JPS603297B2 - ２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル - Google Patents
２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリルInfo
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- JPS603297B2 JPS603297B2 JP10982476A JP10982476A JPS603297B2 JP S603297 B2 JPS603297 B2 JP S603297B2 JP 10982476 A JP10982476 A JP 10982476A JP 10982476 A JP10982476 A JP 10982476A JP S603297 B2 JPS603297 B2 JP S603297B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式（１）
で示される２ーヒドロキシー３ーメチルー３一〔４一（
１ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリ
ロニトリルに関するものである。
１ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリ
ロニトリルに関するものである。
式（１）で示される化合物は消炎鎮痛作用を有する式（
Ｖ）で示される２−〔４一（１−オキソ−２−イソイン
ドリニル）フエニル〕プロピオン酸（インドプロフェン
）を製造する上に有用な中間体である。従釆、式（Ｖ）
で示される化合物の合成法としては特開昭４７−９９７
０特関昭４８−５７９６を侍関昭５１−６９５９椿開昭
５１−６５７５５等に記載の方法が知られている。
Ｖ）で示される２−〔４一（１−オキソ−２−イソイン
ドリニル）フエニル〕プロピオン酸（インドプロフェン
）を製造する上に有用な中間体である。従釆、式（Ｖ）
で示される化合物の合成法としては特開昭４７−９９７
０特関昭４８−５７９６を侍関昭５１−６９５９椿開昭
５１−６５７５５等に記載の方法が知られている。
これらの方法を式で示すと次のようになる。（イ〉（口
〉 （ハ） （ニ） （ホ） （へ） （Ｘはハロゲンを表す） 今回、本発明者らは、これら公知方法とは全く 方法
より収率よく目的物が得られることが判明異なる下式に
示す様な方法で、しかも従来の公知扮し、本発明を完成
したのである。
〉 （ハ） （ニ） （ホ） （へ） （Ｘはハロゲンを表す） 今回、本発明者らは、これら公知方法とは全く 方法
より収率よく目的物が得られることが判明異なる下式に
示す様な方法で、しかも従来の公知扮し、本発明を完成
したのである。
すなわち、公知方法における出発原料である２−（４−
アミノフェニル）プロピオン酸の製造法は、種々の方法
が知られているが、いずれも５〜８工程と製造工程が長
く、経済的に安価に製造することは困難であり、工業的
製造法には適していない。しかし、本発明の出発原料で
ある４−アミノアセトフェノンは、例えば安価なアセト
アニリドをフリーデルクラフト反応により−工程で高収
率でかつ経済的に安価に製造することができる。また４
−クロロアセトフエノンをアミノ化することによっても
簡単に得られる。このように公知方法は高価な２一（４
−アミノフェニル）プロピオン酸を使用して、消炎鎮痛
剤として著名なインドプロフェンを製造する方法である
が、本発明者らの方法は工業的に安価に得られる４−ア
ミノアセトフェノンを用いて製造する方法であり、公知
方‘法よりも工業的に有利に目的物を製造することがで
きる。この４−アミノアセトフエノンとフタルアルデヒ
ド、無水フタル酸、ベンズアルデヒド、０ーハロゲノメ
チル安息香酸ェステル類等とにより、４−（１−オキソ
ー２ーイソインドリニル）アセトフェノンに誘導するこ
とができる。例えば、４−アミノアセトフェノンとフタ
ルアルデヒドとを反応させて４・４−（０−フェニレン
ビスメチレンアミノ）ジアセトフエノンとした後、酢酸
中で４−（１−オキソ−２−ィソィンドリニル）アセト
フェノンに誘導することができる。
アミノフェニル）プロピオン酸の製造法は、種々の方法
が知られているが、いずれも５〜８工程と製造工程が長
く、経済的に安価に製造することは困難であり、工業的
製造法には適していない。しかし、本発明の出発原料で
