JPS61120617A - 気体分離用複合膜 - Google Patents
気体分離用複合膜Info
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- JPS61120617A JPS61120617A JP59241662A JP24166284A JPS61120617A JP S61120617 A JPS61120617 A JP S61120617A JP 59241662 A JP59241662 A JP 59241662A JP 24166284 A JP24166284 A JP 24166284A JP S61120617 A JPS61120617 A JP S61120617A
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- gas separation
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- membrane
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
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- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
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- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/70—Polymers having silicon in the main chain, with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only
- B01D71/701—Polydimethylsiloxane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は気体分離用複合膜に関し、特に酸素と炭素ガス
又は炭酸ガスとメタンガスの分離に適した気体分離用複
合膜に関する。
又は炭酸ガスとメタンガスの分離に適した気体分離用複
合膜に関する。
従来例の構成とその問題点
気体弁ta模には、その分離しようとするU合気体の種
類によりそれぞれ異なった高分子材料が使用されている
。例えば、最近の気体分用膜としては酸素富化膜があり
、これはシリコーン、ポリキシレンオキシド、ポリ−4
−メチルペンテン−1、シリコーン−ポリカーボネート
共重合体等を素材としている。また、炭酸ガスと酸素の
分離にはセルロース誘導体が知られている。しかし、か
かる分離膜素材を実用に供するためには、膜厚をできる
だけ薄くすることによりガス透過速度の増大をはかり、
膜面積の縮小をはかる必要がある。この場合、薄膜の破
損を防ぐために多孔質支持体上に担持した状態で用いる
のが通常である。このツノが、としては、ポリマーの希
薄溶液を水面上に展開して薄膜を形成し、支持体上に担
持させる方法、あるいはポリマーの希薄溶液を支持体上
にコートもしくは含浸させる方法等が知られている。し
かし、これらの方法によって薄膜を得ようとする場合、
前者の方法では、薄膜はできるが材料によっては支持体
と!!しない欠点があり、また侵者の方法では、ポリマ
ー溶液が支持体とのなじみが必ずしら良好でなく、部分
的に充分な結合状態を呈さなかったり、厚みが不均一に
なる問題点があった。
類によりそれぞれ異なった高分子材料が使用されている
。例えば、最近の気体分用膜としては酸素富化膜があり
、これはシリコーン、ポリキシレンオキシド、ポリ−4
−メチルペンテン−1、シリコーン−ポリカーボネート
共重合体等を素材としている。また、炭酸ガスと酸素の
分離にはセルロース誘導体が知られている。しかし、か
かる分離膜素材を実用に供するためには、膜厚をできる
だけ薄くすることによりガス透過速度の増大をはかり、
膜面積の縮小をはかる必要がある。この場合、薄膜の破
損を防ぐために多孔質支持体上に担持した状態で用いる
のが通常である。このツノが、としては、ポリマーの希
薄溶液を水面上に展開して薄膜を形成し、支持体上に担
持させる方法、あるいはポリマーの希薄溶液を支持体上
にコートもしくは含浸させる方法等が知られている。し
かし、これらの方法によって薄膜を得ようとする場合、
前者の方法では、薄膜はできるが材料によっては支持体
と!!しない欠点があり、また侵者の方法では、ポリマ
ー溶液が支持体とのなじみが必ずしら良好でなく、部分
