JPS606350A - 湿式ブラスト装置 - Google Patents
湿式ブラスト装置Info
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- JPS606350A JPS606350A JP11379183A JP11379183A JPS606350A JP S606350 A JPS606350 A JP S606350A JP 11379183 A JP11379183 A JP 11379183A JP 11379183 A JP11379183 A JP 11379183A JP S606350 A JPS606350 A JP S606350A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/08—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は研磨材である砥粒を混合させた混合液を機械部
品等の被処理物に投射し被処理物に付着した汚れ、油脂
錆等の表面固着物の研削、又は表面硬化等を行う湿式
ブラスト装置に関するものである。
品等の被処理物に投射し被処理物に付着した汚れ、油脂
錆等の表面固着物の研削、又は表面硬化等を行う湿式
ブラスト装置に関するものである。
従来技術
従来、この種の湿式ブラスト装置は、水とアルミナ又は
ガラス・ビーズ等の研磨材の混合液を圧縮空気と共にノ
ズルから噴射させる構成のものがある。混合液の噴射に
よって被処理物の表面及び隙間等にイリ着した汚れ等の
固着物の除去と表面の仕上げ加工等を行うものである。
ガラス・ビーズ等の研磨材の混合液を圧縮空気と共にノ
ズルから噴射させる構成のものがある。混合液の噴射に
よって被処理物の表面及び隙間等にイリ着した汚れ等の
固着物の除去と表面の仕上げ加工等を行うものである。
ところが、上記従来の湿式ブラスト装置においては、噴
射液として水を用いているので十分な洗浄脱脂効果が得
られず、被処理物の処理に時間を要し、かつ研削処理後
の被処理物の乾燥に時間がかかる。また、水分を含んで
いるため、使用済の研磨材の回収が困難であると共に、
研削によって除去された固着物からなる汚物の処理が面
倒である等の問題点を有していた。
射液として水を用いているので十分な洗浄脱脂効果が得
られず、被処理物の処理に時間を要し、かつ研削処理後
の被処理物の乾燥に時間がかかる。また、水分を含んで
いるため、使用済の研磨材の回収が困難であると共に、
研削によって除去された固着物からなる汚物の処理が面
倒である等の問題点を有していた。
発明の目的
本発明は以」二述べたような従来の湿式ブラスト装置の
有する問題点に鑑みなされたものであり。
有する問題点に鑑みなされたものであり。
その目的とするところは極めて良好な洗浄・脱脂効果が
得られ、迅速な処理を行うことができかつ被処理物の乾
燥が短時間に行われる湿式ブラスト装置を提供すること
にある。
得られ、迅速な処理を行うことができかつ被処理物の乾
燥が短時間に行われる湿式ブラスト装置を提供すること
にある。
また、本発明の他の目的は洗浄汚物及び研磨材の乾燥時
間を短縮できる湿式ブラスト装置を提供することにある
。
間を短縮できる湿式ブラスト装置を提供することにある
。
実施例
以下、本発明につき好適なる一実施例を示す図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
本発明の一実施例に係る湿式ブラスト装置の基本構成を
示す図において、参照番号lは原子力発電所における汚
染工具等の被処理物(図示せず)の処理を行う処理容器
であり、高い密閉性を有する構造である。処理容器lの
下部に設けられたタンク3内には低沸点溶剤であるフロ
ンとアルミナ又はガラス・ビーズ等の研磨材を混合して
成る混合液2が貯えられている。4は噴射ノズルである
。タンク3の4昆合液2はポンプ6によりライン30、
バルブV8を介して送られ後述のフロンガスと共に噴射
ノズル4から処理容器1内に配された被処理物に噴出さ
れる。
示す図において、参照番号lは原子力発電所における汚
染工具等の被処理物(図示せず)の処理を行う処理容器
であり、高い密閉性を有する構造である。処理容器lの
下部に設けられたタンク3内には低沸点溶剤であるフロ
ンとアルミナ又はガラス・ビーズ等の研磨材を混合して
成る混合液2が貯えられている。4は噴射ノズルである
