JPS6067656A - 真空蒸着方法 - Google Patents

真空蒸着方法

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Publication number
JPS6067656A
JPS6067656A JP17374783A JP17374783A JPS6067656A JP S6067656 A JPS6067656 A JP S6067656A JP 17374783 A JP17374783 A JP 17374783A JP 17374783 A JP17374783 A JP 17374783A JP S6067656 A JPS6067656 A JP S6067656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
cover
drum
mask
resistant material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17374783A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunikatsu Takeuchi
竹内 邦勝
Takeshi Mouri
毛利 豪志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP17374783A priority Critical patent/JPS6067656A/ja
Publication of JPS6067656A publication Critical patent/JPS6067656A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1紙、プラスチIクフィルムまたはこれらの積
層フィルムからなる基材にアルミニウム等の金属を真空
蒸着する真空蒸着方法に関するもので、詳しくは基材の
両側の真空蒸着層との境界および/またはストライプ状
の真空蒸着を美麗に施す真空蒸着方法に関するもので)
)る。
アルミニウム等の金属を暴利」−に真空蒸着−4−るに
は、第1図に示すように暴利(1)とドラム(21L−
こ密着した状態にし、このドラム(2)下方からアルミ
ニウム等の金属を耐熱性材料からなるルツボ、ボート等
の容器(3)から蒸着していた。
このような蒸着方法に蒸着すると基・1′Aの中央部に
おいては、所望の蒸着層が施さハるが両側においては、
所定の蒸着量が得られず、蒸着フィルムとして使える巾
が狭く、有効的に使用できなかった。
そこでセラミック等の耐熱性イA別からなり、第2図に
示すように外枠(51(51とこの外枠(51f51間
にドラムに対応した円弧状のマスク(6)から1.Cる
カバー(71を用いて両側の蒸着不良を防止していた。
そしてこのカバー(7)は外枠(51(51およびマス
ク(6)とも1伶却のため通水可能な構造であった。
これにより前記の側部の蒸着不良およびストライプ状の
蒸着が可能となった。
しかし、このカバー(7)は1通水可能な構造のたメ、
所定の大きさのカバーであるには蒸着[1]やストライ
プの間隔を変えればその都度、新しいものを作らなけれ
ばならなかった。
そこでカバー(71を銅板のような金属板を用いたスト
ライプ用のカバーとした場合、1回は使用可能であるが
、2回以上使用できないため、結局1回ずつ新しいもの
を使用せざる得なかった。
本発明は、上記のような従来の欠点を鑑み、2回以上使
用可能で、しかも基材の両側および/またはストライプ
状の蒸着を良好に行なうことができる真空蒸着方法を提
供することをl」的とするものである。
また、他の目的は蒸着l]および/またはストライプの
11]を変えるとき、カバーを取り換え1゛に容易に行
なえる真空蒸着方法を提供することである。
以下本発明について説明する。
本発明は、紙、プラスチックフィルムまたはこれらの積
層フィルムからなる暴利にアルミニウム等の金属を真空
蒸着する真空蒸着方法において第6図に示すように基材
(11]を円101形のドラノ、(12)に密着した状
態で、該ドラム(121の下方に設けた耐熱性材料から
なるルツボ、ボート等の容器(I3)からカバー04)
を介して真空蒸着する真空蒸着方法である。
上記カバー(141は1例えば第4図に示すように通水
可能で耐熱性材料からなる外枠[15) (1,51の
一側部に通水可能で、ドラムの外周に対応した円弧状に
成形されたマスク(16)を設け、該マスク(1G)と
外枠f15)f15)の他側端間に蒸着l]に応じて銅
板のような熱伝導性の良好な金属材料(1ηからなり、
類N側に厚さろ〜5mmのセラミックフィバ−を取り伺
けたマスク(201[201ヲ取付ケタモノテ、 コノ
マスク(201ハトラム(121の外周形状に合せた円
弧形状のサイドカバー(2+1を設けたものである。
このマスク(20)に用いる金属栃刺面の厚さはろ〜7
I+lI++の範囲が適当で、3配未満であると蒸着時
の副射熱で変形し易く、また7wn以上の厚さになると
前記変形は防止できるが、ドラムの形状に応じた成形加
工が難しく、適当でない。
そして、マスク(20)の前後端には外枠(1■a9に
取伺けるための穴+221 Eを設り−てなる。
第4図は、暴利に全面蒸着を施すためのカバー04)の
構造を示すもので、ストライプ状の蒸着を施すためには
第5図に示1−ように、第4図に示したカバー04)の
マスク(201(20)間に両側にサイドカバー(21
1(21Iを設け、マスク(20)と同じ材料からなり
、前後端に長穴(231(1231・・・を設げたセン
ターマスク(24)を外枠(151(I5)に取付けた
カバー(25)を用いる。
ここでセンターマスク(2倶よ、所望のストライプ1]
、間隔に応じて適宜設ければよく、また長穴(23)に
より横方向に微調整を行なうことができるので。
一定幅のストライプ蒸着を行なえる。
本発明は、上記のようにマスク間の距離を適宜変更可能
なカバーを用いて真空蒸着を行なうため基材の両側にそ
れぞれ5〜10咽の余分に取って蒸着しなければならな
かったのを解消でき、基材の1]〕を有効に活用できる
ようになった。
また、熱伝導性が良好で、かつ成形加工のし易い銅板か
らなるマスクを用いているので、マスクにより蒸着境界
線をはっきりすることができる。
さらに、蒸着l]、間隔に応じて、従来はカバー全体を
取り換えなければならl゛11価格いばかりでなく、取
り換え時間に多くを安していIこが、本発明においては
外枠間に取伺けたカバーを所望の巾、間隔に応じて適宜
変更すればよく、取り換えも容易で、しかも安価に行な
うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の蒸着方法を示す説明図、第2図は従来
のカバーを示す説明図、第3図は本発明の蒸着方法を示
す説明図、第4図は本発明で用いるカバーの一例を示す
説明図および第5図し」、他のカバーの例を示す説明図
である。 旧j・・・基材 ([2)・・ドラム (1:(+・・
容器 (141(251−・−カバー (1ω・・・外
枠 (L61 (20+・・・マスク 07)・・・金
属月利 (21)・・・サイドカバー (22)・・・
穴 (23)・・・長穴 し・1)・・センター −r
 2 p 特許出願人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴 木 和 夫 第1図 9 ヒ=が4 日\13 手わtンi1j il云−・:(11式)%式% 1、事件の表示 昭和58年特¥1願第1737/I 7号2、発明の名
称 真空蒸着方法 3、補正をりる者 事件との関係 特r1出願人 住所 東京都台東[ス台東11目55番1)」4、補正
命令の日イ・] 昭和59年 1月3111名称」を1
3、発明の詳細な説明−1と訂正づる。。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (])紙、プラスチックフィルムまたはこれらの積層フ
    ィルムからなる基材にアルミニウム等の金属を真空蒸着
    する真空蒸着方法において、基材を円筒形のドラムに密
    着した状態で、該ドラムの下方に設けた耐熱性材料から
    なる容器から1通水可能で耐熱性材料からなる2本の外
    枠、該外枠の1側部に外枠と同様な構造のマスクおよび
    該マスクと外枠の他側部間に熱伝導性の良好な金属材料
    からなり蒸着側に耐熱性材料を設け、かつ蒸着側と反対
    側にドラムの外周に対応した円弧状のザイドカバーを設
    けたマスクを少なくとも2つ取付けてなるカバーを介し
    て真空蒸着する真空蒸着方法。
JP17374783A 1983-09-20 1983-09-20 真空蒸着方法 Pending JPS6067656A (ja)

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JP17374783A JPS6067656A (ja) 1983-09-20 1983-09-20 真空蒸着方法

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JPS6067656A true JPS6067656A (ja) 1985-04-18

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ID=15966379

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JP17374783A Pending JPS6067656A (ja) 1983-09-20 1983-09-20 真空蒸着方法

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JP (1) JPS6067656A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101118196B1 (ko) 2011-07-20 2012-02-24 김민호 하부 드럼 마스크가 부착된 드럼 마스크

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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