JPS60237638A - 薄膜型磁気記録媒体の製法 - Google Patents
薄膜型磁気記録媒体の製法Info
- Publication number
- JPS60237638A JPS60237638A JP9372784A JP9372784A JPS60237638A JP S60237638 A JPS60237638 A JP S60237638A JP 9372784 A JP9372784 A JP 9372784A JP 9372784 A JP9372784 A JP 9372784A JP S60237638 A JPS60237638 A JP S60237638A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- vapor deposition
- magnetic
- thin film
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、非磁性支持体上に金属磁性薄膜を被着形成し
てなるＳ膜量磁気記録媒体の製法に関する。
てなるＳ膜量磁気記録媒体の製法に関する。
背景技術とその問題点
近年、磁気記録の高密度化の目的で、非磁性支持体上に
、真空蒸着等の方法により数百人〜略ｌμの厚みの金属
磁性薄膜を形成させた薄膜型の磁気記録媒体について研
究が盛んである。このような薄膜型磁気記録媒体におい
て、高い抗磁力Ｈｃを有する金属磁性薄膜を得る方法と
して、蒸着時にその蒸着領域に対して酸素ガスを吹き付
ける方法が提案されている。
、真空蒸着等の方法により数百人〜略ｌμの厚みの金属
磁性薄膜を形成させた薄膜型の磁気記録媒体について研
究が盛んである。このような薄膜型磁気記録媒体におい
て、高い抗磁力Ｈｃを有する金属磁性薄膜を得る方法と
して、蒸着時にその蒸着領域に対して酸素ガスを吹き付
ける方法が提案されている。
従来、かかる酸素ガスの供給は第１図に示すように非磁
性支持体の中方向に対応して管側壁に所定間隔でガス放
出口（１）を設けたガス導入管（２）を配し、このガス
導入管（２）に導入した酸素ガスを、ガス放出口＋１）
より吹き出させて蒸着領域に供給するようになしている
。しかるに図示のようにガス導入管（２）の片側から＠
素ガス（３）を導入した場合、どうしても非磁性支持体
の中方向に関して曲ｉｌ！ （１）で示すように吹き出
すガス比に分布ができ、極近傍で見た場合、酸素ガス量
がガス導入側より漸次減少する。このため非磁性支持体
上に被着形成された金属磁性ｖｔｌｌＮ！は、その非磁
性支持体のｉ１方向に関して抗磁力Ｈｅに大きなバラツ
キが生ずる慣れがあった。
性支持体の中方向に対応して管側壁に所定間隔でガス放
出口（１）を設けたガス導入管（２）を配し、このガス
導入管（２）に導入した酸素ガスを、ガス放出口＋１）
より吹き出させて蒸着領域に供給するようになしている
。しかるに図示のようにガス導入管（２）の片側から＠
素ガス（３）を導入した場合、どうしても非磁性支持体
の中方向に関して曲ｉｌ！ （１）で示すように吹き出
すガス比に分布ができ、極近傍で見た場合、酸素ガス量
がガス導入側より漸次減少する。このため非磁性支持体
上に被着形成された金属磁性ｖｔｌｌＮ！は、その非磁
性支持体のｉ１方向に関して抗磁力Ｈｅに大きなバラツ
キが生ずる慣れがあった。
発明の目的
本発明は、上述の点に鑑み、蒸着時に非磁性支特休の中
方向に均一にガスを吹き出して各部均一な磁気特性を有
する金属磁性薄膜を形成できるようにした薄膜型磁気記
録媒体の製法を提供するものである。
方向に均一にガスを吹き出して各部均一な磁気特性を有
する金属磁性薄膜を形成できるようにした薄膜型磁気記
録媒体の製法を提供するものである。
発明の概要
本発明は、所定の間隔で複数のガス放出口を有したガス
を導入する第１の管と、ガス放出口側を囲む様にガス溜
めを形成し第１の管と所定の間隔のスリットを形成する
部材とよりなるガス導入手段を、蒸着領域近傍に配して
蒸着時にガスを蒸着領域に導入するようになすものであ
る。
を導入する第１の管と、ガス放出口側を囲む様にガス溜
めを形成し第１の管と所定の間隔のスリットを形成する
部材とよりなるガス導入手段を、蒸着領域近傍に配して
蒸着時にガスを蒸着領域に導入するようになすものであ
る。
この製法によれば、非磁性支持体の中方向に均一にガス
が吹き出して各部均一な磁気特性の金属磁性薄膜か形成
される。
が吹き出して各部均一な磁気特性の金属磁性薄膜か形成
される。
実施例
以）、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
