JPS6020306A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPS6020306A JPS6020306A JP12792483A JP12792483A JPS6020306A JP S6020306 A JPS6020306 A JP S6020306A JP 12792483 A JP12792483 A JP 12792483A JP 12792483 A JP12792483 A JP 12792483A JP S6020306 A JPS6020306 A JP S6020306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- magnetic
- film
- magnetic head
- gap
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
- G11B5/1475—Assembling or shaping of elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、磁気記録装置（電子計算機等の記憶装置を含
めて）等に用いる磁気ヘッドに係り、特に、磁気特性が
良好で機械的強度の大きい磁気ヘッドに関する。
めて）等に用いる磁気ヘッドに係り、特に、磁気特性が
良好で機械的強度の大きい磁気ヘッドに関する。
磁気ヘッドの磁気テープとの接触面近傍の空隙縁は、記
録及び再生感度に大きく影響し、従って、この空隙縁の
機械的精度が、常時、一定に保たれ、且つ、空隙スペー
サが機械的に強固に結合されることが必要である。更に
、空隙スペーサ自体も機械的強度の大なるものが望まれ
る。従来、フェライトを磁心とする磁気ヘッドでは数ミ
クロン以下の磁気空隙を形成するために、この空隙にガ
ラスなどの非磁性物質を箔として介挿したり、スパッタ
リング又は蒸着によって膜を形成したり、あるいは、ガ
ラスペーストを塗布、乾燥して後、ガラスの軟化温度以
上に加熱融着する方法が用いられている。これにより、
フェライトに所定の作動空隙幅をもって強固に溶着させ
て、テープが磁気ヘッドに接触して走行する時に、空隙
縁が欠けるという弊害を防止している。しかし、最近で
は、更にテープ・ヘッド系の性能向上、すなわち、よシ
高記録密度の技術開発の要求に応じるため、磁性体材料
としてフェライトに代わり、センダスト、アモルファス
合金等の（酸化物系）金属磁性材料を用いる必要が生じ
てきている。
録及び再生感度に大きく影響し、従って、この空隙縁の
機械的精度が、常時、一定に保たれ、且つ、空隙スペー
サが機械的に強固に結合されることが必要である。更に
、空隙スペーサ自体も機械的強度の大なるものが望まれ
る。従来、フェライトを磁心とする磁気ヘッドでは数ミ
クロン以下の磁気空隙を形成するために、この空隙にガ
ラスなどの非磁性物質を箔として介挿したり、スパッタ
リング又は蒸着によって膜を形成したり、あるいは、ガ
ラスペーストを塗布、乾燥して後、ガラスの軟化温度以
上に加熱融着する方法が用いられている。これにより、
フェライトに所定の作動空隙幅をもって強固に溶着させ
て、テープが磁気ヘッドに接触して走行する時に、空隙
縁が欠けるという弊害を防止している。しかし、最近で
は、更にテープ・ヘッド系の性能向上、すなわち、よシ
高記録密度の技術開発の要求に応じるため、磁性体材料
としてフェライトに代わり、センダスト、アモルファス
合金等の（酸化物系）金属磁性材料を用いる必要が生じ
てきている。
これら金属磁性材料を用いた磁気ヘッドにおいて、フェ
ライト材を用いた場合と同様に、ガラスをスペーサとし
て使用する際には、磁性材料自体の特性劣化を防ぐため
に、できるだけ低温でガラスを加熱融着することが望ま
しく、そのため、例えば、ＰｂＯＢ２Ｏ３、ＰｂＯ−８
１０２，ｐｂｏ Ｐ２Ｏ５−ＰｂＯＺｎＯＢ２Ｏ３，ｚ
ｎｏ Ｂ２Ｏ３８１０２系の低融ガラスが用いられてい
る。しかし、フェライトの場合と異なり、金属磁性材料
では、例えば％Ｆｅ＃８１のような酸化物を作って安定
化しようとする傾向の大きい金属成分が含まれており、
一方、低融ガラスの中には、例えば、ＰｂＯ，ＺｎＯの
ように酸素との結合が弱い成分があり、一般に、より低
融点のガラスはど、これらの還元され易い酸化物を多く
含んでいるため、フェライトと同様の方法でガラス融着
を行なうと、金属磁性体と上記ガラスが反応して、例え
ば、ｐｂ、ｚｎの金属が析出してくる。これらの析出は
、磁心との結合を弱め、空隙スペーサとしてのガラス自
体の機械的強度や耐摩耗性を低下させ、磁気ヘッドの特