。タンク3の4昆合液2はポンプ6によりライン30、
バルブV8を介して送られ後述のフロンガスと共に噴射
ノズル4から処理容器1内に配された被処理物に噴出さ
れる。
噴出した混合液2は被処理物から除去された固着物と共
に再びタンク3に戻るが、フロン液のうち一部は気化し
処理容器1上部の廃棄筒よりフィルタ7、バルブv2の
あるライン31を通って圧縮機8に送られる。フィルタ
7はフロンガスに含まれている研磨材等の微粒子を除去
するためのものである。ライン31を介して圧縮機8に
送られたフロンガスは圧縮されて高圧ガスとなり、油分
離器9及びドライヤlOを経てライン32、バルブVl
を通って前述したポンプ6によって吸い上げられた混合
液2の加圧源として噴射される。運転中は以上の循環系
により連続平衡状態を保つ。
に再びタンク3に戻るが、フロン液のうち一部は気化し
処理容器1上部の廃棄筒よりフィルタ7、バルブv2の
あるライン31を通って圧縮機8に送られる。フィルタ
7はフロンガスに含まれている研磨材等の微粒子を除去
するためのものである。ライン31を介して圧縮機8に
送られたフロンガスは圧縮されて高圧ガスとなり、油分
離器9及びドライヤlOを経てライン32、バルブVl
を通って前述したポンプ6によって吸い上げられた混合
液2の加圧源として噴射される。運転中は以上の循環系
により連続平衡状態を保つ。
ここで、油分離器9は圧縮機8内の潤滑油がフロンガス
に混入するため、これを除去すると共にライン33及び
34を介して再び圧縮機8内に戻すものである。これに
より、潤滑油の消費が抑えられる。ドライヤ10は処理
容器l内の残留空気がフロンガスに4記入するため、空
気に含まれる水分を除去するものである。
に混入するため、これを除去すると共にライン33及び
34を介して再び圧縮機8内に戻すものである。これに
より、潤滑油の消費が抑えられる。ドライヤ10は処理
容器l内の残留空気がフロンガスに4記入するため、空
気に含まれる水分を除去するものである。
なお、前述のポンプ6によりライン30、噴射ノズル4
、タンク3を高速循環する混合液2の一部は攪拌用ライ
ン35に分流して直接タンク3に返還される。この攪拌
用ライン35からの返還により、タンク3内の混合液2
の撹拌がなされ、フロン液と研磨材粒子との混合状態が
均一に保たれ、研磨材のみが沈εすることが防市される
。
、タンク3を高速循環する混合液2の一部は攪拌用ライ
ン35に分流して直接タンク3に返還される。この攪拌
用ライン35からの返還により、タンク3内の混合液2
の撹拌がなされ、フロン液と研磨材粒子との混合状態が
均一に保たれ、研磨材のみが沈εすることが防市される
。
さて、噴射ノズル4から噴射された混合液2及びフロン
ガスは高圧状態から急激に解放されることから、フロン
ガスの自己冷却作用が働き温度が低下する。一方、ポン
プ6により高速循環する混合液2は前述の撹拌に伴う熱
によって温度がhklするか、上記の温度低下と平衡す
るため処理容器1内の温度及びタンク3内の混合液2の
温度はフロンの大気圧での沸点以下の温度に保たれる。
ガスは高圧状態から急激に解放されることから、フロン
ガスの自己冷却作用が働き温度が低下する。一方、ポン
プ6により高速循環する混合液2は前述の撹拌に伴う熱
によって温度がhklするか、上記の温度低下と平衡す
るため処理容器1内の温度及びタンク3内の混合液2の
温度はフロンの大気圧での沸点以下の温度に保たれる。
従って、被処理物を処理容器lに出し入れする時に、開
閉用扉を開放してもフロンの蒸発による消費は微少に抑
えられる。また、圧縮機8のフロンガス吸引量をノズル
4からの噴出量よりも多くして運転中の処理容器内を常
に外気より負圧に保つことにより、ガスの漏れを防ぐと
共に、汚染物の外部漏洩を防いでいる。
閉用扉を開放してもフロンの蒸発による消費は微少に抑
えられる。また、圧縮機8のフロンガス吸引量をノズル
4からの噴出量よりも多くして運転中の処理容器内を常
に外気より負圧に保つことにより、ガスの漏れを防ぐと
共に、汚染物の外部漏洩を防いでいる。
圧縮機8から吐出された高圧のフロン刀゛スの一部はラ
イン36で分流され圧力弁11を経て液化器12へ送ら
れる。圧力弁11は圧縮4a、8による吸引、吐出を調
節するものであり、処理容器1がらライン31、ライン
32を経て処理容器1へ至るフロンガスの流れが平衡状
態を保つよう余剰のガスを液化器12へ導く。液化器1
2は送られたフロンガスを冷却器12−1によって液化
