JPS6044392B2 - 電子ビ−ム蒸着装置 - Google Patents
電子ビ−ム蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6044392B2 JPS6044392B2 JP11058377A JP11058377A JPS6044392B2 JP S6044392 B2 JPS6044392 B2 JP S6044392B2 JP 11058377 A JP11058377 A JP 11058377A JP 11058377 A JP11058377 A JP 11058377A JP S6044392 B2 JPS6044392 B2 JP S6044392B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- spot
- control section
- vapor deposition
- electromagnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビーム蒸着装置に関する。
電子ビーム蒸着装置は、たとえばアルミニウム等の蒸着
材料の表面に電子ビーム・スポットを照射して蒸着材料
を蒸発させる装置である。
材料の表面に電子ビーム・スポットを照射して蒸着材料
を蒸発させる装置である。
従来の電子ビーム蒸着装置は、円形の電子ビーム・スポ
ットを永久磁石により楕円形に広げ、この楕円形の電子
ビーム・スポットで蒸着材料の表面を加熱する構造を有
している。し力化ながら、このような従来の装置におい
ては、蒸着材料を入れた容器すなわちハースは円形であ
るために、電子ビーム・スポットをその短径方向に大き
く走査した場合、ハース壁に接触しハースを溶解するこ
とがある。
ットを永久磁石により楕円形に広げ、この楕円形の電子
ビーム・スポットで蒸着材料の表面を加熱する構造を有
している。し力化ながら、このような従来の装置におい
ては、蒸着材料を入れた容器すなわちハースは円形であ
るために、電子ビーム・スポットをその短径方向に大き
く走査した場合、ハース壁に接触しハースを溶解するこ
とがある。
この溶解を防止しようとすると必然的に電子ビーム・ス
ポットの走査面積が小さくなり、この結果、蒸着速度が
変化しやすく再現性のよい蒸着膜の形成ができない。本
発明の目的はこのような従来の欠点を解消し、電子ビー
ム・スポットの走査面積が大きく、さらに蒸着速度の変
化を抑えられるような電子ビーム蒸着装置を提供するこ
とにある。上記目的を達成するための本発明の構成は、
円形のビーム・スポットをＸ方向に走査させる手段と、
電子ビーム・スポットのＹ方向の径を変化させる手段と
を備え、Ｘ方向の走査に判つて電子ビーム・スポット径
をＹ方向に変化させて蒸着材料に照射させるように構成
する。
ポットの走査面積が小さくなり、この結果、蒸着速度が
変化しやすく再現性のよい蒸着膜の形成ができない。本
発明の目的はこのような従来の欠点を解消し、電子ビー
ム・スポットの走査面積が大きく、さらに蒸着速度の変
化を抑えられるような電子ビーム蒸着装置を提供するこ
とにある。上記目的を達成するための本発明の構成は、
円形のビーム・スポットをＸ方向に走査させる手段と、
電子ビーム・スポットのＹ方向の径を変化させる手段と
を備え、Ｘ方向の走査に判つて電子ビーム・スポット径
をＹ方向に変化させて蒸着材料に照射させるように構成
する。
以下、図面に示す実施例により本発明を詳細に説明する
。
。
第１図および第２図に示すように、この電子ビーム蒸着
装置１は、ブロック状の装置本体２を有し、この装置本
体２上面の長寸方向の一端寄りにＪは、たとえばアルミ
ニウムなどの蒸着材料３を入れる容器、すなわちハース
４を設け、また、該上面の長寸方向の他端寄りに位置す
る穴５の下部には、該蒸着材料３の表面を加熱しかつ蒸
発させるための電子ビーム発生用のフィラメント６を設
け；ている。
装置１は、ブロック状の装置本体２を有し、この装置本
体２上面の長寸方向の一端寄りにＪは、たとえばアルミ
ニウムなどの蒸着材料３を入れる容器、すなわちハース
４を設け、また、該上面の長寸方向の他端寄りに位置す
る穴５の下部には、該蒸着材料３の表面を加熱しかつ蒸
発させるための電子ビーム発生用のフィラメント６を設
け；ている。
そ［、て、穴５ないし蒸着材料３をＸ方向に挟むように
永久磁石９と電磁石７を配置してＸ方向ビーム制御部を
構成している。また、前記電磁石７の両側には前記穴５
を挟むように一対の電磁石８，８を配置し、これらでＹ
方向ビーム制御部を構成している。そして、図外の電流
装置により、前記電磁石７には第４図に示す特性の電流
が供給され、また電磁石８，８には第５図に示す特性の
電流が供給されるようになつている。
永久磁石９と電磁石７を配置してＸ方向ビーム制御部を
構成している。また、前記電磁石７の両側には前記穴５
を挟むように一対の電磁石８，８を配置し、これらでＹ
方向ビーム制御部を構成している。そして、図外の電流
装置により、前記電磁石７には第４図に示す特性の電流
が供給され、また電磁石８，８には第５図に示す特性の
電流が供給されるようになつている。
次に、上記構成を有する電子ビーム蒸着装置１により生
ずる電子ビーム・スポット１１の走査状態を第２図ない
し第５図により説明する。
ずる電子ビーム・スポット１１の走査状態を第２図ない
し第５図により説明する。
先ず、第２図のようにフィラメント６から発生した電子
ビーム１０は、Ｘ方向制御部のみを基準電流で作動させ
ている状態においては、ビーム１０は図示のように円弧
を描いて蒸着材料３の略中応位置に照射されて円形のス
ポットを形成する。
ビーム１０は、Ｘ方向制御部のみを基準電流で作動させ
ている状態においては、ビーム１０は図示のように円弧
を描いて蒸着材料３の略中応位置に照射されて円形のス
ポットを形成する。
次に、第４図に示すようにＸ方向ビーム制御部の電磁石
７に流す電流の量を第３図のｂ位置で最も小さく、ｃ位
置で最も大きく、ａ位置で中位の大きさになるような流
し方をする。これにより電子ビーム●スポットは蒸着材
料３上でｘ方向に走査される。これと同時にＹ方向ビー
ム制御部の電磁石８，８に流す電流の量を第５図に示す
ように増減操作してやり、第３図のａ位置で最も電流の
量が大きくなるようにし、ｂ位置、ｃ位置では小さくな
るようにする。
７に流す電流の量を第３図のｂ位置で最も小さく、ｃ位
置で最も大きく、ａ位置で中位の大きさになるような流
し方をする。これにより電子ビーム●スポットは蒸着材
料３上でｘ方向に走査される。これと同時にＹ方向ビー
ム制御部の電磁石８，８に流す電流の量を第５図に示す
ように増減操作してやり、第３図のａ位置で最も電流の
量が大きくなるようにし、ｂ位置、ｃ位置では小さくな
るようにする。
そして、該Ｙ方向の電磁石８，８の電流操作をＸ方向の
電磁石７の電流操作に同期させて繰り返し行うことによ
り、電子ビーム１０にかけられる磁界が規則的に変化し
、その結果電子．ビーム●スポット１１は、第３図ａ位
置でそのＹ方径が最大の楕円となり、ｂ位置およびｃ位
置では小さな円となる。なお、図ではａ位置におけるビ
ームのぼけによりＸ方向にもビーム径が若干大きくなる
こを示している。したがつて、ＸおよびＹの各方向ビー
ム制御部の電磁石７，８の双方の電流の量を連続的に変
化させていくことにより、電子ビーム・スポットはＸ方
向に走査されながらそのＹ方向の楕円径が変化され、こ
れから蒸着材料３の表面をなめるように電子ビーム１０
が照射され、蒸着材料３はこのスポット１１の熱により
溶解され、あらかじめ決められた方向に蒸発し、蒸着を
実現することができる。
電磁石７の電流操作に同期させて繰り返し行うことによ
り、電子ビーム１０にかけられる磁界が規則的に変化し
、その結果電子．ビーム●スポット１１は、第３図ａ位
置でそのＹ方径が最大の楕円となり、ｂ位置およびｃ位
置では小さな円となる。なお、図ではａ位置におけるビ
ームのぼけによりＸ方向にもビーム径が若干大きくなる
こを示している。したがつて、ＸおよびＹの各方向ビー
ム制御部の電磁石７，８の双方の電流の量を連続的に変
化させていくことにより、電子ビーム・スポットはＸ方
向に走査されながらそのＹ方向の楕円径が変化され、こ
れから蒸着材料３の表面をなめるように電子ビーム１０
が照射され、蒸着材料３はこのスポット１１の熱により
溶解され、あらかじめ決められた方向に蒸発し、蒸着を
実現することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれ・ば、蒸
着材料の表面に照射される電子ビーム・スポットを、そ
の形状をＹ方向ビーム制御部によつてＹ方向の径寸法を
変化させながらｘ方向ビーム制御部によつてＸ方向に走
査することができる。
着材料の表面に照射される電子ビーム・スポットを、そ
の形状をＹ方向ビーム制御部によつてＹ方向の径寸法を
変化させながらｘ方向ビーム制御部によつてＸ方向に走
査することができる。
したがつて、従来のように一定した寸法の楕円の電子ビ
ーム・スポットを用いる場合と異なり、ハースに触れな
いでしかもハース内にある蒸着材料の表面をほぼ全域を
なめるように電子ビームを照射することができる。すな
わち、電子ビーム・スポットの走査面積が拡大され、こ
の結果蒸着材料は均一に安定した状態で加熱溶解され、
安定した蒸着材料の蒸発ができ、これにより蒸着速度の
安定性および再現性のよい蒸着膜の形成ができる。
ーム・スポットを用いる場合と異なり、ハースに触れな
いでしかもハース内にある蒸着材料の表面をほぼ全域を
なめるように電子ビームを照射することができる。すな
わち、電子ビーム・スポットの走査面積が拡大され、こ
の結果蒸着材料は均一に安定した状態で加熱溶解され、
安定した蒸着材料の蒸発ができ、これにより蒸着速度の
安定性および再現性のよい蒸着膜の形成ができる。
第１図は本発明の電子ビーム蒸着装置の平面図、第２図
は第１図Ａ−Ｎ線に沿つて矢印方向にみた垂直断面図、
第３図は蒸着材料の表面に見られる電子ビーム・スポッ
トの状態を示す説明拡大図、第４図は電磁石７に流す電
流の変化状態を示す図、第５図は電磁石８に流す電流の
変化状態を示す図である。 １・・・電子ビーム蒸着装置、２・・・装置本体、３・
・・蒸着材料、４・・・ハース、５・・・穴、６・・・
フィラメント、７・・・Ｘ方向ビーム制御部の電磁石、
８・・・Ｙ方向ビーム制御部の電磁石、９・・・永久磁
石、１０・・電子ビーム、１１・・・電子ビーム・スポ
ット。
は第１図Ａ−Ｎ線に沿つて矢印方向にみた垂直断面図、
第３図は蒸着材料の表面に見られる電子ビーム・スポッ
トの状態を示す説明拡大図、第４図は電磁石７に流す電
流の変化状態を示す図、第５図は電磁石８に流す電流の
変化状態を示す図である。 １・・・電子ビーム蒸着装置、２・・・装置本体、３・
・・蒸着材料、４・・・ハース、５・・・穴、６・・・
フィラメント、７・・・Ｘ方向ビーム制御部の電磁石、
８・・・Ｙ方向ビーム制御部の電磁石、９・・・永久磁
石、１０・・電子ビーム、１１・・・電子ビーム・スポ
ット。
Claims (1)
- １ ハース内の蒸着材料を加熱し蒸発させるための電子
ビーム・スポットを発生するビーム発生源と、前記電子
ビームをＸ方向に挟むように配置し供給電流変化によつ
て前記電子ビームを蒸着材料のＸ方向に走査する永久磁
石および電磁石を有するＸ方向ビーム制御部と、前記電
子ビームをＹ方向に挟むように配置し供給電流変化によ
つて電子ビームのＹ方向のビーム径を変化させる一対の
電磁石からなるＹ方向ビーム制御部とを備え、前記Ｘ、
Ｙの各ビーム制御部は相互に同期して動作し得るように
構成したことを特徴とする電子ビーム蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11058377A JPS6044392B2 (ja) | 1977-09-16 | 1977-09-16 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11058377A JPS6044392B2 (ja) | 1977-09-16 | 1977-09-16 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5443883A JPS5443883A (en) | 1979-04-06 |
| JPS6044392B2 true JPS6044392B2 (ja) | 1985-10-03 |
Family
ID=14539515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11058377A Expired JPS6044392B2 (ja) | 1977-09-16 | 1977-09-16 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6044392B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6098128U (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-04 | クラリオン株式会社 | テ−プ巻付防止装置 |
| JPS62207860A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-12 | Jeol Ltd | 真空蒸着装置 |
| US5012064A (en) * | 1990-06-29 | 1991-04-30 | The Boc Group, Inc. | Electron beam evaporation source |
-
1977
- 1977-09-16 JP JP11058377A patent/JPS6044392B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5443883A (en) | 1979-04-06 |
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