JPS6042419A - 芳香族ポリエステル - Google Patents
芳香族ポリエステルInfo
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- JPS6042419A JPS6042419A JP14939683A JP14939683A JPS6042419A JP S6042419 A JPS6042419 A JP S6042419A JP 14939683 A JP14939683 A JP 14939683A JP 14939683 A JP14939683 A JP 14939683A JP S6042419 A JPS6042419 A JP S6042419A
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族ポリエステルに関する。
テレフタル酸ジクロリドとイソフタル酸ジクロリドの混
合物の有機溶剤溶液とビスフェノールAのアルカリ水溶
液を混合して界面宣合法により芳香族ポリエステルを製
造する方法は古くから周知であるが耐熱性という点から
必ずしも好ましくはない。
合物の有機溶剤溶液とビスフェノールAのアルカリ水溶
液を混合して界面宣合法により芳香族ポリエステルを製
造する方法は古くから周知であるが耐熱性という点から
必ずしも好ましくはない。
一方ビスフエノールs (+、+’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホン)のアルカリ金x塩ト+、p’−ジクロ
ロジフェニルスルホンとを反応させて製造されるポリエ
ーテルスルホンは耐熱性が比較的すぐれているがコスト
が高い。
ェニルスルホン)のアルカリ金x塩ト+、p’−ジクロ
ロジフェニルスルホンとを反応させて製造されるポリエ
ーテルスルホンは耐熱性が比較的すぐれているがコスト
が高い。
本発明者等はその工うな点を鑑み、鋭意検討を行なりた
結果、さらに耐熱性の高い芳香族ポリエステルを工業的
有利に製造する方法を見出した。
結果、さらに耐熱性の高い芳香族ポリエステルを工業的
有利に製造する方法を見出した。
すなわち本発明の要旨は下記の一般式(1)および(1
1)で示される二種の構造単位(式中、R1−B11は
水素原子、)10ゲン原子。
1)で示される二種の構造単位(式中、R1−B11は
水素原子、)10ゲン原子。
炭化水素基またはアルコキシ基な示す)および一般式(
AI) (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基またはなしを
示し、R17〜戸は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素
基またはアルコキシ基な示す)からなり構造単位(I)
:構造単位(II)はモル比でqs:sないし5:9S
の割合であす、フェノール:テトラクロルエタン;/:
lの混合液中、濃度1.o y−7atで30℃で測定
した還元粘度ηmp/Cが0. / at/f以上であ
る芳香族ポリエステルに存する。
AI) (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基またはなしを
示し、R17〜戸は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素
基またはアルコキシ基な示す)からなり構造単位(I)
:構造単位(II)はモル比でqs:sないし5:9S
の割合であす、フェノール:テトラクロルエタン;/:
lの混合液中、濃度1.o y−7atで30℃で測定
した還元粘度ηmp/Cが0. / at/f以上であ
る芳香族ポリエステルに存する。
本発明なさらに詳細に説明するに1本発明の芳香族ポリ
エステルの前足一般式CI)および(II)においてR
′〜R′6は水素原子であり、R17〜R“は水素原子
またはハロゲン原子であることが好ましく、水素原子が
さらに好ましい。また前足一般式(n)においてAとし
てはアルキレン基、アルキリデン基、スルホニル基が好
ましく、アルキリデン基が特に好ましい。
エステルの前足一般式CI)および(II)においてR
′〜R′6は水素原子であり、R17〜R“は水素原子
またはハロゲン原子であることが好ましく、水素原子が
