JPS6096439A - 垂直磁化用ポリｐ−フエニレンスルフイドフイルム - Google Patents
垂直磁化用ポリｐ−フエニレンスルフイドフイルムInfo
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- JPS6096439A JPS6096439A JP20536483A JP20536483A JPS6096439A JP S6096439 A JPS6096439 A JP S6096439A JP 20536483 A JP20536483 A JP 20536483A JP 20536483 A JP20536483 A JP 20536483A JP S6096439 A JPS6096439 A JP S6096439A
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- Japan
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- polyp
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/005—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor characterised by the choice of materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/18—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets by squeezing between surfaces, e.g. rollers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C71/00—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
- B29C71/0063—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor for changing crystallisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2081/00—Use of polymers having sulfur, with or without nitrogen, oxygen or carbon only, in the main chain, as moulding material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は最大表面粗さが５００Ｘ以下で、ポリＰ−７エ
ニレンスルフイドを分子配向およびヒートセットしてな
る垂直磁化用ベースフィルムに関するものである。
ニレンスルフイドを分子配向およびヒートセットしてな
る垂直磁化用ベースフィルムに関するものである。
ここで最大表向粗さとはＪ Ｉ Ｓ ＢＯ６０１に規定
されている表面粗さであり、触針法により測定できる。
されている表面粗さであり、触針法により測定できる。
現在、磁気記録は、テープレコーダー、ＶＴＲをはじめ
コンピューター分野でも外部メモリとして大きな役割を
果しており、特にオフィスオートメ−シーンやパソコン
にはフロッピーディスクがますます重要、になっている
。
コンピューター分野でも外部メモリとして大きな役割を
果しており、特にオフィスオートメ−シーンやパソコン
にはフロッピーディスクがますます重要、になっている
。
この様に磁気記録はテープやディスク状で使用され、ベ
ースフィルムとしてはポリエステルフィルムが主流をな
している。一方、最近では、記録密度を高めるために垂
直磁化方式が提案され業界では実用化にむけて開発が進
められている。しかし垂・電磁化用ベースフィルムとし
ては表面平滑、性、耐熱性、低吸湿性、線膨張係数が小
さいことなどが要求、され、現存する市販フィルムでは
いずれも問題があり、実用的でない。
ースフィルムとしてはポリエステルフィルムが主流をな
している。一方、最近では、記録密度を高めるために垂
直磁化方式が提案され業界では実用化にむけて開発が進
められている。しかし垂・電磁化用ベースフィルムとし