ある４−アミノアセトフェノンは、例えば安価なアセト
アニリドをフリーデルクラフト反応により−工程で高収
率でかつ経済的に安価に製造することができる。また４
−クロロアセトフエノンをアミノ化することによっても
簡単に得られる。このように公知方法は高価な２一（４
−アミノフェニル）プロピオン酸を使用して、消炎鎮痛
剤として著名なインドプロフェンを製造する方法である
が、本発明者らの方法は工業的に安価に得られる４−ア
ミノアセトフェノンを用いて製造する方法であり、公知
方‘法よりも工業的に有利に目的物を製造することがで
きる。この４−アミノアセトフエノンとフタルアルデヒ
ド、無水フタル酸、ベンズアルデヒド、０ーハロゲノメ
チル安息香酸ェステル類等とにより、４−（１−オキソ
ー２ーイソインドリニル）アセトフェノンに誘導するこ
とができる。例えば、４−アミノアセトフェノンとフタ
ルアルデヒドとを反応させて４・４−（０−フェニレン
ビスメチレンアミノ）ジアセトフエノンとした後、酢酸
中で４−（１−オキソ−２−ィソィンドリニル）アセト
フェノンに誘導することができる。
本発明の新規中間体（１）の合成法は、まず式（Ｎ）で
示される４一（１ーオキソー２−イソインドリニル）ア
セトフエノンとシアン酢酸ェステル類とを脱水縮合して
、一般 式（ｍ）（式中、Ｒは低級アルキル基を表わ
す）で示される２ーシアノー３−メチル一３−〔４一（
１ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリ
ル酸ェステル類とし、次に酸化して一般式（Ｄ）（式中
、Ｒは低級アルキル基を表わす）で示される２ーシアノ
−３ーメチルー３一〔４一（１ーオキソー２ーイソイン
ドリニル）フエニル〕グリシド酸ェステル類とした後、
さらに加水分解後脱炭酸することにより製造することが
できる。
示される４一（１ーオキソー２−イソインドリニル）ア
セトフエノンとシアン酢酸ェステル類とを脱水縮合して
、一般 式（ｍ）（式中、Ｒは低級アルキル基を表わ
す）で示される２ーシアノー３−メチル一３−〔４一（
１ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリ
ル酸ェステル類とし、次に酸化して一般式（Ｄ）（式中
、Ｒは低級アルキル基を表わす）で示される２ーシアノ
−３ーメチルー３一〔４一（１ーオキソー２ーイソイン
ドリニル）フエニル〕グリシド酸ェステル類とした後、
さらに加水分解後脱炭酸することにより製造することが
できる。
一般式（ｍ）で示される２ーシアノー３ーメチルー３−
〔４−（１−オキソー２ーイソインドリニル）フェニル
〕アクリル酸ェステル類は、式（Ｎ）で示される４−（
１ーオキソー２ーイソインドリニル）アセトフヱノンと
シアン酢酸ェステル類とを酢酸アンモニウムのような触
媒の存在下、一般には溶媒中で加熱脱水することにより
製造することができる。
〔４−（１−オキソー２ーイソインドリニル）フェニル
〕アクリル酸ェステル類は、式（Ｎ）で示される４−（
１ーオキソー２ーイソインドリニル）アセトフヱノンと
シアン酢酸ェステル類とを酢酸アンモニウムのような触
媒の存在下、一般には溶媒中で加熱脱水することにより
製造することができる。
触媒としては酢酸アンモニウムと氷酢酸の混合物が好ま
しいが、その他にアミンの有機酸塩、例えば、ピベリジ
ン酢酸塩、ピベリジン安息香酸塩のほか、ピベラジン、
モルホリン、トリエチルアミン、アニリン、ジェチルア
ミン等諸種のアミンの有機酸塩を用いることができる。
しいが、その他にアミンの有機酸塩、例えば、ピベリジ
ン酢酸塩、ピベリジン安息香酸塩のほか、ピベラジン、
モルホリン、トリエチルアミン、アニリン、ジェチルア
ミン等諸種のアミンの有機酸塩を用いることができる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ホルム、シクｏヘキサン等反応に関与しないものなら何
でもよく、反応中に生成する水を溶媒と共沸混合物とし
て除去しながら反応を行なうのが好まい‐し、。反応時
間は１〜４報時間程度で、反応温度は使用した溶媒の沸
点近くで行なうのが好ましい。
ホルム、シクｏヘキサン等反応に関与しないものなら何
でもよく、反応中に生成する水を溶媒と共沸混合物とし
て除去しながら反応を行なうのが好まい‐し、。反応時
間は１〜４報時間程度で、反応温度は使用した溶媒の沸
点近くで行なうのが好ましい。
なお、化合物（ｍ）は幾何異性体の混合物として得られ