さらに好ましい。また前足一般式(n)においてAとし
てはアルキレン基、アルキリデン基、スルホニル基が好
ましく、アルキリデン基が特に好ましい。
このような芳香族ポリエステルの製造法としては一般に
界面重縮合、溶液重縮曾、溶融重縮合いずれも可能であ
るが、界面重縮合お工び溶液重縮合では容易に高重合匣
のポリマーが得ら今度のポリマーを得るためには300
℃以上にするか、続いて固相重合をする必要がある。ま
た溶液重合の場合、ビスフェノール類とアミンとの混合
物とインフタル酸ハライドおよび生成したポリマーを溶
解する溶*を用いる必要があるが界面重縮合の場合には
イソフタル酸ハライドとポリマーを溶解する溶媒はいず
れも使用出来るので界面重縮合を用いるのが得策である
。
界面重縮合、溶液重縮曾、溶融重縮合いずれも可能であ
るが、界面重縮合お工び溶液重縮合では容易に高重合匣
のポリマーが得ら今度のポリマーを得るためには300
℃以上にするか、続いて固相重合をする必要がある。ま
た溶液重合の場合、ビスフェノール類とアミンとの混合
物とインフタル酸ハライドおよび生成したポリマーを溶
解する溶*を用いる必要があるが界面重縮合の場合には
イソフタル酸ハライドとポリマーを溶解する溶媒はいず
れも使用出来るので界面重縮合を用いるのが得策である
。
しかして1本発明の芳香族ポリエステルはイソフタル酸
シバライドの有機溶剤溶液と一般式(1) (式中、R15〜B40は水素原子、)10ゲン原子。
シバライドの有機溶剤溶液と一般式(1) (式中、R15〜B40は水素原子、)10ゲン原子。
炭化水素基またはアルコキシ基を示す)および一般式(
IV) (式中、Bは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基、またはなし
を示し、141〜R′は水素原子、ハロゲン原子、アル
コキシ基または炭化水素基を示す)で表わされるビスフ
ェノール類のアルカリ水環液とより界面重縮合法により
好適に製造される。
IV) (式中、Bは酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基、アルキレン基、アルキリデン基、またはなし
を示し、141〜R′は水素原子、ハロゲン原子、アル
コキシ基または炭化水素基を示す)で表わされるビスフ
ェノール類のアルカリ水環液とより界面重縮合法により
好適に製造される。
さらに詳しく説明するとインフタル酸シバライドの有機
溶剤としては、水と相溶性のないものが使用され、具体
的には塩化メチレン、二塩化エチレン、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素、トルエン、ベンゼンなどが使
用出来るが1.生成したポリエステルの溶媒であること
が好ましく、塩化メチレン、l、−一ジクロロエタン、
/、/、コートリクロロエタン、/、/、コツ2−テト
ラクロロエタン等が用いられる。この溶液の酸クロリド
#度は反応条件、有機溶剤への溶解性などにより変化す
るが通常2〜30重量%が用いられる。また酸クロリド
は水により加水分解を起すので有機溶剤中の水は少ない
ことが望まれる。
溶剤としては、水と相溶性のないものが使用され、具体
的には塩化メチレン、二塩化エチレン、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素、トルエン、ベンゼンなどが使
用出来るが1.生成したポリエステルの溶媒であること
が好ましく、塩化メチレン、l、−一ジクロロエタン、
/、/、コートリクロロエタン、/、/、コツ2−テト
ラクロロエタン等が用いられる。この溶液の酸クロリド
#度は反応条件、有機溶剤への溶解性などにより変化す
るが通常2〜30重量%が用いられる。また酸クロリド
は水により加水分解を起すので有機溶剤中の水は少ない
ことが望まれる。
本発明方法において用いられるビスフェノール類のうち
、前示一般式(1)で示されるものとしては9.9−ビ
ス(41−ヒドロキシフェニル)フルオレン、!、9−
ビス(ターヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレ
ン、9.9−ビス(亭−ヒドロキシ−3−クロロフェニ
ル)フルオレン、ワウ9−ビス(41−ヒドロキシ−3
