JPS6086105A - 光学的に高価値の成形体を製造するためのｕｖ―吸収剤を含む熱可塑性プラスチツク成形材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はＵＶ−吸収剤を含む熱可塑性プラスチック成形
材料及びこれから製造した成形体、特に光学的に高価値
の製品、例えば、レンズ、コンタクトレンズ、光学フィ
ルター、プリズム、グリッド、鏡、光電管、反射鏡、光
弾性模型、義眼等に関する。

従来の技術 光の特定のエネルギー成分が生物材料及び常用の工作材
料の１部に好ましくない作用をすることが知られて以来
、特にＵＶ−光に対して敏感な材料を保護するだめの技
術開発が進められている。多くの場合この保護はＵＶ−
吸収被覆層から成る。ポリオレフィン、ｐｖｃ、ポリス
チロール、ボリカージネート、ポリ酢酸ビニル等のよう
なプラスチックの安定化は実地において大きな意義があ
る。光安定化の原理は一般に、エネルギー吸収の光化学
−次反応を吸収により阻止するか又はこの反応を逆行さ
せることに帰因する（０１１ｍａｎｎａ　Ｅａｃｙｃｌ
ｏｐｉｉｄｉｅ　ｄｅｒ　Ｔｅｃｈｎ。

Ｃｈｅｍｉｅ、”　第４版、第１５巻、第２５３〜２７
３頁、Ｖｅｒｌａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ＋　１９７８年参照
）。

プラスチックは一定の前提下に市販のＵＶ−安定剤を添
加することによっである程度安定化することができる。

光の吸収はランノセート・ぺ厚 一ル（Ｌａｍｂｅｒｔ　−Ｂｅｅｒ　）　の法則により
層源と般に調剤へのＵＶ−吸収剤の添加はＯ，１〜５重
量％である。従って極めて薄い成形体、例えば繊維、帯
状体及び極めて薄いシートの保護はしばしば満足のいく
程度に得ることはできない。

ＵＶ−範囲で吸収性の、重合可能な七ツマ−のＵＶ−吸
収剤作用を利用することもすでに公知である〔例えばＳ
、　ＹＯｓｈｉｄａ、　ｏ、　Ｖｏｇｌ″Ｍａｋｒｏｍ
ｏｌ。

Ｃｈｅｍ、　”第１８３巻、第２５９〜２７９頁（１９
８２年）参照〕。

これは一般にすでに記載されているＵＶ−吸収剤の類に
属する；多くの場合、これらは２−ヒドロキシペンゾフ
エノン、２−ヒドロキシフェニルベンズトリアゾール、
α−シアノ−β−フェニルケイ皮竣、イーアミノ安息香
酸、サリチルＱ１オキサールアニリドから誘導され、ビ
ニル基、アリル基、アクリロイル基又はメタクリロイル
基のような重合可能な単位を含む。これらは一定の重合
体又は共は合体で安定化の作用をする。文献によればポ
リエチレンの安定化はＵＶ−吸収性モノマーとのグラフ
ト共重合により生じると思われる。’　Ｃｈｅｍ、　Ａ
ｂｓｔｒ、　”　第９３巻、７２０００　ｄにはＬＤ−
ポリエチレンの安定化を、２−ヒドロキシ−４−（３−
メタクリルオキシ−２−ヒＰロキシゾロポキシ）ベンゾ
フェノンで表面グラフトすることが推薦されている（Ｃ
ｈｅｍ、　Ａｂｇｔｒ、”第９４巻、１４０３７５Ｃに
よればＮ−メタクリロイルベンゾキサシリノンも適して
いる）、同様な処理は’Ｃｈｅｍ。

Ａｂｓｔｒ、　”　第９４巻、４８２０６ｑにも記載さ
れている。２−ヒドロキシー４−（３−メタクリルオキ
シ−２−ヒドロキシプロポキシ）−ベンゾフェノンでの
ＰｖＣの表面グラフトは’　Ｃｈｅｍ、　Ａｂａｔｒ、
　’　第８６巻、１２１９７９ｋに記載された研究の対
象である。クロロプレン及びスチロールと２−ベンゾチ
アゾールチオール−メタクリレートとの共重合体はＣｈ
ｅｍ。

