JPH0458655B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、非磁性支持体上に金属磁性薄膜を被
着形成してなる薄膜型磁気記録媒体の製法に関す
る。

背景技術とその問題点 近年、磁気記録の高密度化の目的で、非磁性支
持体上に、真空蒸着等の方法により数百〓〜略
1μの厚みの金属磁性薄膜を形成させた薄膜型の
磁気記録媒体について研究が盛んである。このよ
うな薄膜型磁気記録媒体において、高い抗磁力
Hcを有する金属磁性薄膜を得る方法として、蒸
着時にその蒸着領域に対して酸素ガスを吹き付け
る方法が提案されている。

従来、かかる酸素ガスの供給は第１図に示すよ
うに非磁性支持体の巾方向に対応して管側壁に所
定間隔でガス放出口１を設けたガス導入管２を配
し、このガス導入管２を導入した酸素ガスを、ガ
ス放出口１より吹き出させて蒸着領域に供給する
ようになしている。しかるに図示のようにガス導
入管２の片側から酸素ガス３を導入した場合、ど
うしても非磁性支持体の巾方向に関して曲線
（）で示すように吹き出すガス圧に分布ができ、
極近傍で見た場合、酸素ガス量がガス導入側より
漸次減少する。このため非磁性支持体上に被着形
成された金属磁性薄膜は、その非磁性支持体の巾
方向に関して抗磁力Hcに大きなバラツキが生ず
る懼れがあつた。

発明の目的 本発明は、上述の点に鑑み、蒸着時に非磁性支
持体の巾方向に均一にガスを吹き出して各部均一
な磁気特性を有する金属磁性薄膜を形成できるよ
うにした薄膜型磁気記録媒体の製法を提供するも
のである。

発明の概要 本発明は、所定の間隔で複数のガス放出口を有
したガスを導入する第１の管と、ガス放出口側を
囲む様にガス溜めを形成し第１の管と所定の間隔
のスリツトを形成する部材とよりなるガス導入手
段を、蒸着領域近傍に配して蒸着時にガスを蒸着
領域に導入するようになすものである。

この製法によれば、非磁性支持体の巾方向に均
一にガスが吹き出して各部均一な磁気特性の金属
磁性薄膜が形成される。

実施例 以下、図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。

本例では第２図及び第３図に示す如きガス導入
手段４が設けられる。このガス導入手段４は、複
数のガス放出口６を有したガスを導入する管体７
と、この管体７をそのガス放出口６の形成される
範囲にわたつて気密的に取り囲む管部材８とによ
つて構成される。この場合、管体７は断面円形と
なされ、管部材８は断面楕円形となされる。管体
７の複数のガス放出口６は、管軸方向に沿つて例
えば等間隔に形成される。管部材８においては、
複数のガス放出口６とは反対側にガスを外部に放
出するためのスリツト状の開口９が設けられ、こ
の開口９の巾Ｄは後述する非磁性支持体の巾以上
とされる。管部材８内においては、管体７を挾ん
でガス放出口６側にこれを取り囲むように第１の
ガス溜め１０が形成され、反対の開口９側に第２
のガス溜め１１が形成される。そして、両ガス溜
め１０と１１の中間部に管体７と管部材８との間
で所定間隔のスリツト１２が形成される。

このガス導入手段４では第４図に示すように、
管体７内に一方の側からガス３が導入されると、
このガス３は管体７のガス放出口６から第１のガ
ス溜め１０に放出される。放出時のガス圧分布は
第１図で説明したと同様にガス放出口６の位置近
傍にピークをもつた巾方向に不均一な分布とな
る。第１のガス溜め１０に噴出された後、ガス３
は管体７及び管部材８間のスリツト１２を通つて
第２のガス溜め１１に至る。この過程においてス
リツト１２の間隔は極めて狭く、スリツト１２を
ガス流が通りにくくなるため、ガス流は第１のガ
ス溜め１０内で巾方向（管体７の管軸方向）に運
動を始める。これにより第１のガス溜め１０での
ガス分布は均一となり、第２のガス溜め１１から
スリツト状の開口９を通つて噴出されるガスは巾
方向で完全に均一となる。

