
比較例
上記したようなコイルAに対し、従前の工程でエンボス
加工し、その後で普通の方法で、所謂凹凸模様面の真上
からスプレーガンでコイルの色彩と異なる色彩の塗料を
塗布し、それを乾燥したものをテストピースとした。
加工し、その後で普通の方法で、所謂凹凸模様面の真上
からスプレーガンでコイルの色彩と異なる色彩の塗料を
塗布し、それを乾燥したものをテストピースとした。
さらに、実施例(化粧塗膜を50℃に加熱した場合のコ
イルA)と比較例により形成したコイルとを塩水噴霧試
験(1500時間)した後の結果は下表のようであった
。
イルA)と比較例により形成したコイルとを塩水噴霧試
験(1500時間)した後の結果は下表のようであった
。
以上説明したのは本発明に係る立体化装置の一実施例に
すぎず、レベ−>6のローラの段数を凹凸模様B、Cの
分布割合に応じて増減したり、ローラの長さを入口から
出口に向かって順々に長くし、末広り状に配列したりす
ることもできる。また、コイルXに対し助長剤りを第6
図(al〜(C)に示す方向から塗布機9で塗布するこ
ともできる。すなわち、(81図はコイルA′の進行方
向βに対し、側面から角θ2、θ3のいずれかで、ある
いは併用して助長剤りを塗布するものであり、角度θ2
、θ3は90°より小さく、かつ、0°、所謂コイルA
′の化粧面と高さGを保持して平行となる場合も含むも
のである。また、(b)図はコイルにをダブル幅で形成
し、最終的に2分割すると共に端部を成形するものであ
り、塗布機9の助長剤りの塗布方向が左右側で逆方向へ
、可′で塗布するものであり、(C)図はコイルλの真
上から塗布することもできる。
すぎず、レベ−>6のローラの段数を凹凸模様B、Cの
分布割合に応じて増減したり、ローラの長さを入口から
出口に向かって順々に長くし、末広り状に配列したりす
ることもできる。また、コイルXに対し助長剤りを第6
図(al〜(C)に示す方向から塗布機9で塗布するこ
ともできる。すなわち、(81図はコイルA′の進行方
向βに対し、側面から角θ2、θ3のいずれかで、ある
いは併用して助長剤りを塗布するものであり、角度θ2
、θ3は90°より小さく、かつ、0°、所謂コイルA
′の化粧面と高さGを保持して平行となる場合も含むも
のである。また、(b)図はコイルにをダブル幅で形成
し、最終的に2分割すると共に端部を成形するものであ
り、塗布機9の助長剤りの塗布方向が左右側で逆方向へ
、可′で塗布するものであり、(C)図はコイルλの真
上から塗布することもできる。
なお、(81図、fC1図ではコイルA′の搬送速度が
5〜10 m/min以上で、凹凸模様の段差が0.5
削以上あることが必要である。さらに、ピンチローラ4
はコイルAが極端にあばれなかったり、ヒータ部上とエ
ンボスロール5間が長かったりすると単なるガイド片を
コイルAの両側方に設置して除去することもできる。
5〜10 m/min以上で、凹凸模様の段差が0.5
削以上あることが必要である。さらに、ピンチローラ4
はコイルAが極端にあばれなかったり、ヒータ部上とエ
ンボスロール5間が長かったりすると単なるガイド片を
コイルAの両側方に設置して除去することもできる。
上述したように本発明に係る立体化装置によれば、■エ
ンボス加工ゾーンにおいてコイルに対し力の変化がなく
、常時一定張力下でエンボス加工できるため、エンボス
模様が加工中にズしたりせず、美しい凸凹状模様を形成
できる。■化粧被膜を加温してエンボス加工に対応でき
る柔ら−かさにしたため、エンボス加工時に化粧被膜が
鋼板から剥離した化粧塗膜がしわになったり、割れたり
、きずがついたり、クランクが生じたすせず、美しい化
粧塗膜と耐候性、耐スクラッチ性、耐薬品性にすぐれた
化粧被膜を形成できる。■エンボス加工によって形成さ
れた歪によるペコッキはテンション下での矯正によって
容易に、かつ、十分に残留歪が除去され、ペコッキのな
い、かつ、立体感にあふれる凹凸状模様を形成できる。
ンボス加工ゾーンにおいてコイルに対し力の変化がなく
、常時一定張力下でエンボス加工できるため、エンボス
模様が加工中にズしたりせず、美しい凸凹状模様を形成
できる。■化粧被膜を加温してエンボス加工に対応でき
る柔ら−かさにしたため、エンボス加工時に化粧被膜が
鋼板から剥離した化粧塗膜がしわになったり、割れたり
、きずがついたり、クランクが生じたすせず、美しい化
粧塗膜と耐候性、耐スクラッチ性、耐薬品性にすぐれた
化粧被膜を形成できる。■エンボス加工によって形成さ
れた歪によるペコッキはテンション下での矯正によって
容易に、かつ、十分に残留歪が除去され、ペコッキのな
い、かつ、立体感にあふれる凹凸状模様を形成できる。
■ラインを直線状に配列し、コイルに対し無理な力が付
加されない流れによる工程としたため、スムーズにエン