Ａｂａｔｒ、　”　第９５巻、６３４９９ｂにより製造
することができる。これはネオプレン及び５ＫＳ−３０
−ゴム用の加硫促進剤として使用する。

ベンズチアゾリンチオン−メタクリレートでのｐｖｃの
安定化はＣｈａｍ、　Ａｂｓｔｒ、”　第９２巻、５９
６１４ｆに記載されている。

４−ビニル−α−シアン−β−フェニル−ケイ皮酸ビニ
ルエステルはスチロール及びメチルメタクリレ−）　（
ＭＭＡ　）とのホモ−及び共重合体用モノマーとして記
載されている（　”　Ｃｈｅｍ。

Ａｂａｔｒ、”第９５巻、１８７７１４　ｎ　）　ｏ同
様に６．８−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニルメ
チルアクリレートはＭＭＡ又は塩化ビニルと共重合され
る（Ｃｈｅｍ、　Ａｂｓｔｒ、　”　第９５巻、９５７
４０ｙ　’）。α−オレフィンとｏ−ヒドロキシ及ンゾ
フエーノンー（メタ）−アクリレートからなる共重合体
は西ドイツ特許出願公開第１５２０４５８号公報から公
知でおる。この共重合体は特に自己支持性のフィルム、
支持体上のフィルム等を製造するのに適している。同様
に４位に（メタ）アクリ四イルオキシ基を有する２−ヒ
ト四キシベンゾフェノンｔｉｌＪＪ体ハ、スｆロール、
アクリルニトリル及び／又はＭＭＡ、！：の共重合体と
して推薦されている（　”　Ｃｈｅｍ。

Ａｂｓｔｒ、　”　第９６巻、５３９５７ｆ）ｏ特にＭ
ＭＡとの６．８−ジメチル−４−オキソ−５−クロマニ
ル−メタクリレートの共重合は”　Ｃｈｅｍ。

Ａｂｓｔｒ、”第９０巻、１６９０８４ｚに記載されて
いる。Ｅｕｒｏｐ、　Ｐｏｌｙｍ、　Ｊ、”　ｌ　９７
７　＋　（１３）　９１５　１９　（”Ｃｈｅｍ、Ａｂ
ａｔｒ、　８８　＊　ｌ　９１９６７ｖ）によれば、キ
ーベンゾイル−３−ヒドロキシフェニルアクリレートは
ＡＢＳと共重合可能である。

米国特許第４２６０７６８号明細書には、例、ｔばスチ
ロール又はビニルピロリドンと共重合可能のＵＶ−吸収
剤として、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル
）−４−アルキルフェノールアシルエステルが推薦され
ている。共重合可能の４−アクリロイルオキシベンゾ−
ルー１−アルキル−１−フェニルヒドラゾンは米国特許
第４２４７７１４号明細書にまた奎−アルコキシ−２７
−アクリルオキシ−ベンズアジンは米国特許第４２６０
８０９号明細書にＵ４−安定剤として記載されている。

他のコモノマーは２−シアン−３，３−ジフェニルアク
リルオキシ）アルキレン−エチレンエーテル（米国特許
第４２０２８３４号明細書）及び−アクリル酸エステル
（米国特許第４１７８３０３号明細書）である。殺菌阻
止されたピペリジン誘導体も提案されている（西ｒイッ
特許出願公開第２６５１５１１号、同第２２５８７５２
号、同第２０４０９８３号、同第２３５２６０６号明細
書）。

発明が解決しようとする問題点 予め規定された光学特性を有する製品は、シラスチック
、特にアクリルガラスから、注型、プレス、押出し、ダ
イカスト、押出しプレス及び引抜き法により製造される
。この場合プラスチック製品それ自体をＵＶ−光の好ま
しくない作用から保護すべきこと、また特に硬質のＵＶ
−光の好ましくない光量の通過を阻止することの問題が
生じる。これらの製品は例えばレンズ、コンタクトレン
ズ、光学フィルター、プリズム、グリッド、鏡、光電管
、反射鏡、光弾性模型、義眼等である。

高い光学的要求が設定されている成形体を製造するには
、成形材料に移動可能のＵＶ−吸収剤を添加するだけで
は不十分である、それというのも成形体へのＵＶ−吸収
剤含量に関して排除することのできないコントロール不
能の配勾及び不均一性（これは時間の経過につれて初め
て生じることもある）は甘受することができないからで
ある。更に均質性が完全でまた等方性が完全な場合にも
重合体中にＵＶ−吸収剤が存在することによって相殺さ
れる相互作用及び熱二次現象による問題が高価な光学系
で予想される。

この解決法として例えば光線保護分野で通常用いられて
いるような短波光線に対する遮断層を成形体に設けるこ
とが予測された、それというのもこの技術分野では、前
述の諸明細書に記載されているように反覆して使用可能
の生成物を製造することが本質的な改良手段として存在
するからである。