的に充分な結合状態を呈さなかったり、厚みが不均一に
なる問題点があった。
発明の目的
本発明は、上記従来の欠点を解消するもので、水面展開
法によって多孔質支持体上に密着性よく均一に膜形成で
さ、しかも膜材料の持つ特性を損なわせることがないよ
うにすることを目的とする。
法によって多孔質支持体上に密着性よく均一に膜形成で
さ、しかも膜材料の持つ特性を損なわせることがないよ
うにすることを目的とする。
発明の構成
上記[1的を達成するために1本発明は、多孔質支持体
上に、この支持体に対する密着性に優れ、かつガス透過
係数の大きい第111!目の高分子薄膜を形成し、さら
にこの第1層目の高分子WI膜上に、づ それよ
りもガス透過係数及びガス分離係数の大きい第2層目の
高分子薄膜を形成してなる気体分離用複合膜を提供する
。
上に、この支持体に対する密着性に優れ、かつガス透過
係数の大きい第111!目の高分子薄膜を形成し、さら
にこの第1層目の高分子WI膜上に、づ それよ
りもガス透過係数及びガス分離係数の大きい第2層目の
高分子薄膜を形成してなる気体分離用複合膜を提供する
。
実施例の説明
以下、本発明の実施例について説明する。
既に、発明の構成でも述べたように、本発明の気体分離
用複合膜は、多孔質支持体上に性質の異なる21類の高
分子ifl膜を積層したものである。
用複合膜は、多孔質支持体上に性質の異なる21類の高
分子ifl膜を積層したものである。
本発明において、多孔質支持体は、表面の平均細化径を
0.004〜0.3μm 、好ましくは0.004〜0
.1μ■、表面空孔率を10〜60%、好ましくは20
〜40%、膜厚を20〜120μm、好ましくは20〜
60μ醜にするのが適当である。これら範囲を外れる場
合は、躾のピンホールによる破損を生じたり、ガス透過
速度の減少が起こるため好ましくないが、必ずしもこれ
に限定されるものではない。また、多孔質支持体の材料
としては、例えば、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ
四弗化エチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
0.004〜0.3μm 、好ましくは0.004〜0
.1μ■、表面空孔率を10〜60%、好ましくは20
〜40%、膜厚を20〜120μm、好ましくは20〜
60μ醜にするのが適当である。これら範囲を外れる場
合は、躾のピンホールによる破損を生じたり、ガス透過
速度の減少が起こるため好ましくないが、必ずしもこれ
に限定されるものではない。また、多孔質支持体の材料
としては、例えば、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ
四弗化エチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
第1層目の高分子膜材料としては、ガス透過係数が、例
えば、PO2で10(〜1G−’ CG −cm /
alSeG−1+’4 Qを有している必要がある。ま
た、この材料は上記支持体との密着性が良く、かつ0.
01〜0.1μmまでの薄膜化が可能でなければならな
い。ガス透過係数が小さかったり、膜厚が厚いと、流m
が少なくなり、特に燃焼用等の流量を多く必要とする分
野においては不適当である。
えば、PO2で10(〜1G−’ CG −cm /
alSeG−1+’4 Qを有している必要がある。ま
た、この材料は上記支持体との密着性が良く、かつ0.
01〜0.1μmまでの薄膜化が可能でなければならな
い。ガス透過係数が小さかったり、膜厚が厚いと、流m
が少なくなり、特に燃焼用等の流量を多く必要とする分
野においては不適当である。
これら条件を満足するものとしては、ポリオルガノシロ
キサンあるいは、ポリジメチルシロキサンJ(重合体等
がある。ポリオルガノシ[1キサンについては特に限定
しないが、例えばポリジメチルシロキサン、ポリメチル
フェニルジ0キサン、ポリジフェニルシロキサン等があ
る。ポリジメチルシロキサン共重合体としては、ポリス
ルホン−ポリヒトOオシスヂレンーボリジメチルシOキ
サン共重合体を挙げることができ、特にポリジメチルシ
ロキサンの含有率60w t%以上のものが特に支持体
との密省性において有利である。
キサンあるいは、ポリジメチルシロキサンJ(重合体等
がある。ポリオルガノシ[1キサンについては特に限定
しないが、例えばポリジメチルシロキサン、ポリメチル
フェニルジ0キサン、ポリジフェニルシロキサン等があ
る。ポリジメチルシロキサン共重合体としては、ポリス
ルホン−ポリヒトOオシスヂレンーボリジメチルシOキ
