JPS6018542U - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS6018542U JPS6018542U JP10915883U JP10915883U JPS6018542U JP S6018542 U JPS6018542 U JP S6018542U JP 10915883 U JP10915883 U JP 10915883U JP 10915883 U JP10915883 U JP 10915883U JP S6018542 U JPS6018542 U JP S6018542U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- beam exposure
- exposure equipment
- electron
- generators
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案の一実施例を示す斜視図である。
第２図および第３図は本考案の一実施例にて描画された
パターンを示す平面図である。 １．２・・・電子ビーム発生機、４・・・基板保持テー
ブル、５・・・基板、８・・・移動テーブル。
パターンを示す平面図である。 １．２・・・電子ビーム発生機、４・・・基板保持テー
ブル、５・・・基板、８・・・移動テーブル。
Claims (1)
- 一枚の基板を電子ビーム露光するための、相異なるビー
ム径の電子ビームを発生する少なくとも２基の電子ビー
ム発生機が並設され、この電子ビーム発生機の電子ビー
ム発射口の対向位置に、電子ビームのビーム軸に対して
ほぼ直角方向に移動可能な基板保持テーブルが設けられ
た電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10915883U JPS6018542U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10915883U JPS6018542U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6018542U true JPS6018542U (ja) | 1985-02-07 |
Family
ID=30254396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10915883U Pending JPS6018542U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018542U (ja) |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP10915883U patent/JPS6018542U/ja active Pending
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