−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(ターヒ
ドロキシ−3−フルオロ)フルオレン、9.9−ビス(
4t−ヒドロキシーコーメチルフェニル)フルオレン、
ワウ9′−ビス(lI−ヒドロキシ−3−メトキシフェ
ニル)フルオレン、?、?−ビス(+−ヒドロキシ−3
,j−ジメチルフェニル)フルオレン、9.9−ビス(
ターヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレ
ン、ワウデービス(弘−ヒドロキシ−3,5−ジブロモ
フェニル)フルオレン、ワウ9−ビス(4−ヒドロキシ
7エ二ル) /、1,3.グ、j、A、?、ざオクタク
ロロフルオレン、?、q−ビス(p−ヒドロキシフェニ
ル)コ、3゜鶴7テトラクロロフルオレン等が挙げられ
るが必ずしもこれらに限定されるものではない。また混
合物としてこれらを使用してもよい。これらの中からコ
ストの点から91タービス(クーヒドロキシフェニル)
フルオレンが最も好まし粋。
、前示一般式(1)で示されるものとしては9.9−ビ
ス(41−ヒドロキシフェニル)フルオレン、!、9−
ビス(ターヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレ
ン、9.9−ビス(亭−ヒドロキシ−3−クロロフェニ
ル)フルオレン、ワウ9−ビス(41−ヒドロキシ−3
−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(ターヒ
ドロキシ−3−フルオロ)フルオレン、9.9−ビス(
4t−ヒドロキシーコーメチルフェニル)フルオレン、
ワウ9′−ビス(lI−ヒドロキシ−3−メトキシフェ
ニル)フルオレン、?、?−ビス(+−ヒドロキシ−3
,j−ジメチルフェニル)フルオレン、9.9−ビス(
ターヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレ
ン、ワウデービス(弘−ヒドロキシ−3,5−ジブロモ
フェニル)フルオレン、ワウ9−ビス(4−ヒドロキシ
7エ二ル) /、1,3.グ、j、A、?、ざオクタク
ロロフルオレン、?、q−ビス(p−ヒドロキシフェニ
ル)コ、3゜鶴7テトラクロロフルオレン等が挙げられ
るが必ずしもこれらに限定されるものではない。また混
合物としてこれらを使用してもよい。これらの中からコ
ストの点から91タービス(クーヒドロキシフェニル)
フルオレンが最も好まし粋。
本発明で用いられる一般式(IV)で表わされるヒスフ
ェノール類の具体例としてはλlココ−ス(4!−ヒ)
”ロキシフェニル)フロパフ1,2..2−ビス(4!
−ヒドロキシ−3,A;−ジメチルフェニル)プロパン
、コ、コービス(ターヒドロキシ−3+ j−ジクロロ
フェニル)−フロパン、コ、コーピス(ターヒドロキシ
−J−メチルフェニル)プロパン、コツ2−ビス(ター
ヒドロキシ−3−クロロフェニル)−フロパン、ビス(
ターヒドロキシフェニル)−メタン、ビス(ターヒドロ
キシ−、?、! −ジメチルフェニル)−メタン、ビス
(4I−ヒドロキシ−J、s−ジクロロフェニル)−メ
タン、ビス(クーヒドロキシ−3,s−ジブゝロモフエ
ニル)−メタン、i、i−ヒス(クーヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン q 、 t、tl−ジヒドロキシ
ジフェニルビス(4t−ヒドロキシフェニル)−ケトン
、ビス(クーヒドロキシ−3゜S−ジメチルフェニル)
−ケトン、ビス(ターヒドロキシ−3,、t−ジクロロ
フェニル)−ケトン、ビス(4t−ヒドロキシフェニル
)スルフィド、ビス(グーヒドロキシ−3−クロロフェ
ニル)−スルフィド、ビス(4I−ヒト”ロキシー3゜
s−ジクロロフェニル)−スルフィド、ヒス−(クーヒ
ドロキシフェニル)−スルボン、ビス(ターヒドロキシ
−3,s−ジクロロフェニル)エーテル、*、<t’ジ
ヒドロキシピフェニル等7’)E挙Irfられ、これら
は単独もしくは混合物として使用してもよいがコストの
点からコ、λ−ビス(クーヒドロキシフェニル)プロパ
ン及ヒビス(ターヒドロキシフェニル)−スルホンが好
−1しく。
ェノール類の具体例としてはλlココ−ス(4!−ヒ)
”ロキシフェニル)フロパフ1,2..2−ビス(4!
