JPS61101435A - プリコ−ト層付マルチプル光フアイバの製造方法 - Google Patents
プリコ−ト層付マルチプル光フアイバの製造方法Info
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- JPS61101435A JPS61101435A JP59223570A JP22357084A JPS61101435A JP S61101435 A JPS61101435 A JP S61101435A JP 59223570 A JP59223570 A JP 59223570A JP 22357084 A JP22357084 A JP 22357084A JP S61101435 A JPS61101435 A JP S61101435A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔利用分野〕
本発明は、溶剤フェスを用いて薄いプリコート層を形成
することを特徴とするプリコート層付マ〃チデ〃光71
イパの製造方法に関するものであるO ′ 〔従来の技術〕 従来、隣接する各光ファイバが相互に融着したマルチプ
ル光ファイバからなるプリコート層付マルチデル光ファ
イバの製造方法としては、形成されたマルチデル光ファ
イバを紫外線硬化型樹脂からなるワニス浴に導入し通過
させてマルチプル光ファイバの外周に塗布層を形成した
のち、これを紫外線処理してプリコート層付マVチデV
光ファイバとするものが提案されていた。
することを特徴とするプリコート層付マ〃チデ〃光71
イパの製造方法に関するものであるO ′ 〔従来の技術〕 従来、隣接する各光ファイバが相互に融着したマルチプ
ル光ファイバからなるプリコート層付マルチデル光ファ
イバの製造方法としては、形成されたマルチデル光ファ
イバを紫外線硬化型樹脂からなるワニス浴に導入し通過
させてマルチプル光ファイバの外周に塗布層を形成した
のち、これを紫外線処理してプリコート層付マVチデV
光ファイバとするものが提案されていた。
しかしながら、紫外線硬化型樹脂からなるワニス浴を用
いた場合、あらかじめ形成しておいたマルチデル光ファ
イバに塗布する方式においては格別、マルチデル光ファ
イバの・形成とフェスの塗布とを一連の連続工程で行う
方式においては、薄いプリコート層を得ることができな
いという問題があった。すなわち、後者の方式ではプリ
コート層の非形成部分の発生を防止する必要上、プリコ
ート層の厚さf7r300μi以下とすることができな
かった0 また、公知の紫外線硬化型樹脂の種類が比較的少なくて
材料選択の自由度が小さく、プリコート層にマルチデル
光ファイバの使用目的に応じた機能を持たせ得ないとい
う問題もあった。殊に、耐熱性にすぐれる紫外線硬化型
樹脂が知られて贋ないため、必要機能として要求される
場合が多い耐熱性のプリコート層を得ることができない
という問題があった。
いた場合、あらかじめ形成しておいたマルチデル光ファ
イバに塗布する方式においては格別、マルチデル光ファ
イバの・形成とフェスの塗布とを一連の連続工程で行う
方式においては、薄いプリコート層を得ることができな
いという問題があった。すなわち、後者の方式ではプリ
コート層の非形成部分の発生を防止する必要上、プリコ
ート層の厚さf7r300μi以下とすることができな
かった0 また、公知の紫外線硬化型樹脂の種類が比較的少なくて
材料選択の自由度が小さく、プリコート層にマルチデル
光ファイバの使用目的に応じた機能を持たせ得ないとい
う問題もあった。殊に、耐熱性にすぐれる紫外線硬化型
樹脂が知られて贋ないため、必要機能として要求される
場合が多い耐熱性のプリコート層を得ることができない
という問題があった。
本発明者らは上記の問題を克服し、プリコート層に種々
の機能を持九せ得て、かつ、薄いプリコート層の形成が
可能な製造方法を開発するために鋭意研究を重ねた結果
、溶剤フェスを用いることにiり上記の目的を達成でき
ることを見出し、本発明をなすに至った。
の機能を持九せ得て、かつ、薄いプリコート層の形成が
可能な製造方法を開発するために鋭意研究を重ねた結果
、溶剤フェスを用いることにiり上記の目的を達成でき
ることを見出し、本発明をなすに至った。
特に、溶剤フェスを用いて1回の塗布処理で最終的目的
物であるプリコート層を十分に満足できる状態で得るこ
とができたことは予想外のことであり九。すなわち、技
術分野は異なるが電線に同様のプリコート層を設ける場
合には複数回(通常5〜10回)にわけて塗布処理を行
う必要があったからである。
物であるプリコート層を十分に満足できる状態で得るこ
とができたことは予想外のことであり九。すなわち、技
術分野は異なるが電線に同様のプリコート層を設ける場
合には複数回(通常5〜10回)にわけて塗布処理を行
う必要があったからである。
本発明のプリコート層付マルチデV光ファイバの製造方
法は、 囚光ファイバ用プリフォームの束の一端を加熱下に線引
きして隣接する各光ファイバが相互に融着シたマルチデ
ル光ファイバを形成する工程、(B)前記工程に連続し
て、形成されたマルチプル光ファイバを溶剤ワニス浴に
1回限り導入し通過させてマルチプル光ファイバの外周
に溶剤フェスの塗布層を形成する工程、 (口前記溶剤フェスの塗布層をブロッキングしない程度
に加熱乾燥させてプリコート前駆層とする工程、 0前記プリコ一ト前駆層を加熱処理して、厚さ200μ
m以下のプリコート層とする工程からなっている。
法は、 囚光ファイバ用プリフォームの束の一端を加熱下に線引
きして隣接する各光ファイバが相互に融着シたマルチデ
ル光ファイバを形成する工程、(B)前記工程に連続し
て、形成されたマルチプル光ファイバを溶剤ワニス浴に
1回限り導入し通過させてマルチプル光ファイバの外周
に溶剤フェスの塗布層を形成する工程、 (口前記溶剤フェスの塗布層をブロッキングしない程度
に加熱乾燥させてプリコート前駆層とする工程、 0前記プリコ一ト前駆層を加熱処理して、厚さ200μ
m以下のプリコート層とする工程からなっている。
本発明において用いられる光ファイバ用プリフォームと
しては、例えば屈折率を高めるためのドーパントを含有
する石英ガラス(高屈折率形成性ドーパント含有石英ガ
ラス)あるいは高純度の石英ガラスからなるコアfi(
i−屈折率を低めるためのドーパントヲ含有する石英ガ
ラス(低屈折率形成性ドーパント含有石英ガラス)から
なるクラフト層で被覆したもの、高屈折率形成性ドーパ
ント含有石英ガラスからなるコア部を高純度石英ガラス
からなる中間層で被覆し、その外側に低屈折率形成性ド
ーパント含有石英ガラスからなるクラッド層を設けたも
のなどをあげることができる。
しては、例えば屈折率を高めるためのドーパントを含有
する石英ガラス(高屈折率形成性ドーパント含有石英ガ
ラス)あるいは高純度の石英ガラスからなるコアfi(
i−屈折率を低めるためのドーパントヲ含有する石英ガ
ラス(低屈折率形成性ドーパント含有石英ガラス)から
なるクラフト層で被覆したもの、高屈折率形成性ドーパ
ント含有石英ガラスからなるコア部を高純度石英ガラス
からなる中間層で被覆し、その外側に低屈折率形成性ド
ーパント含有石英ガラスからなるクラッド層を設けたも
のなどをあげることができる。
図のように、マルチプル光ファイバ3の形成(A工程)
は、光ファイバ用プリフォームの束1、例えば直径10
0μm〜1mの光ファイバ用プリフォームの1000〜
5oooo本を最密光てん配列した束の一端1aを加熱
炉2等に導入して加熱し、軟化させてこれを各光ファイ
バ用プリフォームの隣接するものが相互に融着した状態
に線引きすることにより行われる。その際、光ファイバ
用プリフォームの束を石英ガラス管に充てんした状態で
行ってもよい。この場合には、外周に石英ガラスmを有
するマルチデル光ファイバが得られる。これは、折れに
くい利点を有している。また、光ファイバ用プリフォー
ム間の空隙に線引き温度において液体状態となる物質を
介在させた状態で線引きしてもよい。この場合には、空
孔を含まないマルチデル光ファイバが得られやすい利点
を有している。
は、光ファイバ用プリフォームの束1、例えば直径10
0μm〜1mの光ファイバ用プリフォームの1000〜
5oooo本を最密光てん配列した束の一端1aを加熱
炉2等に導入して加熱し、軟化させてこれを各光ファイ
バ用プリフォームの隣接するものが相互に融着した状態
に線引きすることにより行われる。その際、光ファイバ
用プリフォームの束を石英ガラス管に充てんした状態で
行ってもよい。この場合には、外周に石英ガラスmを有
するマルチデル光ファイバが得られる。これは、折れに
くい利点を有している。また、光ファイバ用プリフォー
ム間の空隙に線引き温度において液体状態となる物質を
介在させた状態で線引きしてもよい。この場合には、空
孔を含まないマルチデル光ファイバが得られやすい利点
を有している。
上記の線引き処理は、光ファイバ用プリフォームの束の
一端より順次行なわれるのであるが、本発明においては
その線引きtI!M坦が行われている闇に、先に得たf
fA/チプル光ファイバ3t−溶剤ワニス浴4に導入し
通過させて臂ルチプ〃光ファイバの外周に塗布層を形成
する(B工程)。すなわち、マルチプル光ファイバの形
成とその外周への溶剤ワニスの塗布層の形成とを一連に
行う。これにより、形成されたマルチデル光ファイバの
ドラム等への巻き取り工程と、プリコート層を形成する
ために巻き取ったマルチプル光71イパを引出す工程の
2工程が不要となる。
一端より順次行なわれるのであるが、本発明においては
その線引きtI!M坦が行われている闇に、先に得たf
fA/チプル光ファイバ3t−溶剤ワニス浴4に導入し
通過させて臂ルチプ〃光ファイバの外周に塗布層を形成
する(B工程)。すなわち、マルチプル光ファイバの形
成とその外周への溶剤ワニスの塗布層の形成とを一連に
行う。これにより、形成されたマルチデル光ファイバの
ドラム等への巻き取り工程と、プリコート層を形成する
ために巻き取ったマルチプル光71イパを引出す工程の
2工程が不要となる。
本発明においては、1回の塗布処理で最終的に200μ
m以下のプリコート層を得るために水あるいはその他の
有機溶剤を用いた溶剤ワニスが用いられる。ワニスの固
形分濃度は、マルチプル光ファイバの導入通過速度、目
的とするプリコート層の厚さなどの条件により適宜決定
される。マルチデル光ファイバの外周に非形成部分の発
生がなく、かつ、均一に薄いプリコート層を設ける点で
は、ワニスの固形分濃度を比較同低くして厚い塗布層を
形成するようにすることが有利である。一般旧な固形分
濃度は15〜50重量%であるがこれに限定されない。
m以下のプリコート層を得るために水あるいはその他の
有機溶剤を用いた溶剤ワニスが用いられる。ワニスの固
形分濃度は、マルチプル光ファイバの導入通過速度、目
的とするプリコート層の厚さなどの条件により適宜決定
される。マルチデル光ファイバの外周に非形成部分の発
生がなく、かつ、均一に薄いプリコート層を設ける点で
は、ワニスの固形分濃度を比較同低くして厚い塗布層を
形成するようにすることが有利である。一般旧な固形分
濃度は15〜50重量%であるがこれに限定されない。
゛ 用いるワニスとしては、例えばポリイミド系ワニ
ス、ポリアミドイミド系ワニス、ポリアミド系ワニス、
ポリエステルイミド系ワニス、ポリエステル系ワニス、
ポリウレタン系ワニス、エポキシ樹脂系ワニス、アクリ
ル樹脂系ワニス、アルキト樹脂系ワニスなどをあげるこ
とができ、マルチデル光71イパの使用目的に応じた機
能を有するプリコート層となるように適宜選択して用い
られる。
ス、ポリアミドイミド系ワニス、ポリアミド系ワニス、
ポリエステルイミド系ワニス、ポリエステル系ワニス、
ポリウレタン系ワニス、エポキシ樹脂系ワニス、アクリ
ル樹脂系ワニス、アルキト樹脂系ワニスなどをあげるこ
とができ、マルチデル光71イパの使用目的に応じた機
能を有するプリコート層となるように適宜選択して用い
られる。
前記B工程の1回の塗布処理でマルチデル光ファイバの
外周に形成された溶剤ワニスの塗布層は、次に例えば巻
きとった際にブロッキングしない程度に加熱乾燥される
(C工程)。図に2いては、塗布層を有するマルチプル
光ファイバ5を乾燥炉6に導入することによりC工程が
実行される。こうして厚さが約5〜200μm1好まし
くは20〜150μm、特に好ましくは30〜80μm
のプリコート前駆層を有スるマルチプル光ファイバ7と
嘔れる0次に、前記のプリコート前駆層を加熱処理して
厚さ5〜200μmのプリコート層とする(D工程)の
であるが、本発明においては必要に応じてドラム等に巻
き取った状態で一括的に加熱処理してプリコート前駆層
をプリコート層とすることが好ましい。一括処理方式は
、発泡あとなどのない良好なブリ・−ト層を得るに望ま
しい低温子□での時間をかけての加熱地理を行う場合に
時間あたりゃ処理長さくII&珊効率)、必要処理スペ
ースなどの点で有利である。もちろん、上記し九乾燥方
式と同様の連続的処理方式などで加熱処理してもよい。
外周に形成された溶剤ワニスの塗布層は、次に例えば巻
きとった際にブロッキングしない程度に加熱乾燥される
(C工程)。図に2いては、塗布層を有するマルチプル
光ファイバ5を乾燥炉6に導入することによりC工程が
実行される。こうして厚さが約5〜200μm1好まし
くは20〜150μm、特に好ましくは30〜80μm
のプリコート前駆層を有スるマルチプル光ファイバ7と
嘔れる0次に、前記のプリコート前駆層を加熱処理して
厚さ5〜200μmのプリコート層とする(D工程)の
であるが、本発明においては必要に応じてドラム等に巻
き取った状態で一括的に加熱処理してプリコート前駆層
をプリコート層とすることが好ましい。一括処理方式は
、発泡あとなどのない良好なブリ・−ト層を得るに望ま
しい低温子□での時間をかけての加熱地理を行う場合に
時間あたりゃ処理長さくII&珊効率)、必要処理スペ
ースなどの点で有利である。もちろん、上記し九乾燥方
式と同様の連続的処理方式などで加熱処理してもよい。
なお、図中の8は方向転換ロール、10は一括処理用の
加熱炉である。
加熱炉である。
本発明によれば、例えばイメージガイドなどとして好ま
しく用いうる薄膜性にすぐれるプリコート層を有するマ
ルチデル光ファイバを生産効率よく得ることができる。
しく用いうる薄膜性にすぐれるプリコート層を有するマ
ルチデル光ファイバを生産効率よく得ることができる。
したがって、細くて可とり性にすぐれるプリコート肩付
マルチプル光ファイバの製造に有利である。
マルチプル光ファイバの製造に有利である。
また、例えばポリイミド系ワニスを用いて耐熱性(すぐ
れるプリコート層を得るなどプリコート材の選択の自由
度が大きいのでマルチデル光)1イパの使用目的に応じ
たプリコート層の形成が容易となる利点もある。
れるプリコート層を得るなどプリコート材の選択の自由
度が大きいのでマルチデル光)1イパの使用目的に応じ
たプリコート層の形成が容易となる利点もある。
加工て、マルチプル光ファイバの形成からプリコート前
駆層の形成までを連続した一連の工程で行うので、表面
が清浄な状態のマルチデル光ファイバに溶剤ワニスの塗
布層を形成できるなど薄いプリコート層の形成に有利で
あって仕上り状態にすぐれるプリコート層を得ることが
できる〇(!li!厖例〕 GaCl2 (100cc/分)、POCIIs (1
5c c/分)t−用いた内付けQΦ、方式で形成した
G・系、P系ドーパントを含有する石英ガラス層を内壁
に有する純石英ガラス管を、同じ(BF3t−用いた内
付けC,V、D、方式で形成したB系、F系ドーバント
ヲ含有する石英ガラス層を内壁に有するより大きい径の
純石英ガラス管に挿入するロッド・イン・チーープ方式
で、G・系ビー1ド石英ガラスからなるコア部(n智:
1.47、外径12.5j1g)の外側に純石英ガラス
からなる中間層(n智:1.455、厚さ0.3fl)
、その外側にB系、F系ドープド石英ガラスからなるク
ラッド層(nV:1.44 、厚さ3.0ff)、さら
にその外側に純石英ガラスからなるサポート層(n V
: 1.455、厚さ9.5m+)i有する外径20
.3fllの1次プリフォームを得た。
駆層の形成までを連続した一連の工程で行うので、表面
が清浄な状態のマルチデル光ファイバに溶剤ワニスの塗
布層を形成できるなど薄いプリコート層の形成に有利で
あって仕上り状態にすぐれるプリコート層を得ることが
できる〇(!li!厖例〕 GaCl2 (100cc/分)、POCIIs (1
5c c/分)t−用いた内付けQΦ、方式で形成した
G・系、P系ドーパントを含有する石英ガラス層を内壁
に有する純石英ガラス管を、同じ(BF3t−用いた内
付けC,V、D、方式で形成したB系、F系ドーバント
ヲ含有する石英ガラス層を内壁に有するより大きい径の
純石英ガラス管に挿入するロッド・イン・チーープ方式
で、G・系ビー1ド石英ガラスからなるコア部(n智:
1.47、外径12.5j1g)の外側に純石英ガラス
からなる中間層(n智:1.455、厚さ0.3fl)