る。次に（ｍ）を酸化することにより一般式（０）で示
される２−シアノー３−メチル一３一〔４一（１−オキ
ソ−２−イソインドリニル）フエニル〕グリシド酸ェス
テル類を製造することができる。
る。次に（ｍ）を酸化することにより一般式（０）で示
される２−シアノー３−メチル一３一〔４一（１−オキ
ソ−２−イソインドリニル）フエニル〕グリシド酸ェス
テル類を製造することができる。
酸化の条件としては、タングステン酸アルカリ、リン酸
アルカリ、モリブデン酸アルカリ等の存在下、過酸化水
素を用いて酸化する。
アルカリ、モリブデン酸アルカリ等の存在下、過酸化水
素を用いて酸化する。
あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の存在下、アセトニトリルおよ
び過酸化水素を用いて酸化を行なう。
リウム、炭酸カリウム等の存在下、アセトニトリルおよ
び過酸化水素を用いて酸化を行なう。
その他に過酸、例えば、週安息香酸、過酢酸、過フタル
酸、過樟脳酸等を用いて酸化することができる。過酸化
水素の島は過剰に用いてもさしつかえないが、２．０モ
ル以上用いることにより一般式（Ｗ）（式中、Ｒは低級
アルキル基を表わす）で示される２ーカルバモイル日３
−メチル一３一〔４一（１ーオキソー２ーイソインドリ
ニル）フエニル〕グリシド酸ェステル類が創生されるた
め、過酸化水素の量は２．０モル以下にとどめることが
好ましい。
酸、過樟脳酸等を用いて酸化することができる。過酸化
水素の島は過剰に用いてもさしつかえないが、２．０モ
ル以上用いることにより一般式（Ｗ）（式中、Ｒは低級
アルキル基を表わす）で示される２ーカルバモイル日３
−メチル一３一〔４一（１ーオキソー２ーイソインドリ
ニル）フエニル〕グリシド酸ェステル類が創生されるた
め、過酸化水素の量は２．０モル以下にとどめることが
好ましい。
溶媒としては反応に関与しないものならば使用しても差
しつかえないが、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール系のものが好ましい。反
応温度としては０〜２００ｑｏ程度で好ましくは２０〜
１００午Ｃ程度である。なお、化合物（ロ）も幾何異性
体の混合物として得られる。さらに（ロ）を加水分解し
てグリシド酸あるいはその塩にした後、遊離グリシド酸
を加熱等により脱炭酸させて式（１）で示される２ーヒ
ドロキシ−３ーメチル−３−〔４一（１ーオキソー２ー
イソイソドリニル）フエニル〕アクリロニトリルを製造
することができる。
しつかえないが、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール系のものが好ましい。反
応温度としては０〜２００ｑｏ程度で好ましくは２０〜
１００午Ｃ程度である。なお、化合物（ロ）も幾何異性
体の混合物として得られる。さらに（ロ）を加水分解し
てグリシド酸あるいはその塩にした後、遊離グリシド酸
を加熱等により脱炭酸させて式（１）で示される２ーヒ
ドロキシ−３ーメチル−３−〔４一（１ーオキソー２ー
イソイソドリニル）フエニル〕アクリロニトリルを製造
することができる。
ェステルの加水分解反応はアルカリ例えば水化カリウム
、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウムを用い、溶媒として
は、メタノール、エタノール、ブロパノール等のアルコ
ール系溶媒、水等適当な溶媒中反応を行なう。
、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウムを用い、溶媒として
は、メタノール、エタノール、ブロパノール等のアルコ
ール系溶媒、水等適当な溶媒中反応を行なう。
反応温度としては０〜１００ｏｏ程度で、好ましくは１
０〜４０ｑｏ程度である。反応時間は１〜４餌時間程度
である。得られたカルボン酸の金属アルカリ塩を遊離に
した後、加熱等により脱炭酸させて、式（１）で示され
る２−ヒドロキシ−３−メチル−３一〔４−（１−オキ
ソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリ
ルを製造することができる。脱炭酸の方法としては溶媒
中または無溶媒で加熱することにより脱炭酸することが
できる。用いる溶媒としては水、あるいはメタノール、
エタノール、プロパノール等のアルコール類、あるいは
ベンゼン、トルェン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢
酸メチルェステル、酢酸エチルェステル等であり、加熱
の温度としては３０〜１５０３０程度である。化合物（
１）もまた幾何異性体の混合物として得られる。各反応
における処理としては公知の手段、例えば再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー、蒸留等により精製することがで
きる。
０〜４０ｑｏ程度である。反応時間は１〜４餌時間程度
である。得られたカルボン酸の金属アルカリ塩を遊離に
した後、加熱等により脱炭酸させて、式（１）で示され
る２−ヒドロキシ−３−メチル−３一〔４−（１−オキ
ソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリ
ルを製造することができる。脱炭酸の方法としては溶媒
中または無溶媒で加熱することにより脱炭酸することが
できる。用いる溶媒としては水、あるいはメタノール、
エタノール、プロパノール等のアルコール類、あるいは
ベンゼン、トルェン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢
酸メチルェステル、酢酸エチルェステル等であり、加熱
の温度としては３０〜１５０３０程度である。化合物（
１）もまた幾何異性体の混合物として得られる。各反応
における処理としては公知の手段、例えば再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー、蒸留等により精製することがで
きる。
このようにして得た新規化合物（１）、（ロ）および（
ｍ）は幾何異性体の混合物であり、幾何異性体のどちら
の化合物を使用しても化合物（Ｖ）に議導することがで
きる。もちろん幾何異性体の混合物のまま使用しても化
合物（Ｖ）に譲導することができる。次に実施例にて本
発明を具体的に説明するが、これに限定されるものでは
ない。実施例 １ ２ーシアノ−３ーメチル−３一〔４一（１ーオキソ−２
−イソインドリニル）フエニル〕アクリル酸エチルェス
テルの製造法４−（１−オキソ−２ーイソインドリニル
）アセトフェノン１．２５夕、シアン酢酸エチルェステ
ル０．５６夕、酢酸アンモン１夕、氷酢酸２凧【および
ベンゼン３０の‘の混合物を１虫時間加熱還流する。
ｍ）は幾何異性体の混合物であり、幾何異性体のどちら
の化合物を使用しても化合物（Ｖ）に議導することがで
きる。もちろん幾何異性体の混合物のまま使用しても化
合物（Ｖ）に譲導することができる。次に実施例にて本
発明を具体的に説明するが、これに限定されるものでは
ない。実施例 １ ２ーシアノ−３ーメチル−３一〔４一（１ーオキソ−２
−イソインドリニル）フエニル〕アクリル酸エチルェス
テルの製造法４−（１−オキソ−２ーイソインドリニル
）アセトフェノン１．２５夕、シアン酢酸エチルェステ
ル０．５６夕、酢酸アンモン１夕、氷酢酸２凧【および
ベンゼン３０の‘の混合物を１虫時間加熱還流する。
生成する水を水分測定器により分離する。反応後、ベン
ゼン層を水洗し、苔硝で乾燥、溶媒蟹去する。残留物を
ィソプロパノールで再結晶し、融点１斑〜１６５ｏｏの
淡黄色粉末１夕を得。元素分析値Ｃ公日・８０３Ｎ２‐
孝広。
ゼン層を水洗し、苔硝で乾燥、溶媒蟹去する。残留物を
ィソプロパノールで再結晶し、融点１斑〜１６５ｏｏの
淡黄色粉末１夕を得。元素分析値Ｃ公日・８０３Ｎ２‐
孝広。
計算値：Ｃ、７１．８８：日、５．３１；Ｎ、７．班実
験値：Ｃ、７１．９５；日、５．１５；Ｎ、８．２８核
磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．４０（班、
三重線、ＣＱＣ日３） ２．７０（細、一重線、ＣＨ３） ４．３５（２日、四車線、ＣＨ２ＣＨ３）４．８５（犯
、一重線、Ｃ比） 赤外線吸収スペクトル 仇‐１（ＫＢｒ）１７２０（Ｃ
＝○） １６８０（Ｃ＝○） さらに再結晶母液を核磁気共鳴スペクトルの測定をした
ところ、前記物質とそれの幾何異性体の混合物であるこ
とが判明した。
験値：Ｃ、７１．９５；日、５．１５；Ｎ、８．２８核
磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．４０（班、
三重線、ＣＱＣ日３） ２．７０（細、一重線、ＣＨ３） ４．３５（２日、四車線、ＣＨ２ＣＨ３）４．８５（犯
、一重線、Ｃ比） 赤外線吸収スペクトル 仇‐１（ＫＢｒ）１７２０（Ｃ
＝○） １６８０（Ｃ＝○） さらに再結晶母液を核磁気共鳴スペクトルの測定をした
ところ、前記物質とそれの幾何異性体の混合物であるこ
とが判明した。
再結晶母液の核磁気共鳴スペクトル ６
（ＣＤＣ１３）
１．４Ｑ Ｉ．２０（３日、各三重線、Ｃ比Ｃ＆、二異
性体）２．７０ ２．６０（汎、各一重線、ＣＨ３、二
異性体）４．３ふ４．１０（班、各二重線、ＣＨ２ＣＨ
３、二異性体）４．８５（犯、一重線、ＣＨ２） 実施例 ２ ２−シアノ−３−メチル−３−〔４一（１ーオキソー２
ーイソインドリニル）フエニル〕グリシド酸エチルェス
テルの製造法２−シアノ−３ーメチルー３−〔４一（１
ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリル
酸エチルェステル２．４２夕、タングステン酸ナトリウ
ム１．１６夕、エタノール１００の‘の混合物に室温で
蝿梓下２８％過酸化水素水１．１の‘を滴下した後７０
〜８０ｑＣにて２時間縄拝を続ける。
性体）２．７０ ２．６０（汎、各一重線、ＣＨ３、二
異性体）４．３ふ４．１０（班、各二重線、ＣＨ２ＣＨ
３、二異性体）４．８５（犯、一重線、ＣＨ２） 実施例 ２ ２−シアノ−３−メチル−３−〔４一（１ーオキソー２
ーイソインドリニル）フエニル〕グリシド酸エチルェス
テルの製造法２−シアノ−３ーメチルー３−〔４一（１
ーオキソー２ーイソインドリニル）フエニル〕アクリル
酸エチルェステル２．４２夕、タングステン酸ナトリウ
ム１．１６夕、エタノール１００の‘の混合物に室温で
蝿梓下２８％過酸化水素水１．１の‘を滴下した後７０
〜８０ｑＣにて２時間縄拝を続ける。
エタノールを減圧下留去し、残留物に水を加えクロロホ
ルムで抽出する。クロロホルム層を水洗後、苧硝で乾燥
し溶媒を蟹去する。得られた結晶物をエタノールより再
結晶して目的物の一方の幾何異性体１．４４夕を得。融
点１５１．５〜１５２．５℃元素分析値 ＣａＨ，８Ｎ
２０４ 計算値：Ｃ、６９．６０：日、５．００：Ｎ、７．７３
実験値：Ｃ、６９．５４：日、５．２１：Ｎ、７．８９
核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．４１（斑
、三重線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃ＆ＣＨ３）１．８３（柵、一
重線、Ｃ比）４．４３（犯、四車線、Ｊ＝７ＨＺ、ＣＨ
２ＣＨ３）４．８６（犯、一重線、Ｃ４）７．＄〜８．
１７（班、多重線、芳香環プロトン）赤外線吸収スペク
トル 仇‐１（ＫＢｒ）２２２０（ＣＮ） １７４５（Ｃ＝○） １６８４（Ｃ＝○） さらに再結晶母液についてエタノールを留去後残留物を
シリカゲル３０夕を用いたカラムクロマトグラフイーに
付し、クロロホルム流出分画より目的物のもう一方の幾
何異性体０．８０夕を得。
ルムで抽出する。クロロホルム層を水洗後、苧硝で乾燥
し溶媒を蟹去する。得られた結晶物をエタノールより再
結晶して目的物の一方の幾何異性体１．４４夕を得。融
点１５１．５〜１５２．５℃元素分析値 ＣａＨ，８Ｎ
２０４ 計算値：Ｃ、６９．６０：日、５．００：Ｎ、７．７３
実験値：Ｃ、６９．５４：日、５．２１：Ｎ、７．８９
核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．４１（斑
、三重線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃ＆ＣＨ３）１．８３（柵、一
重線、Ｃ比）４．４３（犯、四車線、Ｊ＝７ＨＺ、ＣＨ
２ＣＨ３）４．８６（犯、一重線、Ｃ４）７．＄〜８．
１７（班、多重線、芳香環プロトン）赤外線吸収スペク
トル 仇‐１（ＫＢｒ）２２２０（ＣＮ） １７４５（Ｃ＝○） １６８４（Ｃ＝○） さらに再結晶母液についてエタノールを留去後残留物を
シリカゲル３０夕を用いたカラムクロマトグラフイーに
付し、クロロホルム流出分画より目的物のもう一方の幾
何異性体０．８０夕を得。
融点１５３〜１５３．５ｏ０（ベンゼン一石油エーテル
の混合溶媒より再結晶）元素分析値 ＣａＨ，８Ｎ２０
４ 計算値：Ｃ、６９．６０：日、５．００：Ｎ、７．７３
実験値：Ｃ、６９．７６：日、４．８２；Ｎ．７．５１
核磁気共鳴スペクトル１．２０（鮒、三重線、Ｊ＝７Ｈ
Ｚ、ＣＱＣ日３）２．００（９日、一重線、Ｃ比）４．
０１（幻、四車線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃ＆ＣＨ３）４．８１
（２日、一重線、Ｃ比）７．２３〜８．０７（細、多重
線、芳香環プロトン）赤外線吸収スペクトル 肌‐１（
ＫＢｒ）２２５０（ＣＮ） １７７０（Ｃ＝〇） １６７４（Ｃ＝０） 実施例 ３ ２ーヒドロキシ−３−メチル−３一〔４−（１ーオキソ
−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル
の製造法２ーシアノー３一メチル一３一〔４一（１−オ
キソー２−イソインドリニル）フエニル〕グリシド酸エ
チルェステル１６０の３をエタノール２０の‘に溶かし
、これに水酸化カリウム３０の９のエタノール溶液を溜
梓下加え、さらに１時間燈拝した後、室温にて一夜放置
する。
の混合溶媒より再結晶）元素分析値 ＣａＨ，８Ｎ２０
４ 計算値：Ｃ、６９．６０：日、５．００：Ｎ、７．７３
実験値：Ｃ、６９．７６：日、４．８２；Ｎ．７．５１
核磁気共鳴スペクトル１．２０（鮒、三重線、Ｊ＝７Ｈ
Ｚ、ＣＱＣ日３）２．００（９日、一重線、Ｃ比）４．
０１（幻、四車線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃ＆ＣＨ３）４．８１
（２日、一重線、Ｃ比）７．２３〜８．０７（細、多重
線、芳香環プロトン）赤外線吸収スペクトル 肌‐１（
ＫＢｒ）２２５０（ＣＮ） １７７０（Ｃ＝〇） １６７４（Ｃ＝０） 実施例 ３ ２ーヒドロキシ−３−メチル−３一〔４−（１ーオキソ
−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル
の製造法２ーシアノー３一メチル一３一〔４一（１−オ
キソー２−イソインドリニル）フエニル〕グリシド酸エ
チルェステル１６０の３をエタノール２０の‘に溶かし
、これに水酸化カリウム３０の９のエタノール溶液を溜
梓下加え、さらに１時間燈拝した後、室温にて一夜放置
する。
エタノールを蟹去して得られる残留物を少量のエタノー
ルで洗浄し２ーシアノ−３ーメチルー３−〔４−（１ー
オキソ−２−イソィンドリニル）フェニル〕グリシド酸
のカリウム塩１５０雌を得。赤外線吸収スペクトル 伽
‐１（ＫＢｒ）２２３０（ＣＮ） １斑２（Ｃ＝０） １筋３（ＣＯＯ‐） このカリウム塩を２０凧‘の水に溶解し、１０％塩酸水
溶液にて酸性とし、酢酸エチルで抽出する。
ルで洗浄し２ーシアノ−３ーメチルー３−〔４−（１ー
オキソ−２−イソィンドリニル）フェニル〕グリシド酸
のカリウム塩１５０雌を得。赤外線吸収スペクトル 伽
‐１（ＫＢｒ）２２３０（ＣＮ） １斑２（Ｃ＝０） １筋３（ＣＯＯ‐） このカリウム塩を２０凧‘の水に溶解し、１０％塩酸水
溶液にて酸性とし、酢酸エチルで抽出する。
酢酸エチル層を水洗後苧硝で乾燥し、沸騰水浴上で溶媒
を蟹去する。得られた残留物について赤外線吸収スペク
トルおよび核磁器共鳴スペクトルは、２−ヒドロキシー
３ーメチル−３一〔４一（１ーオキソー２ーイソインド
リニル）フエニル〕アクリロニトリルの幾何異性体の混
合物であることを支持している。収量１１０の９。この
ものは室温でも不安定なため精製することなく続いて次
の加水分解反応に用いた。核磁気共鳴スペクトル ６（
ＣＤ３０Ｄ＋ＣＤＣ１３）２．１７、２．２８（が、各
一車線、ＣＱ、二異性体）４．９７（が、一重線、ＣＨ
２）７．４７〜８．００（班、多重線、芳香族プロトン
）赤外線吸収スペクトル 肌‐１（ＫＢｒ）２２００（
ＣＮ） １６５０（Ｃ＝○） 参考例 １ ２−〔４一（１−オキソー２ーイソインドリニル）フェ
ニル〕プロピオン酸の製造法２−ヒドロキシ−３ーメチ
ルー３−〔４一（１−オキソ−２−イソインドリニル）
フエニル〕アクリロニトリルの粗成績体１１０のｏに１
０％水酸化ナトリウム１０の上を加え、７０〜８０ｑ０
にて２時間鷹拝する。
を蟹去する。得られた残留物について赤外線吸収スペク
トルおよび核磁器共鳴スペクトルは、２−ヒドロキシー
３ーメチル−３一〔４一（１ーオキソー２ーイソインド
リニル）フエニル〕アクリロニトリルの幾何異性体の混
合物であることを支持している。収量１１０の９。この
ものは室温でも不安定なため精製することなく続いて次
の加水分解反応に用いた。核磁気共鳴スペクトル ６（
ＣＤ３０Ｄ＋ＣＤＣ１３）２．１７、２．２８（が、各
一車線、ＣＱ、二異性体）４．９７（が、一重線、ＣＨ
２）７．４７〜８．００（班、多重線、芳香族プロトン
