JPS60255794A - セフアロスポリン類の製造法 - Google Patents
セフアロスポリン類の製造法Info
- Publication number
- JPS60255794A JPS60255794A JP60104110A JP10411085A JPS60255794A JP S60255794 A JPS60255794 A JP S60255794A JP 60104110 A JP60104110 A JP 60104110A JP 10411085 A JP10411085 A JP 10411085A JP S60255794 A JPS60255794 A JP S60255794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- carried out
- anhydride
- definition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 title claims abstract 3
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 title claims abstract 3
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 title claims abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N methanesulfonyl chloride Chemical compound CS(Cl)(=O)=O QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012359 Methanesulfonyl chloride Substances 0.000 claims description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- -1 shisoge apyramine Substances 0.000 claims description 3
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 claims 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-O isoquinolin-2-ium Chemical compound C1=[NH+]C=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- MIHIJWOEDDPOLG-DUXPYHPUSA-N (2e)-2-methoxyiminoacetic acid Chemical compound CO\N=C\C(O)=O MIHIJWOEDDPOLG-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 2
- NLARCUDOUOQRPB-WTKPLQERSA-N (2z)-2-(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetic acid Chemical compound CO\N=C(/C(O)=O)C1=CSC(N)=N1 NLARCUDOUOQRPB-WTKPLQERSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000102542 Kara Species 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazol-2-amine Chemical compound NC1=NC=CS1 RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- FKRJBLSRDZETPR-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)methoxyimino]acetic acid Chemical compound NC1=NC(CON=CC(O)=O)=CS1 FKRJBLSRDZETPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIHIJWOEDDPOLG-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyiminoacetic acid Chemical compound CON=CC(O)=O MIHIJWOEDDPOLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N Phenazopyridine Chemical compound NC1=NC(N)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1 QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229950003476 aminothiazole Drugs 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N formamide Substances NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229940070891 pyridium Drugs 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
- C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、中でもヨーロツ・ぞ特許第64740号、ヨ
ーロッパ特許第74,645号、独国公開特許第3,3
11.300号及び米国特許第4.406.899号に