性を劣化させる重大な要因となっている。
ライト材を用いた場合と同様に、ガラスをスペーサとし
て使用する際には、磁性材料自体の特性劣化を防ぐため
に、できるだけ低温でガラスを加熱融着することが望ま
しく、そのため、例えば、ＰｂＯＢ２Ｏ３、ＰｂＯ−８
１０２，ｐｂｏ Ｐ２Ｏ５−ＰｂＯＺｎＯＢ２Ｏ３，ｚ
ｎｏ Ｂ２Ｏ３８１０２系の低融ガラスが用いられてい
る。しかし、フェライトの場合と異なり、金属磁性材料
では、例えば％Ｆｅ＃８１のような酸化物を作って安定
化しようとする傾向の大きい金属成分が含まれており、
一方、低融ガラスの中には、例えば、ＰｂＯ，ＺｎＯの
ように酸素との結合が弱い成分があり、一般に、より低
融点のガラスはど、これらの還元され易い酸化物を多く
含んでいるため、フェライトと同様の方法でガラス融着
を行なうと、金属磁性体と上記ガラスが反応して、例え
ば、ｐｂ、ｚｎの金属が析出してくる。これらの析出は
、磁心との結合を弱め、空隙スペーサとしてのガラス自
体の機械的強度や耐摩耗性を低下させ、磁気ヘッドの特
性を劣化させる重大な要因となっている。
本発明の目的は、金属磁性体を磁心とした磁気ヘッドの
空隙部の製造におけるこれらの問題を解決するにある。
空隙部の製造におけるこれらの問題を解決するにある。
以下、本発明による実施例を図面を参照して、最も一般
的なヘッド形状である２個のコの字状磁心を対向せしめ
ることにより磁気ヘッドを形成する場合について説明す
る。
的なヘッド形状である２個のコの字状磁心を対向せしめ
ることにより磁気ヘッドを形成する場合について説明す
る。
〈実施例１〉
第２図のように断面コ字状の磁心１のフロント空隙構成
面２及びパック空隙構成面３を充分鏡面で、且つ、同一
平面となるように仕上げ、その面に金属磁性体、例えば
、センダストと後に形成されるガラス層との反応を防止
してガラス中からの金属析出を抑えるための膜として、
５ｉ０，４をスパッタリングにより着ける。
面２及びパック空隙構成面３を充分鏡面で、且つ、同一
平面となるように仕上げ、その面に金属磁性体、例えば
、センダストと後に形成されるガラス層との反応を防止
してガラス中からの金属析出を抑えるための膜として、
５ｉ０，４をスパッタリングにより着ける。
スパッタリングには、高周波スパンタ装置を用い、８ｉ
０２ターゲツトに対し０２を５〜２０％含んだＡｒガス
でスパッタリングを行なった。０２を含んだガスを用い
ることにより８ｉ０ｚの緻密な膜が得られる。又、膜厚
はスパッタリング時間により容易に制御できる。
０２ターゲツトに対し０２を５〜２０％含んだＡｒガス
でスパッタリングを行なった。０２を含んだガスを用い
ることにより８ｉ０ｚの緻密な膜が得られる。又、膜厚
はスパッタリング時間により容易に制御できる。
次に、第１図のように、空隙スペーサ及び磁心１の接着
剤として、低融点のＰ ｂ ＯＢ２０１１系ガラス膜５
を、第２図に示すように５ｉ０２膜４の上にスパッタリ
ングにより着ける。
剤として、低融点のＰ ｂ ＯＢ２０１１系ガラス膜５
を、第２図に示すように５ｉ０２膜４の上にスパッタリ
ングにより着ける。
スパッタリングには、高周波ス・くツタ装置を用い、タ
ーゲツトとして、例えば、ＰｂＯｅ７０ｗｔ％以上含ん
だＰ ｂ ＯＢ２Ｏ３系ガラスを用い、０２を５〜２０
％含んだＡｒガスでスノ（ツタリングを行ない、ターゲ
ット組成に近いスノ（ツタ膜５を得た。膜厚の制御は、
スパンタ時間によった。
ーゲツトとして、例えば、ＰｂＯｅ７０ｗｔ％以上含ん
だＰ ｂ ＯＢ２Ｏ３系ガラスを用い、０２を５〜２０
％含んだＡｒガスでスノ（ツタリングを行ない、ターゲ
ット組成に近いスノ（ツタ膜５を得た。膜厚の制御は、
スパンタ時間によった。
しかる後、第１図に示すように、磁心ｌ及び１′を合わ
せて加圧しながら、５００Ｃ前後の温度で加熱すると、
ガラス膜５同士は互いに融着し、さらに、加熱中にガラ
ス５がＳｉＯ２膜４の方に拡散していく。
せて加圧しながら、５００Ｃ前後の温度で加熱すると、
ガラス膜５同士は互いに融着し、さらに、加熱中にガラ
ス５がＳｉＯ２膜４の方に拡散していく。
ここで、はじめの膜４及び５の膜厚構成、又は、熱処理
温度、時間を変えることにより、ガラス５のＳｉＯ２膜
４への拡散量は制御できる。従って、これらを適当な条
件に選ぶと、ガラス５は、８１０２膜の方へ拡散してゆ
くが、最終的に、センダストに到達させることなく磁気
空隙を得ることができる。例えば、第２図で８ｊ０２膜
４を１．０μへガラス膜５’ｔ１．０μｍ着けて、５０
０Ｃ，１５分の熱処理を行なうと、ガラス５と８１０２
は相互に拡散し、８ｊＯｚ膜は約０．５μｍ残る。
温度、時間を変えることにより、ガラス５のＳｉＯ２膜