−ヒドロキシ−3,A;−ジメチルフェニル)プロパン
、コ、コービス(ターヒドロキシ−3+ j−ジクロロ
フェニル)−フロパン、コ、コーピス(ターヒドロキシ
−J−メチルフェニル)プロパン、コツ2−ビス(ター
ヒドロキシ−3−クロロフェニル)−フロパン、ビス(
ターヒドロキシフェニル)−メタン、ビス(ターヒドロ
キシ−、?、! −ジメチルフェニル)−メタン、ビス
(4I−ヒドロキシ−J、s−ジクロロフェニル)−メ
タン、ビス(クーヒドロキシ−3,s−ジブゝロモフエ
ニル)−メタン、i、i−ヒス(クーヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン q 、 t、tl−ジヒドロキシ
ジフェニルビス(4t−ヒドロキシフェニル)−ケトン
、ビス(クーヒドロキシ−3゜S−ジメチルフェニル)
−ケトン、ビス(ターヒドロキシ−3,、t−ジクロロ
フェニル)−ケトン、ビス(4t−ヒドロキシフェニル
)スルフィド、ビス(グーヒドロキシ−3−クロロフェ
ニル)−スルフィド、ビス(4I−ヒト”ロキシー3゜
s−ジクロロフェニル)−スルフィド、ヒス−(クーヒ
ドロキシフェニル)−スルボン、ビス(ターヒドロキシ
−3,s−ジクロロフェニル)エーテル、*、<t’ジ
ヒドロキシピフェニル等7’)E挙Irfられ、これら
は単独もしくは混合物として使用してもよいがコストの
点からコ、λ−ビス(クーヒドロキシフェニル)プロパ
ン及ヒビス(ターヒドロキシフェニル)−スルホンが好
−1しく。
コツ2−ビス(4t−ヒドロキシフェニル)プロパンが
最も好ましい。
最も好ましい。
これらの一般式(ゎおよび(1v)で表わされるビスフ
ェノール類は混合して反応に供してもよいし、あるいは
別々に反応に供してもよいが、アルカリ水溶液として反
応に供せられる。また通常/−/j重量−のアルカリ水
溶液として用いられる。アルカリとしてはNaOH、K
OH・。
ェノール類は混合して反応に供してもよいし、あるいは
別々に反応に供してもよいが、アルカリ水溶液として反
応に供せられる。また通常/−/j重量−のアルカリ水
溶液として用いられる。アルカリとしてはNaOH、K
OH・。
L IOH、に2CO3、Na2CO3等をビスフェノ
ールf44 ノー倍モル以上混合すればよい。またビス
フェノ−Jl/の溶解性を増すためにイソプロパツール
、エタノールのようなアルコール類またはテトラヒドロ
フランのような環状エーテルを存在させても工h0一般
式(llI)および(1■)で表わされるビスフェノー
ルのモル比は特に制限はないが(IN) : (IV)
−? s : shイしs:qsで実施される。
ールf44 ノー倍モル以上混合すればよい。またビス
フェノ−Jl/の溶解性を増すためにイソプロパツール
、エタノールのようなアルコール類またはテトラヒドロ
フランのような環状エーテルを存在させても工h0一般
式(llI)および(1■)で表わされるビスフェノー
ルのモル比は特に制限はないが(IN) : (IV)
−? s : shイしs:qsで実施される。
界面重縮合は上述した様にイソフタル酸シバライドの有
機溶剤溶液と一般式(1)および(IV)で表わされる
ビスフェノール類のアルカリ水溶液との接触により生起
するが、これらの接触は酸クロリド溶液にビスフェノー
ル類のアルカリ水溶液を添加してもよく、その逆でも、
更には両者の同時供給でもよく、又は反応形式は回分式
でもよく、連続式でもよいが、両相は相互に相溶性がな
いため、極力均一に分散することがスクリュー型羽根を
有する攪拌槽を用いて行なわれるがファウドラー型、お
よびタービン型が特に好ましい。また必要に応じ、・ジ
ャマ板をもうけることにより、攪拌を強化することが好
ましいことはいうまでもない。連続式の場合にはパイプ
ラインミキサーを使用することが好ましい。反応温度は
SOC以下、好ましくは−S〜1IOCでS分〜3時間
の範囲で行なわれる。
機溶剤溶液と一般式(1)および(IV)で表わされる
ビスフェノール類のアルカリ水溶液との接触により生起
するが、これらの接触は酸クロリド溶液にビスフェノー
ル類のアルカリ水溶液を添加してもよく、その逆でも、
更には両者の同時供給でもよく、又は反応形式は回分式
でもよく、連続式でもよいが、両相は相互に相溶性がな
いため、極力均一に分散することがスクリュー型羽根を
有する攪拌槽を用いて行なわれるがファウドラー型、お