本例では第２図及び第３図に示す如きガス導入手段（４
）が設けられる。このガス導入手段（４）は、複数のガ
ス放出口（６）を有したガスを導入する管体（７）と、
この管体（７）をそのガス放出口（６）の形成される範
囲にわたって気密的に取り囲む管部材（８）とによって
構成される。この場合、管体（７）は断面円形となされ
、管部材（８）は断面楕円形となされる。管体（７）の
複数のガス放出口（６）は、管軸方向に沿って例えば等
間隔に形成される。管部材（８）においては、複数のガ
ス放出口（６）とは反対側にガスを外部に放出するため
のスリット状の開口（９）が設けられ、この開口（９）
の中りは後述する非磁性支持体の中以上とされる。管部
材（８）内においては、管体（７）を挾んでガス放出口
（６）側にこれを取り囲むように第１のガス溜めａのが
形成され、反対の開口（９）側に第２のガス溜め（１１
）が形成される。そして、両ガス溜め０ωと（１１）の
中間部に管体（７）と管部材（８）との間で所定間隔の
スリン）、（１２）が形成される。
）が設けられる。このガス導入手段（４）は、複数のガ
ス放出口（６）を有したガスを導入する管体（７）と、
この管体（７）をそのガス放出口（６）の形成される範
囲にわたって気密的に取り囲む管部材（８）とによって
構成される。この場合、管体（７）は断面円形となされ
、管部材（８）は断面楕円形となされる。管体（７）の
複数のガス放出口（６）は、管軸方向に沿って例えば等
間隔に形成される。管部材（８）においては、複数のガ
ス放出口（６）とは反対側にガスを外部に放出するため
のスリット状の開口（９）が設けられ、この開口（９）
の中りは後述する非磁性支持体の中以上とされる。管部
材（８）内においては、管体（７）を挾んでガス放出口
（６）側にこれを取り囲むように第１のガス溜めａのが
形成され、反対の開口（９）側に第２のガス溜め（１１
）が形成される。そして、両ガス溜め０ωと（１１）の
中間部に管体（７）と管部材（８）との間で所定間隔の
スリン）、（１２）が形成される。
このガス導入手段（４）では第４図に示すように、管体
（７）内に一方の側からガス（３）が導入されると、こ
のガス（３）は管体（７）のガス放出口（６）から第１
のガス溜めαψに放出される。放出時のガス圧分布は第
１図で説明したと同様にガス放出口（６）の位置近傍に
ピークをもった中方向に不均一な分布となる。
（７）内に一方の側からガス（３）が導入されると、こ
のガス（３）は管体（７）のガス放出口（６）から第１
のガス溜めαψに放出される。放出時のガス圧分布は第
１図で説明したと同様にガス放出口（６）の位置近傍に
ピークをもった中方向に不均一な分布となる。
第１のガス溜めａΦに噴出された後、ガス（３）は管体
（７）及び管部材（８）間のスリット（１２）を通って
第２のガス溜め（１１）に至る。この過程にお゛いてス
リット（１２）の間隔は極めて狭く、スリット（１２）
をガス流が通りにくくなるため、ガス流は第１のガス溜
めａω内で中方向（管体（７）の管軸方向）に運動を始
める。これにより第１のガス溜めαのでのガス分布は均
一となり、第２のガス溜め（１１）からスリット状の開
口（９）を通って噴出されるガスは中方向で完全に均一
となる。
（７）及び管部材（８）間のスリット（１２）を通って
第２のガス溜め（１１）に至る。この過程にお゛いてス
リット（１２）の間隔は極めて狭く、スリット（１２）
をガス流が通りにくくなるため、ガス流は第１のガス溜
めａω内で中方向（管体（７）の管軸方向）に運動を始
める。これにより第１のガス溜めαのでのガス分布は均
一となり、第２のガス溜め（１１）からスリット状の開
口（９）を通って噴出されるガスは中方向で完全に均一
となる。
なお、上例の構成においてスリット（１２）よりのガス
（３）は中方向に均一な圧力をもって噴出するので、原
理的には第２のガス溜め（ｉｌ）及び開口（９）を省略
し、スリット（１２）が外部に臨むような構成とするこ
ともできる。
（３）は中方向に均一な圧力をもって噴出するので、原
理的には第２のガス溜め（ｉｌ）及び開口（９）を省略
し、スリット（１２）が外部に臨むような構成とするこ
ともできる。
また、上例では所謂２重管構造としたが、２重管構成で
ある必要もなく、又２重管であっても管部材（８）が断
面楕円形であるａ−要もなく、形状は適宜変更し得るも
のである。
ある必要もなく、又２重管であっても管部材（８）が断
面楕円形であるａ−要もなく、形状は適宜変更し得るも
のである。
而して本例では上述のガス導入手段（４）を第５図に承