言及されている一般式I (+) 〔式中、R1は直鎖又は分岐鎖、環式並びに不飽和であ
ってよいC3〜C,アルキルヲ表わし、そして llは1つ又はいくつか置換されていてよいの基を表わ
す〕 の公知のセファロスポリンの製造法に関する。
ーロッパ特許第74,645号、独国公開特許第3,3
11.300号及び米国特許第4.406.899号に
言及されている一般式I (+) 〔式中、R1は直鎖又は分岐鎖、環式並びに不飽和であ
ってよいC3〜C,アルキルヲ表わし、そして llは1つ又はいくつか置換されていてよいの基を表わ
す〕 の公知のセファロスポリンの製造法に関する。
本方法は、一般式■の酸をメタンスルホニルクロライド
で所望の無水物璽に転化し、後者を、Aが上述の意味を
有する一般式■の7−アミンセフアロスポラネートと反
応させることが特色である:(1) (It) (W) 混合無水物は、式五のカルボン酸及びアミン1〜1.1
当量を溶媒に溶解し、これをメタンスルホニルクロライ
ド1〜1.2当量と反応させることによって製造される
。
で所望の無水物璽に転化し、後者を、Aが上述の意味を
有する一般式■の7−アミンセフアロスポラネートと反
応させることが特色である:(1) (It) (W) 混合無水物は、式五のカルボン酸及びアミン1〜1.1
当量を溶媒に溶解し、これをメタンスルホニルクロライ
ド1〜1.2当量と反応させることによって製造される
。
適当な溶媒は反応条件下に安定であるすべての溶媒例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチ
ルホルムアミド又珪これらの混合物である。
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチ
ルホルムアミド又珪これらの混合物である。
適当なアミンは三級アミン例えばトリエチルアミン、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソグロ
ビルアミン、立2体障害された2級7ミンfliえはジ
イソプロピルアミン、又はこれらのアミンの混合物であ
る。
リエチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソグロ
ビルアミン、立2体障害された2級7ミンfliえはジ
イソプロピルアミン、又はこれらのアミンの混合物であ
る。
反応温度は一り0℃〜室温であってよく、ジメチルホル
ムアミドを用いる場合には低温が特に有利である。
ムアミドを用いる場合には低温が特に有利である。
続く混合無水物蓋と7−アミツセフアロスポラネー)F
/との反応の場合、溶解性の理由のだめに、ジメチルホ
ルムアミド中、−40〜−60℃において反応を0.2
〜24時間、好ましくは0.5〜2時間継続させて無水
物層を製造し、そして得られる混合無水物蓋の溶液を、
適当な溶媒及び適当な塩基中7−アミツセフアロスポラ
ネート■の0.5〜20当量の溶液と直接反応させて所
望の生成物■を製造することは肩利である。
/との反応の場合、溶解性の理由のだめに、ジメチルホ
ルムアミド中、−40〜−60℃において反応を0.2
〜24時間、好ましくは0.5〜2時間継続させて無水
物層を製造し、そして得られる混合無水物蓋の溶液を、
適当な溶媒及び適当な塩基中7−アミツセフアロスポラ
ネート■の0.5〜20当量の溶液と直接反応させて所
望の生成物■を製造することは肩利である。
■を得るだめの上述の1及び■の反応の場合、溶解性の
理由のために、7−アミノセファロス4ラネート■を極
性溶媒、即ちジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジグライム、好ましくは水に溶解する。曹及びN
と塩基の溶液を適当な温度で混合し、反応が完了するま
で激しく攪拌する。
理由のために、7−アミノセファロス4ラネート■を極
性溶媒、即ちジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジグライム、好ましくは水に溶解する。曹及びN
と塩基の溶液を適当な温度で混合し、反応が完了するま
で激しく攪拌する。
使用される塩基は、上述の三級及び立体障害された二級
のアミンであってよく、無水物層に基づいて1〜25当
量が用いられる。トリエチルアミンが好ましくは使用さ
れる。しかしながら、塩基として無機塩基例えばNaO
H,KOE、 Na1iCO,又はに、Co、及びこれ
らの水溶液を用いることも可能である。反応中、’I’
Hは7以上であるべきであり、最終生成物の安定性に依
存して短期間12程度に逃してもよいつ高phi値は反
応速度を増大させる。
のアミンであってよく、無水物層に基づいて1〜25当
量が用いられる。トリエチルアミンが好ましくは使用さ
れる。しかしながら、塩基として無機塩基例えばNaO
H,KOE、 Na1iCO,又はに、Co、及びこれ
らの水溶液を用いることも可能である。反応中、’I’
Hは7以上であるべきであり、最終生成物の安定性に依
存して短期間12程度に逃してもよいつ高phi値は反
応速度を増大させる。
反応温度は一50°−+50℃であり、9以上のpEで
の反応には0℃以下の反応温度が好適である。
の反応には0℃以下の反応温度が好適である。
反応時間は反応温度及びpHに依存し、数分ないし数時
間である。一般に反応は一20〜0℃の温度において及
び約9のpEにおいて5〜20分彼に完了する。
間である。一般に反応は一20〜0℃の温度において及
び約9のpEにおいて5〜20分彼に完了する。
処理は、出発化合物I及び■、用いたアミン及び塩基の
性質に、また生成物lの性質に依存する。
性質に、また生成物lの性質に依存する。
一般には、酸の添加後に生成物I及び生成物1の対応す
る塩を、適当な溶媒例えばアセトン、エタノール又はイ
ソグロパノールを用いて反応溶液から沈殿させる或いは
晶出させることが可能でちる。
る塩を、適当な溶媒例えばアセトン、エタノール又はイ
ソグロパノールを用いて反応溶液から沈殿させる或いは
晶出させることが可能でちる。
R1がメチル基を表わし、またAが式
の基を表わす式■の化合物は、本発明の方法によって特
に好適に製造される。