よびタービン型が特に好ましい。また必要に応じ、・ジ
ャマ板をもうけることにより、攪拌を強化することが好
ましいことはいうまでもない。連続式の場合にはパイプ
ラインミキサーを使用することが好ましい。反応温度は
SOC以下、好ましくは−S〜1IOCでS分〜3時間
の範囲で行なわれる。
また重合反応に際して触媒として第三級アミン、第弘級
アンモニウーム化会物、第を級ホスホニウム塩等の界c
[a M 4にの触媒として用いられるものはいずれも
使用可能であるが、触媒として下記一般式(V)〜<X
W) から選ばれる少なくとも一種の化合物を用いるこ
とが好ましい。
アンモニウーム化会物、第を級ホスホニウム塩等の界c
[a M 4にの触媒として用いられるものはいずれも
使用可能であるが、触媒として下記一般式(V)〜<X
W) から選ばれる少なくとも一種の化合物を用いるこ
とが好ましい。
一般式(V)
(式中、Ra、 R11111、R111、Hnおよび
R4は水素原子4 タkZ 7 ” ”t’ ” 基テ
ア’) −H4O−R5a、FL′51 、 Ra2お
よびRa3 のうち少なくともlケはアルキル基であり
B114.RH!およびB111lは炭素数/−以下
のアルキル基であり、 XIは水酸基またはハロゲン原
子である)で表わされる化合物 一般式(vl) (式中 R1″、Rb2、R″gおよびH60は水素原
子またはアルキル基であり、R61−R6*、H63,
H64、R611お工びR6&はアルキル基でありYl
は水酸基またはハロゲン原子である)で表わされる化付
物一般式(Vll) (式中、H67は炭素数3〜/、2のアルキル基であり
、R6Bお工ひRef+は辰累叙l〜lコのアルキル基
であり、但し、H67、R6aおよびB10の炭素数の
和は7〜36であり zlは水酸基または210ゲン原
子である)で表わされる化合物 一般式(Vlll) (式中s R”−R11、R72−B?3および174
は水素原子またはアルキル基であり、R?lはアルキル
基。
R4は水素原子4 タkZ 7 ” ”t’ ” 基テ
ア’) −H4O−R5a、FL′51 、 Ra2お
よびRa3 のうち少なくともlケはアルキル基であり
B114.RH!およびB111lは炭素数/−以下
のアルキル基であり、 XIは水酸基またはハロゲン原
子である)で表わされる化合物 一般式(vl) (式中 R1″、Rb2、R″gおよびH60は水素原
子またはアルキル基であり、R61−R6*、H63,
H64、R611お工びR6&はアルキル基でありYl
は水酸基またはハロゲン原子である)で表わされる化付
物一般式(Vll) (式中、H67は炭素数3〜/、2のアルキル基であり
、R6Bお工ひRef+は辰累叙l〜lコのアルキル基
であり、但し、H67、R6aおよびB10の炭素数の
和は7〜36であり zlは水酸基または210ゲン原
子である)で表わされる化合物 一般式(Vlll) (式中s R”−R11、R72−B?3および174
は水素原子またはアルキル基であり、R?lはアルキル
基。
アリール基またはアラルキル基であり、X2は)10ゲ
ン原子または水酸基である)で表わされる化合物 一般式(+X) (式中、R76、R??、H?8、H2OおLびR80
は水素原子またはアルキル基であり、R81はアルキル
基。
ン原子または水酸基である)で表わされる化合物 一般式(+X) (式中、R76、R??、H?8、H2OおLびR80
は水素原子またはアルキル基であり、R81はアルキル
基。
アリール基またはアラルキル基であり、Y2は)1ロゲ
ン原子または水酸基である)で表わされる化付物 一般式(X) (式中、Bat −HI12r、 RF211、R””
’、 It! R素数j 〜+70のアルキル基であり
、しかもR82、R62′、R82#。
ン原子または水酸基である)で表わされる化付物 一般式(X) (式中、Bat −HI12r、 RF211、R””
’、 It! R素数j 〜+70のアルキル基であり
、しかもR82、R62′、R82#。
TL82″′)炭waの和は7.2〜70であり zl
は水酸基またはハロゲン原子である)で表わされる化付
物 一般式(X[) (式中、BU はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
ル基であり XBは水酸基またはハロゲン原子である)