なお、上例の構成においてスリツト１２よりの
ガス３は巾方向に均一な圧力をもつて噴出するの
で、原理的には第２のガス溜め１１及び開口９を
省略し、スリツト１２が外部に臨むような構成と
することもできる。

また、上例では所謂２重管構造としたが、２重
管構成である必要もなく、又２重管であつても管
部材８が断面楕円形である必要もなく、形状は適
宜変更し得るものである。

而して本例では上述のガス導入手段４を第５図
に示す薄膜型磁気記録媒体の製法に用いる蒸着装
置２０内に配置する。この蒸着装置２０は、真空
チヤンバー２１内に金属キヤン２２が設けられ、
これを繞つて非磁性支持体２３が供給リール２４
から巻取リール２５に移送するように配される。
一方金属キヤン２２に対向する下方に金属磁性材
料例えばCo，Fe，Ni或はそれらの合金等の蒸着
源２６が配置される。蒸着源２６と非磁性支持体
２３間には金属蒸気流を遮蔽するシヤツター２７
が配され、このシヤツター２７によつて蒸着源２
６から蒸発した金属磁性粒子が非磁性支持体２３
上に所定の入射角をもつて斜め蒸着される。この
非磁性支持体２３の蒸着領域に近接した位置に、
ガス導入手段４がそのスリツト状の開口９の長さ
方向に非磁性支持体２３の巾方向と一致する如く
配され、このガス導入手段４を通じて酸素ガスが
蒸着領域に均一に供給される。２８は酸素ガス供
給弁、２９は真空チヤンバーの排気弁である。

斯る構成によれば、金属磁性材料の蒸着時にガ
ス導入手段４を通じて所定量の酸素ガスが蒸着領
域に供給され、この酸素ガスは非磁性支持体２３
の巾方向に関して均一に供給される。従つて、各
部同条件の雰囲気中で金属磁性薄膜が形成される
ので、その磁性薄膜の抗磁力Hcは各部均一とな
り、抗磁力Hcにバラツキのない高品質の薄膜型
磁気記録媒体が得られる。また上例のガス放出手
段４では、スリツト状の開口９の巾ｄと肉厚ｔを
調製することにより、ガスの長手方向（放出方
向）への分布も自由に制御できる。

尚、上例では酸素ガスを供給する場合について
述べたが、他の所要ガスを供給する場合にも適用
できる。

発明の効果 本発明によれば、所定の間隔で複数のガス放出
口を有したガスを導入する第１の管と、ガス放出
口側を囲む様にガス溜めを形成し第１の管との間
で所定の間隔のスリツトを形成する部材とよりな
るガス導入手段を用いることにより、巾方向に均
一にガスを吹き出すことができる。従つて、この
ガス導入手段によつて蒸着時に所定ガスを蒸着領
域に導入することにより、各部均一の磁気特性を
有する金属磁性薄膜が形成され、磁気特性にバラ
ツキのない薄膜型磁気記録媒体を製造することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のガス放出手段の例を示す説明
図、第２図は本発明に適用されるガス放出手段の
一例を示す断面図、第３図はその展開図、第４図
は部分破断斜視図、第５図は本発明に適用される
蒸着装置である。 ４はガス放出手段、６はガス放出口、７は管
体、８は管部材、９は開口、１０は第１のガス溜
め、１１は第２のガス溜め、１２はスリツト、２
０は蒸着装置、２３は非磁性支持体、２６は金属
磁性材の蒸着源である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 所定の間隔で複数のガス放出口を有したガス
   を導入する第１の管と、前記ガス放出口側を囲む
   様にガス溜めを形成し前記第１の管と所定間隔の
   スリツトを形成する部材とよりなるガス導入手段
   が、蒸着領域近傍に配されて蒸着時に所定ガスが
   蒸着領域に導入されることを特徴とする薄膜型磁
   気記録媒体の製法。