に好適に製造される。
式!の化合物の記述した製造法は、
1、Iにおけるアミノ基が保裏されている必要がない、
ZZ配装を有する一hOR・基は望壕しくないE配置に
異性化しない、 λ カルボン酸厘の活性化に使用される試剤メタンスル
ホニルクロライドは合理的な価格であり、取シ扱い易い
、 4 mの■との反応は反応条件を変えることによって容
易に制御される、 5、IIの■との反応は水性系で行なうこともでき、こ
れは化合物■の溶解性の理由のために特に有利である、 6、Iの■との反応で製造されるメタンスルホン酸の除
去は問題を含んでいない、 74 所望の生成物iの反応収率は非常に高い、という
利点を有する。
異性化しない、 λ カルボン酸厘の活性化に使用される試剤メタンスル
ホニルクロライドは合理的な価格であり、取シ扱い易い
、 4 mの■との反応は反応条件を変えることによって容
易に制御される、 5、IIの■との反応は水性系で行なうこともでき、こ
れは化合物■の溶解性の理由のために特に有利である、 6、Iの■との反応で製造されるメタンスルホン酸の除
去は問題を含んでいない、 74 所望の生成物iの反応収率は非常に高い、という
利点を有する。
実施例1
ルポギシレート
2−アミノチアゾルー4−イルメトキシイミノ酢酸37
.66 g(0,187モル)及びエチルジイソゾロピ
ルアミン34.21nt(0,196モル)をジメチル
ホルムアミド160−に溶解し、この溶液を一6o6c
tで冷却し、メタンスルホニルクロライド1 s、 l
mt (o。196モル)を添加した。この溶液を−
60〜−50”Cで40分間攪拌し、そしてこのすべて
を一度に、水54yd!中7−アミノー2−ビリンニウ
ムメチル−2−セフェム−3−カルボキシレートx l
B (1’ l xI II t 050 j? (
0,149モル)及びトリエチルアミン55 ml (
0,40モル)の、0℃に予冷した溶液に注入し、冷却
することなしに10分間、非常に激しく攪拌した。
.66 g(0,187モル)及びエチルジイソゾロピ
ルアミン34.21nt(0,196モル)をジメチル
ホルムアミド160−に溶解し、この溶液を一6o6c
tで冷却し、メタンスルホニルクロライド1 s、 l
mt (o。196モル)を添加した。この溶液を−
60〜−50”Cで40分間攪拌し、そしてこのすべて
を一度に、水54yd!中7−アミノー2−ビリンニウ
ムメチル−2−セフェム−3−カルボキシレートx l
B (1’ l xI II t 050 j? (
0,149モル)及びトリエチルアミン55 ml (
0,40モル)の、0℃に予冷した溶液に注入し、冷却
することなしに10分間、非常に激しく攪拌した。
次いで混合物をアセトン7、51中に導入し、沈殿を吸
引戸別し、アセトン及び塩化メチレンで洗浄し、乾燥し
た。所望の生成物66g(96チ)を得、これを濃塩酸
64−に溶解し且つ2N塩酸64#I/及びインゾロ・
ぐノール250−を添加することによって結晶性2塩酸
塩に転化した。2塩酸塩の収量:60p(76%)。
引戸別し、アセトン及び塩化メチレンで洗浄し、乾燥し
た。所望の生成物66g(96チ)を得、これを濃塩酸
64−に溶解し且つ2N塩酸64#I/及びインゾロ・
ぐノール250−を添加することによって結晶性2塩酸
塩に転化した。2塩酸塩の収量:60p(76%)。
lH−NMR(D、O)
δ(ppt++)=9.04 (211、d 、 /
=7// z 。
=7// z 。
11−2 、6− p V) H& 68 (I H、
m 、 // −4−7)y) ;8.19 (2H,
rn、71−3.5−py)H7,1B(lB、8.チ
アゾール);5.93(]#。
m 、 // −4−7)y) ;8.19 (2H,
rn、71−3.5−py)H7,1B(lB、8.チ
アゾール);5.93(]#。
d、J=511z、II−’I−ラクタム);5.89
(IH,d 、 J=1511z 、C’JI、−py
) ; 5.49 (111,d、J=1511z、C
1l、−1)y);5.39(1/)、 d 、 J
= 5 // z 、 // −6−ラクタム)Htt
o (3B、8.0CR3);3.82(IE、d、J
=18Hz、5−CE、);3.43(lH,d、J=
18Hz、5−CE、)。
(IH,d 、 J=1511z 、C’JI、−py
) ; 5.49 (111,d、J=1511z、C
1l、−1)y);5.39(1/)、 d 、 J
= 5 // z 、 // −6−ラクタム)Htt
o (3B、8.0CR3);3.82(IE、d、J
=18Hz、5−CE、);3.43(lH,d、J=
18Hz、5−CE、)。
実施例2
(Z)−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸719”l&58ミリモル)を、窒
素下室源において、無水ジメチルホルムアミド4.5
ml、に溶解した。N−エチルジイソゾロピルアミン2
30μ/、)リフロビルアミン250μj及びトリブチ
ルアミン310μlの添加後、混合物を一50℃に冷却
した。メシルクロライド290μlを添加し、溶液を一
50℃で30分間攪拌した。次いでこの溶液を、水1.
4−及びトリエチルアミン1.4d中7−アミノ−3−
(1−メチル−1−ピロリジニウム)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(×RC1)900■(Z
6 :” IJモル)の0℃に冷却した溶液に迅速に添
加した。5分後に、反応溶液をアセトン400m1中に
注いだ。沈殿を吸引炉別し、乾燥し、吸着剤樹脂HP2
0でのクロマトグラフィーにかけた(移動相ニアセトニ
トリル/水5 / 95)。
メトキシイミノ酢酸719”l&58ミリモル)を、窒
素下室源において、無水ジメチルホルムアミド4.5
ml、に溶解した。N−エチルジイソゾロピルアミン2
30μ/、)リフロビルアミン250μj及びトリブチ
ルアミン310μlの添加後、混合物を一50℃に冷却
した。メシルクロライド290μlを添加し、溶液を一
50℃で30分間攪拌した。次いでこの溶液を、水1.
4−及びトリエチルアミン1.4d中7−アミノ−3−
(1−メチル−1−ピロリジニウム)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(×RC1)900■(Z
6 :” IJモル)の0℃に冷却した溶液に迅速に添
加した。5分後に、反応溶液をアセトン400m1中に
注いだ。沈殿を吸引炉別し、乾燥し、吸着剤樹脂HP2
0でのクロマトグラフィーにかけた(移動相ニアセトニ
トリル/水5 / 95)。
+H−NMR(DMSO−d、)
δ(7+pm)=9.61 (lE 、 d 、 J=
9H2。
9H2。
NB) ;7.27 (211,s 、Nll、 )
;6.74(I H+ 8+アミノチアゾール);5.
65(1//。
;6.74(I H+ 8+アミノチアゾール);5.
65(1//。
dd、J=9Hz、J=5Hz、If−7’J ;5゜
13(IH,d、J=5Hz、H−6);5.02(1
11、d 、 J=t 3Hz 、 C1l、−ピロリ
ジニウム);3.91(1#、d、J−=13Hz、C
R,−ピロリジニウム);384(3II18,0C1
l、);3.82 (17/ 、 d 、 J=t 8
J1z 、 5−CJI、);3.44(47/、m、
ピロリジニウム);332(111,d、J=IB11
z、5−C11,);Z92 (3II 、 s 、
CHs −# −) ; Z O8(47/ 、 rn
。
13(IH,d、J=5Hz、H−6);5.02(1
11、d 、 J=t 3Hz 、 C1l、−ピロリ
ジニウム);3.91(1#、d、J−=13Hz、C
R,−ピロリジニウム);384(3II18,0C1
l、);3.82 (17/ 、 d 、 J=t 8
J1z 、 5−CJI、);3.44(47/、m、
ピロリジニウム);332(111,d、J=IB11
z、5−C11,);Z92 (3II 、 s 、
CHs −# −) ; Z O8(47/ 、 rn
。
ピロリジニウム)。
実施例3
7−β−((Z)−2−(2−アミノチアゾルー(Z)
−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキ
シイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(トリメチルアン
モニウム)−メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートから実施例2と同様にして製造した。
−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキ
シイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(トリメチルアン
モニウム)−メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートから実施例2と同様にして製造した。
’#−NMR(DMSO−d、)
δ(ppm)=c+62(tH,d、J=9Hz。
N11);7.2’1(2B、bs、NH,);6.7
5(1//、g、チアゾール)i6.66 (111,
dd。
5(1//、g、チアゾール)i6.66 (111,
dd。
J = 911 z 、 J = 5 Hz 、 B
−7−ラクタム);5.16(1#、d、/=5Hz、
H−6−ラクタム);5.01(1//、d、J=14
.77z、CH2−アンモニウム);λ91 (IH,
d、J=1411Z 、CB、−77モニウム);3.
84(3#/、g。
−7−ラクタム);5.16(1#、d、/=5Hz、
H−6−ラクタム);5.01(1//、d、J=14
.77z、CH2−アンモニウム);λ91 (IH,
d、J=1411Z 、CB、−77モニウム);3.
84(3#/、g。
() C” II s ) 73.83 (I E 、
d 、 J−18// z 。
d 、 J−18// z 。
S−CHt ) H& 29 (I H、d 、 /
== 18 // z 。
== 18 // z 。
実施例4
(Z)−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)=2−
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(4−シク
ロゾロビルピリジニウム)−メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレートカラ実施例2と同様にして製造した
。
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(4−シク
ロゾロビルピリジニウム)−メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレートカラ実施例2と同様にして製造した
。
IE−NMR(DMSO−d、)
δ(ppm)=q、s t (1# 、tt 、 J=
9nt 。
9nt 。
NE);9.22(211,d、J=611z、H−2
゜6−7)1/)i8.81 (2H,d、J=611
z、ll−3、5−7+y) ;7.20 (2//
、 bs 、Nli、 );6.68(1/i、8.チ
アゾール)書s、 62 (2it 。
゜6−7)1/)i8.81 (2H,d、J=611
z、ll−3、5−7+y) ;7.20 (2//
、 bs 、Nli、 );6.68(1/i、8.チ
アゾール)書s、 62 (2it 。
d d 、 / = 9 Hz 、 J = 511
z 、 E −7−ラクタム)N5.53(1#、d、
、/=13//z、C//、−p1t);5.03(i
ll、d、J=5Ez、H−6−ラクタム) ; 4.
93 (111、d 、 J=13JIz。
z 、 E −7−ラクタム)N5.53(1#、d、
、/=13//z、C//、−p1t);5.03(i
ll、d、J=5Ez、H−6−ラクタム) ; 4.
93 (111、d 、 J=13JIz。
C11v−pV);3.78 (377、s 、0CI
I、);3.49 (1//、d、/==18Hz 、
5−CB、);198(17/、m、シクロゾロビル)
Hl、37(2II、m、シクロゾロピル);1.11
(2B。
I、);3.49 (1//、d、/==18Hz 、
5−CB、);198(17/、m、シクロゾロビル)
Hl、37(2II、m、シクロゾロピル);1.11
(2B。
グnIシクロゾロピル)。
実施例5
ルポキ7レート
(Z)−2−<2−アミノチアゾルー4−イル)−2−
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−イツキノリ
ニウムー3−セフェム−4−カルボキシレートから実施
例2と同様にして製造した。
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−イツキノリ
ニウムー3−セフェム−4−カルボキシレートから実施
例2と同様にして製造した。
111−NMR(DMSO−d6 )
δ(ppm)=to、24(IH,s、H−x−イソキ
ノリニウム)Ha51(IH,d、)=91it 、N
B) ; 9.42 (IH,d 、 J =811z
。
ノリニウム)Ha51(IH,d、)=91it 、N
B) ; 9.42 (IH,d 、 J =811z
。
H−3−イソキノリニウム);s、59(1//、d。
J=7Hz、イソキノリニウム);8.48(17/。
d、J=8Hz、イソキノリニウム);830(171
、m 、イノキノリニラA ) ; 8.25 (1/
7 +m、インキノリニウム);8.06 (lH,m
、イソキノリニウム);7.19(27/、bs、NB
2);6.68(IB、8.チアノール);5.72(
1//。
、m 、イノキノリニラA ) ; 8.25 (1/
7 +m、インキノリニウム);8.06 (lH,m
、イソキノリニウム);7.19(27/、bs、NB
2);6.68(IB、8.チアノール);5.72(
1//。
d 、 J=14Hz、、CH,−イソキノリニウム)
;5.65 (1# 、dd 、J=911z 、J=
5Hz 。
;5.65 (1# 、dd 、J=911z 、J=
5Hz 。
H−’I−ラクタム);s2t (111,d、J=1
4Hz、CB、−イソキノリニウム)Hs、os(tH
,d、J=5Hz、If−6−ラクタム)H:476(
3H,s、OCR,);3.53(1#、d。
4Hz、CB、−イソキノリニウム)Hs、os(tH
,d、J=5Hz、If−6−ラクタム)H:476(
3H,s、OCR,);3.53(1#、d。
J=18Hz、5−C112)N3.16(1#、d。
J=L8’Hz 、5−C11,)。
実施例6
(Z)−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(2,3−
シクロペンテノビリジニウム)−メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートカラ実施例2と同様にして製造
した。
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(2,3−
シクロペンテノビリジニウム)−メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートカラ実施例2と同様にして製造
した。
IH−NMR(DMSO−d、)
δ(pprn)=9.5t(lH,d、J=8Ez。
H−6−pV);9.29 (IH,d、J=7Ez
。
。
NH) ;8.3’1(IH,d、J=8Hz、H−4
−py);7.91 (tH,??t、H−s−py)
;7.24 (2H,b8 、NH,)i6.71 (
IH。
−py);7.91 (tH,??t、H−s−py)
;7.24 (2H,b8 、NH,)i6.71 (
IH。
8、チアゾール);5.65 (IH,dd、J=q1
1z 、 J=511z 、H−7−ラクタム);5.
47(lE、d、J=14Hz、CB、−py);5.
22 (I H、d 、 / =14 Hz 、 C1
1g−py) ;5.05(IH,d、J=5Hz、H
−6−ラクタム)N180(3H,s、□CH3)N3
.40(IE、d、J=1811z、5−CE、);3
.39(2H、m 、 py−CM! ); 112
(3R,m。
1z 、 J=511z 、H−7−ラクタム);5.
47(lE、d、J=14Hz、CB、−py);5.
22 (I H、d 、 / =14 Hz 、 C1
1g−py) ;5.05(IH,d、J=5Hz、H
−6−ラクタム)N180(3H,s、□CH3)N3
.40(IE、d、J=1811z、5−CE、);3
.39(2H、m 、 py−CM! ); 112
(3R,m。
py−C1i、、5−CH,)Hz21 (2H,m。
−CH!−) 。
実施例7
−ト
(Z)−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(5,6,
7,8−テトラヒドロキノリニウム)−メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートから実施例2と同様にし
て製造した。
メトキシイミノ−酢酸及び7−アミノ−3−(5,6,
7,8−テトラヒドロキノリニウム)−メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートから実施例2と同様にし
て製造した。
IE−NMR(DMSO−d6 )
δ (p pm)=9.63 (1)1 、d 、J=
9Hz 。
9Hz 。
N11) ;9.28(LH,d、J=THz、ll−
6−p’J/):&32(IE、d、J=BJIz、1
i−4−py);7.94 (1’7 、m、1l−5
−py)N7.31 (277、bs 、NE、);6
.75 (tH。
6−p’J/):&32(IE、d、J=BJIz、1
i−4−py);7.94 (1’7 、m、1l−5
−py)N7.31 (277、bs 、NE、);6
.75 (tH。
8、チアゾール);5.69 (xll、dd、J=9
Hz 、 / = 5 E z 、 E −7−ラクタ
ム);548(1# 、 d 、 J=14Hz 、C
1l、−py) :5.36(IH,d 、 J=14
11z 、 CB、−py):5.09(IH,d、J
=5Hz、B−6−ラクタム);183 (3B、8
、OCR,): λ42(1/7.d。
Hz 、 / = 5 E z 、 E −7−ラクタ
ム);548(1# 、 d 、 J=14Hz 、C
1l、−py) :5.36(IH,d 、 J=14
11z 、 CB、−py):5.09(IH,d、J
=5Hz、B−6−ラクタム);183 (3B、8
、OCR,): λ42(1/7.d。
J=18Hz、5−C11,);3.17(2B、m。
py−C1l、 ) ; 3.14 (IH,d 、
J=18Ez。
J=18Ez。
5−cH! );2.9’1(2E、m、’1)V−C
ut);1.91(2H,yn、−Cut−)Hl、7
9(2H。
ut);1.91(2H,yn、−Cut−)Hl、7
9(2H。
m、−CB、−)。
実施例8
(Z)−2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−
メトキシイミノー酢酸及び7−アミノ−3−(3−ホル
ムアミドピリジニウム)−メチル−3−セフェム−4−
カルボキシレートから実施例2と同様にし、て製造した
。
メトキシイミノー酢酸及び7−アミノ−3−(3−ホル
ムアミドピリジニウム)−メチル−3−セフェム−4−
カルボキシレートから実施例2と同様にし、て製造した
。
+1/−NMR(DMSO−d6 )
a (ppm)=9.67 (1j7.8 +H−2−
py);q、5B(IH,d、J=9Hz、NE);9
.24(SR,d、J=IHz、H−6−py);8.
T4(111,d、J=8Hz、H−4−p’J/)i
8.54 (IB、 8 、CHO) ; 8.13
(111、m。
py);q、5B(IH,d、J=9Hz、NE);9
.24(SR,d、J=IHz、H−6−py);8.
T4(111,d、J=8Hz、H−4−p’J/)i
8.54 (IB、 8 、CHO) ; 8.13
(111、m。
H−s−py);7.24 (2H,bs 、/V//
、);6.72(IH,s、チアゾール);573(I
Hld、J=14Hz、CD、−py)75.68(I
E、dd、J=9Hz、J=5Hz、H−7−ラクタム
);5.24(IR,d、7=14/7z。
、);6.72(IH,s、チアゾール);573(I
Hld、J=14Hz、CD、−py)75.68(I
E、dd、J=9Hz、J=5Hz、H−7−ラクタム
);5.24(IR,d、7=14/7z。
CH,−py);5.09 (Lli、d、J=511
z、H−6−ラクタム) ; 3.80 (3H、s
、 OCR,);355(lH,d、J=18Ez、5
−C11り;3.15(IE、d、J=18Hz、5−
C11,)。
z、H−6−ラクタム) ; 3.80 (3H、s
、 OCR,);355(lH,d、J=18Ez、5
−C11り;3.15(IE、d、J=18Hz、5−
C11,)。
実施例9
7β−((Z)−2−(2−アミノチアノ4ルー4−イ
ル)−2−メトギシイミノアセトアミド〕−a−(3−
ホルムアミドピリジュウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート520■(1ミリモル)をメタノー
ル6g91中に懸濁させ、濃塩酸0.4−を添加して溶
解させた。5時間後、メタノールを真空下に除去し、残
渣を水2〇−中に入れた。この溶液をイオン交換樹脂M
P62で中和し、次いで凍結乾燥した。
ル)−2−メトギシイミノアセトアミド〕−a−(3−
ホルムアミドピリジュウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート520■(1ミリモル)をメタノー
ル6g91中に懸濁させ、濃塩酸0.4−を添加して溶
解させた。5時間後、メタノールを真空下に除去し、残
渣を水2〇−中に入れた。この溶液をイオン交換樹脂M
P62で中和し、次いで凍結乾燥した。
収i1:350■(71チ)。
In−NMR(DMSO−d6 )
δ(ppt′rL)=9.51 <IH、d 、 J=
9H2。
9H2。
NE);s、52(IE、a 、H−2−T)y)i8
.44 (IR,d、J=711z、E−6−py)H
7,71(111,dd、J=’1llz、J=8Hz
。
.44 (IR,d、J=711z、E−6−py)H
7,71(111,dd、J=’1llz、J=8Hz
。
1l−5−py) ;7.63(IH,d、J=811
t。
t。
/7−4− p y ) ;7.26 (2H、b 8
、 A’ fl y ) ;a83(2#、bs、N
H,)H6,72(LH。
、 A’ fl y ) ;a83(2#、bs、N
H,)H6,72(LH。
8、チアゾール);5.62(lH,dd、J=9Hz
、!=5Hz 、H−1−ラクタム);5.60(L
D、d、J=13H2,CM、−py)Hs、o9(I
H、d 、 J = 5 II z ) ; 5.0
8 (111、d 。
、!=5Hz 、H−1−ラクタム);5.60(L
D、d、J=13H2,CM、−py)Hs、o9(I
H、d 、 J = 5 II z ) ; 5.0
8 (111、d 。
/ =1311z 、CH,−T)1/) ; 3.8
1 (3// 。
1 (3// 。
s、0CR8)H3,53(lE、d、J=s8Hz、
5−C11,);:LO7(17/、d、J=18#
z 、5−CH2)−
5−C11,);:LO7(17/、d、J=18#
z 、5−CH2)−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1一般式(+) 〔式中、R′は直鎖又は分岐鎖、環式並びに不飽和であ