されるト共に、フロンガスに混入していた残留空気を#
[気管12−1から分離除去させることができる。
イン36で分流され圧力弁11を経て液化器12へ送ら
れる。圧力弁11は圧縮4a、8による吸引、吐出を調
節するものであり、処理容器1がらライン31、ライン
32を経て処理容器1へ至るフロンガスの流れが平衡状
態を保つよう余剰のガスを液化器12へ導く。液化器1
2は送られたフロンガスを冷却器12−1によって液化
されるト共に、フロンガスに混入していた残留空気を#
[気管12−1から分離除去させることができる。
更に、液化したフロンは液化器12からライン37、バ
ルブv3を経て蒼留器13に送られる。
ルブv3を経て蒼留器13に送られる。
蒸留器13に送られたフロンはヒータエ4の加熱による
蒸発と、冷凍機19からの冷却器13−1による液化に
よって再度凝縮され、ライン38を介して次の貯液器1
6に送られる。なお、15は水分離器であり、蒸留器1
3内の残留水分を除去する。また、」二記蒸留によって
フロンから分離され蒸留器13下部に溜った油(前記油
分離器9によって除去17きれなかった圧縮機8の潤滑
油)はライン39を介して圧縮機8に戻される。
蒸発と、冷凍機19からの冷却器13−1による液化に
よって再度凝縮され、ライン38を介して次の貯液器1
6に送られる。なお、15は水分離器であり、蒸留器1
3内の残留水分を除去する。また、」二記蒸留によって
フロンから分離され蒸留器13下部に溜った油(前記油
分離器9によって除去17きれなかった圧縮機8の潤滑
油)はライン39を介して圧縮機8に戻される。
貯液器16は蒸留された清浄フロンを貯えるため冷凍機
19による冷却器16−1を備える。また新液供給のた
めの給液口17を備える。貯液器16に接続された給液
ポンプ18は、貯えられたフロンをライン40を経て処
理容器l内のタンク3に供給すると共に、噴射ノズル4
による処理が終了した被処理物の最終洗浄のため洗浄ノ
ズル5へ送る。洗浄ノズル5へのフロン液の供給はライ
ン40から分流するライン41を介して行われる。また
、タンク3及び洗浄ノズル5への供給はバルブto、i
iの開閉により同時に又は必要に応じ一方のみが行われ
、かつ供給量が調節される。タンク3に取付けられた液
面計120は常に適正な液量を保つよう、減少分を検知
し、給液ポンプを作動させて液面を一定に保つ。
19による冷却器16−1を備える。また新液供給のた
めの給液口17を備える。貯液器16に接続された給液
ポンプ18は、貯えられたフロンをライン40を経て処
理容器l内のタンク3に供給すると共に、噴射ノズル4
による処理が終了した被処理物の最終洗浄のため洗浄ノ
ズル5へ送る。洗浄ノズル5へのフロン液の供給はライ
ン40から分流するライン41を介して行われる。また
、タンク3及び洗浄ノズル5への供給はバルブto、i
iの開閉により同時に又は必要に応じ一方のみが行われ
、かつ供給量が調節される。タンク3に取付けられた液
面計120は常に適正な液量を保つよう、減少分を検知
し、給液ポンプを作動させて液面を一定に保つ。
次に、前述した如くポンプ6で吸い上げられた混合液2
の一部はライン42 、 /<ルプv7を通って2本の
サイクロン21に送られる。サイクロン2工によって混
合液2に含まれる噴射ノズル4の噴出による研削のため
に破砕した微細な研磨材や被処理物から除去された表面
固着物(洗浄汚物)を分離除去し、下部に連結されてい
るスラッジタンク22に落す、このシステムより、タン
ク3内に研磨材等の微塵や洗浄汚物が蓄積するのを防止
することができる。サイクロン21による分離除去が終
了して残ったフロンは、ライン43.バルブV6を介し
て再びタンク3に回収される。また、洗浄汚物と共にタ
ンク22内に混入したフロン液はライン49.バルブv
9を介してタンク3に戻る。
の一部はライン42 、 /<ルプv7を通って2本の
サイクロン21に送られる。サイクロン2工によって混
合液2に含まれる噴射ノズル4の噴出による研削のため
に破砕した微細な研磨材や被処理物から除去された表面
固着物(洗浄汚物)を分離除去し、下部に連結されてい
るスラッジタンク22に落す、このシステムより、タン
ク3内に研磨材等の微塵や洗浄汚物が蓄積するのを防止
することができる。サイクロン21による分離除去が終
了して残ったフロンは、ライン43.バルブV6を介し
て再びタンク3に回収される。また、洗浄汚物と共にタ