ては表面平滑、性、耐熱性、低吸湿性、線膨張係数が小
さいことなどが要求、され、現存する市販フィルムでは
いずれも問題があり、実用的でない。
例工ばポリエステルフィルムでは磁性膜形成時の耐熱性
が不足しているため生産性が極めて悪く実用的でない。
が不足しているため生産性が極めて悪く実用的でない。
また耐熱性良好なポリイミドフィルムの場合は吸湿した
水分の影響により磁性膜形成特番ζ高真空にできずフィ
ルムと磁性、膜。
水分の影響により磁性膜形成特番ζ高真空にできずフィ
ルムと磁性、膜。
との密着強度が不十分であることおよび表−５が粗いこ
となどにより実用的でない。これに対−し、本発明の分
子配向およびヒートセットされたポリフェニレンスルフ
ィドフィルムはこれらの問題点を全（解決したものであ
り、融！−，２８５℃と耐熱性が高く吸湿性はポリエス
テル以下で−、線膨張係数も小さく、しかも分子配向に
伴なりで最大表面粗さが５００ Ｘ以下となるため、垂
直磁化用ベースフィルムとして必要な特性を全て備えて
いる。
となどにより実用的でない。これに対−し、本発明の分
子配向およびヒートセットされたポリフェニレンスルフ
ィドフィルムはこれらの問題点を全（解決したものであ
り、融！−，２８５℃と耐熱性が高く吸湿性はポリエス
テル以下で−、線膨張係数も小さく、しかも分子配向に
伴なりで最大表面粗さが５００ Ｘ以下となるため、垂
直磁化用ベースフィルムとして必要な特性を全て備えて
いる。
なお、最大表面粗さが５００ Ｘを越えると磁性膜形成
後の表面１平滑性が不十分となり記録再生特番ζ主磁極
との接触によるトラブルを生じる。
後の表面１平滑性が不十分となり記録再生特番ζ主磁極
との接触によるトラブルを生じる。
従って最大表面粗さは５００Ｘ以下でなければならない
。
。
本発明者等は垂直磁化用ベースフィルムについて鋭東検
討した結果、前述の如（最大表面粗７さが５００ Ｘ以
下で、ポリフェニレンスルフィドを分子配向およびヒー
トセットしたフィルムが極めて優れた適性を有すること
をつきとめ本発明に到達したものである。
討した結果、前述の如（最大表面粗７さが５００ Ｘ以
下で、ポリフェニレンスルフィドを分子配向およびヒー
トセットしたフィルムが極めて優れた適性を有すること
をつきとめ本発明に到達したものである。
本発明で使用するポリＰ−７エニレンスルフイドはその
９０モルチ以上が構成単位、へ可トｓ −）−から成る
ポリマーである事が好ましく、９０モルチより少ないと
結晶性が低下する上に耐熱性、機械的物性などの低下を
きたすのみならず、寸法変化特性にも悪影響を与える。
９０モルチ以上が構成単位、へ可トｓ −）−から成る
ポリマーである事が好ましく、９０モルチより少ないと
結晶性が低下する上に耐熱性、機械的物性などの低下を
きたすのみならず、寸法変化特性にも悪影響を与える。
なお該ポリマーの構成単位のうち１０モル−未満であれ
ば他の共重合体単位を含んでいても差し支えない。
ば他の共重合体単位を含んでいても差し支えない。
かかる共重合体位としては、例えば３官能単位（例 ＋
ｓ−）、エーテル単位 （例：つ−〇会Ｓ−）、スルホン単位 （例： ｉ−８ｏ２（）ｓ −）、メタ結合単位また重
合したポリマーを加熱することによってわずかながらの
橋かけを起させる事も可能である。かかる構成単位から
なるポリｐ−７二二反応させる方法が好適である。この
場合、重合度を調整するために、力性アルカリ、カルボ
ン酸アルカリ金属塩などのいわゆる重合助剤添加するの
が好ましい。
ｓ−）、エーテル単位 （例：つ−〇会Ｓ−）、スルホン単位 （例： ｉ−８ｏ２（）ｓ −）、メタ結合単位また重
合したポリマーを加熱することによってわずかながらの
橋かけを起させる事も可能である。かかる構成単位から
なるポリｐ−７二二反応させる方法が好適である。この
場合、重合度を調整するために、力性アルカリ、カルボ
ン酸アルカリ金属塩などのいわゆる重合助剤添加するの
が好ましい。
使用される触媒の種類や所望する重合度によって適宜決
定される。またかかる重合系に更にポリマーの膨潤剤、
劣化防止剤、添加剤などを配合する事は何んら差し支え
ない。
定される。またかかる重合系に更にポリマーの膨潤剤、
劣化防止剤、添加剤などを配合する事は何んら差し支え
ない。
本発明のポリフェニレンスルフィドフィルムの分子配向
手段としては延伸およびロール圧延があげられる。