いずれにせよこれから製造された成形体がその光学特性
に関して高い要求を満足し、可能な場合には機械的及び
使用上本質的な特性を損なわないＵＶ−光の有害な作用
に対して保護されるか又は保ｍ可能の成形材料を提供す
るという課題が存在する。

問題点を解決するだめの手段 ところで耐ＵＶ−光性の成分を分子中に有するラジカル
重合可能のモノマー（以下、耐ＵＶ−光性モノマーとい
う）と他の自体公知の一般にラジカル重合可能の七ツマ
−とから構成される重合体Ｐから成る成形材料は本課題
を満足することが判明した。特にこの課題は、成形材料
がアクリル樹脂の光学的に好ましい前提を有する場合に
、すなわち他の自体公知のモノマーが全部又は主として
（すなわち耐ＵＶ−光性でないモノマー成分の合計に対
して５０重量％より多い）アクリル酸及び／又はメタク
リル酸の誘導体、特にそのエステルである場合に満足さ
れる。

耐ＵＶ−光性モノマーは一般に、波長範囲２５　ＯＮ３
５０　ｎｍで、クロロホルム中の濃度０゜００２％（分
光分析のため）及び層厚ｄ５ｍｍで入射光の１０％以上
を吸収するという前提を満足する。これは定義上常用の
テルモシラストの芳香族成分と異なる。共重合体Ｐ中に
耐ＵＶ−光性七ノマー（通常モノマーの総量に対して０
゜１〜２０重量％、有利には３〜１２重量％、特に５〜
１０重量％）を組込むには、七ツマ−の化学特性との関
連において、自体公知の重合法で行うことができる。そ
の重合可能の単位は、普通アクリル基、メタクリル基、
ビニル基又はアリル基であり、これらの基は自体公知の
方法でラジカル重合可能である。

特に有利なのは弐Ｉ： 〔式中Ｒ１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｙは酸素
原子又は基−ＮＲ２を表わし、馬は水素原子又は、炭素
原子数１〜６のアルキル基を表わし、ｎはＯ又は１を表
わし、２は （ａ）　２−ヒドロキシフェニル−ペンシトリアゾ体 一ル基又は誘導性： （式中Ｒ３は水素原子又は、炭素原子数１〜１２のアル
キル基を表わし、ｑｉｌｌ、Ｏ又は１〜４の整数であっ
てよい）を表わし、２は酸素原子又は−（ＣＨ２）、−
を介してか又は直接フェニル基に結合していてよく、そ
の際それぞれ残シの位置は水素原子を有し、場合によっ
ては更にハロゲン置換分が存在していてよく、ベンゾト
リアゾール基は炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロ
ゲン原子によって置換されていてもよく、（ｂ）　２−
ヒドロキシベンゾ−又は−アセトフエノン基： （式中ｍはＯ又はｌを表わし、Ｘは場合によってはヒド
ロキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数１〜４の
アルキレン基を表わし、Ｒ４は場合によっては置換され
ていてもよいフェニル基又はメチル基を表わす） （Ｃ）　α−シアノ−β、β−ジフェニル基：（ｐは１
〜４を表わし、Ｒ５及びＲ１５は場合によっては炭素原
子数１〜４のアルキル基で置換す（双方の基Ｒ６又はＲ
／６の一方はヒドロキシ基を表わし、他方は水素原子を
表わし、Ｒ，は水素原子又は、炭素原子数１〜１ｏのア
ルキル基を表わし、それぞれ自由な非置換位置を介して
フェニル基に結合していてもよい） （ｅ）　オキサールアニリＰ （式中Ｒ８及びＲ２は水素原子又は、炭素原子数１〜８
のアルキル基又はアルコキシ基を表わし、ｒはＯ又は１
を表わし、２は酸素原子を介してか又は直接フェニル基
の１つに結合していてよく、その際他方はなお自由な位
置に水素原子を有する）、 （ｆ）　ｐ−アミ７安息香酸エステル誘導体（式中Ｒ１
０及びＲ１１は水素原子又は、炭素原子ｖ！ｉｌ〜６の
アルキル基を表わす）、（ｇ）６．８−ジアルキル−奎
−オキソー５−クロマニル化合物 （式中Ｒ及び”１３は炭素原子数１〜４のアル１２ キル基を表わす） を表わし、基２はｎが１の場合この基に属する酸素原子
を介して結合することはない〕の七ツマ−を共重合体Ｐ
に組込むことである。

式■のモノマーがハ四グン置換分を有する場合、そのハ
ロゲン置換骨は臭素−又は塩素置換骨である。特に式−
Ｉ　（ａ）の代表的なものとしては、例えば米国特許第
３１５９６４６号及び同第３３９９１７３号明細書によ
り製造することのできる２−ヒＰロキシフェニルペンズ
トリアゾール化合物を挙げることができる。この例とし
て２−　（２’−ヒドロキシ−３′−メタクリロイルア
ミドメチル−５′−アルキル）−ベンゾトリアゾール（
アルキル−例えばメチル又はオクチル）、２−　（２’
−ヒドロキシフェニル）−５−メタクリロイルアミド−
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシフェニル
）−５−メタクリロイルアミＰメチルベンゾトリアゾー
ル、更に２−（２−ヒＰロキシー５−ビニルフェニル）
−２Ｉ（−ベンゾトリアゾールが挙げられる。

また式Ｉ　（ｂ）の代表的なものは、特に２−ヒドロキ
シベンゾフェノンの誘導体（例えばこれは米国特許第３
１０７１９９号明細書によυ得られる）、有利には２−
ヒドロキシ−生−メタクリルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−アクリルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−壬−メタクリルオキシ−５−３級ゾチル
ーペンゾフエノン、２−ヒＰロキシー４−メタクリルオ
キシ−２／　、　４／−ジクロルベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−（３−メタクリルオキシ−２−ヒＰロ
キシプロポキシ）ベンゾフェノン、Φ−（アリルオキシ
）−２−ヒドロキシベンゾフェノン、３−アリル−２−
ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２
゜仝−ジヒドロキシーΦ′−ビニル４ンゾフエノン、更
にヒドロキシアセトフェノンの誘導体（ベルギー特許第
６２９４８０号明細書により入手可能）である。

また式Ｉ　（Ｃ）の代表的なものは特にビニル化合物例
えば４−エチル−α−シアノ−β−フェニルケイ皮酸ビ
ニルエステル及び不飽和エーテル、例えば２−シアン−
３，３−ジフェニルアクリルオキシ）−アルキレンエチ
レンエーテル及ヒ（メタ）−アクリル酸誘導体、例えば
（２−シフ）−３，３−−）フェニルアクリルオキシ）
アルキレンアクリル酸エステル、２−（アクリロイル）
オキシエチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
レートである。

式Ｉの前記モノマーの製造は文献から公知でｓｂ、また
このモノマーは公知の方法によシ又は自体公知の方法に
類似する方法で製造することができる。耐ＵＶ−光性成
分を分子中に有するモノマー、特に式■の化合物の量は
、共重合体Ｐに対し０．１〜２０電量％、特に５〜１０
重量％である。

共重合体Ｐがアクリル樹脂である実施態様は特に重要で
ある。このアクリル樹脂は、耐ＵＶ−光性モノマ−１特
に式Ｉのモノマート、一般式■： 〔式中Ｂ／、は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ１４
は炭素原子数１〜８のアルキル基又はフェニル基又は、
炭素原子数７〜１２のアルアルキル基を表わす〕のアク
リル酸及び／又はメタクリル酸のエステル１種以上、及
び場合によっては一般式■： 〔式中Ｒ“１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｂは一
〇−基又は−ＮＲ１５基を表わし、Ａは炭素原子数２〜
６の炭化水素基を表わし、Ｑはヒドロキシ基、メトキシ
基からヘキシルオキシ基までの基又は−ＮＲＩ６　”１
７基を表わし、Ｒ１５は水素原子又は、炭素原子数１〜
６のアルキル基を表わし、Ｒ１６及びＲ１７は炭素原子
数１〜６のアルキル基を表わす〕のモノマーとから成る
共重合体であ）、コの場合一般式■及び■のモノマーの
合計量はアクリル樹脂（共重合体Ｐ）に対して７０〜９
９．９重量％でアシ、その外式■及び■のモノマーは相
互に交換可能であシ、また場合によってはアクリル樹脂
（共重合体Ｐ）に対して０〜２５重量％の割合で式■： １８ ＨＣ＝　ＣＲ１９Ｒ２０■ 〔式中Ｒ１９はニトリル基、場合によってはＣ１〜４−
アルキル基で置換されていてもよいフェニル基、複素環
式基又は−ＣＨ２＝ＣＨ２−基を表わし、Ｒ２ｏは水素
原子又はメチル基を表わし、Ｒ１８は場合Ｒ２０は同時
に水素原子であシ、或いはＲ１９１ は基−ＱＣ−Ｃ−Ｒ２１を表わし、Ｒ２１は炭素原子数
１〜６のアルキル基を表わし、この場合Ｒ１８及びＲ２
０は水素原子を表わす〕の群から成るモノマーを含み、
モノマー■、■及び場合によっては■、又は／及び■か
ら製造された重合体Ｐのビカー軟化温度（ＤＩＮ　５３
４６０による）は６５℃を下廻らない。