ンク22内に混入したフロン液はライン49.バルブv
9を介してタンク3に戻る。
23はタンク3内の研磨材を外部に回収するためのウェ
ットサイクロンである。ウェットサイクロン23は図中
A、A’において連結するライン44を介してタンク3
に接続しており、タンク3内から送られた混合液2から
研磨材を分離する。
ットサイクロンである。ウェットサイクロン23は図中
A、A’において連結するライン44を介してタンク3
に接続しており、タンク3内から送られた混合液2から
研磨材を分離する。
分離された研磨材は回収タンク24に貯えられる。また
、残ったフロンはライン45を介して夕、ンク3へ戻さ
れる。
、残ったフロンはライン45を介して夕、ンク3へ戻さ
れる。
なお、上記スラッジタンク22及び回収タンク24に貯
えられた洗浄汚物や研磨材にはフロンが含まれているが
、その場合バルブV5 、V9およびバルブV13等を
操作することによりスラッジタンク22のライン46、
回収タンク24のライン47(B、B’において接続し
ている)を圧縮機8の吸入側のライン31.48と連通
させれば、圧縮機8の吸引によりスラッジタンク22、
回収タンク24内のフロンは気化回収され、タンク22
.24内に残留した洗浄汚物や研磨材は短時間で乾燥状
態となる。これにより、洗浄汚物及び回収した研磨材の
処理が極めて容易となる。また、以上の動作により研磨
材を回収した後のタンク3内のフロンはバルブv2開、
バルブvl閉の状態で圧縮機8のみを作動させることに
より貯液器16に気化回収することかできる。この場合
気化熱による温度低下を防ぎ、かつ気化を促進させるた
めヒータ25により加熱する。
えられた洗浄汚物や研磨材にはフロンが含まれているが
、その場合バルブV5 、V9およびバルブV13等を
操作することによりスラッジタンク22のライン46、
回収タンク24のライン47(B、B’において接続し
ている)を圧縮機8の吸入側のライン31.48と連通
させれば、圧縮機8の吸引によりスラッジタンク22、
回収タンク24内のフロンは気化回収され、タンク22
.24内に残留した洗浄汚物や研磨材は短時間で乾燥状
態となる。これにより、洗浄汚物及び回収した研磨材の
処理が極めて容易となる。また、以上の動作により研磨
材を回収した後のタンク3内のフロンはバルブv2開、
バルブvl閉の状態で圧縮機8のみを作動させることに
より貯液器16に気化回収することかできる。この場合
気化熱による温度低下を防ぎ、かつ気化を促進させるた
めヒータ25により加熱する。
また、50は前述のポンプ6に代わって高圧フロンカス
の気流によるベンチュリ効果を用いてタンク3内の混合
W、2を吸い上げ噴射ノズル4から噴出させるための吸
い上げラインである。吸い上げライン50によって混合
液2の吸い上げを行う場合、バルブv8を閉じてバルブ
V12を開く。
の気流によるベンチュリ効果を用いてタンク3内の混合
W、2を吸い上げ噴射ノズル4から噴出させるための吸
い上げラインである。吸い上げライン50によって混合
液2の吸い上げを行う場合、バルブv8を閉じてバルブ
V12を開く。
ライン32よりバルブv1を通して高圧フロンガスが送
り込まれると、噴射ノズル4の出口にて負圧状態となる
ためベンチュリ効果によってタンク3内の混合液2が吸
い上げライン50を介して噴射ノズル4まで吸い上げら
れ、フロンガスと共に噴射ノズル4から噴射されるもの
である。このベンチュリ効果を用いた混合液2の吸い上
げでは、ポンプ6による吸い上げの場合に比べ吸い上げ
る力が弱く噴射流量が少ないため洗浄及び研削効果は低
下するが、被処理物に付着する汚れや油脂分が軽微な場
合には充分な効果が得られる。また、ポンプ6を用いる
場合より、消費電力が少なくかつ装置を・簡略化できる
利点がある。
り込まれると、噴射ノズル4の出口にて負圧状態となる
ためベンチュリ効果によってタンク3内の混合液2が吸
い上げライン50を介して噴射ノズル4まで吸い上げら
れ、フロンガスと共に噴射ノズル4から噴射されるもの
である。このベンチュリ効果を用いた混合液2の吸い上
げでは、ポンプ6による吸い上げの場合に比べ吸い上げ
る力が弱く噴射流量が少ないため洗浄及び研削効果は低
下するが、被処理物に付着する汚れや油脂分が軽微な場
合には充分な効果が得られる。また、ポンプ6を用いる
場合より、消費電力が少なくかつ装置を・簡略化できる
利点がある。
以上ではポンプ6と吸い上げライン50を併設したこと
から、バルブv8とV12を調節することにより被処理
物の汚れ等の度合に応じてポンプ6による吸い上げとラ
イン50による吸い上げのいずれかを適宜選択すること
ができるので、より効率的な洗浄、研削が行え極めて便
利である。なお、ポンプ6と吸い上げライン50は必ず
しも併設する必要はなく、装置の用途に応じていずれか
一方のみの吸い上げ手段を設けてもよい。
から、バルブv8とV12を調節することにより被処理
物の汚れ等の度合に応じてポンプ6による吸い上げとラ
イン50による吸い上げのいずれかを適宜選択すること
ができるので、より効率的な洗浄、研削が行え極めて便
利である。なお、ポンプ6と吸い上げライン50は必ず
しも併設する必要はなく、装置の用途に応じていずれか
一方のみの吸い上げ手段を設けてもよい。
本発明の一実施例に係る湿式プラスト装置は以上の如く
構成されかつ動作するものであり、気化により損失し易
いが洗浄、脱脂効果に優れた低沸点溶剤であるフロンを
用い損失を最小限に抑えた効率のよい使用を行うもので
ある。
構成されかつ動作するものであり、気化により損失し易
いが洗浄、脱脂効果に優れた低沸点溶剤であるフロンを
用い損失を最小限に抑えた効率のよい使用を行うもので
ある。
そして、水装置によればフロンの良好な洗浄、脱脂効果
により被処理物の処理を迅速に行うことができると共に
、フロンを損失なく循環させて使用することができる。
により被処理物の処理を迅速に行うことができると共に
、フロンを損失なく循環させて使用することができる。
また、フロンの低沸点性により、被処理物が短時間で乾
燥すると共に、洗浄汚物及び研磨材を短時間で乾燥させ
回収することかできる。更に、フロンの気化ガスを加圧
して噴射用に用いるので、従来の水と研磨材の混合液2
を圧縮空気と共に噴射する湿式ブラスト装置のように別
に圧縮空気の供給装置を設ける必要がない。
燥すると共に、洗浄汚物及び研磨材を短時間で乾燥させ
回収することかできる。更に、フロンの気化ガスを加圧
して噴射用に用いるので、従来の水と研磨材の混合液2
を圧縮空気と共に噴射する湿式ブラスト装置のように別
に圧縮空気の供給装置を設ける必要がない。
また、以上の実施例では低沸点溶剤であるフロンと研磨
材を混ぜた混合液2を洗浄液として用いた場合を示した
が、研磨材を混入せずフロンのみを洗浄液として用いて
もよい、被処理物に付着した汚れ、油脂等が軽度な場合
には、フロンの噴射だけで充分な洗浄効果が得られる。
材を混ぜた混合液2を洗浄液として用いた場合を示した
が、研磨材を混入せずフロンのみを洗浄液として用いて
もよい、被処理物に付着した汚れ、油脂等が軽度な場合
には、フロンの噴射だけで充分な洗浄効果が得られる。
この場合、研磨材の分だけ洗浄に要する費用が少なくな
ると共に、使用済の研磨材を分離回収するためのウェッ
トサイクロン23及び回収タンク24が必要なくなるの
で装置全体が簡素化されよう。また、低沸点溶剤として
フロンを用いた例を示したが、他の低沸点溶剤であるト
リクロエチレン及びパークロロエチレン等を用いても上
記フロン液と同様の効果を得ることができる。ただ、不
燃性、無毒性、無臭性の点でフロン液が最適であろう。
ると共に、使用済の研磨材を分離回収するためのウェッ
トサイクロン23及び回収タンク24が必要なくなるの
で装置全体が簡素化されよう。また、低沸点溶剤として
フロンを用いた例を示したが、他の低沸点溶剤であるト
リクロエチレン及びパークロロエチレン等を用いても上
記フロン液と同様の効果を得ることができる。ただ、不
燃性、無毒性、無臭性の点でフロン液が最適であろう。
また、上記の実施例においては蒸留器13、ヒータ】4
、貯靜器16、冷凍機19等から成る蒸留系統が前記装
置内に組込まれた構成となっているが前記同様の作用が
得られれば別設してもさしつかえない。
、貯靜器16、冷凍機19等から成る蒸留系統が前記装
置内に組込まれた構成となっているが前記同様の作用が
得られれば別設してもさしつかえない。
効果
本発明によれば、洗浄、脱脂効果の優れた低沸点溶剤又
は低沸点溶剤と研磨材の混合液を用いるので、被処理物
の洗浄、研削が効果的かつ迅速に行われる。低沸点溶剤
は気化し易いので被処理物の乾燥が短時間でなされる。
は低沸点溶剤と研磨材の混合液を用いるので、被処理物
の洗浄、研削が効果的かつ迅速に行われる。低沸点溶剤
は気化し易いので被処理物の乾燥が短時間でなされる。
また、洗浄汚物及び研磨材の乾燥にかかる時間も短縮さ
れるので、その処理が容易となる。
れるので、その処理が容易となる。
おける放射能汚染物の廃棄処理の際に行う除染作業に最
も有効である。同用途においては、汚染物質の飛散は不
可であるので1本装置の如く、完全なりローズド・シス
テム(密閉循環系)を有することが重要であり、かつ洗
浄後の汚物や研磨材粒子を分離除去するサイクロン装置
を備えること、さらに溶剤の分離回収を行い、汚染残渣
物を乾燥状態で回収できることなどは、廃棄物を最少限
にて回収容易ならしめる点で大変に有用である。
も有効である。同用途においては、汚染物質の飛散は不
可であるので1本装置の如く、完全なりローズド・シス
テム(密閉循環系)を有することが重要であり、かつ洗
浄後の汚物や研磨材粒子を分離除去するサイクロン装置
を備えること、さらに溶剤の分離回収を行い、汚染残渣
物を乾燥状態で回収できることなどは、廃棄物を最少限
にて回収容易ならしめる点で大変に有用である。
図は本発明の一実施例に係る湿式ブラスト装置の基本構
成図である。 ここで、l・・・処理容器、2・・・混合液、3・・・
タンク、4・・・噴射ノズル、6・・・ポンプ、8・・
・圧縮機、12・・・液化器、13蒸留器、16・・・
貯液器、21・・・サイクロン、22・・・スラッジタ
ンク、23・・・ウェットサイクロン、24・・・回収
タンク、50・・・吸い上げラインである。
成図である。 ここで、l・・・処理容器、2・・・混合液、3・・・
タンク、4・・・噴射ノズル、6・・・ポンプ、8・・
・圧縮機、12・・・液化器、13蒸留器、16・・・
貯液器、21・・・サイクロン、22・・・スラッジタ
ンク、23・・・ウェットサイクロン、24・・・回収
タンク、50・・・吸い上げラインである。
Claims (2)
- (1)液体を研磨材の混合液又は液体のみを被処理物に
噴射して該被処理物表面の洗浄、研削を行う湿式ブラス
ト装置において、前記混合液の液体として低梯点溶液を
用いたことを特徴とする湿式ブラスト装置。 - (2)低沸点溶剤がフロンであることを特徴とする特許
請求の範FIII第1項に記載の湿式ブラスト装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11379183A JPS606350A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 湿式ブラスト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11379183A JPS606350A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 湿式ブラスト装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS606350A true JPS606350A (ja) | 1985-01-14 |
| JPS6240144B2 JPS6240144B2 (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=14621174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11379183A Granted JPS606350A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 湿式ブラスト装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606350A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS479438U (ja) * | 1971-02-25 | 1972-10-04 |
-
1983
- 1983-06-24 JP JP11379183A patent/JPS606350A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS479438U (ja) * | 1971-02-25 | 1972-10-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6240144B2 (ja) | 1987-08-26 |
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