ボス加工できる。■コイルを加温してエンボス加工する
ため、作業環境に左右されない。■直線ラインのため高
速でエンボス加工できる。■凹凸模様の凸模様の頂面を
高反射面とし、少なくとも凸模様の側面に陰影のように
機能する助長剤を喫布したため、機械的な凹凸模様によ
る立体感に、さらに視覚的に助長剤によって従前にない
立体感、深みを発揮させることができる。■凹凸模様面
の形成後に容易に立体感助長剤を塗布できる。
加されない流れによる工程としたため、スムーズにエン
ボス加工できる。■コイルを加温してエンボス加工する
ため、作業環境に左右されない。■直線ラインのため高
速でエンボス加工できる。■凹凸模様の凸模様の頂面を
高反射面とし、少なくとも凸模様の側面に陰影のように
機能する助長剤を喫布したため、機械的な凹凸模様によ
る立体感に、さらに視覚的に助長剤によって従前にない
立体感、深みを発揮させることができる。■凹凸模様面
の形成後に容易に立体感助長剤を塗布できる。
■コイルが切り板のため、よりペコッキ、捩じれのない
化粧面となしうる。等の特徴を有するものである。
化粧面となしうる。等の特徴を有するものである。
第1図は本発明に係る化粧面の立体化装置の一例を示す
構成略図、第2図(a)、(b)は凹凸模様の一部を示
す説明図、第3図は前記装置の1つの構成であるレベラ
の一例を示す斜視図、第4図(al〜(C1は化粧面を
形成中の途中を示す拡大説明図、第5図は化粧被膜の温
度とクランク等の発生状況を示す特性図、第6図(a)
〜(C)はその他の実施例を示す説明図である。 1・−−ヒータ、5・・・エンボスロール、玉!・・レ
ベラ、8・・・引張り用ピンチローラ、薄板、D・・・
立体感助長剤。 第 5 a 戸 第 6 箆 (tL) (b)
構成略図、第2図(a)、(b)は凹凸模様の一部を示
す説明図、第3図は前記装置の1つの構成であるレベラ
の一例を示す斜視図、第4図(al〜(C1は化粧面を
形成中の途中を示す拡大説明図、第5図は化粧被膜の温
度とクランク等の発生状況を示す特性図、第6図(a)
〜(C)はその他の実施例を示す説明図である。 1・−−ヒータ、5・・・エンボスロール、玉!・・レ
ベラ、8・・・引張り用ピンチローラ、薄板、D・・・
立体感助長剤。 第 5 a 戸 第 6 箆 (tL) (b)
Claims (1)
- (1)定尺に切断された金属薄板の化粧面を立体化する
装置において、金属薄板を送給するピンチローラと金属
薄板を約30〜60℃に加温するヒータとからなるヒー
タ部と、該ヒータ部から送給された金属薄板に対し任意
の凹凸模様を施すエンホスロールと、該ロールの後に配
したレベラと、該レベラの出口に配設した引張り用ピン
チローラと、上記凹凸模様面に立体感助長剤を一方向の
みから塗布する立体感助長剤塗布機と、凹凸模様面の凸
模様頂面に存在する立体感助長剤を拭き取る拭き取り機
と、上記立体感助長剤を乾燥する乾燥機とを直列に配列
したことを特徴とする化粧面の立体化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040907A JPS60184847A (ja) | 1984-03-03 | 1984-03-03 | 化粧面の立体化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59040907A JPS60184847A (ja) | 1984-03-03 | 1984-03-03 | 化粧面の立体化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184847A true JPS60184847A (ja) | 1985-09-20 |
| JPH0437780B2 JPH0437780B2 (ja) | 1992-06-22 |
Family
ID=12593576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59040907A Granted JPS60184847A (ja) | 1984-03-03 | 1984-03-03 | 化粧面の立体化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184847A (ja) |
-
1984
- 1984-03-03 JP JP59040907A patent/JPS60184847A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0437780B2 (ja) | 1992-06-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |