JPS6025656A - フロツピデイスクから酸化物コ−テイングを制御下で除去する方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、コンピュータ記憶装置の分野に関するもので
あり、特にはコンピュータにおけるデータ記憶装置とし
て使用される型式のフロッピディスクにおいて基板から
酸化物コーティングを制御された態様で除去する技術に
関係する。

成る種の特殊な用途においての使用の為、フロッピディ
スクの記録表面の選択された領域から酸化物コーティン
グを除去して、これら領域を非磁化性とすることが所望
される。

一見、これは簡単に実現しうるように思われるけれども
、実際にやってみると、酸化物層を制御された態様で除
去することは意外に難しい問題であることがわかった。

本発明者は先ず、ダイヤモンドチップ付き小型ジヤツキ
ハンマーを使用して実験を行った。結果は非常に不満足
なものであった。何故なら、ダイヤモンドチップ尖端は
表面上で跳ねそして衝撃圧力は酸化物層のその基板から
の制御しえない態様での引剥れを生ぜしめた。

次にル−ザの使用が研究された。酸化物層を焼やして除
去するに際してレーザビームにより必然的に発生する熱
は酸化物層の隣り合う部分を基板から剥離せしめた。も
つと重大なことＫ、レーザ熱は基板にふくれを生ぜしめ
それによりディスクの反対側において認めうる程のふく
れを形成する。この問題が解決されない限り、レーザ技
術は両面型ディスクに使用するには適切でないように思
われる。

上記技術の制御性不足に満足しえず、本発明者は研究を
続け、最終的にサンドブラスト技術が制御可能な結果を
生むことを見出した。

−見したところ、サンドブラスト法は制御された結果を
生む為には成算のない方法のように思われよう。しかし
、高度の制御性が完全に予想外の結果から生じることが
見出されだ。酸化物コーティングが結合している基板は
酸化物コーティングよりはるかに遅い速度でしか侵食さ
れないことが見出された。その結果、除去プロセスはプ
ラスト噴流への過剰露曝に対して割合鈍感であり、従つ
て酸化物除去手段の厳密な管理を必要とせず望ましい結
果を生みだす。

これは、ディスクへの損傷を最小限にする為レーザな非
常に注意深く管理することを必要とするレーザ技術とは
著しく対照的である。これはまた、適切な管理になじま
な℃・ことのわかっているダイヤモンドチップ付きチゼ
ルの使用とも著しく対照的であ゛る。

本発明者により見出されたサンドブラスト技術はディス
クの認めうる程の加熱を生ぜずまたディスク表面上への
高圧衝撃を生じないので、サンドブラスト技術はレーザ
やダイヤモンドチップ付きチゼル技術を使用した場合に
それぞれ起るような酸化物層の薄片状での剥落ちや剥離
を回避する。

以下、図面を参照して具体的に説明する。

図面は本発明の使用の対象たる７０ツピデイスクの一例
を示す。周知のように、フロッピディスク２はペーパス
リーブ４に包入されている。ペーパスリーブ４は、フロ
ッピディスク２が関連装置と心合しそして回転せしめら
れることを許容するようその中央に穴６を有している。

スリーブ４はまた、フロラ１デイスクに情報を記録しま
た既に記録された情報を再生する為記録／再生ヘッドが
接近する接近穴をも含んでいる。

第３図に明示されるように、フロッピディスク２は代表
的にはマイラー（商品名）から成りそして約０．０２５
１Ｍｎの厚さを有する基板２２を含んでいる。基板２２
には、バインダ中に酸化鉄等の磁性粉を含有する磁化性
のコーティング２４が被覆されている。コーティング２
４の厚さは約０．９２５−である。−面のみにコーティ
ングを持つ７０ツピデイスクと両面にコーティングを持
つ７０ツピデイスクとがある。

本発明装置は、サンドブラスト用ノズル１０を含み、こ
れは空気供給管路１２及び粒子供給管路１４に接続され
ている。本発明の好ましい具体例において、圧縮空気が
２０〜８０　ｐｓｉｇ　の圧力で空気供給管路１２に供
給される。空気中に連行されるプラスト粒子が粒子供給
管路１４を通して供給される。好ましい具体例において
、プラスト粒子は各粒子が７０μより小さな酸化アルミ
ニウム粒子から成る。粒子供給管路１４０粒子流れは空
気供給管路１２かもの空気流れとノズル１０内において
混合される。

