JPS6048897B2 - 半導体磁器コンデンサ用組成物 - Google Patents
半導体磁器コンデンサ用組成物Info
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- JPS6048897B2 JPS6048897B2 JP52145404A JP14540477A JPS6048897B2 JP S6048897 B2 JPS6048897 B2 JP S6048897B2 JP 52145404 A JP52145404 A JP 52145404A JP 14540477 A JP14540477 A JP 14540477A JP S6048897 B2 JPS6048897 B2 JP S6048897B2
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はチタン酸ストロンチウムを主体とする半導体
磁器コンデンサ用組成物に関するものである。
磁器コンデンサ用組成物に関するものである。
結晶粒界を絶縁体化した半導体磁器の両面に電極を形成
することにより、大きな見掛誘電率を有するコンデンサ
が得られることは知られている。
することにより、大きな見掛誘電率を有するコンデンサ
が得られることは知られている。
この半導体磁器には従来チタン酸バリウム系のものが用
いられていたが、最高69、000もの大きな見掛誘電
率が得られるものの、誘電損失(tanδ)が平均5〜
6%と大きく、また+20℃を基準としたとき−30℃
から+85゜Cの温度範囲において見掛誘電率の温度特
性力壮40%と大きいものであつた。上記した欠点を改
善したものとしてチタン酸ストロンチウムを主体とした
ものがある。
いられていたが、最高69、000もの大きな見掛誘電
率が得られるものの、誘電損失(tanδ)が平均5〜
6%と大きく、また+20℃を基準としたとき−30℃
から+85゜Cの温度範囲において見掛誘電率の温度特
性力壮40%と大きいものであつた。上記した欠点を改
善したものとしてチタン酸ストロンチウムを主体とした
ものがある。
たとえばチタン酸ストロンチウムに二酸化硅素(SiO
2)、二酸化マンガン(MnO0)を添加し、焼成して
得られたチタン酸ストロンチウム系半導体磁器に酸化マ
ンガンまたは酸化銅を磁器結晶粒界に拡散させたものが
あるが、半導体磁器中に二酸化硅素(SiO0)を含有
させているため、酸化マンガンを結晶粒界付近に偏在さ
せ、結晶粒界を絶縁体化させるのに役立つが、結晶粒が
小さくなり、見掛誘電率は20.000と小さく、誘電
損失(tanδ)も2%以上の値を示している。またチ
タン酸ストロンチウムにニオブ(Nb)、タンタル(T
a)、タングステン(W)の各酸化物を添加し、これを
還元雰囲気中で焼成して半導体磁器を作り、両面に酸化
ビスマス(BiO0)を塗布してこれらを酸化雰囲気中
で熱処理することにより、結晶粒界を絶縁体化したもの
であり、見掛誘電率が50.000以上で誘電損失(t
anδ)が1%以下であるが、+ 20℃を基準とした
とき−30℃〜 + 85℃の温度範囲において、見掛
誘電率の温度特性が±13%を越え、また焼成磁器同志
にくつつきが見られた。ノ この発明は上記した種々の
問題を検討した結果見い出されたもので、見掛誘電率が
大きいとともにその温度特性が良好であり、誘電損失も
小さく、さらには焼成温度の変化による特性変化が小さ
いなど、すぐれた特性を有する半導体磁器コンクデンサ
用組成物を提供せんとするものである。すなわちこの発
明の要旨とするところは、チタン酸ストロンチウムまた
はストロンチウムの一部をカルシウムまたはバリウムで
置換したチタン酸ストロンチウムー97.7〜99.8
5重量% 酸化マンガン(MnO。
2)、二酸化マンガン(MnO0)を添加し、焼成して
得られたチタン酸ストロンチウム系半導体磁器に酸化マ
ンガンまたは酸化銅を磁器結晶粒界に拡散させたものが
あるが、半導体磁器中に二酸化硅素(SiO0)を含有
させているため、酸化マンガンを結晶粒界付近に偏在さ
せ、結晶粒界を絶縁体化させるのに役立つが、結晶粒が
小さくなり、見掛誘電率は20.000と小さく、誘電
損失(tanδ)も2%以上の値を示している。またチ
タン酸ストロンチウムにニオブ(Nb)、タンタル(T
a)、タングステン(W)の各酸化物を添加し、これを
還元雰囲気中で焼成して半導体磁器を作り、両面に酸化
ビスマス(BiO0)を塗布してこれらを酸化雰囲気中
で熱処理することにより、結晶粒界を絶縁体化したもの
であり、見掛誘電率が50.000以上で誘電損失(t
anδ)が1%以下であるが、+ 20℃を基準とした
とき−30℃〜 + 85℃の温度範囲において、見掛
誘電率の温度特性が±13%を越え、また焼成磁器同志
にくつつきが見られた。ノ この発明は上記した種々の
問題を検討した結果見い出されたもので、見掛誘電率が
大きいとともにその温度特性が良好であり、誘電損失も
小さく、さらには焼成温度の変化による特性変化が小さ
いなど、すぐれた特性を有する半導体磁器コンクデンサ
用組成物を提供せんとするものである。すなわちこの発
明の要旨とするところは、チタン酸ストロンチウムまた
はストロンチウムの一部をカルシウムまたはバリウムで
置換したチタン酸ストロンチウムー97.7〜99.8
5重量% 酸化マンガン(MnO。
)−0.05〜0』重量%酸化イットリウム(Y2O3
)−0.1〜1.5重量%からなる半導体磁器の結晶粒
界に、酸化ビスマスまたは酸化ビスマスと酸化マンガン
、酸化銅、酸化鉛のうち少なくともL種が拡散され、結
晶粒界が絶縁体化されていることを特徴とするものであ
る。上記した半導体磁器の組成のうち、チタン酸ストロ
ンチウムとは、SrTizO。
)−0.1〜1.5重量%からなる半導体磁器の結晶粒
界に、酸化ビスマスまたは酸化ビスマスと酸化マンガン
、酸化銅、酸化鉛のうち少なくともL種が拡散され、結
晶粒界が絶縁体化されていることを特徴とするものであ
る。上記した半導体磁器の組成のうち、チタン酸ストロ
ンチウムとは、SrTizO。
として表わすことのできるものであり、このようにTi
O2を過剰あるいは過少にすることは昭和5奔発行の研
究実用化報告別冊第28号、第19頗〜第200頁にす
でに開示されている。ここで、Zは0.97≦Z≦1.
03の範囲で選択することができる。
O2を過剰あるいは過少にすることは昭和5奔発行の研
究実用化報告別冊第28号、第19頗〜第200頁にす
でに開示されている。ここで、Zは0.97≦Z≦1.
03の範囲で選択することができる。
上記した範囲でZの値を変化させることができるとした
のは、Z=1であるSrTiO3によりより構成された
半導体磁器コンデンサが有する電気的な特性と比較して
その特性が損なわれないものであることによる。
のは、Z=1であるSrTiO3によりより構成された
半導体磁器コンデンサが有する電気的な特性と比較して
その特性が損なわれないものであることによる。
より詳しくは、SrTlO。により構成された半導体磁
器ストロンチウムを得るに際して、Zを0.97≦Z≦
1.03の範囲で変化させることにより、SrTiO3
(この場合、Z=1)のものにくらべて焼成温度を下げ
ることができ、焼成コストの低減を図ることがでる−と
いう効果を奏する。zの値を上記した範囲に限定したの
は、Z量が0 ・97未満になると焼成温度が高くなり
、誘電損失が悪くなるからである。
器ストロンチウムを得るに際して、Zを0.97≦Z≦
1.03の範囲で変化させることにより、SrTiO3
(この場合、Z=1)のものにくらべて焼成温度を下げ
ることができ、焼成コストの低減を図ることがでる−と
いう効果を奏する。zの値を上記した範囲に限定したの
は、Z量が0 ・97未満になると焼成温度が高くなり
、誘電損失が悪くなるからである。
逆にZ量が1.03を越えると焼成温度が高くなり、焼
成磁器間のくつつき;が多くなるからである。また、チ
タン酸ストロンチウムについてはストロンチウムの一部
をカルシウムまたはバリウムで置換したチタン酸ストロ
ンチウムも含まれる。
成磁器間のくつつき;が多くなるからである。また、チ
タン酸ストロンチウムについてはストロンチウムの一部
をカルシウムまたはバリウムで置換したチタン酸ストロ
ンチウムも含まれる。
このように置換したチタン酸ストロンチウムについ3て
は、昭和5師発行の研究実用化報告別冊第28号、第2
21頁、表35にも開示されている。一般式で表わせば
次式1のように表わすことができる。(Srl−XAx
)TizO3・・・・・・1ただし、A:Ba,Ca4
.O<X≦0.05,0.97≦Z≦1.03ここで、
Srの一部をBa,Caで置換可能としているのは、S
rTiO。
は、昭和5師発行の研究実用化報告別冊第28号、第2
21頁、表35にも開示されている。一般式で表わせば
次式1のように表わすことができる。(Srl−XAx
)TizO3・・・・・・1ただし、A:Ba,Ca4
.O<X≦0.05,0.97≦Z≦1.03ここで、
Srの一部をBa,Caで置換可能としているのは、S
rTiO。
により構成された半導体磁器コンデンサが有する電気的
な特性と比較してその特性が損なわれないものであるこ
とによる。より詳しくは、Baによる一部置換ではキュ
リー点を変化させることによつて大きな誘電率を得るこ
とができ、一方、Caによる一部置換では破壊電圧・の
向上を図ることができることによる。なお、Ba,Ca
によつて同時置換することも可能である。ここで、X量
を上記した範囲に限定したのは、X量が上限値を越える
と見掛誘電率が小さくなるクからである。
な特性と比較してその特性が損なわれないものであるこ
とによる。より詳しくは、Baによる一部置換ではキュ
リー点を変化させることによつて大きな誘電率を得るこ
とができ、一方、Caによる一部置換では破壊電圧・の
向上を図ることができることによる。なお、Ba,Ca
によつて同時置換することも可能である。ここで、X量
を上記した範囲に限定したのは、X量が上限値を越える
と見掛誘電率が小さくなるクからである。
また、z量についてはすでに上記したSrTiZO3に
ついて述べた理由と同じである発明の詳細な説明はここ
では省略する。酸化マンガンは焼結を促進する焼結助剤
の役割フを果たし、その含有量(MnO。
ついて述べた理由と同じである発明の詳細な説明はここ
では省略する。酸化マンガンは焼結を促進する焼結助剤
の役割フを果たし、その含有量(MnO。
)は0.05〜0.踵量%の範囲にあればよい。これは
0.05重量%未満になれば見掛誘電率の温度特性が±
10%を越え、o旧重量%を越えると焼成は容易になる
が誘電損失が1%を越えるからである。酸化イットリウ
ムは半導体化を促進するものであり、その含有量(Y2
O3)は0.1〜1.5重量%の範囲にあればよい。
0.05重量%未満になれば見掛誘電率の温度特性が±
10%を越え、o旧重量%を越えると焼成は容易になる
が誘電損失が1%を越えるからである。酸化イットリウ
ムは半導体化を促進するものであり、その含有量(Y2
O3)は0.1〜1.5重量%の範囲にあればよい。
これは0.1重量%未満になれば誘電損失が1%を越え
、1.5を越えると耐電圧が低下するからである。結晶
粒界を絶縁体化するものしては、すでに知られたものと
してV,Cr,Fe,COなどの酸化物があるが、この
発明においては、酸化ビスマス、または酸化ビスマスと
酸化マンガンと酸化銅、酸化鉛のうちの少なくとも1種
のものについて特性の良好なものが得られるという結果
を示した。
、1.5を越えると耐電圧が低下するからである。結晶
粒界を絶縁体化するものしては、すでに知られたものと
してV,Cr,Fe,COなどの酸化物があるが、この
発明においては、酸化ビスマス、または酸化ビスマスと
酸化マンガンと酸化銅、酸化鉛のうちの少なくとも1種
のものについて特性の良好なものが得られるという結果
を示した。
以下この発明を実施例に従つて詳述する。実施例1
第1表に示す組成比率の半導体磁器が得られるように、
SrTiOa,.CaTiO3,BaTiOa,MnC
O3,Y2O。
SrTiOa,.CaTiO3,BaTiOa,MnC
O3,Y2O。
の各原料を用意し、これらの各原料を秤量してバインダ
である酢酸ビニル系樹脂とともに湿式ボールミルで7時
間粉砕した。粉砕したのち約50メッシュに造粒し、油
圧ブレスにて直径10.0−、厚さ0.5w8nの円板
に成型した。次いで、成型円板を大気中1150℃で2
時間仮焼してバインダを燃焼させた。
である酢酸ビニル系樹脂とともに湿式ボールミルで7時
間粉砕した。粉砕したのち約50メッシュに造粒し、油
圧ブレスにて直径10.0−、厚さ0.5w8nの円板
に成型した。次いで、成型円板を大気中1150℃で2
時間仮焼してバインダを燃焼させた。
さらに室温にまで冷却したのち水素m容量%、窒素9喀
量%からなる還元雰囲気中にて1350−1450’C
で2時間焼成した。引きつづき半導体磁器表面に、酸化
ビスマス90重量%、酸化銅w重量%をワニスと重量比
にて1:1で混練したペーストを10mgr塗布し、空
気中1150゜Cで1時間熱処理して結晶粒界を絶縁体
化した。
量%からなる還元雰囲気中にて1350−1450’C
で2時間焼成した。引きつづき半導体磁器表面に、酸化
ビスマス90重量%、酸化銅w重量%をワニスと重量比
にて1:1で混練したペーストを10mgr塗布し、空
気中1150゜Cで1時間熱処理して結晶粒界を絶縁体
化した。
さらに半導体磁器の両平面に銀ペーストを塗布し、80
0′Cで3紛間焼付けして電極を形成してコンデンサを
作成した。このようにして得られたコンデンサの見掛誘
電率(E)、誘電損失(Tanδ)、絶縁抵抗(IR)
、破壊電圧(■/T!Un)および見掛誘電率の温度特
性を測定し、その結果を第1表に合わせて示した。なお
、見掛誘電率、誘電損失は+25゜C1周波数1KHz
1電圧0.3Vの条件で測定した値である。絶2縁抵抗
は+25℃において試料に厚み単位醋当たり直流電圧5
0Vを印加した3鰍後における抵抗値を示したものであ
る。破壊電圧は+25℃において試料に印加した直流電
圧を昇圧させたとき電流が急増する下限値を示したもの
である。見掛誘電率の温度特性は+20゜Cを基準とし
て−30℃〜+85℃の温度範囲においてその変化率を
表わしたものである。表中※印を付したものは、この発
明範囲外のもの、それ以外はすべてこの発明範囲内のも
のである。
0′Cで3紛間焼付けして電極を形成してコンデンサを
作成した。このようにして得られたコンデンサの見掛誘
電率(E)、誘電損失(Tanδ)、絶縁抵抗(IR)
、破壊電圧(■/T!Un)および見掛誘電率の温度特
性を測定し、その結果を第1表に合わせて示した。なお
、見掛誘電率、誘電損失は+25゜C1周波数1KHz
1電圧0.3Vの条件で測定した値である。絶2縁抵抗
は+25℃において試料に厚み単位醋当たり直流電圧5
0Vを印加した3鰍後における抵抗値を示したものであ
る。破壊電圧は+25℃において試料に印加した直流電
圧を昇圧させたとき電流が急増する下限値を示したもの
である。見掛誘電率の温度特性は+20゜Cを基準とし
て−30℃〜+85℃の温度範囲においてその変化率を
表わしたものである。表中※印を付したものは、この発
明範囲外のもの、それ以外はすべてこの発明範囲内のも
のである。
また第1表中のX,Zは1式のX,Zの値を示したもの
である。実施例2 実施例1の試料番号4のものについて、結晶粒界に絶縁
層を形成する酸化マンガン、酸化銅、酸化鉛、酸化ビス
マスを第2表に示す比率で実施例1と同様に処理し、コ
ンデンサを作成して各電気特性を測定した。
である。実施例2 実施例1の試料番号4のものについて、結晶粒界に絶縁
層を形成する酸化マンガン、酸化銅、酸化鉛、酸化ビス
マスを第2表に示す比率で実施例1と同様に処理し、コ
ンデンサを作成して各電気特性を測定した。
測定結果を第2表に合わせて示した。
なお、第2表中※印のものはこの発明範囲外のものであ
る。
る。
このうち、試料番号15のほのはTanδが大きく、試
料番号16,17はともに温度特性が+10%を越える
ものである。実施例3 実施例1の試料番号1との試料番号5のものにつき、焼
成温度を変化させて各電気特性を測定し、その結果を第
3表に示した。
料番号16,17はともに温度特性が+10%を越える
ものである。実施例3 実施例1の試料番号1との試料番号5のものにつき、焼
成温度を変化させて各電気特性を測定し、その結果を第
3表に示した。
上記した各実施例から明らかなように、その発明によれ
ば、見掛誘電率が40000以上と大きな値を有するも
のが得られ、誘電損失も1%以下と小、さい。
ば、見掛誘電率が40000以上と大きな値を有するも
のが得られ、誘電損失も1%以下と小、さい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 チタン酸ストロンチウムまたはストロンチウムの一
部をカルシウムまたはバリウムで置換したチタン酸スト
ロンチウム−97.7〜99.85重量% 酸化マンガン(MnO_2)−0.05〜0.8重量%
酸化イットリウム(Y_2O_3)−0.1〜1.5重
量%からなる半導体磁器の結晶粒界に、酸化ビスマスま
たは酸化ビスマスと酸化マンガン、酸化銅、酸化鉛のう
ち少なくとも1種が拡散され、結晶粒界が絶縁体化され
ていることを特徴とする半導体磁器コンデンサ用組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52145404A JPS6048897B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 半導体磁器コンデンサ用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52145404A JPS6048897B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 半導体磁器コンデンサ用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5478493A JPS5478493A (en) | 1979-06-22 |
| JPS6048897B2 true JPS6048897B2 (ja) | 1985-10-30 |
Family
ID=15384462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52145404A Expired JPS6048897B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 半導体磁器コンデンサ用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048897B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2608288B2 (ja) * | 1987-06-19 | 1997-05-07 | キヤノン株式会社 | セラミツク及びこれを用いた回路基体と電子回路基体 |
| JP2608289B2 (ja) * | 1987-06-23 | 1997-05-07 | キヤノン株式会社 | セラミツク及びこれを用いた回路基体と電子回路基体並びにセラミツクの製造方法 |
-
1977
- 1977-12-02 JP JP52145404A patent/JPS6048897B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5478493A (en) | 1979-06-22 |
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