特に有利なのはメチルメタクリレ−）　（ＭＭＡ）と式
Ｉの化合物、特に式■の他のコモノマー、例えばアクリ
ル酸のメチルエステル、並びにアクリル酸及び／又はメ
タクリル酸のエチル−１−Ｉｆルー、エチルへキシル−
、フェニルエチル−エステルとの共重合体である。この
場合一般式■のモノマーは共重合体Ｐの７０〜９９．９
重量％、また一般式■のモノマーは０〜２５重量％であ
る。

一般ニメチルメタクリレートの量は共重合体Ｐに対して
少なくとも６０重量％、有利には０５〜９０重量％、特
に７５±１０重量、式■の他のコモノマ量は０−３０重
量％、有利には５〜２５重量％、特に１８±５重量％で
ある。しかしコモノマーとして、式■のモノマーを全部
又は部分的に代える式■の化合物、例えばヒドロキシエ
チル−又はヒＰ四キシゾロビルアクリレート又は−メタ
クリレート或いは相応するアルキルエーテル、特にメチ
ル−及びエチル−エーテルが共重合体Ｐ中に０〜９９．
９重量％、有利には５〜２０重凪％の量で存在していて
もよい。例えば式Ｉのモノマー０．１〜２０重量％とヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレート８０〜９９．９
重量％とから成る共重合体は、いわゆる「ソフトレンズ
」に特に高い品質度で設定される要求を満足する。最後
に式■のコモノマー、特にアクリルニトリル、スチロー
ル又は／及びそのアルキルｉ導体例えばα−メチルスチ
ロール、ｐ−メチルスチロール、無水マレイン酸並びに
複葉環式ビニル化合物、特にＮ−ビニルピロリドンの１
種以上が０〜２５重量％の量で共重合体中に存在してい
てもよい。この場合式■の個々のモノマー量は一般に２
〜１５重量％である。

しかし共重合体Ｐはもっばら式Ｈの他のモノＷ−ＫＭＭ
Ａとして、例えばエチルメタクリレート、イソジチルメ
タクリレート等として組込まれていてもよい。

成形材料を作るアクリル樹脂は、共重合体Ｐと他のポリ
（メタ）アクリレート、例えば式■〜■のモノマーを重
合又は共重合することによって製造した重合体（式Ｉの
モノマーを含まない共重合体Ｐに相当する状態）との混
合物であってもよく、この場合一般に全成形材料中の式
Ｉのモノマー含有量は０．１重量％、有利には５重量％
を下廻らない。

一般にアクリル樹脂、特に共重合体Ｐの分子量は１０ｏ
ＯＯ〜５０００００、有利には１２０〜２２０，０００
−ｔ’あル。比重は１．３〜２．３　テある。

光学的に高価な成形体を製造するための熱可塑性プラス
チック成形材料とは、その値が０．５％、有利には０．
３％を下廻る材料個濁度（Ｄ　ｌＮ５０３６による）を
有さない成形体（場合によっては目的に応じて表面加工
した後）を生じるものと理解すべきである。

方法の実施例 共重合体Ｐの形の熱可塑性成形材料用の製造法としては
、慣用の成形材料を製造する公知のすべての重合法が挙
げられる。これは特に不連続的及び連続的な塊状重合法
（Ｗｉｎｎａｏｋｅｒ　−Ｋｕｃｈｌｅｙ著１″Ｃｈｅ
ｍｉｓｃｈｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ”第６巻１″Ｏ
ｒｇａｎｉｓａｈｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ　［、”
第４１４頁、ｅａｒｌ　Ｈａｎａｅｒ社版、１９８２年
）及び懸濁重合法（Ｓｃｈｉｌｄｋｎｅｃｈｔ　／　５
ｋｅｉｓｔ著、”Ｐｏｌｙｍｅ−ｒｉｚａｔｌｏｎ　Ｐ
ｒｏｃｅｓｓｅｓ”（Ｖｏｌｕｍｅ　２９　ｏｆ　Ｈｌ
ｇｈＰｏｌｙｍｅｒｓ、　Ｗｉｌｅｙ　−Ｉｎｔｅｒｓ
ｃｉｅｎｃｅ　ｌ　９７７　）、第１３３頁）である。

開始剤としてはアゾ化合物（プロトタイジアゾイソ酪酸
ニトリルＡＩＢＮ）又は有機過酸化物例えばジアリール
ペルオキシド又はベルエステル（フロトタイゾ：ジペン
ゾイルペルオキシＰ１ジラウロイルペルオキシ）’）、
（Ｌかし調節剤として使用したメルカプタン又はチオエ
ーテルに対する反応性の故にペルオキシシカ−ぜネート
はほとんど使用されない）を使用する。使用した開始剤
の種類及び量は本質的に前記の重合法の種類に依存する
。配量は通例モノマーの全量に対して０．０１〜１重量
％である。分子量を調整するため特にＰＭＭＡ−成形材
料ではメルカプタン、例えばアルキルメルカプタン、又
は単官能性又は多官能性アルコールとのチオグリコール
−又はメルカプトゾロピオン酸のエステルを０．１〜１
％、一般には０．２〜０．５％使用する。

滑剤又は離型剤としては常法の通り長鎖のアルコール、
エステル又はカルゼン醗、例えばステアリルアルコール
又はステアリン酸を使用する。

他の添加剤に関してもＰＭＭＡ−成形材料の場合、この
添加物が光学特性を損なわない限り特に限定されること
はない。

本方法を不連続的に実施される塊状重合につき詳述する
： 添加物を目的に応じてモノマー混合物に溶かし、溶液を
フォイル袋に充填しくベルギー特許第６９５３４２号と
同様に）、水浴中で約５０℃で約２２時間内に重合する
。最終変換率を高めるため重合を目的に応じて更に高め
た温度（約１１０℃）で例えば乾燥棚中で約１０時間導
く。引続き重合体を常法で粉砕し、例えば押出機を用い
て脱気する。

光学的に高価な成形体の製造は、適当な自体公知の過酸
化物又はアゾ化合物によってか又は十分に烈しい照射の
場合にはＵＶ−照射によって開始する塊状重合によシ有
利に実施される。

成形体は自体公知の方法で板状又は条片状重合体から、
必要な場合には通常の慎重な手段で機械的に取シ出すか
又は、重合を適当な成形材料でスピンキャスティングで
実施することができる。

効果 重合されたＵＶ−吸収剤を含む軟質コンタクト・レンズ
は例えば、その認めうる移動なしにＵＶ−吸収剤の長期
作用で入射光に対し眼を高度に保設することを示す。例
えば白内障の手術後患者の水晶体の代シに使用されるよ
うな眼に内移植したレンズでのＵＶ−吸収剤の移動自由
は特に重要である。

実施例 次に実施例につき本発明を詳述する： １、本発明による共重合体Ｐ１の製造：メチルメタクリ
レート７２重量部、ブチルメタクリレート１８重量部及
び２−（α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリロイル
オキシ）−エチル−１−メタクリレート１０重置部（＝
モ／　マＩ　Ａ　）　ヲ、）　ｙ’シルメルカプタン０
．３６部及びジラウロイルペルオキシド０．２部の添加
後、５０℃で２２時間以内に水浴中で重合する。

熱処理（１０時間、１１０℃）後、還元粘度１　ｓｐ／
ｃ　６５ｍＡ’／　Ｊｉ’　（２０’Ｃ、ＣＨ（Ｊ３）
の、澄明な僅かに黄色に着色した材料が得られる。

（ηＩＩＰ／（１（Ｄ測定は一般に２０’Ｃ，でＣＨ（
Ｔ＆、中で実施した（ｄ／ｌ）。測定法は’　Ｚｅｌｔ
ＩＩｅｈｒｌｆｔＦ、　Ｅｌｅｋｔｒｏｃｈｅｍｉｅ”
　１９３７年、第４７９頁参照〕。同様の方法で次の重
合体を製造することができ（第１表）、この場合分子中
に耐ＵＶ−光性成分を有するモノマー（式Ｉの化合物）
に対しては次の略号を使用する： モノマーＩＡ：２−（α−シアノ−β、β−ジフェニル
アクリロイルオキ シ）エチル−１−メタクリレ ート ＩＢ：　２−（２’−ヒドロキシ−３／−メタクリルア
ミドメチル−５′ 一オクチルフェニル）ベンゾ トリアゾール ＩＣ：　２−ヒドロキシ−４−（２− ヒＰロキシー３−メタクリロ イルオキシ）−ゾロポキシペ ンゾフエノン ＩＤ：２−（α−シアノ−β、β− ジフェニルアクリルオキシ） エチル−１−メタクリレート ＩＥ：　２−ヒドロキシ−舎−メタク リロイルオキシベンゾフェノ ン ＩＦ：　２−ヒドロキシ−４−アクリ ロイルオキシエチルオキシベ ンゾフェノン ＩＧ：　Ｎ−（４−メタクリロイルフ ェノール”）　−Ｎ’−（２−エチ ルフェニル）−蓚酸シアミド ２．■ （”８ＡＮＤＵＶＯＲ、５ＡＮＤＯＺ　ＡＧ社製） ＩＨ：　４−エチル−α−シアノ−β −フェニルケイ皮酸ビニルエ ステル ＩＪ：　２−（２−ヒドロキシ−５− ビニルフェニル）−２−ペン ゾトリアゾール 第１頁の続き ０発　明　者　ラルフ書す−プラー　ドイツセル− ｏ発　明　者　マンフレートΦムンツ　トイツアー　ラ
ーセ ＠発明者　ベーター・クヴイス　ドイツエーク 連邦共和国ダルムシュタットーアルフレートーメツヴエ
ーク　１２ 連邦共和国ペンスハイムトフンスリュツクシュト５ 連邦共和国ダルムシュタットφプファンミュラーヴ６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　光学的に高価値の成形体を製造するための、ＵＶ
   −吸収剤を含む熱可塑性プラスチック成形材料において
   、この成形材料が全部又は主として、耐ＵＶ−光性の成
   分を分子中に有するラジカル重合可能のモノマーともう
   １種の公知の、ラジカル重合可能のモノマーとの共重合
   体Ｐから成ることを特徴とする、ＵＶ−吸収剤な含む熱
   可塑性プラスチック成形材料。 ２、　耐ＵＶ−光性モノマー量が共重合体Ｐに対してＯ
   ，１〜２０重量％である、特許請求の範囲第１項記載の
   プラスチック成形材料。 ３、　耐ＵＶ−光性モノマーが波長範囲２δＯ０−３５
   Ｑｎにおいて、クロロホルム中の濃度０．００２％及び
   層厚ｄ５１ｕｘで入射された光の１０チ以上の吸収度を
   有する、特許請求の範囲第１項又は第２項記載のプラス
   チック成形材料。 牛、耐ＵＶ−光性成分を含むモノマーが、式Ｉ〔式中　
   Ｒ１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｙは酸素原子又
   は基−ＮＲを表わし、　Ｒ２は水素原子又は、炭素原子
   数１〜６のアルキル基を表わし、ｎは０又は１を表わし
   、２は（ａ）　２−ヒドロキシフェニル−ペンツトリア
   ゾール基又は肪導体： （式中　Ｒ３は水素原子又は、炭素原子数１〜１２のア
   ルキル基を表わし、ｑは０又は１〜牛の整数であってよ
   い）を表わし、２は酸素原子又は−（ＣＨ２）ｑ−を介
   してか又は直接フェニル基に結合していてよく、その際
   それぞれ残りの位置は水素原子を有し、場合によってハ
   更にハロゲン置換分が存在していてよく。 ベンゾトリアゾール基は炭素原子数１−４のアルキル基
   又はハロゲン原子によって置換されていてもよく。 （ｂ）　２−ヒドロキシベンゾ−又は−アセトフエノン
   基： （式中ｍは０又は１を表わし、Ｘは場合によってはヒド
   ロキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数１−４の
   アルキレフ基を表わし。 Ｒ４は場合によっては置換されていてもよいフェニル基
   又はメチル基を表わす） （ｃ）　α−シアノ−β、β−ジフェニル基：に５　１
   ．：　ＬＬ：１−１２ノｐ− １ （ｐは１〜牛を表わし、Ｒ５及びＲ／ｉは場合によって
   は炭素原子数１〜牛のアルキル基で置換（ａ）ｏＨ−含
   有安息酸エステル （双方の基Ｒ６又はＲ′６の一方はヒドロキシ基を表わ
   し、他方は水素原子を表わし、Ｒ７は水素原子又は、炭
   素原子数１−’−１０のアルキル基を表わし、それぞれ
   自由な非置換位置を介してフェニル基に結合していても
   よい）す （、）　オキサールアニＸド （式中Ｒ８及びＲ２は水素原子又は、炭素原子数１〜８
   のアルキル基又はアルコキシ基を表わし、ｒは０又はｌ
   を表わし、２は酸素原子を介してか又は直接フェニル基
   の１つに結合していてよく、その際他方はなお自由な位
   置に水素原子を有する）。 （ｆ）　ｐ−アミノ安息香酸エステル誘導体（式中Ｒ１
   ０及びＲ１１は水素原子又は、炭素原子数１〜６のアル
   キル基を表わす）。 （ｇ）６．８−ジアルキル−牛−オキソ−５−クロマニ
   ル化合物 （式中Ｒ１□及びＲ１３は炭素原子数１〜４のアルキル
   基を表わす） を表わし、基２はｎが１の場合この基に属する酸素原子
   を介して結合することはない〕のラジカル重合可能の不
   飽和化合物である。特許請求の範囲第１項から第３項ま
   でのいずれか１項に記載のプラスチック成形材料。 ６、耐ＵＶ−光性成分を分子中に有するモノマー（耐Ｕ
   Ｖ−光性モノマ−）と他の自体公知のモノマーとから成
   る共重合体Ｐがアクリル樹脂である。特許請求の範囲第
   １項から第４項までのいずれか１項に記載のプラスチッ
   ク成形材料。 ６、共重合体Ｐが耐ＵＶ−光性モノマーの他に付加的に
   一般式■： ＨＣ＝Ｃ−Ｃ−０Ｒ，４ 〔式中Ｒ１は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ１４は
   炭素原子数１へ８のアルキル基又はフェニル基又は、炭
   素原子数７〜１２のアルアルキル基を表わす〕のアクリ
   ル酸及び／又はメタクリル敢のエステル、及び一般式■
   ：Ｈ２Ｃ＝Ｃ−Ｃ−Ｂ−Ａ−Ｑ 〔式中Ｈ／ｆ、は水素原子又はメチル基を表わし。 Ｉ Ｂは一〇−基又は−ＮＲ１５基を表わし、Ａは炭素原子
   数２〜６の炭化水素基を表わし、Ｑはヒドロキシ基、メ
   トキシ基からヘキシルオキシ基までの基又は　ｊ ”−ＮＲ１６Ｒ１７基を表わし・翔・ は水素原子又は、炭素原子数１−６のアルキル基を表わ
   し、Ｒ４６及びＲ１７は炭素原子数１〜６のアルキル基
   を表わす〕のモノマーから成り、一般式■及び■のモノ
   マーの合計量は共重合体Ｐに対して７０〜９９．９重合
   −であり、その際式■及び■のモノマーは相互に交換可
   能であり、また場合によってはＯ〜２５重量係の割合で
   式■： ＨＣ＝ＣＲ１，Ｒ２゜ 〔式中Ｒ１９はニトリル基、場合によっては炭素原子数
   １〜４のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基
   、複素環式基又は−ＣＨ２＝ＣＨ２−基を表わし−Ｒ２
   ０は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ１８は水素原子
   を表わすか。 を表わし、この場合Ｒ２ｏは同時に水素原子でし・この
   場合Ｒ１８及びＲ２ｏは水素原子を表わす〕の群から成
   るモノマーを含み、モノマーＩ、ＩＩ及び場合によって
   は■、又は／及び■からなる共重合体Ｐのピカー軟化温
   度（ＤＩＮ５３４６０　による〕は６５℃を下廻らない
   。 特許請求の範囲第１項から第５項までのいずれか１項に
   記載のプラスチック成形材料。 ７、共重合体Ｐの６０〜９９．９重量％、有利には６５
   〜９０重量％までがメチルメタクリレートから成る。特
   許請求の範囲第１項から第６項までのいずれか１項に記
   載のプラスチック成形材料。 ８、共重合体Ｐがヒドロキシアルキルアクリレート又は
   メタクリレート６５〜９０重量％。 及び複素環式ビニル化合物３４．９〜９．９重量％から
   成る特許請求の範囲第１項から第６項までのいずれか１
   項に記載のプラスチック成形材料。 ９、熱可塑性プラスチック成形材料が全部又は主として
   共重合体Ｐから成り、これが耐ＵＶ−光性成分を分子中
   に有するラジカル重合可能の七ツマ−と、他の公知のラ
   ジカル重合可能のモノマーとから成ることを特徴とする
   熱可塑性プラスチック成形材料から成る光学的に高価値
   の成形体。 １０、成形体が、０．５％を越えない個濁度（ＤＩＮ５
   ０３６　による）を有する。特許請求の範囲第９項記載
   の成形体。