手段としては延伸およびロール圧延があげられる。
また、本発明者等は、垂直磁化用ベースフィルムとして
特に重要な表面平滑性の向上についてさらに検討を加え
た結果、ロール圧延法が極めて優れた手法であることを
見い出した。すなわち、延伸の場合はフィルム表面は自
由であるのに対し、ロール圧延では加圧ロールにより表
面が規制されるため、より表面平滑性の優れたフィルム
を製造できることを見い出した。なお圧延時に液状潤滑
液を使用すればさらに効果的であるが、必要９条件では
ない。但し、ロール圧延は基本的にはフィルム長褌方向
の分子配向手段であるため、テープ用途ではそのまま使
用することができるものの、フロッピーディスクの様に
等方性が要求される場合には、フィルム巾方向の分子配
向も行なう方が好ましく、その手段としては延伸が必要
である。また、テープ用途でもロール圧延だけでなく、
フィルム中方向に延伸し、長さ方向にも延伸を加えれば
、極めて高度に分子配向したフィルムが得られるため、
薄肉化することができる。
特に重要な表面平滑性の向上についてさらに検討を加え
た結果、ロール圧延法が極めて優れた手法であることを
見い出した。すなわち、延伸の場合はフィルム表面は自
由であるのに対し、ロール圧延では加圧ロールにより表
面が規制されるため、より表面平滑性の優れたフィルム
を製造できることを見い出した。なお圧延時に液状潤滑
液を使用すればさらに効果的であるが、必要９条件では
ない。但し、ロール圧延は基本的にはフィルム長褌方向
の分子配向手段であるため、テープ用途ではそのまま使
用することができるものの、フロッピーディスクの様に
等方性が要求される場合には、フィルム巾方向の分子配
向も行なう方が好ましく、その手段としては延伸が必要
である。また、テープ用途でもロール圧延だけでなく、
フィルム中方向に延伸し、長さ方向にも延伸を加えれば
、極めて高度に分子配向したフィルムが得られるため、
薄肉化することができる。
なお、いずれの場合でもロール圧延と延伸との順序はど
ちらが先でも良い。圧延を行なうに際しては加圧ロール
の入側で少なくとも８０Ｋｌ！／Ｃ１１２以上の後方張
力を付与しなければならない。
ちらが先でも良い。圧延を行なうに際しては加圧ロール
の入側で少なくとも８０Ｋｌ！／Ｃ１１２以上の後方張
力を付与しなければならない。
ここで後方張力とは繰出張力とも呼ばれるがフィルムの
進行方向に対し、逆向きに作用する力のことであり、８
０１’ｆ／ａ１２ より低ければ加圧ロールにおける中
立点（最高圧力点）がロール入側に移行してくいこみ不
良が発生しゃすくなり、安定加工が困難である。従って
後方張力は８゜即／２”以上付与することが必要である
。
進行方向に対し、逆向きに作用する力のことであり、８
０１’ｆ／ａ１２ より低ければ加圧ロールにおける中
立点（最高圧力点）がロール入側に移行してくいこみ不
良が発生しゃすくなり、安定加工が困難である。従って
後方張力は８゜即／２”以上付与することが必要である
。
欠に圧延温度に関しては、加圧ロールを６０℃以上、１
４０℃以下の温度範囲□で任意に設定することができる
。該温度域より低、ければ、所望の圧延倍率を得るため
に多数の加圧ロール群を要することや、ロール間の加圧
１こ非常に大きな力を必要とし、装置上問題を生ずると
共Ｇこ、設備的にも高価なものメなり、圧延の条件とし
て不適切である。逆に級温度域より高（１場合（ま、圧
延加工性は問題ないが垂直磁化で重要な表面平滑性がや
や悪くなるため好」ましくなも）。
４０℃以下の温度範囲□で任意に設定することができる
。該温度域より低、ければ、所望の圧延倍率を得るため
に多数の加圧ロール群を要することや、ロール間の加圧
１こ非常に大きな力を必要とし、装置上問題を生ずると
共Ｇこ、設備的にも高価なものメなり、圧延の条件とし
て不適切である。逆に級温度域より高（１場合（ま、圧
延加工性は問題ないが垂直磁化で重要な表面平滑性がや
や悪くなるため好」ましくなも）。
また線圧は１００坪／、 以上が必要であり、１００＃
ＩＰ／ｃＩ＋ より低ければ十分に配向させることカイ
できない。
ＩＰ／ｃＩ＋ より低ければ十分に配向させることカイ
できない。
以上の条件で１．５〜４倍に圧延するが、１．５倍以下
の場合は配向効果が不十分であり、また４倍以上に圧延
すると破断が頻発し安定加工カイ困難となる。なお、こ
