JPS6059509A - 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 - Google Patents
垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法Info
- Publication number
- JPS6059509A JPS6059509A JP16805183A JP16805183A JPS6059509A JP S6059509 A JPS6059509 A JP S6059509A JP 16805183 A JP16805183 A JP 16805183A JP 16805183 A JP16805183 A JP 16805183A JP S6059509 A JPS6059509 A JP S6059509A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- recording head
- vertical
- head
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁気記録用ヘッド（以下、垂直ヘッド）の
主磁極の製造方法に関するものでその１磁−１−＋＋ 極に用いられる高透磁率薄膜の磁気特性を薄膜作成時に
制御し、これを等方性にすることにより垂直ヘッドの信
頼性を高め、性能を向上させることを目的とする。
主磁極の製造方法に関するものでその１磁−１−＋＋ 極に用いられる高透磁率薄膜の磁気特性を薄膜作成時に
制御し、これを等方性にすることにより垂直ヘッドの信
頼性を高め、性能を向上させることを目的とする。
近年、磁気記録の高密度化の要求とともに、磁気記録媒
体の厚み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
体の厚み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
この垂直磁気記録に使用される垂直ヘッドにはさまざま
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率薄膜からなる主磁極とフェライト等からなる比較的厚
い補助磁極及び励磁コイルによって構成さｊ’１．−’
（いる。
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率薄膜からなる主磁極とフェライト等からなる比較的厚
い補助磁極及び励磁コイルによって構成さｊ’１．−’
（いる。
これらの垂直ヘッドのうち９代表的・な補助磁極励磁型
垂直磁気ヘッドを第１図に示す。このヘッドにあっては
記録時にはコイル（２）に記録電流を流して補助磁極の
磁性体（３）を励磁し、これにより励磁された主磁極の
高透磁率薄膜（１）と垂直磁性媒体（５）との相互作用
によって記録を行なう。（７）はヘッド支持台である。
垂直磁気ヘッドを第１図に示す。このヘッドにあっては
記録時にはコイル（２）に記録電流を流して補助磁極の
磁性体（３）を励磁し、これにより励磁された主磁極の
高透磁率薄膜（１）と垂直磁性媒体（５）との相互作用
によって記録を行なう。（７）はヘッド支持台である。
−また。再生時には記録時と逆の過程を経てコイ−２＝
ル（２）に再生電流が流れ、これを検出し利用する。
さて、これらのとき、主磁極の磁化反転は高透磁率薄膜
（１）の初期磁化曲線に沿って起こるため。
（１）の初期磁化曲線に沿って起こるため。
この初期磁化曲線が垂直磁気ヘッドの特性として重要で
あり、これは薄膜（１）の磁気異方性と深い関口 係がある。第２面に薄膜（１）の磁化容易軸および磁化
困難軸（以下、巣に容易軸、困難軸という）におけるヒ
シテリシス曲線（６）ｉ８）および初期磁化曲線（７）
、（９）の−例を示す。
あり、これは薄膜（１）の磁気異方性と深い関口 係がある。第２面に薄膜（１）の磁化容易軸および磁化
困難軸（以下、巣に容易軸、困難軸という）におけるヒ
シテリシス曲線（６）ｉ８）および初期磁化曲線（７）
、（９）の−例を示す。
容易軸方向の磁化過程は磁壁移動によるものであるため
初期磁化曲線（７）における最大透磁率は大きいものの
、磁化反転速度が遅いために高周波に７１の回転による
ため磁化反転速度は容易軸に比べてはるかに速い。この
ため初期磁化曲線（９）における最大透磁率は容易軸に
比べて小さいものの。
初期磁化曲線（７）における最大透磁率は大きいものの
、磁化反転速度が遅いために高周波に７１の回転による
ため磁化反転速度は容易軸に比べてはるかに速い。この
ため初期磁化曲線（９）における最大透磁率は容易軸に
比べて小さいものの。
高周波での透磁率の低下は少ない。
一方、主磁極の高透磁率薄膜に要求される磁気特性は主
として ａ）＆＆束の高速反転に対して応答性が良いｂ）再生感
度が高い ０２点である。前述ｌ〜だ理由によりａ）については磁
化反転速度が速い方が良く、困難軸に有利でありｂ）に
ついては透磁率が大きいものほど良く容易軸に有利であ
る。この相反する性質のため、困難軸または容易軸をぞ
′Ｊ１それ単独で使用することができず磁気特性を困峠
軸と容易軸が混在する。いわゆる等方性にすることによ
って、困１１１１’ｌｌｌにおける磁化反転速度を保ち
ながら１．かも再生感庁を高めた状態にして使うことが
脚想とされている。
として ａ）＆＆束の高速反転に対して応答性が良いｂ）再生感
度が高い ０２点である。前述ｌ〜だ理由によりａ）については磁
化反転速度が速い方が良く、困難軸に有利でありｂ）に
ついては透磁率が大きいものほど良く容易軸に有利であ
る。この相反する性質のため、困難軸または容易軸をぞ
′Ｊ１それ単独で使用することができず磁気特性を困峠
軸と容易軸が混在する。いわゆる等方性にすることによ
って、困１１１１’ｌｌｌにおける磁化反転速度を保ち
ながら１．かも再生感庁を高めた状態にして使うことが
脚想とされている。
第３図に等方性におけるヒステリシス曲ｉ （１０）と
その初期磁化的１）（１１）を示す。
その初期磁化的１）（１１）を示す。
従来はこの第３）図の特性を得るためにスパッタ法、蒸
着法、メッキ法等により作成さねた高透磁率薄膜を回転
磁場中でアニールし、これを等方性にすることを［７て
いた。
着法、メッキ法等により作成さねた高透磁率薄膜を回転
磁場中でアニールし、これを等方性にすることを［７て
いた。
ところがこの方法では高透磁率薄膜の作成時における環
境の変化に薄膜の磁気特性が敏感に反応して微妙に変化
するため９回転磁場中でアニールを行っても得られる薄
膜の磁気特性は不揃いで再現性に乏しかった。
境の変化に薄膜の磁気特性が敏感に反応して微妙に変化
するため９回転磁場中でアニールを行っても得られる薄
膜の磁気特性は不揃いで再現性に乏しかった。
またアニール温度も高透磁率材料によって異なるが３０
０〜１１００℃程度まで上げる必要があるため加熱およ
び冷却に時間がかかった。
０〜１１００℃程度まで上げる必要があるため加熱およ
び冷却に時間がかかった。
本発明者はこれらの問題の解決に注ゝ昇気透磁率薄脛の
形成中に薄膜に対して垂直方向の磁場を印加するときは
、形成される高透磁率薄膜の磁気特性が容易に等方向に
なることを見い出した。この原因についてはまだ良くは
わかっていないが、膜の形成中に垂直方向の磁場を印加
することにより。
形成中に薄膜に対して垂直方向の磁場を印加するときは
、形成される高透磁率薄膜の磁気特性が容易に等方向に
なることを見い出した。この原因についてはまだ良くは
わかっていないが、膜の形成中に垂直方向の磁場を印加
することにより。
高透磁率薄膜の容易軸が基板即ちヘッド支持台の表面に
対して垂直に近い形で成長しようとするものの、垂直磁
化の条件であるＨに≦４ＴＩｌ−ＭＳ（ＨＫは垂直方向
の一軸磁気異方性エネルギー１Ｍ９は飽和磁化）を満足
していないため、成長膜は基板に対して垂直な方向に容
易軸を持つことができない。
対して垂直に近い形で成長しようとするものの、垂直磁
化の条件であるＨに≦４ＴＩｌ−ＭＳ（ＨＫは垂直方向
の一軸磁気異方性エネルギー１Ｍ９は飽和磁化）を満足
していないため、成長膜は基板に対して垂直な方向に容
易軸を持つことができない。
その結果各結晶粒のサイズで磁気異方性の向きがランダ
ムになり、その結果として成長膜は等方性になるものと
推測される。
ムになり、その結果として成長膜は等方性になるものと
推測される。
−ｒ−□−
以下９本発明の実施例について説明する。
〈実施例１〉
第４図（ａ） 、 （ｂ） 、 ｔｃ＋に示す様に基＆
（１３）の真下に基（Ｎに”％ｌ ｌ〜て牛肉な方向
に磁化軸を持つ磁石（１４）をＦ’ｌｒ’、 ｔ＆し、
第４図（ｃ）に示す様な磁力線の分布にした。
（１３）の真下に基（Ｎに”％ｌ ｌ〜て牛肉な方向
に磁化軸を持つ磁石（１４）をＦ’ｌｒ’、 ｔ＆し、
第４図（ｃ）に示す様な磁力線の分布にした。
この基鈑ホルダーを使用して高周波スパッタ法により得
られたパーマロイ膜（７８チＮｉ、２２チＦｅ）のヒス
テリシス曲線の一例を第５図に示す。
られたパーマロイ膜（７８チＮｉ、２２チＦｅ）のヒス
テリシス曲線の一例を第５図に示す。
〈実施例２〉
（１３）をはさみ、基板ホルダー（１２）の周囲に磁石
（にしておく。また、基板の位１−は第６図（ｃ）で示
すように膜形成表面が上下の高透磁率材料のヨーク（１
〃σ４間に来るように配置すれば基板の表面での磁力線
（１５）を一様に基鈑表面に対して垂直に向けることが
できる。この基板ホルダーを使用して高周波スパッタ法
により得られたパーマロイ膜（、−６− ７８％Ｎ’ｌ 、 ２２ ％ Ｆｅ ）のヒステリシス
曲線の一例を第７図に示す。
（にしておく。また、基板の位１−は第６図（ｃ）で示
すように膜形成表面が上下の高透磁率材料のヨーク（１
〃σ４間に来るように配置すれば基板の表面での磁力線
（１５）を一様に基鈑表面に対して垂直に向けることが
できる。この基板ホルダーを使用して高周波スパッタ法
により得られたパーマロイ膜（、−６− ７８％Ｎ’ｌ 、 ２２ ％ Ｆｅ ）のヒステリシス
曲線の一例を第７図に示す。
実施例１および実施例２によって作成されたパーマロイ
股はどちらもＨ−Ｈ）レーザー中で面内方向にて磁界を
回転させてもヒステリシス曲線は変化しないことが確認
された。これにより２面内方向に磁気異方性はなく等方
性になっているものと考えられる。以上述べた様に９本
発明によれば簡単に等方向で磁気特性の優れた高透磁率
薄膜を再現性良く作成することができる。
股はどちらもＨ−Ｈ）レーザー中で面内方向にて磁界を
回転させてもヒステリシス曲線は変化しないことが確認
された。これにより２面内方向に磁気異方性はなく等方
性になっているものと考えられる。以上述べた様に９本
発明によれば簡単に等方向で磁気特性の優れた高透磁率
薄膜を再現性良く作成することができる。
ただし９本実施例における磁石（１４） （１４’）の
大きさ、極性、形状および高透磁率材料から々るヨーク
板（１７） （１７’） の材料、形状は高透磁率薄膜
の必要とする部分において磁力線（１５）が膜面に対し
て一様に垂直な方向を向いておれば良く９本発明は本実
施例に制限されるものではない。
大きさ、極性、形状および高透磁率材料から々るヨーク
板（１７） （１７’） の材料、形状は高透磁率薄膜
の必要とする部分において磁力線（１５）が膜面に対し
て一様に垂直な方向を向いておれば良く９本発明は本実
施例に制限されるものではない。
寸だ９本実施例において成膜法として高周波スパッタ法
を用いたがその他の蒸着法、イオンプレーテインダ法、
メッキ法等の方法を用いても同様の効果が得られる。す
なわち、成膜法についての本発明は本実施例に制限さｔ
′ｌない。
を用いたがその他の蒸着法、イオンプレーテインダ法、
メッキ法等の方法を用いても同様の効果が得られる。す
なわち、成膜法についての本発明は本実施例に制限さｔ
′ｌない。
第１図は代表的々垂直ヘッドの例である。
第２図は代表的な磁化容易軸、困雛軸でのヒステリシス
曲線および初期磁化曲線である。 第３図は磁気異方性がなく９等方的である場合のヒステ
リシス曲線および初期磁化曲線である。 第４図は本発明の実施例１であり（、）は正面図。 ｆｂｌは断面図、（Ｃ）は磁力線の分布であり、第５図
は１＋られた高透磁４！、薄膜のヒステリシス曲線の一
例である。 第６図は本発明の実施例２でありｆａ）は正面図。 （ｂｌは断面図、（Ｃ）に１磁力線の分布であり、４１
７図は得られた高透磁率薄膜のヒステリシス曲線の一例
である。 （１）：主磁極 （２）：補助磁極 （３）：コイル（
４）：ベースフイルム （５）：磁性層（６）：容易軸
のヒステリシス曲線 （７）：容易軸の初期磁化曲線（
８）：困難軸のヒステリシス曲線（９）：困難軸の初期
磁化曲線 （１０） ：等方性におけるヒステリシス曲線（１１）
：等方性における初期磁化曲線（１２） ：基板ホル
ダー （１４）（１４す：磁石（１５） ：磁力線 （
１７） （１７つ：高透磁率材料からなるヨーク板 特許出願人 日電アネルバ株式会社
曲線および初期磁化曲線である。 第３図は磁気異方性がなく９等方的である場合のヒステ