ってよいC8〜C6アルキルを表わし、そして Aは1つ又はいくつか置換されていてよいの基を表わす
〕 のセファロスポリン類の製造法であって、一般式() ここで、R1の定義は上記式(+)に同じである、 の酸を、メタンスルホニルクロライドで、無水物(Il
l) ここでR′の定義は上記式(1)に同じでおる、 に転化し、そして後者を一般式(P/)ここで、Aの定
義は上記式(+)に同じである、 の7−7ミノセフアロスIラネート類と反応さ・せる方
法。 Z R’がメチル基を表わし、またAが式の基を表わす
特許請求の範囲第1項記載の方法。 & 成層の無水物を、アミン1〜1.1当量及び弐菖の
カルボン酸を溶媒に溶解し、そしてメタンスルホニルク
ロライド1〜1.2当量と反応させることによって製造
する特許請求の範囲第1又は2項記載の方法。 本 反応をジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム
、ジメチルホルムアミド又はこれらの溶媒の混合物中で
行なう特許請求の範囲第3項記載の方法。 & 用いろアミンがトリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン
、シイソゲaピルアミン又はこれらのアミンの混合物で
ある特許請求の範囲第3項記載の方法。 6、反応を一り0℃〜室温の温度で行なう特許請求の範
囲第3項記載の方法。 7、式厘の無水物と弐■の7−アミツセフアロスホラネ
ート類との反応を、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジグライム又は水中において塩基の存在下
に行なう特許請求の範囲第1又は2項記載の方法。 & 反応をトリエチルアミン、Na0HXKOH。 NaHCO3又はX、CO,の存在下に行なう特許請求
の範囲第7項記載の方法。 9、 反応を一50°〜+50℃で行なう特許請求の範
囲第7項記載の方法。 10、反応を29のpH値及びく0℃の温度で行なう特
許請求の範囲第7項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843419015 DE3419015A1 (de) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinen |
| DE3419015.5 | 1984-05-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255794A true JPS60255794A (ja) | 1985-12-17 |
Family
ID=6236536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60104110A Pending JPS60255794A (ja) | 1984-05-22 | 1985-05-17 | セフアロスポリン類の製造法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4754031A (ja) |
| EP (1) | EP0162395B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60255794A (ja) |
| AT (1) | ATE52094T1 (ja) |
| DE (2) | DE3419015A1 (ja) |
| DK (1) | DK226185A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5244891A (en) * | 1985-08-05 | 1993-09-14 | Bristol-Myers Squibb Company | Injectable compositions of cefepime dihydrochloride hydrate |
| FR2585705B1 (fr) * | 1985-08-05 | 1989-01-13 | Bristol Myers Co | Sels de cephalosporine et compositions injectables |
| DE3706020A1 (de) * | 1987-02-25 | 1988-09-08 | Hoechst Ag | Kristallisierte cephem-saeureadditionssalze und verfahren zu ihrer herstellung |
| ES2006988A6 (es) * | 1988-06-20 | 1989-05-16 | Gema Sa | Procedimiento de preparar hidrocloruro cloruro-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-metoxiiminoacetil-sulfito-dimetilformiminio y procedimiento de utilizacion del mismo para obtencion de amidas. |
| KR0159760B1 (ko) * | 1988-12-27 | 1998-12-01 | 리로이 휘테커 | 아실화 방법 |
| CA2019380C (en) * | 1989-06-22 | 1995-01-10 | Wolfgang Haas | Silylated benzoic acid derivatives |
| US5594129A (en) * | 1991-09-10 | 1997-01-14 | Bristol-Myers Squibb Company | Process for the preparation of a cephalosporin antibiotic |
| YU81692A (sh) * | 1991-09-10 | 1995-03-27 | Bristol-Myers Co. | Postupak za proizvodnju cefalosporinskog antibiotika |
| US5698703A (en) * | 1991-09-10 | 1997-12-16 | Bristol-Myers Squibb Company | Syn-isomer of thiazolyl intermediate and process for the preparation thereof |
| IL103110A (en) * | 1991-09-10 | 1997-04-15 | Bristol Myers Squibb Co | Anhydrous process for preparing cefepime dihydrochloride hydrate |
| EP0791597B1 (en) * | 1996-02-21 | 2000-07-12 | Lupin Laboratories Limited | Method for manufacture of cephalosporins and intermediates thereof |
| EP0791596A1 (en) * | 1996-02-21 | 1997-08-27 | Lupin Laboratories Limited | Method for manufacture of cephalosporins and intermediates thereof |