ずｌＩ稗梨型磁気記録媒体の製造に用いる蒸着装置（２
０）内に配置する。この蒸着装置（２０）は、真空チャ
ンバー（２１）内に金属キャン（２２）が設けられ、こ
れを縞って非磁性支持体（２３）が供給リール（２４）
から巻取リール（２５）に移送するように配される。一
方金属キャン（２２）に対向する下方に金属磁性材料例
えばＣｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ或はそれらの合金等の蒸着源
（２６）が配置される。蒸着源（２６）と非磁性支持体
（２３）間には金属蒸気流を遮蔽するシャッター（２７
）が配され、このシャッター（２７）によって蒸着源（
２６）から蒸発した金属磁性粒子が非磁性支持体（２３
）上に所定の入射角をもって斜め蒸着される。この非磁
性支持体（２３）の蒸着領域に近接した位置に、ガス導
入手段（４）がそのスリット状の開口（９）の長さ方向
を非磁性支持体（２３）の１１１方向と一致する如く配
され、このガス導入手段（４）を通じて酸素ガスが蒸着
領域に均一に供給される。（２８）は酸素ガス供給弁、
（２９）は真空チャンバーの排気弁である。
ずｌＩ稗梨型磁気記録媒体の製造に用いる蒸着装置（２
０）内に配置する。この蒸着装置（２０）は、真空チャ
ンバー（２１）内に金属キャン（２２）が設けられ、こ
れを縞って非磁性支持体（２３）が供給リール（２４）
から巻取リール（２５）に移送するように配される。一
方金属キャン（２２）に対向する下方に金属磁性材料例
えばＣｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ或はそれらの合金等の蒸着源
（２６）が配置される。蒸着源（２６）と非磁性支持体
（２３）間には金属蒸気流を遮蔽するシャッター（２７
）が配され、このシャッター（２７）によって蒸着源（
２６）から蒸発した金属磁性粒子が非磁性支持体（２３
）上に所定の入射角をもって斜め蒸着される。この非磁
性支持体（２３）の蒸着領域に近接した位置に、ガス導
入手段（４）がそのスリット状の開口（９）の長さ方向
を非磁性支持体（２３）の１１１方向と一致する如く配
され、このガス導入手段（４）を通じて酸素ガスが蒸着
領域に均一に供給される。（２８）は酸素ガス供給弁、
（２９）は真空チャンバーの排気弁である。
ルｒる構成によれば、金属磁性材料の蒸着時にガス導入
手段（４）を通じて所定量の酸素ガスが蒸着領域に供給
され、この＃ｌ素ガスは非磁性支持体（２３）の中方向
に関して均一に供給される。従って、各部間条件の雰囲
気中で金属磁性ｎが形成されるので、その磁性１１膜の
抗磁力Ｈｅは各部均一となり、抗磁力Ｈｃにバラツキの
ない商品質のＷ＃験梨型磁気記録媒体得られる。また上
例のガス放出手段（４）では、スリット状の開口（９）
の中ｄと肉厚ｔを調整することにより、ガスの長手方向
（放出方向）への分布も自由に制御できる。
手段（４）を通じて所定量の酸素ガスが蒸着領域に供給
され、この＃ｌ素ガスは非磁性支持体（２３）の中方向
に関して均一に供給される。従って、各部間条件の雰囲
気中で金属磁性ｎが形成されるので、その磁性１１膜の
抗磁力Ｈｅは各部均一となり、抗磁力Ｈｃにバラツキの
ない商品質のＷ＃験梨型磁気記録媒体得られる。また上
例のガス放出手段（４）では、スリット状の開口（９）
の中ｄと肉厚ｔを調整することにより、ガスの長手方向
（放出方向）への分布も自由に制御できる。
尚、上例では酸素ガスを供給する場合について述べたが
、他の所要ガスを供給する場合にも適用できる。
、他の所要ガスを供給する場合にも適用できる。
発明の効果
本発明によれば、所定の間隔で袂数のガス放出口を有し
たガスを導入する第１の管と、ガス放出口側を囲む様に
ガス溜めを形成し第１の管との間で所定の間隔のスリッ
トを形成する部材とよりなるガス導入手段を用いること
により、中方向に均一にガスを吹き出すことができる。
たガスを導入する第１の管と、ガス放出口側を囲む様に
ガス溜めを形成し第１の管との間で所定の間隔のスリッ
トを形成する部材とよりなるガス導入手段を用いること
により、中方向に均一にガスを吹き出すことができる。
従って、このガス導入手段によゲζ蒸着時に所定ガスを
蒸着領域に導入することにより、各部均一の磁気特性を
有する金属磁性薄膜が形成され、磁気特性にバラツキの
ない薄膜型磁気記録媒体を製造することができる。
蒸着領域に導入することにより、各部均一の磁気特性を
有する金属磁性薄膜が形成され、磁気特性にバラツキの
ない薄膜型磁気記録媒体を製造することができる。
第１図は従来のガス放出手段の例を不す説明図、第２図
