JPS6025506A - 水素選択透過性複合膜およびその製造方法 - Google Patents

水素選択透過性複合膜およびその製造方法

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JPS6025506A
JPS6025506A JP13285783A JP13285783A JPS6025506A JP S6025506 A JPS6025506 A JP S6025506A JP 13285783 A JP13285783 A JP 13285783A JP 13285783 A JP13285783 A JP 13285783A JP S6025506 A JPS6025506 A JP S6025506A
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Katsuya Yamada
克弥 山田
Shigeru Asako
茂 浅古
Koichi Okita
晃一 沖田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野〕 本発明は、水系遇択透過性俵会腺す−よびその装造方法
に閃し、史に詳しくは四弗化エチレン@脂多孔質膜にシ
リコン化合物が積層され、その表面にグロー放電による
プラズマ息8薄腺が堆積δれている水系遇択成過注俵会
展および七の製造方法に関する。
〔発明の背景〕
近年、石旧徊栢の高論と石藺資諒の拡酸が叫ばれるなか
で化学工來の損藺依存俸頁を改めるべく、石炭、入熱ガ
ス、オイルサンドといりfcシμ石油系原料を利用する
ことが検討されている。具体的には、非石油丞以宿に水
燕気改買ヤ熱分辞寺の処理を施すことにより侍られる會
成ガス、あるいは装駄所等に2けるコークス炉の屍ガス
などt出元原斜とし、パラジウム寺の特殊pB緑を用い
てメタノール、エタノール時の基硬化宇品と表慮する試
与である◇訣糸畝1岡の一酸化次系を原料とすることか
らC1化字と名付けられているこの技何分野は、靜[什
成法のための鵬峰曲完と、〃ス濃灰調金のためのガス分
子、槓装技何の自発、待に水粟培択逍鳩[躾の開先を必
安とする□ また、水系塵択造過性展は、上Nrj分野たけではなく
、水電解やその他の水系@有力゛スの分離槓5qを最も
省エネルギー的に央す也Tゐのにも有効であり、七の有
用aは極めて大きい。
後れた水果迩沢透過注映とは、水系の他のガスに対する
晶い選択透過性と、水系の尚い透過性を会わ一+!:召
し、かつ耐熱性、耐楽品注、尚価灰を持つものでめる。
ここでいう高い選り<透過性とtユ、例えば、−1留化
炭素に対し QGO 〔ここで、見d2は水系の透過速度、QGOは一酸化翼
基の透過速度を衷Vす。」 で足表される水系の廐択2fIttti性が太さいとい
うことでめる。lた、尚い逆厄注とは、冑12 の絶対
値が大きいことを意味する◎ ところが、市販ちれている尚分子惠−8−俸または共M
’8一体の単一基材でこれら要求特性の全てt崗だすこ
とtユ不旬舵である。従って、これら斐水付性を関す材
料を得るために塊在lで櫨々のガ舐が検討されてきた。
その例として、相分−fr、利用し、表面の活性スキン
膚の岸かt極力薄くした非対称族勿用いる方法、めるい
は粘性スキン層に相当す・る超薄膜を顕豆に製造して1
出の多孔性支付俸へ値合化しようとする方法などがるる
1、しかしながら、いずれも上北安求特庇余でt十分に
7両たした俣を得ることには成功していない。
本釦明は、従来の課に比べて上記要求特性を十分に満た
し特に、これ兼でに頗を与ない特注として、尚&ILr
Cひいてすら尚い洗面をiする水系選択透過性仮台ルQ
くび七の製逍力沃を捉恢するものである。
〔究明の信J祝〕
+殆明者は、耐熱性、+rvi業品性、機械特性に後れ
たものとして四す1シ化エチレン−1指多孔買展を支持
体とし、俵廿化系灯として月いられることの多いゴム糸
の材料に代え、機械特性、1耐熱注、装膜性にも振れ、
かつガス透y9跣の大さいシリコン化合物¥偵会化梁仔
とし、ざらには、グロー放電にょるプラズマ厘合痔課を
堆槓さぜた構造とすることにより、安定かつ均一な性能
を有し、尚ぬにおいても尚い選択透過性【有する水來選
択逆過注候片71!!が優られることを見い出した。
本発明で用いる四弗化エチレン崗脂多1ム買族は、ポリ
スルホンやポリイミド寺の耐熱性、t++rj楽品注樹
脂と比軟しても特に後れた特性?付する1イ相でめり、
しかも、七の多孔化技イ村も進んでいることから、安定
した多−11J注文狩俸として好適に用いることができ
る。
・ 一方、シリコン化ft?/lはオルガノシロキサン
と、ま鎮もしくは側鎖に少なくとも1蘭の芳蔚環r刊す
る有機物との顧会■台によって優らノL、そのイ博造式
は次式で衣わされる株返し栴迫小位を+rYつもの芳否
環を仔する44砿基、R2よびk はそれぞれ11曲の
官It’d絃m2よびnは目然叙を表わ°す、〕本発明
番は、四弗化エチレン便脂多孔質展の片割1表面に、こ
のシリコン化合物の博挨を積層することにより、+/A
+Jk、特性、耐熱性に疑れ、ガス通過性の大きい抜合
支持坏が侍られ、かつこの値会文持体がグラズマ厘曾4
族を堆積させるのに好適でめること倉見い出した。
具体的には、芳食環を主鎖lたは側−に少なくとも1I
II!llk付する化合物と、オルガノシロキサン化合
物とのブロック共電8坏からなるシリコン化合物はグロ
ー放電によるプラズマ寡囲気に2ける分解が不忠躾な程
に少なく、プラズマ厘会とプラズマスパッタリングとの
成争及応となるa常の支持体と比軟して、専らグラズマ
瓜合の方が髪先的に免じるため安定な凰合博映の堆積が
川面となフ、・結果として支何体の解亜会や水系発主に
起因すると思lりれるクレータ−伏の欠陥−?亀裂等の
部分がほとんどン自滅する。芳貢塊を嚇−しない化合物
としてたトエはジメチルポリシロキサンを支持体として
ダロー放Mh血気にさらすと、プラズマ厘曾による薦麓
増加よシもプラズマスパッタリングVCよる瓜賦減少の
方が機先して進行し、結呆として安定な品質の水木選択
透過性俵合膜を鴎ることが出来媒くなる。
本発明で用いるシリコン化合物は、FJj+記博砲式(
Dで示される株り返し単位からなる本合俸であり幡、例
えば−H、−〇Ha 、 @ 、(−L(=CH2゜−
、C1(=C)1−CH2,−Cミctiなどがめげら
れる。
、もちろんこれ以外のものであってもよい。
これらのシリコン化合物は、ジクロルメタン、クロロホ
ルム、四塩化R累、トリクレン寺の−系糸浴縄、ジメチ
ルアセ)アミド等のアミド糸溶媒、・テトラヒドロフラ
ン専の塊状エーテル、ベンゼン、トルエン等の芳晋辰次
化水系、メチルエチルケトン、アセトン寺υケトン頬に
溶解する。また、N−メチ/I/−2−ピロリドン等の
寝伏含窒系糸浴線にも溶解性を示すので、溶解度の大き
い浴謀と溶解度の小さいr4媒を庇付して用いることも
できる。
r4孜澁灰、溶媒の檀頬、溶媒の組合せなどによシ層成
の粘度を−長し、換の孔への浸入の灰会いゃ来質的な膜
厚tかえることもできる。
欠に、プラズマ厘会させる化ツマ−について説明する。
槌々のモノマー、たとえはエチレンやアセチレンがグロ
ー放置された雰囲気中でプラズマ厘会することが知られ
ているが、本究明の目的には、オルガノシラン化什物が
好よしい。
オルガノシラン化合物としては、たとえばテトラメチル
シラン、ヘキサメチルジシラザン、メチルジクロロシラ
ン、メチルトリクロロシラン寺ノシランもめるが爪台中
のX案ガスの発生夏が太さいという欠点かりる。一方不
細和M会盆仔するオルガノシラン化合物、たとえはトリ
メチルビニルシラン、ジメチルビニルクロロシラン、ビ
ニルトリクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、
メチルトリビニルシラン、アリルトリメチルシラン、エ
チニールトリメチルシラン時を工プラズマ亦四気でもガ
ス%生が少なく、そのためプラズマ亦囲気で免じた活性
種は静分子嵐化しや丁(7i:!01、機械的強度のみ
ならず、舛ぬによる俵合展全俸の熱膨張にも充分に耐え
るようになる。この結朱尚tML度、たとえば70℃以
上といつた募囲気でも尚い選択透過性を持続することが
用能となる。
ガス選択透過性膜としては、系何そのものの特注が秀れ
ているの与ならず、七の瀘過性を支配する栴成要素は可
及的に博くなけれはならない。この@i田は次の皿りで
おる。索材特性の評価tよ、力゛ス透過係叙の単位 p =tw3 e3/d −sec ・axHg七用い
て表わされ、これは素材1 tx厚さに換算したもので
ある。一方、債会展に2いては素材の4みそのものの運
過Ji1反 q=−/−拳sec・ax Hg の単位で表わされて2カ、lOμと1μの膜厚では、透
過係数は同じ臘でめっでも、透過速度は10倍の差が生
じる。従って、来際に必要な特注は透過速度であり、腹
のがさでるる。
0.本究明では、前記した仮付支持体にプラズマ嵐慮会
注ガスの混曾ガス′に尋人し、θ「定の出力、た1゛I
I とえば5〜500W、好1しくは4勺20Wで氷中\、
1) に1尚周波によるグロー放電を行な9と厘会性ガスがプ
ラズマ血合し、四弗化エチレン多孔置換に慎肩している
シリコン化分物上に痔疾として堆積する。この4映の4
与は、グロー放”+’4.時曲の灸さlたは亘会注ガス
の浣夏に會・よは比例して増加するので、任惹の厚み、
たとえは1μmたは0.3μの厚与に調顧することがで
きる。よた、グロー放電時の出力の増減によっても堆慎
厚魯が増減するが、これらの造膜条件は、この分野の技
南に14熟している者にとって容易に通過化できる範囲
でめる。。
いずれにしても、本究明では欠陥のない均−爪会展を上
紀厚春で堆積δぜることが必要でめり、そのためには支
狩俸、モノマーの両方がプラズマ亦囲気でガス弁生麓の
少ないことが嵐安となる。
慮脅注ガヌの一つの選択基準は、プラズマ爪せ薄膜が)
#さ1μlたは0.3μ以下という他渚層でめるからガ
ス分線しようとする1に% &ガスの一方の成分を可及
EBVc透過させないということである。
+1ツマ−であってもよい場会がめるが、好筐しい一群
は二瓜結会lたは三凰結会という不則相型′目′晶、基
を有するオルガノシラン化合物が爪台中に水・川 糸17時の発生虚が特別少なくより好lしい化曾゛□6 物:であることt見い出した。
以上詳述した如く、グラス゛マ爪合を行なう際には堆積
される叉舟体表面の化学構造2よびグラス゛マ厘合する
化ツマ−の化学楕it選択することによって狽分儒造と
なった界面が安定で平rK注を持続することか判明し、
尚い水系ガス選択透過性を示すとともに、外温雰囲気に
2いても特注劣化の少ないことが判明した。
この化学@迫VC2ける待値とは文付俸では少なくとも
1 +1g1以上の方f環を有するシロキサン共厘盆俸
でめシ、プラズマ爪台の化ツマ−では少なくとも11向
の不−和M会?有するオルカッシラン化付物であって、
両方ともにグロー放電杯囲気中に2いて、分解による王
として水系ガスの釦主怠が少ないことを待依としでいる
以下、不釦明七災翔例によって更に説明する。
実施例1 四弗化エチレン−11M多孔買膜ζ70ロボア[株]F
’、、P −022;庄及′亀工装)に、ポリジメチル
シロ、キサン−ビスフェノールAカーボネートブロック
・コポリマー20厘麓%tデトヲヒドロ7ラン冊瓜麓%
にI谷解ぞしりた浴ず反を厚さ35μに塗布し50℃に
て5分間法線を蒸釦δぜ礼織した◎舟ら几た俵会換のガ
ス透過特性を測定磁度30℃にて評価したところ、 QH2牟2.4 X l 0−5ttx” /lx2−
 sec −tvtHgα :3.2 でめった。
さらにメチルトリビニルシヲンを流速1. OQ;’/
・叫nで系内に尋人しながらIOWの出力で30分間反
応咎g8中にグロー族14tを行ない、恨合課の最外表
面にグラズマ爪台膜を堆積させた。
この様にして得られた3層俵合族の刀゛ス透過特性をよ
U定温度1υO℃にて評1曲したところ、QH2÷1.
5 X 10−5−/att2 ・sec ・tsHg
α ÷ 120 でめった。
実施例2 トリメチルビニルシランを流速2.0−/mlnでホ内
に尋人しながら、IOWの出力で20分同JX厄?4器
中にグロー放′成を汀ない、僕会映の最外表面にプラズ
マ恵合膜を堆積さぜたこと以外は、実施VAJ1と全く
同様にして3層俵合族を得た。
ガス透過特性を1廁定m反80℃にてWト価したところ
、 廟2÷7.OX 10−6ci 101’ −s ec
 ・t、txHgα ÷90 でめった。
、比叡例1 とニ/l/基を含有するポリジメチルシロキサン(SH
55LJ ; )−V・シU:1−:/C株)袈)2 
onよ%tトルエン80厘7:%に溶解せしめ、加硫剤
會添刀口したm液全ドクターナイフt−月いて四弗化ニ
チレン崗脂多−tL質展(70ロボア@)Fi”−02
2;住友゛眠工製〕上に85μの厚さに顔イロし、17
0℃にて30分間加加硫性なった。
ざらにトリメナルビニルシラン’i” 流m 1. O
t1113/mlnで系内に尋人しなからIOWの出力
で30分を市JX、厄谷とH中にグロー放′屯にイ丁な
い、値曾涙の最外表面にプラス°マ嵐−8−鋳を堆槓さ
せた。
この様にして得られた3m俵会展のガス透過特注を測定
−皮30℃にて評1曲したところ、QH2−81,2X
10−5cab”7cm2・sec −t、digα 
÷ 40 でめった。
測定1M度100℃にて評1曲したところ、Q)12÷
5.OX 1O−5tJ /c*2・sec −c*t
1gα ÷ 14 でめった。
〔究明の効果〕
2ける安定性を生〃λして、プラズマ班付薄膜を安定し
て堆積させることにより、尚注目目かつ均一な水系ガス
選択透過性懐倉映を得ることが司開となりた。また、こ
の俵会展は、これlでの展に比べて、品温に2いても品
い水系店択透過性を維持でさるため、水系の前駅透過、