、その外側にB系、F系ドープド石英ガラスからなるク
ラッド層(nV:1.44 、厚さ3.0ff)、さら
にその外側に純石英ガラスからなるサポート層(n V
: 1.455、厚さ9.5m+)i有する外径20
.3fllの1次プリフォームを得た。
次に、と記の1次プリフォームを線引きして形成した外
径300μ―の2次プリフォーム(長さ153)の12
000本を断面が最密整列光てん形状となるように束ね
て、その一端を内径35flの石英ガラス管に挿入した
のちZJI熱融着させてこれを20容量%のフッ111
!水溶液中で、ついで蒸留水中でそれぞれ超音波を作用
させつつ洗浄したのち乾燥させた。
径300μ―の2次プリフォーム(長さ153)の12
000本を断面が最密整列光てん形状となるように束ね
て、その一端を内径35flの石英ガラス管に挿入した
のちZJI熱融着させてこれを20容量%のフッ111
!水溶液中で、ついで蒸留水中でそれぞれ超音波を作用
させつつ洗浄したのち乾燥させた。
ついで、上記の2次プリフォームの結束体ノ石英ガラス
管側の一端を1900°Cに加熱して線引きし、120
00本の石英ガラス系光ファイバの隣接するもの同士が
相互に融着した外径0.8謂のマルチプル光ファイバを
得た。
管側の一端を1900°Cに加熱して線引きし、120
00本の石英ガラス系光ファイバの隣接するもの同士が
相互に融着した外径0.8謂のマルチプル光ファイバを
得た。
上記の線引き処理を引き続いて行いつつ、80忰努の速
度で形成されたマルチプル光ファイバを溶剤ワニス浴(
A5”C)に1回導入し通過させた。溶剤ワニス浴は固
形分25重量%のN−メチルピロリドンによる溶剤型ポ
リイミド系ワニスよりなっている0得られた外周に該ワ
ニスの塗布層を有するマルチプル光ファイバを温度20
0℃の乾燥炉に導入して60秒聞知熱乾燥させて塗布M
をブロッキングしない状態とし、厚さ55μmのポリイ
ミド系プリコート前駆層を有するマルチプル系ファイバ
を連続的に得たのち巻き取りドラムに巻き取った。
度で形成されたマルチプル光ファイバを溶剤ワニス浴(
A5”C)に1回導入し通過させた。溶剤ワニス浴は固
形分25重量%のN−メチルピロリドンによる溶剤型ポ
リイミド系ワニスよりなっている0得られた外周に該ワ
ニスの塗布層を有するマルチプル光ファイバを温度20
0℃の乾燥炉に導入して60秒聞知熱乾燥させて塗布M
をブロッキングしない状態とし、厚さ55μmのポリイ
ミド系プリコート前駆層を有するマルチプル系ファイバ
を連続的に得たのち巻き取りドラムに巻き取った。
続いて、上記で得た長さ約50mのマルチプル光ファイ
バを巻き取ったドラムを温度220 ’Oの加熱炉て入
れて4時間加熱処理することにより厚さ。
バを巻き取ったドラムを温度220 ’Oの加熱炉て入
れて4時間加熱処理することにより厚さ。
50μmのプリコート層を付けたマルチプル光ファイバ
を得た。プリコート層はマルチプル光ファイバの外周の
全面に設けられており、その表面は平滑で外観性にすぐ
またものであり、ピンホールなどは認められなかった。
を得た。プリコート層はマルチプル光ファイバの外周の
全面に設けられており、その表面は平滑で外観性にすぐ
またものであり、ピンホールなどは認められなかった。
得られたプリコート層付マルチデV光ファイバ’ji−
503切りとり、端面を光学研磨したの5一端に1対の
凸レンズからなる対物用のレンズ(視野角40度、矢高
fI器社製)を、他端に焦点距@ 15ffの接眼レン
ズを取付けて倍率10倍のイメージガイドを作製し、対
物用のレンズ端より30fl先の像を観察したところ、
その魚介解能は0.4鱈であった。
503切りとり、端面を光学研磨したの5一端に1対の
凸レンズからなる対物用のレンズ(視野角40度、矢高
fI器社製)を、他端に焦点距@ 15ffの接眼レン
ズを取付けて倍率10倍のイメージガイドを作製し、対
物用のレンズ端より30fl先の像を観察したところ、
その魚介解能は0.4鱈であった。
第1図は、本発明方法の一例を表わし念フローチャート
である◇ 1:光ファイバ用プリフォームの束、2:加熱炉、3:
マルチデル光フ1イバ%4:溶剤ワニス浴、6:乾燥炉
、9:巻き取りドラム、10:加熱炉。