は本発明に適用されるガス放出手段の一例を承ず断面図
、第３図はその展開図、第４図は部分破断斜視図、第５
図は本発明に適用される蒸着装置である。 （４）はガス放出手段、（６）はガス放出口、（７）は
管体、（８）は管部材、（９）は開口、（ＩＩは第１の
ガス溜め、（１１）は第２のガス溜め、（１２）はスリ
ット、（２０）は蒸着装置、（２３）は非磁性支持体、
（２６）は金属磁性材の蒸着韓である。 第２図 第３図 第４図
は本発明に適用されるガス放出手段の一例を承ず断面図
、第３図はその展開図、第４図は部分破断斜視図、第５
図は本発明に適用される蒸着装置である。 （４）はガス放出手段、（６）はガス放出口、（７）は
管体、（８）は管部材、（９）は開口、（ＩＩは第１の
ガス溜め、（１１）は第２のガス溜め、（１２）はスリ
ット、（２０）は蒸着装置、（２３）は非磁性支持体、
（２６）は金属磁性材の蒸着韓である。 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 所定の間隔で複数のガス放出口を有したガスを導入する
第１の管と、前記ガス放出口側を囲む様にガス溜めを形
成し前記第１の管と所定間隔のスリットを形成する部材
とよりなるガス導入手段が、蒸着領域近傍に配されて蒸
着時に所定ガスが蒸着領域に導入されることを特徴とす
る薄膜型磁気記録媒体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9372784A JPS60237638A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜型磁気記録媒体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9372784A JPS60237638A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜型磁気記録媒体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60237638A true JPS60237638A (ja) | 1985-11-26 |
| JPH0458655B2 JPH0458655B2 (ja) | 1992-09-18 |
Family
ID=14090443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9372784A Granted JPS60237638A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜型磁気記録媒体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60237638A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01211322A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-24 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2009084675A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-23 | Ulvac Japan Ltd | 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法 |
-
1984
- 1984-05-10 JP JP9372784A patent/JPS60237638A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01211322A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-24 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2009084675A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-23 | Ulvac Japan Ltd | 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0458655B2 (ja) | 1992-09-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |