JPS604A - 絶縁電線 - Google Patents

絶縁電線

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JPS604A
JPS604A JP58106521A JP10652183A JPS604A JP S604 A JPS604 A JP S604A JP 58106521 A JP58106521 A JP 58106521A JP 10652183 A JP10652183 A JP 10652183A JP S604 A JPS604 A JP S604A
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JP
Japan
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insulated wire
propylene
coating layer
crosslinked
number average
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JP58106521A
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JPH0126126B2 (ja
Inventor
柳生 秀樹
育雄 関
両角 三春
伊藤 泰道
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Hitachi Cable Ltd
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特定の含フッ素エラス1へマー被覆層を有す
る耐熱可どう電線として有用な絶縁電線に関づ゛るもの
である。
含フツ素エラストマー共重合体、特にプロピレンとテト
ラフルオロエチレンとの共重合体は耐熱性、耐油性、耐
薬品性が優れている上に、電気絶縁性が僅れており、電
線の絶縁材料としてのIIIJ持も高い材料である。
本発明者らは、プロピレンとテトラフルAローLチレン
との共重合体を電線被覆に適用することについて種々検
討をしてぎたが、かかるバ東台体は押出性が悪く、これ
を良くするために分子量を下げることによって実用化を
はかつてきた。
しかしながら、分子量を下げることによって被覆層の強
靭性が低下するため、用途によっては使用を制限される
という新たな問題を見出しIζ。
本発明は上記に基いたもので、押出す1を白土させるこ
とにより製造能率J′3よび製造外観の点で優れ、しか
も強靭性を有する絶縁電線の提供を目的とするものであ
すなわち、本発明の絶縁電線は、数平均分子量が2万〜
7万の範囲にあり、プロピレンとテトラフルオロエチレ
ンとグリシジルビニルエーテルとの共重合体を含有する
エラストマー組成物の押出被覆層を様体周上に形成し、
かつ該被覆層を架橋してMI#/&したものである。
本発明において、具市含体は数平均分子量が2万〜7万
、好ましくは3万〜5万のものを使用することが重要で
ある。数平均分子量が大きすぎると被覆層にクラックが
発生しやすくなり、被覆層の表面平滑性が失われること
になる。数平均分子量が小さすぎると、架橋後の被覆層
の強靭性が失われることになる。
本発明において、−「記好適範囲の数平均分子量を有す
る共重合体を!!U造する方法は特に限定されず、単量
体濃度、重合開始剤濃度、単量体対重合開始剤量比、重
合′a度、連鎖移動剤使用等の共重合反応条件の操作に
J−り、直接生成重合体の分子量を調整する方法が採用
可能であるが、さらには共重合反応時には高分子m共重
合体を生成せしめ、これを酸素存在下に加熱処理づるな
として低分子量化せしめる方法も円滑に採用可能である
共重合体の数平均分子Mは浸透圧法により測定可能であ
るが、同一構造の共重合体間の相対比較には、固有粘度
の測定値からの換算値を使用づることができ、次式によ
りテ1−ラヒドロフラン中で30℃で測定される固有粘
度[η](cL&/g)から数平均分子jJ Mnが算
出可能である。
Mn = [77コ ”’ X2. 0X106本発明
においては、プロピレンとテトラフルオロエチレンに加
えて少量のグリシジルビニルエーテルを共重合せしめる
ことにより、ブト1ビレンーテトラフルオロエチレン系
共重合体の耐熱性、耐薬品性などを損うことなく架4n
反応を著しく向」ニでき、これによって共重合体の数平
均分子量を小さくした場合でも十分な強靭性を確保でさ
゛る。
プロピレン/テトラフルオロ1ヂレンの含有モル比とし
ては、5/95〜70/30.好ましくは10/90〜
55/45の範囲から選定Jることが、耐熱性、押出成
形性等の面から好ましい。
グリシジルビニルエーテルは0.1〜10モル%、好ま
しくは2〜5モル%含有せしめることが好ましく、含4
1がが少なり−ぎるど強靭性が失われ、多すぎると耐熱
老化性が損われることになる。
また、プロピレン、デ1へラフルオロエチレン、グリシ
ジルビニルエーテルの主成分の他に、これらと共重合可
能な成分、例えばエチレン、イソブチレン、フン化ビニ
ル、ツブ化ビニリデン、六フッ化プロピレン、フルA[
1ビニルエーテル、アル:ドルビニルエーテル、クロロ
トリフルオロエチレンなどを共lE含ざUても、k <
、これらの含有量は15モル%以下の範囲から選定する
ことが好ましい。
かくして得られる共重合体は、単独あるいは他の配合成
分と共に押出機に導入され、導体外周に押出被覆された
後架橋される。
架橋手段としては、有機過酸化者やアミン類などによる
化学的手段、あるいはγ線や電子線などの電離性放射線
の照射による架橋などが採用可能であり、特に限定され
ない。
中でもグリシジルビニルエーテルに反応し、架橋速度を
高める第三級アミンまたはその塩、第三級アミンまたは
その塩ど分子内に1個以上の−01−1基を含有するヒ
ドキシ化合物との組合1、力”香煎ポリアミドまたはそ
の塩といったものが好j、しく採用可能である。
第三級アミン類としては、安息香酸ヘキシルアミン、ベ
ンジルジメチルアミン、α−メアルベンげンジメチルア
ミン、ジメヂルアミノメチルフ1ノール、トリス(ジメ
チルアミノメチル)フェノール、ジエチルアミノプロビ
ルアミン、N−アミンエチルピペラジン、エチルメチル
イミダゾール、トリエチレンジアミン、N、N=−ビス
(アルキル)ピペラジン、4.4′−1−リメチレンジ
ビリジン、2,3−ビス(2−ピリジル)−5,6−シ
ヒドロビラジン、N−エチルモルボリン、1゜8−ジア
ザ−ビシクロ(5,4,O)ランブレン−7およびその
塩などがあげられる。
第三級アミン類と組合せて用いられるヒドロキシ化合物
としては、オクタツール、シクロヘキサノール、フェノ
ール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヒ
ドロキノン、カテコール、レゾルシノール、2,2−−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン〈ビスフェノ
ールA)、1、.3.5−1−リヒド[1キシベンゼン
、ジヒドロキシノ−フタレン、4,4−−ジヒドロキシ
ジフェニル、4,4′−ジヒドロキシスチルベン、2゜
2′−ビス〈4−ヒドロキシフェニル)ブタン(ビスフ
ェノールB)、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,4−ジヒドロキシ安息香酸、4.4′−ジアミノジ
フェニルスルホン、2−メチルレゾルシノール、トリメ
チロールアリルオーキシフェノール、トリス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタンなどがあげられる。
芳香族ポリアミンとしては、キシリレンジアミン、メタ
フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジア
ミノジフェニルスルホンなどがあげられる。
上記以外の配合成分として、特性を低下ぎ一μない範囲
でポリフッ化ビニリゾ゛ン、フッ化ビニリデン−へキザ
フルオロプロペン系共小合体などのフッ素樹脂、MTカ
ーボンなどのカーボンブラック、ケイ酸マグネシウム、
炭酸カルシウムなどの白色系フィラーなどを加えてもよ
く、その使分j1シ剤、加工助剤、金属酸化物などの安
定剤といったものを加え′Cもよい。
共重合体を始めとする各種成分はバンバリーミキサやロ
ールなどによって均一に混合され架橋可能なエラストマ
ー組成物どして押出機に導入される。
かかる組成物のムー二粘度ML+ 十、s (100°
C)は10〜1001特に20〜60であることが、押
出成形性、被覆層の表面状態などの点からりfましい。
以下、本発明の実施例を比較例と共に説明Jる。
第1表に示すように、グリシジルビニルエーテル含有量
および数平均分子mが異なるブL」ピレン・テトラフル
オロエチレン・グリシジルビニルコニ−チル共重合体1
00重量部に対して、架橋剤および充填剤を所定量配合
し、温度50〜60℃に保持した8インヂロールを用い
て15分間混練し、架橋架橋可能なエラス1へ7二組成
物を得た。
この組成物を、ヘッド:100℃、シリンダー1:10
0’C,シリンダー2二80℃に設定した40mmφ押
出機(L/D=22)を用いて、外径1.6+++mの
スズメッキ銅単線上に1 mmの厚さで被覆し、その後
13気圧の水蒸気中〈190℃)に3分間保持して架橋
上しめ、架橋絶縁電線を得た。
第1表 ;I;プロピレン/テトラフルオロエチレンの含右℃ル
比−45155胃られた絶縁電Jsiの外観(表面平滑
性)および強靭性(引張り強度)のデータを第2表に示
づ。
第2表 第2表からも明らかな通り、本発明の範囲にある実施例
1〜5では絶縁電線の外観および強靭性の双方で1帰れ
ている。
これに対し、数平均分子jjlが本発明の範囲以下とな
る比較例1では強靭性の改善効果は殆んどなく、本発明
の範囲以上とな6比較例2では表面にクラックが発生し
外観が急止する。
また、グリシジルビニルエーテルを含まない比較例3,
4では外観は良好であるが、強靭性が劣る。
以上説明してきた通り、本発明の絶縁電線は数平均分子
ネが2万〜7万の範囲にあるプロピレン・テトラフル7
 IJ土ヂレン・グリシジルビニルニーう゛ル共重合体
を8有する組成物を架橋してなる被覆層を設けたもので
あり、これににってプロピレン・デトラフルオロエチレ
ン共重合体の有する本来の9、r性を損うことなく被覆
層の強靭性を改茜できることになり、114熱可どう絶
縁電線の使用範囲が更に拡大されるJ、うになる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 数平均分子量が2万〜7万の範囲にあり、プロ
    ピレンとテ1〜ラフルオロエチレンとグリシジルビニル
    エーテルとのノ!:重合体を含有するエラストマー組成
    物の押出被覆層が導体周上に形成され、かつ該被覆層が
    架橋されていることを特徴とする絶縁電線。
  2. (2) 上記共重合体のプロピレン/テトラフルオロエ
    チレンのモル比は5/95〜70/30であり、かつグ
    リシジルビニルエーテルは0.1〜10°Eル%含有さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    絶縁電線。
  3. (3)第三級アミンまたはその塩の存在下で架橋されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2
    項記載の絶縁電線。 ′ (勾 芳香族ポリアミンまIζはその塩の存在下で架橋
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項また
    は第2項記載の絶縁電線。
JP58106521A 1983-06-14 1983-06-14 絶縁電線 Granted JPS604A (ja)

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JP58106521A JPS604A (ja) 1983-06-14 1983-06-14 絶縁電線

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JPS604A true JPS604A (ja) 1985-01-05
JPH0126126B2 JPH0126126B2 (ja) 1989-05-22

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4723911A (en) * 1985-11-13 1988-02-09 University Of Pittsburgh Intelligent dental drill
US7391428B2 (en) 2004-10-09 2008-06-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Thermal image forming apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4723911A (en) * 1985-11-13 1988-02-09 University Of Pittsburgh Intelligent dental drill
US7391428B2 (en) 2004-10-09 2008-06-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Thermal image forming apparatus

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