| US5929086A (en) | 1996-05-10 | 1999-07-27 | Pharmacia & Upjohn Company | Topical administration of antimicrobial agents for the treatment of systemic bacterial diseases |
| KR20030051895A (ko) * | 2000-12-04 | 2003-06-25 | 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤 | 아미노티아졸 유도체의 무수물의 제조 방법 |
| CN105646543B (zh) * | 2016-03-17 | 2018-03-27 | 天津大学 | 一种头孢喹肟晶体及其制备方法 |
| CN110294770A (zh) * | 2019-08-14 | 2019-10-01 | 齐鲁晟华制药有限公司 | 一种头孢烯类鎓盐化合物、制备方法及以该化合物合成头孢喹肟的方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2462439A1 (fr) * | 1979-07-26 | 1981-02-13 | Roussel Uclaf | Nouveau procede de preparation de produits derives de l'acide 7-/(2-aryl) 2-hydroxyimino acetamido/cephalosporanique |
| DE3145727A1 (de) * | 1981-11-19 | 1983-05-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Zwischenprodukte, verfahren zu deren herstellung und verfahren zur herstellung von cephalosporinen |
-
1984
- 1984-05-22 DE DE19843419015 patent/DE3419015A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-05-06 US US06/731,248 patent/US4754031A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-05-13 DE DE8585105839T patent/DE3577203D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-13 AT AT85105839T patent/ATE52094T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-05-13 EP EP85105839A patent/EP0162395B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-17 JP JP60104110A patent/JPS60255794A/ja active Pending
- 1985-05-21 DK DK226185A patent/DK226185A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3577203D1 (de) | 1990-05-23 |
| DK226185A (da) | 1985-11-23 |
| ATE52094T1 (de) | 1990-05-15 |
| EP0162395A2 (de) | 1985-11-27 |
| EP0162395A3 (en) | 1986-12-17 |
| EP0162395B1 (de) | 1990-04-18 |
| DE3419015A1 (de) | 1985-11-28 |
| DK226185D0 (da) | 1985-05-21 |
| US4754031A (en) | 1988-06-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60255794A (ja) | セフアロスポリン類の製造法 | |
| JP6301346B2 (ja) | セフタロリンフォサミルの新規製造方法 | |
| NO881531L (no) | Acylderivater. | |
| JPS5989689A (ja) | 7−置換−3−ビニル−3−セフエム化合物、その製法およびそれを含有する抗菌剤 | |
| KR870000829B1 (ko) | 세프타지딤 결정성염의 제조방법 | |
| JP3751880B2 (ja) | 高純度セフポドキシムプロキセチルの製造方法 | |
| JPS6360992A (ja) | 3−置換7−アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体 | |
| US5589594A (en) | Process for the preparation of cephem prodrug esters | |
| JPH04235976A (ja) | アラルキルアミノピリミジン類の製法 | |
| JPH02160791A (ja) | セファロスポリン誘導体の製造法 | |
| GB2195334A (en) | 1-Methanesulfonyloxy-6-trifluoromethyl-1H-benzotriazole and its use in preparing cephalosporin derivatives | |
| JP2661810B2 (ja) | 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム誘導体の製法 | |
| EP0117875B1 (en) | Process for preparing azetidinone derivatives | |
| KR920005817B1 (ko) | 세팔로스포린 화합물의 제조방법 | |
| JP2945155B2 (ja) | アクリル酸誘導体の製造方法 | |
| KR930007815B1 (ko) | 신규 에스테르계 세파로스포린 및 그 제조방법 | |
| JPH0696562B2 (ja) | アミノチアジアゾ−ル酢酸誘導体の製造法 | |
| JPS588056A (ja) | ヒドラジジン類の製造方法 | |
| JPH0717652B2 (ja) | 結晶性セフテラムピボキシル・二水和物およびその製造法 | |
| KR20040064270A (ko) | 세팔로스포린 측쇄의 제조방법 | |
| JPS60248691A (ja) | セファロスポリン類の新規製造法 | |
| JP2662414B2 (ja) | チアゾール誘導体 | |
| JPS6172788A (ja) | セフアロスポリン類の新規製造法 | |
| JPS59155389A (ja) | 7−(イミダゾ−ル−2−イル)アミノ−3−(1h−1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸の製法 | |
| JPH10130272A (ja) | 2−カルボキシペナム誘導体またはその塩の製造法 |