４への拡散量は制御できる。従って、これらを適当な条
件に選ぶと、ガラス５は、８１０２膜の方へ拡散してゆ
くが、最終的に、センダストに到達させることなく磁気
空隙を得ることができる。例えば、第２図で８ｊ０２膜
４を１．０μへガラス膜５’ｔ１．０μｍ着けて、５０
０Ｃ，１５分の熱処理を行なうと、ガラス５と８１０２
は相互に拡散し、８ｊＯｚ膜は約０．５μｍ残る。
また、８（０２膜４を１．５μｍ、ガラス膜５を０．４
ｐ ｍ着けて、４５０Ｃ，１５分の熱処理を行なうと
、８１０２膜が約０．０５μｍ残る。
ｐ ｍ着けて、４５０Ｃ，１５分の熱処理を行なうと
、８１０２膜が約０．０５μｍ残る。
このようにＳｉ Ｑ２膜を用いて、ガラス５がセンダス
トと反応することを防止することができ、従って、５ｆ
０２膜のない場合に同様の条件で接着した際に、ガラス
中に金属鉛が析出し、センダストとガラスの結合を弱め
ると共に、空隙スペーサとしてのガラス自体の強度も低
下するという問題を回避できる。
トと反応することを防止することができ、従って、５ｆ
０２膜のない場合に同様の条件で接着した際に、ガラス
中に金属鉛が析出し、センダストとガラスの結合を弱め
ると共に、空隙スペーサとしてのガラス自体の強度も低
下するという問題を回避できる。
以上では、反応防止膜として５ｉＯ２′ｆ：用いたが、
その他にＡｔ２０ｓ １Ｚｒ０２．ＴｉＯ２，ＭｇＯな
どの安定で融点の高い酸化物や、ＳｎＯ２の様なガラス
を還元しない酸化物及びこれらの組合せにより成る化合
物を用いることもできる。
その他にＡｔ２０ｓ １Ｚｒ０２．ＴｉＯ２，ＭｇＯな
どの安定で融点の高い酸化物や、ＳｎＯ２の様なガラス
を還元しない酸化物及びこれらの組合せにより成る化合
物を用いることもできる。
〈実施例２〉
第２図の反応防止膜４としてＴｉを蒸着により着ける。
蒸着は、Ｔｉをルツボに入れヒーターで加熱し、真空中
で蒸着させ、あらかじめ時間、温度などを調節し、所定
の厚さに着くように制御する。
で蒸着させ、あらかじめ時間、温度などを調節し、所定
の厚さに着くように制御する。
その後、実施例１と同様の方法により磁気空隙部を形成
する。
する。
Ｔｉは、ガラスと比較的反応しに＜＜、かつ、比較的高
温度で緻密に蒸着できるため、防止膜として良好である
。
温度で緻密に蒸着できるため、防止膜として良好である
。
その他、非磁性でガラスと比較的反応しにくい金属膜は
、反応防止膜として用いることができる。
、反応防止膜として用いることができる。
さらに、ＬＳＩの保護膜や機能材料のコーテイング材と
して用いられており、特に、溶融ガラスに対する耐食性
にすぐれた、例えば、ＢＮ。
して用いられており、特に、溶融ガラスに対する耐食性
にすぐれた、例えば、ＢＮ。
Ｓ １３Ｎ４ ｓ ＳＩＣ等の非磁性非酸化物系のセラ
ミックスも反応防止膜４としてすぐれた相料である。
ミックスも反応防止膜４としてすぐれた相料である。
本発明によれば、空隙に充填されるガラス質拐料中に金
属が析出することがなくなり、従って機械的強度や耐摩
耗性の高い磁気空隙を得ることができる。
属が析出することがなくなり、従って機械的強度や耐摩
耗性の高い磁気空隙を得ることができる。
第１図は、本発明の方法によって得られた磁気ヘンドコ
アの側断面図、第２図は本発明の一実施例を説明するた
めの製造過程における磁気ヘンドコアの断面図である。
アの側断面図、第２図は本発明の一実施例を説明するた
めの製造過程における磁気ヘンドコアの断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金属磁性体を磁心とする磁気ヘッドの製造過程にお
いて、 一対の前記磁気ヘッドの空隙構成対向面に夫々低融点ガ
ラスを形成し、これを合わせて低温で加熱融着する際、
前記低融点ガラスと前記金属磁性体との反応を防止する
ための膜を前記低融点ガラスと前記磁性体との間に形成
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12792483A JPS6020306A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12792483A JPS6020306A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6020306A true JPS6020306A (ja) | 1985-02-01 |
| JPH0480446B2 JPH0480446B2 (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=14971999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12792483A Granted JPS6020306A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6020306A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5687045A (en) * | 1991-09-20 | 1997-11-11 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and production method thereof and magnetic disk drive equipped with this thin film magnetic head |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437120U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-10 | ||
| JPS5552524A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-17 | Toshiba Corp | Manufacture of magnetic head |
| JPS55117723A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-10 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS56137517A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-27 | Tdk Corp | Magnetic head and its manufacture |
| JPS5923174A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-02-06 | カメロン・アイアン・ワ−クス・インコ−ポレ−テツド | 弁と弁のステム封鎖装置 |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP12792483A patent/JPS6020306A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437120U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-10 | ||
| JPS5552524A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-17 | Toshiba Corp | Manufacture of magnetic head |
| JPS55117723A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-10 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS56137517A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-27 | Tdk Corp | Magnetic head and its manufacture |
| JPS5923174A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-02-06 | カメロン・アイアン・ワ−クス・インコ−ポレ−テツド | 弁と弁のステム封鎖装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5687045A (en) * | 1991-09-20 | 1997-11-11 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and production method thereof and magnetic disk drive equipped with this thin film magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0480446B2 (ja) | 1992-12-18 |
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