で表わされる化合物 一般式(XID (式中、R8′はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
ル基であり、X′は水酸基または〕10ゲン原子である
)で表わされる化合物 一般式(Xlll) (式中、38MおよびR@0はアルキル基、nは1〜5
の数、x5は水酸基または)・ロゲン原子である)で表
わされる化合物 一般式(XIV) (式中、R87おLびBagはアルキル基、ベンジル基
5mおよびpは1〜Sの数、X6は水酸基またはハロゲ
ン原子である)で表わされる化合物。
は水酸基またはハロゲン原子である)で表わされる化付
物 一般式(X[) (式中、BU はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
ル基であり XBは水酸基またはハロゲン原子である)
で表わされる化合物 一般式(XID (式中、R8′はアルキル基、ベンジル基またはフェニ
ル基であり、X′は水酸基または〕10ゲン原子である
)で表わされる化合物 一般式(Xlll) (式中、38MおよびR@0はアルキル基、nは1〜5
の数、x5は水酸基または)・ロゲン原子である)で表
わされる化合物 一般式(XIV) (式中、R87おLびBagはアルキル基、ベンジル基
5mおよびpは1〜Sの数、X6は水酸基またはハロゲ
ン原子である)で表わされる化合物。
重合の際使用する触媒の量は生成ポリマー(100%反
応jるとして)700重量部に対して000/−20重
量部であり、好ましくはαoos−s重量部である。
応jるとして)700重量部に対して000/−20重
量部であり、好ましくはαoos−s重量部である。
また重合は攪拌槽中、加圧で行なってもよい。
通常−50〜SOCの温度範囲から選ばれる。
重合反応に続いて塩化アルカリ塩欠含んだ水相と芳香族
ポリエステルが溶けている有機溶媒相との分離を行なう
。この分離は、静置分液あるいは遠心分離機などによる
機械的分離などによって行なう。必−決に応じて、アル
カリ水、酸性水、水などにエリ引き続き、ポリマー層の
洗浄も可能である。ポリマーを有機溶媒溶液から単m−
するにあたって、その単離方法としては公知のいずれの
方法もとられる。必要ならばポリマーを更にメタノール
、エタノール、アセトン、ヘキサン、キシレンなどの有
機溶媒で洗浄する。
ポリエステルが溶けている有機溶媒相との分離を行なう
。この分離は、静置分液あるいは遠心分離機などによる
機械的分離などによって行なう。必−決に応じて、アル
カリ水、酸性水、水などにエリ引き続き、ポリマー層の
洗浄も可能である。ポリマーを有機溶媒溶液から単m−
するにあたって、その単離方法としては公知のいずれの
方法もとられる。必要ならばポリマーを更にメタノール
、エタノール、アセトン、ヘキサン、キシレンなどの有
機溶媒で洗浄する。
本発明で得た芳香族ポリエステルは多くの利点を有して
いる。すなわち引張り強度1曲げ強度、引張り弾性率、
曲は弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開始温度
、電気的性質1寸法安定性[侵れ、吸湿、吸水率が低く
、透明であり、成形性も良好で成形材料お工びフィルム
として有用である。
いる。すなわち引張り強度1曲げ強度、引張り弾性率、
曲は弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開始温度
、電気的性質1寸法安定性[侵れ、吸湿、吸水率が低く
、透明であり、成形性も良好で成形材料お工びフィルム
として有用である。
以下、本発明を実施例にエリさらに詳細に説明″fる〇
実施例/
ファウドラー型攪拌翼、ジャマ板を装備した重仕槽に水
30θ〃I火入れ、水酸化す)IJウム100g?、ハ
イドロサルファイドナトリウム0.02bf’4f溶解
させ、さらにインブロノくノール?、td)l加え、9
,9−ビス(弘−ヒドロキシフェニル)フルオレンlA
20jf(0,0/2モル)な溶解させる。別に水10
0m1に水酸化ナトリウムl ! / J f、ハイド
ロサルファイドナトリウムθ04E Of、 コ、コー
ビス(t−ヒドロキシフェニル)プロパン4! / /
i (0,0/ 1モル)を溶解させた#液と、塩化
メテレンコO0ゴにイソフタル酸ジクロリド&97fP
’ff:溶解させた溶液yir:調製する。