リシス曲線および初期磁化曲線である。 第４図は本発明の実施例１であり（、）は正面図。 ｆｂｌは断面図、（Ｃ）は磁力線の分布であり、第５図
は１＋られた高透磁４！、薄膜のヒステリシス曲線の一
例である。 第６図は本発明の実施例２でありｆａ）は正面図。 （ｂｌは断面図、（Ｃ）に１磁力線の分布であり、４１
７図は得られた高透磁率薄膜のヒステリシス曲線の一例
である。 （１）：主磁極 （２）：補助磁極 （３）：コイル（
４）：ベースフイルム （５）：磁性層（６）：容易軸
のヒステリシス曲線 （７）：容易軸の初期磁化曲線（
８）：困難軸のヒステリシス曲線（９）：困難軸の初期
磁化曲線 （１０） ：等方性におけるヒステリシス曲線（１１）
：等方性における初期磁化曲線（１２） ：基板ホル
ダー （１４）（１４す：磁石（１５） ：磁力線 （
１７） （１７つ：高透磁率材料からなるヨーク板 特許出願人 日電アネルバ株式会社
Claims (3)
- （１）スパッタ法、蒸着法又はメッキ法等を用いて垂直
磁気記録用ヘッドの主磁極をヘッド支持台表面に薄膜状
に作成するとき、該ヘッド支持台表面に対して垂直方向
に磁力線を印加することにより。 等磁的な磁気特性を持つ薄膜を得ることを特徴とする垂
直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法。 - （２）該ヘッド支持台の裏面に沿わせた磁石を用いるこ
とを特徴とする第１項記載の垂直磁気記録ヘッド主磁極
の作成方法。 - （３）磁石と高透磁率材料のヨーク板を用いる磁気回路
内に該ヘッド支持台を配置することを特徴とする第１項
記載の垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16805183A JPS6059509A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16805183A JPS6059509A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059509A true JPS6059509A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0512846B2 JPH0512846B2 (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=15860915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16805183A Granted JPS6059509A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059509A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7463449B2 (en) | 2004-11-10 | 2008-12-09 | Tdk Corporation | Magnetic head for perpendicular magnetic recording, head gimbal assembly, head arm assembly and magnetic disk drive |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16805183A patent/JPS6059509A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7463449B2 (en) | 2004-11-10 | 2008-12-09 | Tdk Corporation | Magnetic head for perpendicular magnetic recording, head gimbal assembly, head arm assembly and magnetic disk drive |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0512846B2 (ja) | 1993-02-19 |
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