である◇ 1:光ファイバ用プリフォームの束、2:加熱炉、3:
マルチデル光フ1イバ%4:溶剤ワニス浴、6:乾燥炉
、9:巻き取りドラム、10:加熱炉。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)光ファイバ用プリフォームの束の一端を加熱
下に線引きして隣接する各光ファイバが相互に融着した
マルチプル光ファイバを形成する工程、 (B)前記工程に連続して、形成されたマルチプル光フ
ァイバを溶剤ワニス浴に1回限り導入し通過させてマル
チプル光ファイバの外周に溶剤ワニスの塗布層を形成す
る工程、 (C)前記溶剤ワニスの塗布層をブロッキングしない程
度に加熱乾燥させてプリコート前駆層とする工程、 (D)前記プリコート前駆層を加熱処理して厚さ200
μm以下のプリコート層とする工程からなるプリコート
層付マルチプル光ファ イバの製造方法。 2、プリコート前駆層を有するマルチプル光ファイバを
ドラム等に巻き取った状態で一括して加熱処理してプリ
コート層とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59223570A JPS61101435A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | プリコ−ト層付マルチプル光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59223570A JPS61101435A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | プリコ−ト層付マルチプル光フアイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61101435A true JPS61101435A (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=16800231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59223570A Pending JPS61101435A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | プリコ−ト層付マルチプル光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61101435A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63161415A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 石英ガラス系光伝送路の製造方法 |
| JPH01302207A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光伝送ファイバ並びにそれを用いたイメージスコープ |
| JPH01302206A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光伝送ファイバ並びにそれを用いたイメージスコープ |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP59223570A patent/JPS61101435A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63161415A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 石英ガラス系光伝送路の製造方法 |
| JPH01302207A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光伝送ファイバ並びにそれを用いたイメージスコープ |
| JPH01302206A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光伝送ファイバ並びにそれを用いたイメージスコープ |
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