）赤外線吸収スペクトル 肌‐１（ＫＢｒ）２２００（
ＣＮ） １６５０（Ｃ＝○） 参考例 １ ２−〔４一（１−オキソー２ーイソインドリニル）フェ
ニル〕プロピオン酸の製造法２−ヒドロキシ−３ーメチ
ルー３−〔４一（１−オキソ−２−イソインドリニル）
フエニル〕アクリロニトリルの粗成績体１１０のｏに１
０％水酸化ナトリウム１０の上を加え、７０〜８０ｑ０
にて２時間鷹拝する。
次に反応混合物を氷袷下、濃塩酸で酸性とした後酢酸エ
チルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、苧硝で乾燥し減
圧下溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフイーに付し、酢酸エチル流出分画より
２一〔４一（１−オキソ−２ーイソインドリニル）フヱ
ニル〕プロピオン酸８２の９を得。融点２１３〜２１４
℃核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤ３０Ｄ＋ＣＤＣ１３
）１．５３（斑、二重線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃは）４．９１
（が、一重線、Ｃ比）７．３０〜８．２３（斑、多重線
、芳香環プロトン）赤外線吸収スペクトル 伽‐１（Ｋ
Ｂｒ）１解０（Ｃ＝０） 質量分析スペクトル ｍ／ｅ ２８１（分子イオンピーク） ２３６（基準ピーク）
チルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、苧硝で乾燥し減
圧下溶媒を留去する。残留物をシリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフイーに付し、酢酸エチル流出分画より
２一〔４一（１−オキソ−２ーイソインドリニル）フヱ
ニル〕プロピオン酸８２の９を得。融点２１３〜２１４
℃核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤ３０Ｄ＋ＣＤＣ１３
）１．５３（斑、二重線、Ｊ＝７ＨＺ、Ｃは）４．９１
（が、一重線、Ｃ比）７．３０〜８．２３（斑、多重線
、芳香環プロトン）赤外線吸収スペクトル 伽‐１（Ｋ
Ｂｒ）１解０（Ｃ＝０） 質量分析スペクトル ｍ／ｅ ２８１（分子イオンピーク） ２３６（基準ピーク）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（
１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリ
ロニトリル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10982476A JPS603297B2 (ja) | 1976-09-16 | 1976-09-16 | ２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10982476A JPS603297B2 (ja) | 1976-09-16 | 1976-09-16 | ２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5337654A JPS5337654A (en) | 1978-04-06 |
| JPS603297B2 true JPS603297B2 (ja) | 1985-01-26 |
Family
ID=14520129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10982476A Expired JPS603297B2 (ja) | 1976-09-16 | 1976-09-16 | ２−ヒドロキシ−３−メチル−３−〔４−（１−オキソ−２−イソインドリニル）フエニル〕アクリロニトリル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603297B2 (ja) |
-
1976
- 1976-09-16 JP JP10982476A patent/JPS603297B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5337654A (en) | 1978-04-06 |
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