30θ〃I火入れ、水酸化す)IJウム100g?、ハ
イドロサルファイドナトリウム0.02bf’4f溶解
させ、さらにインブロノくノール?、td)l加え、9
,9−ビス(弘−ヒドロキシフェニル)フルオレンlA
20jf(0,0/2モル)な溶解させる。別に水10
0m1に水酸化ナトリウムl ! / J f、ハイド
ロサルファイドナトリウムθ04E Of、 コ、コー
ビス(t−ヒドロキシフェニル)プロパン4! / /
i (0,0/ 1モル)を溶解させた#液と、塩化
メテレンコO0ゴにイソフタル酸ジクロリド&97fP
’ff:溶解させた溶液yir:調製する。
重曾檜に、触媒としてベンジルトリブチルアンモニウム
クロリド0.0Jfl−7’f、入れ、攪拌をIf 0
0 r、 p、m、にて上記9.9−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)フルオレンの溶液ヲ激しく攪拌しつつ、
上記インフタル酸ジクロリドの塩化メチレン溶液を急速
に添加する。
クロリド0.0Jfl−7’f、入れ、攪拌をIf 0
0 r、 p、m、にて上記9.9−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)フルオレンの溶液ヲ激しく攪拌しつつ、
上記インフタル酸ジクロリドの塩化メチレン溶液を急速
に添加する。
次にコ、2−ビス(弘−ヒドロキシフェニル)プロパン
のアルカリ水浴液を急速に添加する。
のアルカリ水浴液を急速に添加する。
、2Cでコ時間攪拌をさらにつづける。
攪拌乞止め静置すると塩化メチレン相と水相が分離する
ので水相を除却し、塩化メチレン相をエタノール中に加
えてポリマーを析出後、沸騰水で3回洗浄し、/20C
で乾燥する。
ので水相を除却し、塩化メチレン相をエタノール中に加
えてポリマーを析出後、沸騰水で3回洗浄し、/20C
で乾燥する。
このポリマーのフェノール:テトラクロルエタ:y(/
: / )<7)混合成牛10 f/atで30Cで
測定L タ17 @p/Cは0.73 at7 fであ
った。
: / )<7)混合成牛10 f/atで30Cで
測定L タ17 @p/Cは0.73 at7 fであ
った。
このポリマーをコ10Cでプレスすると透明で強靭なプ
レス片が得られた。また東洋精機製平行板ブラストメー
ターを用い、テストピースに、2ok!/、7cmの荷
重をかけ、2、! C/ minで昇秦 温し、急激に変形を始める温度(HDT)を測定したと
ころコJ 、2. ! Cであった。
レス片が得られた。また東洋精機製平行板ブラストメー
ターを用い、テストピースに、2ok!/、7cmの荷
重をかけ、2、! C/ minで昇秦 温し、急激に変形を始める温度(HDT)を測定したと
ころコJ 、2. ! Cであった。
そのIRスペクトルは3θ60,3θ3θ、/1,03
゜/!10 、 /300 (771−’にベンゼン核
の吸収、 1qlI。
゜/!10 、 /300 (771−’にベンゼン核
の吸収、 1qlI。
(5n −’にインフタル酸エステルの力゛ルボニルの
吸収、 aqso、ハtll!r 、 13KO、//
4!rcm−’にビスフェノールへのメチル基の吸収が
あった(図−7)0また得られたポリマーの元素分析値
は下記の通りでこのモル比での計算値と一致している。
吸収、 aqso、ハtll!r 、 13KO、//
4!rcm−’にビスフェノールへのメチル基の吸収が
あった(図−7)0また得られたポリマーの元素分析値
は下記の通りでこのモル比での計算値と一致している。
C(%) H(%)
計算値 79.1.3 ’At、!f
実測値 ?Ltコ lAs弘
実施例−〜弘
ビスフェノールAと9.9−ビス(4L−ヒドロキシフ
ェニル)フルオレン(FDP)との会計蓋を0.03
moムとしその使用址のモル比を変化させた以外実施9
111と同様の方法で行なった。
ェニル)フルオレン(FDP)との会計蓋を0.03
moムとしその使用址のモル比を変化させた以外実施9
111と同様の方法で行なった。
七の結果を表−1に示す。
辰 −l
図−1は実施例1で得られたポリマーの赤外線吸収スペ
クトルである。 特許出願人 三菱化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 長谷用 − ほか1名 −1:
クトルである。 特許出願人 三菱化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 長谷用 − ほか1名 −1:
Claims (3)
- (1)一般式(1) 表わされる構造単位および一般式(fl)(式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、ア
ルキレフ基、アルキリデン基またはなしを示し、BIT
〜RKは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基またはア
ルコキシ基を示す)で表わされる構造単位からなり、構
造単位(■):構造単位(11)はモル比でデ5:5な
いしs :qsの割付であり、フェノール:テトラクロ
ルエタン−/:/の混合液中濃度10 f−/dtで3
θCで測定した還元粘度1 m p/Cが0. / d
t/p以上である芳香族ポリエステル。 - (2)一般式(I)において妃〜R16が水素原子であ
る特許請求の範囲第一項記載の芳香族ポリエステル。 - (3)一般式(II)において117〜R2′が水素原
子である特許請求の範囲第一項記載の芳香族ポリエステ
ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14939683A JPS6042419A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 芳香族ポリエステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14939683A JPS6042419A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 芳香族ポリエステル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042419A true JPS6042419A (ja) | 1985-03-06 |
Family
ID=15474209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14939683A Pending JPS6042419A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 芳香族ポリエステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042419A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6481615A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-27 | Hikari Shoko Kk | Insulation monitor for power distribution facility |
| JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
| JP4551503B2 (ja) * | 1997-10-03 | 2010-09-29 | ユニチカ株式会社 | 高耐熱性高純度ポリアリレート及び該ポリアリレートからなるフィルム |
-
1983
- 1983-08-16 JP JP14939683A patent/JPS6042419A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6481615A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-27 | Hikari Shoko Kk | Insulation monitor for power distribution facility |
| JP4551503B2 (ja) * | 1997-10-03 | 2010-09-29 | ユニチカ株式会社 | 高耐熱性高純度ポリアリレート及び該ポリアリレートからなるフィルム |
| JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
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