好ましい具体例において、サンドブラスト用ノズル１０
は真空管路１８に接続されるスカート１６により取囲ま
れている。スカート１６内の部分真空は、使用ずみ粒子
の実質上すべてを捕捉する。本発明の一具体例において
、吸引作用を均等化するよう有孔板２６がスカート１６
内に空間２０を定義する。別様には、真空マニホルドが
同目的の為使用されうる。

本発明の一適用例において、フロッピディスクの表面上
の僅か２７ミル（半径方向）×１０ミル（接線方向）の
領域から酸化物コーティング２４を除去することが所望
される。代表的に、ノズルの喉部は２０ミル直径である
。従って、本発明を実施する最適の態様においては、マ
スク２８がサンドブラストされるべき領域を定義するの
に使用される。マスク２８は例えば鋼製である。ノズル
径は一般に１００ミル以下が好ましい。

使用に当って、ノズル１０の先端が除去されるべきコー
ティング２４から約１００ミルのところに維持される。

これは、基台５２に取付けられた支持腕５０により為さ
れる。加圧空気が約２−ｉ−秒の期間空気供給管路１２
に供給される。

また別の具体例においては、スカート１６は、プラスト
粒子の最適の封じ込めを与えるようスリーブ４と密封係
合する可撓性の弾性部分を備えている。

本発明は、フロッピディスク２の小部分からコーティン
グ２４を除去するのに好適であることが見出された。本
発明が使用される時、ディスクの認めうる程の加熱は生
ぜずそしてコーティングを除去した対象領域を取巻くコ
ーティングは無傷のままに保たれる。

本発明の精神内で多くの改変を為し５ることを銘記され
たい。

【図面の簡単な説明】

第１図はフロッピディスク上方に配置された本発明装置
の平面図、第２図は第１図の側面図、そして第６図は第
２図の一部の拡大断面図である。 ２：　フロッピディスク ４：　ペーパスリーブ ２２：　基板 ２４：　磁性コーティング ２日：　マスク １０：　サンドブラスト用ノズル １２：　空気供給管路 １４：　粒子　１ １８：　真空管路 １６：　スカート ３０：腕 ３２：　基台 手続補正力（方式） 昭和５９年７月４日 特許庁長官　志　賀　学　殿 事件の表示　昭和５９年　特願第６６８２０　５ａ補止
をする者 ｊｌ’ｉ’件との関係　特許出願人 名称　ボールド・コーポレイション 袖ＩＦ命令通知の１１付　昭和５９年６月２６日−−ネ
市＝ｒｌ会←−４桓傳ドパｑ力Ｉド仁−も→含」す４ン
Ｆ−補正の対象 一願書の発少目ｉ丑１願メ詞）湘′・１−−明細書り発
明の名橡・一時許請求−の範囲、・−発明の詳細な説明
の欄−・補正の内容　別紙の通り 図面の浄書（内容に変更なし）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）フロッピディスクの基板から或る領域において磁性
   コーティングを制御下で除去する方法であって、プラス
   ト粒子を連行するガス噴流を該領域に差向けることによ
   り該領域をサンドブラストすることを特徴とするコーテ
   ィング除去方法。 ２）プラスト粒子が酸化アルミニウムから実質成る特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ３）サンドブラスト段階が目標領域をサンドブラストす
   るのに使用されるガス流れ中に７０μ以下の寸法の粒子
   を搬送せしめる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４）１・００ミル以下の直径を有するノズルを通して２
   ０〜８０　ｐｓｉｇ　の推進圧力をガスに適用する項記
   載の方法。 ５）７０ツビデイスクの基板から成る領域において磁性
   コーティングを制御下で除去する装置であって、プラス
   ト粒子を連行するガス噴流を形成しそして該噴流を目標
   領域に差向ける為のノズル手段と、該ノズル手段を目標
   領域に対して選択された位置に維持するべく該ノズル手
   段に連結される保持手段とを包含するコーティング除去
   装置。 ６）ブラスト粒子が７０μより小さくそして実質載の装
   置。 ７）目標帯域の縁辺を噴流から保護する為ノズル手段と
   フロッピディスクとの間にマスク手段が位置づけられる
   特許請求の範囲第５項記載の装置。 ８）フロッピディスクからはね返ったブラスト粒子及び
   ブラスト粒子により除去されたフロッピディスク拐料を
   排除する為ノズル手段を取囲みそして真空源に連結され
   るスカート手段を備える特許請求の範囲第５項記載の装
   置。