れらのことは延伸の場合も同様であり倍率としては１．
５〜４倍が良０゜また延伸、温度は８０℃以上、１３０
℃以下の範ｖＢ４で行なうことが必要である。該温度域
より低ければ均一な延伸ができず、厚み精度の著しく悪
いフィルムとなり、逆に該温度域より高ければ結晶化が
進んで降伏応力が高くなり延伸が困難となる。
の場合は配向効果が不十分であり、また４倍以上に圧延
すると破断が頻発し安定加工カイ困難となる。なお、こ
れらのことは延伸の場合も同様であり倍率としては１．
５〜４倍が良０゜また延伸、温度は８０℃以上、１３０
℃以下の範ｖＢ４で行なうことが必要である。該温度域
より低ければ均一な延伸ができず、厚み精度の著しく悪
いフィルムとなり、逆に該温度域より高ければ結晶化が
進んで降伏応力が高くなり延伸が困難となる。
なお、フィルム長さ方向について圧延だけでなく延伸を
併用する場合の延伸倍率は安定加工性および配向効果の
点から１．１〜２倍が適当である。さらに、ヒートセッ
トに関しては２２０°Ｃ以上融点以下で行なうが２２０
℃より低ければ十分な寸法安定性が得られない。
併用する場合の延伸倍率は安定加工性および配向効果の
点から１．１〜２倍が適当である。さらに、ヒートセッ
トに関しては２２０°Ｃ以上融点以下で行なうが２２０
℃より低ければ十分な寸法安定性が得られない。
以上により垂直磁化に適したベースフィルムが得られＣ
６−Ｃ９合金、酸化鉄、Ｃ０−Ｐ合金、Ｇｏ−Ｎｉ合金
、ＣｏＰ −Ｎｉ 合金等の磁性１体を薄膜形成するこ
とができる。薄膜形成手段としてはスパッタリング、真
空蒸着、イオンブレーティング、電気メッキ等が挙げら
れるが、本発明のベースフィルムはいずれにも適用でき
るものである。
６−Ｃ９合金、酸化鉄、Ｃ０−Ｐ合金、Ｇｏ−Ｎｉ合金
、ＣｏＰ −Ｎｉ 合金等の磁性１体を薄膜形成するこ
とができる。薄膜形成手段としてはスパッタリング、真
空蒸着、イオンブレーティング、電気メッキ等が挙げら
れるが、本発明のベースフィルムはいずれにも適用でき
るものである。
以下、実施例により本発明を具体的に示すが、本発明は
これらにより何んら限定されるものではない。
これらにより何んら限定されるものではない。
実施例１〜２、比較例１〜３
オートクレーブに硫化ナトリウム３２．６Ｊ’ｆ（２５
０モル、結、晶水４ Ｑ ｗｔチ）、水酸化ナトリウム
１００ｇ、酢酸リチウム１６．５ Ｋｆ（２５０モル）
及びＮ−メチルピロリドン７９．２ 印を仕込みかくは
んしながら徐々に２０５℃まで昇温し、水６．９即を含
む留出液７．０／を除去した。残留混合物に１．４−ジ
クロルベンゼン３７．５１１ （２５５モル）及びＮ−
メチルピロリドン２０時を加え、２４０℃で８時間重合
した。
０モル、結、晶水４ Ｑ ｗｔチ）、水酸化ナトリウム
１００ｇ、酢酸リチウム１６．５ Ｋｆ（２５０モル）
及びＮ−メチルピロリドン７９．２ 印を仕込みかくは
んしながら徐々に２０５℃まで昇温し、水６．９即を含
む留出液７．０／を除去した。残留混合物に１．４−ジ
クロルベンゼン３７．５１１ （２５５モル）及びＮ−
メチルピロリドン２０時を加え、２４０℃で８時間重合
した。
反応生成物を熱水洗４回、アセトン洗２回、塩化メチジ
２１回洗陸し、真空乾燥機を用いて８０℃、２４時間乾
燥してＰＰＳ ２２４を得た。ポリマーの溶融粘度は高
化式フローテスター（島津製作所製）を用い、フロ一温
度３００℃、せん断速度２００（秒）−１の条件下で測
、定すると３２００ポイズであった。
２１回洗陸し、真空乾燥機を用いて８０℃、２４時間乾
燥してＰＰＳ ２２４を得た。ポリマーの溶融粘度は高
化式フローテスター（島津製作所製）を用い、フロ一温
度３００℃、せん断速度２００（秒）−１の条件下で測
、定すると３２００ポイズであった。
り
上記のＰＰＳを３００の２軸工官ストルーダ−でペレッ
ト化した。
ト化した。
上記のポリＰ−フェニレンスルフイドペレフトを３００
押出機を用いて、４００ ｍｍ巾のＴダイから押出すこ
とにより厚さ０．２ｔの原反フィルムを作成した。この
原反フィルムを直径２６００、面長７００ ｍｍの１対
の加圧ロールにより圧延し、さらにヒートセットを施ル
た。
押出機を用いて、４００ ｍｍ巾のＴダイから押出すこ
とにより厚さ０．２ｔの原反フィルムを作成した。この
原反フィルムを直径２６００、面長７００ ｍｍの１対
の加圧ロールにより圧延し、さらにヒートセットを施ル
た。
した。加工条件および最大表面４粗さ測、定結果を表１
に示す。
に示す。
実施例３〜４、比較−例４〜５
実施例１と同様にして作成した原反フィルムを圧延もし
くはタテ延伸し、さらに横延伸、・を行なった後、ヒー
トセットを施した。得られたフィルムの最大表面粗さを
実施例１と同様の方法で測、定した。加工条件および最
大表面粗さ測定結果を表１に示す。
くはタテ延伸し、さらに横延伸、・を行なった後、ヒー
トセットを施した。得られたフィルムの最大表面粗さを
実施例１と同様の方法で測、定した。加工条件および最
大表面粗さ測定結果を表１に示す。
実施例５
実施例１と同様にして作成した原反フィルムを圧延し、
さらに横延伸および縦風体Ｉを行なった後、ヒートセッ
トを、施した。得られたフィルムの最大表面粗さを実施
例１と同様゛の方法で測定した。加工条件および最大表
面粗さ測定結果を表１に示す。
さらに横延伸および縦風体Ｉを行なった後、ヒートセッ
トを、施した。得られたフィルムの最大表面粗さを実施
例１と同様゛の方法で測定した。加工条件および最大表
面粗さ測定結果を表１に示す。
実施例朱
実施例３で得られたフィルムの両面にスパッタリング法
により、軟磁性層として平均膜厚３０００λのパーマロ
イを飛着させ、ついで同じくスパッタリング法により２
０％ｃｒ−ｃ。
により、軟磁性層として平均膜厚３０００λのパーマロ
イを飛着させ、ついで同じくスパッタリング法により２
０％ｃｒ−ｃ。
合金を飛着させ、平均膜厚５０００５＜の垂直磁化膜を
容易にかつ安定して形成することができた。
容易にかつ安定して形成することができた。
比、較例６
ポリＰ−フ二二しジスルフィドの５０μの押出フィルム
を用いて実施例４と同様の方法にてパーマロイお、よび
２ｏ％ｃｒ−ｃｏ合金ノ飛着を試みたが、スパッタリン
グによりフィルムが変形し良好な製品は得られなかった
。
を用いて実施例４と同様の方法にてパーマロイお、よび
２ｏ％ｃｒ−ｃｏ合金ノ飛着を試みたが、スパッタリン
グによりフィルムが変形し良好な製品は得られなかった
。
比較例７〜８
市販ポリエステルフィルム（東し、ルミラー■）５０μ
品およびポリイミドフィルム（Ｄｕｐｏｎｔ 、 Ｋａ
ｐｔｏｎ■Ｈタイプ）５０．ａ品を用いて各々実施例４
と同様の方法化でパーマロイおよび２０ ％ Ｃｒ Ｃ
ｏ合金の飛着を試みたが、ルミラー■は耐熱性力５低い
ため生産性は極めて悪く実用的ではなかっ°た。
品およびポリイミドフィルム（Ｄｕｐｏｎｔ 、 Ｋａ
ｐｔｏｎ■Ｈタイプ）５０．ａ品を用いて各々実施例４
と同様の方法化でパーマロイおよび２０ ％ Ｃｒ Ｃ
ｏ合金の飛着を試みたが、ルミラー■は耐熱性力５低い
ため生産性は極めて悪く実用的ではなかっ°た。
またＫａｐｔＯｎ■については吸湿した水分により高真
空が得られず磁性層とフィルムとの密着性が悪く容易に
剥離してしまった。また剥離前の状態でも平゛面平滑性
不良で良好な製品は得られなかった。
空が得られず磁性層とフィルムとの密着性が悪く容易に
剥離してしまった。また剥離前の状態でも平゛面平滑性
不良で良好な製品は得られなかった。
Claims (4)
- （１）ポリＰ−フェニレンスルフィドを分子配向および
ヒートセットしてなる最大表面粗さが５００Å以下であ
る、≠尖書！チ妄＝訟＝士友念子ヂキ吻呵１拝Ｐ瞭ト枡
垂直磁化用ベースフィルム。 - （２） ポリＰ−フェニレンスルフィドフィルムに少く
とも８０ ｋｌ／／ｃｓ２以上の後方張力を付与し、６
０℃以上、１４０℃以下の温度範囲にある対をなす加圧
ロールにより、少くとも１００ＫＰ／ｃＩ＋１以上の線
圧にて１．５〜４倍にロール圧延し、２２０℃以上融点
以下の温度で熱固定することを特徴とする特粁請求の範
ＦＩＩＬｔｉ＋項記載の垂直磁化用ベースフィルム。 - （３） ポリＰ−フェニレンスルフィドフィルムに少く
とも８０＃／ａｍ２以上の後方張力を付与し、６０℃以
上１４０℃以下の温度範囲にある対をなす加圧ロールに
より少くとも１００＃／３以上の線圧にて１．５〜４倍
にロール圧延し、フィルム中方向に、８０℃以上１３０
℃以下の温度で１．５〜４倍に延伸し、さらに２２０℃
以上融点以下の温度で熱固定することを特徴とする特肝
請求の範囲、（１）項記載の垂直磁化用ベースフィルム
。 - （４） ポリＰ−フェニレンスルフィドフィルムに少く
とも８０ｈｇ／ａｍ２以上の後方張力を付与し、６０℃
以上１４０℃以下の温度範囲にある対をなす加圧ロール
により、少くとも＋００印／ｃｍ以上の線圧にて１．５
〜４倍にロール圧延し、８０℃以上ＩＩＯ℃以下の温度
でフィルム巾方向に１．５〜４倍、フィルム長を方向基
こ１．１〜２倍それぞれ延伸し、さらに２２０℃以上融
点以下の温度で熱固定することを特徴とする特杆請求の
範シ（１）項記載の垂直磁化用ベースフィルム。 ＋５）ホ！ＪＰ−７エニレンスルフイドフイルムをフィ
ルム長さ方向および／又はフィルム巾方向に８０℃以上
１３０℃以下の温度で、それぞれ１．５〜４倍に風体・
し、さらに２２０℃以上融点、以下の温度で熱固定する
ことを特徴とする特許請求の範囲（１）項記載の垂直磁
化用ベースフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20536483A JPS6096439A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 垂直磁化用ポリｐ−フエニレンスルフイドフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20536483A JPS6096439A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 垂直磁化用ポリｐ−フエニレンスルフイドフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6096439A true JPS6096439A (ja) | 1985-05-30 |
Family
ID=16505628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20536483A Pending JPS6096439A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 垂直磁化用ポリｐ−フエニレンスルフイドフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6096439A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2592384A1 (fr) * | 1985-12-27 | 1987-07-03 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Film d'un copolymere a blocs de sulfure de paraphenylene, oriente biaxialement, et son procede de fabrication |
| US4976908A (en) * | 1987-12-28 | 1990-12-11 | Kureha Kagaku Kogyo K. K. | Poly(arylene sulfide) sheet production process |
-
1983
- 1983-10-31 JP JP20536483A patent/JPS6096439A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2592384A1 (fr) * | 1985-12-27 | 1987-07-03 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Film d'un copolymere a blocs de sulfure de paraphenylene, oriente biaxialement, et son procede de fabrication |
| US4976908A (en) * | 1987-12-28 | 1990-12-11 | Kureha Kagaku Kogyo K. K. | Poly(arylene sulfide) sheet production process |
| US5115092A (en) * | 1987-12-28 | 1992-05-19 | Kureha Kagaku Kogyo | Poly(arylene sulfide) sheet |
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