待KC,化学寺に2ける品温のガスの分―・積装が町1
化となり、C1化学グロセヌに2けるyA料ガスのrl
l#温・昇温といった莫大なエネルギーe*する工lt
M’に省略もしくは細小するととt旬間とするものでる
る。従って、水系の選択透過t、より百エネルギー的に
突厖するために、億めて大さな幼果が期待できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)四部1しエチレン鋪膓多孔賀膜に、構造式: %式% 〔式中、Xは主rAIだは側御に少なくとも11向の芳
    台ちdを仔する刊偵基、kおよびに1 はそれぞれ11
    間の1能基、1n&よびnは自然躍を衷わ′す、〕で示
    されるシリコン化合?Iが偵/ff7され、その辰血に
    少なくともI I+!の二JJi紹付Iたは三亜結脅を
    台むオルガノシラン化合物のグロー放′亀によるフ”ラ
    ズマ爪会痔課が唯積されていることt持■とする7Ka
    i広択逸過注値会崗@ (2)70℃を總える1ML1f券四丸にνめて、見C
    0 〔ここで、QH2は水系の透過速度−QCOは−酸化次
    系の透J@ll速反を表1りす。〕で定表される水系の
    〜酸化次系に対する選択透過圧αが少なくとも20でめ
    ることを待倣とする待ff硝求のm間第1項記載の俵合
    膜。 (3) シリコン化H物が、ボリシメチルシロキサンー
    ビヌフエノーA/Aカーボネートブロックコポリマー1
    fcはポリジメチルシロキサン−α−メチルスチレンブ
    ロックコポリマーでめることを待畝とする待IPF請求
    の嘘間第1項妃載の複合膜。 (4)オルガノシラン化合物力、 式: kデーS t −Y 4− t 〔式中、R2はビニル、エチニルまたに7jJ tし、
    Yは水素、塩素、メチ/L/筐たはエチル、nは1〜4
    の鉦数七表わす。〕 で示される化合物でめることを特徴とする特に「請求の
    範v5第1項記戦の韻合映。 (5)構造式: −(X−+E+S iφへ 息 l 〔式中、Xは主調lfcは側御に少なくとも11向の芳
    沓城を有する有機基、R2よびに1はそれぞn 11=
    の貧能基、mおよびnは自然数を衷わ11〕で示される
    シリコン化合物と浴剤とを含んで成る層成を四弗化エチ
    レン樹脂多孔質膜表面に塗布し、乾燥させた後、少なく
    ともIItllの二Mti会’17cは三厘結会を含む
    オルガノシラン化合@をモノマー蒸気として5 tor
    r以下の雰囲気に供給しながらグロー放電させてプラズ
    マ点会博映を堆積させることt−待倣とする水素選択逆
    庖性俵合展の装造方法0 (6)70℃を越えるIML7f芥#iBヌζに2匹て
    。 H2 α =−一一一一一一− QGO 〔ここで、見H2は水素の透過速度、見coは一酸化次
    系の透過速度を表わす。」 で定桟される水系り一酸化次系に対する韻会膜の選択透
    過性αが少なくとも20となる条件で1ラズマHa−を
    行なうことを待倣とする待肝哨求の範囲第5項記載の製
    造方法。 (η ポリジメチルシロキサン−ビスフェノールAカー
    ボネートブロックコポリマーlたはポリジメチルシロキ
    サン−α−メチルスチレンブロックコポリマーと浴剤と
    t含んで成る層成を四弗化エチレン樹脂多孔質線表面に
    重信し、乾燥させることを特徴とする特Ii′f鋼求の
    範囲第5項記載の製造方法。 (8)式: R2−8i−Y J 4−7 ε式中、R2[ビニル、エチニルlytはアリア1.r
    、Yは水系、曳索、メチルlたはエチル、nは1〜4の
    整数を表わす。〕 で示されるオ〃ガノシラン化会物tモノマーm%として
    プラズマ厘曾することを特徴とする待i’F硝求の範囲
    第5項記載のAlII!愈方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003053886A1 (en) * 2001-12-21 2003-07-03 Degussa Ag Volume gassing

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5969105A (ja) * 1982-10-12 1984-04-19 Shin Etsu Chem Co Ltd 気体分離用複合成形体

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