サン共重合体を挙げることができ、特にポリジメチルシ
ロキサンの含有率60w t%以上のものが特に支持体
との密省性において有利である。
第211!目の高分子膜材料は、目的の気・体に対する
分111機能が^く、かつ水面での展開において薄膜化
の可能な材料が有利である。FAえば、酸素と窒素の分
離においては、分離係数がnい、例えば4−メチルペン
テン−1、ポリスチレン等があり、酸素と炭酸ガス、あ
るいは#2!!ガスとメタンガスとの分離においては、
エチルセルロース、ポリキシレンオキシド等があるが、
必ずしもこれらに限定するものではない。これらはいず
れも2N目申独では水面での展開法において多持体と直
接密石するに困難な材料であり、第1層目を必要とする
ものである。
分111機能が^く、かつ水面での展開において薄膜化
の可能な材料が有利である。FAえば、酸素と窒素の分
離においては、分離係数がnい、例えば4−メチルペン
テン−1、ポリスチレン等があり、酸素と炭酸ガス、あ
るいは#2!!ガスとメタンガスとの分離においては、
エチルセルロース、ポリキシレンオキシド等があるが、
必ずしもこれらに限定するものではない。これらはいず
れも2N目申独では水面での展開法において多持体と直
接密石するに困難な材料であり、第1層目を必要とする
ものである。
以下、本発明の効果を確認するために実際に行なった比
較試験について説明する。
較試験について説明する。
比較例1
エチルセルロース(粘度1oc p s )をトルエン
に溶解して10%溶液とした。この溶液を水面上に厚み
が0.1μmとなるように展間し、この膜上に多孔質支
持体としてのジュラガード(セラニーズ# 社11 2400>を静かに置き、引き上げたが、模番
よtのまま水面上に残り、担持することはできなかった
。
に溶解して10%溶液とした。この溶液を水面上に厚み
が0.1μmとなるように展間し、この膜上に多孔質支
持体としてのジュラガード(セラニーズ# 社11 2400>を静かに置き、引き上げたが、模番
よtのまま水面上に残り、担持することはできなかった
。
実施例1
ポリジメチルシロキサン(東しシリコーン(株))をベ
ンゼンに溶解して20%溶液とした。
ンゼンに溶解して20%溶液とした。
この溶液を水面上に厚みが0.2μ−となるように展開
し、この股上に比較例1で用いた多孔質支持体と静かに
tき、引き上げることによりポリジメチルシロキサンの
模を多孔質支持体上に得た。この模を含めた全体の酸素
透過速度は、t、OKg/cdの圧力で16.3秒/l
0CCで、炭酸ガスとの分離比は5.Oであった。次に
、比較例1で得たエチルセルロースの10%トルエン溶
液を水面上に厚みが0.1μmになるように展開し、こ
の股上にポリジメチルシロキサンの膜を担持した多孔質
支持体を静かに費きポリジメチルシロキリン膜の上にエ
チルセルロース膜を付着し、その後エチルセルロースの
膜を3回繰り返し骨上した。この膜を含めた全体の酸素
透過速度は139/c+Iの圧力で30.8秒/IQc
cで、炭酸ガスとの分離比は7.1であった。
し、この股上に比較例1で用いた多孔質支持体と静かに
tき、引き上げることによりポリジメチルシロキサンの
模を多孔質支持体上に得た。この模を含めた全体の酸素
透過速度は、t、OKg/cdの圧力で16.3秒/l
0CCで、炭酸ガスとの分離比は5.Oであった。次に
、比較例1で得たエチルセルロースの10%トルエン溶
液を水面上に厚みが0.1μmになるように展開し、こ
の股上にポリジメチルシロキサンの膜を担持した多孔質
支持体を静かに費きポリジメチルシロキリン膜の上にエ
チルセルロース膜を付着し、その後エチルセルロースの
膜を3回繰り返し骨上した。この膜を含めた全体の酸素
透過速度は139/c+Iの圧力で30.8秒/IQc
cで、炭酸ガスとの分離比は7.1であった。
また、炭酸ガスとメタンガスの分離比は4,6であった
。
。
実施例2
ポリビトロキシスチレン−ポリスルホン−ポリジメチル
シロキサンの共重合体(ポリジメチルシロキサン含有率
65w t%)をベンゼンに溶解して2%溶液とし、テ
トラヒトOフランを5%添加しこの溶液を水面上に厚み
が0.2μIとなるように展開し、実施例1と同様に多
孔質支持体上に担持し、共重合体の膜を多孔質支持体上
に得た。この膜を含めた全体の酸素透過速度は、1に9
1011の圧力で10.8秒/100C1炭酸ガスとの
分離比は4.2であった。次に実施例1と同様にセルロ
ース膜を付着させたところ、全体の酸素透過速度は25
.4秒/l0CGで炭酸ガスとの分離比は5,3であっ
た。
シロキサンの共重合体(ポリジメチルシロキサン含有率
65w t%)をベンゼンに溶解して2%溶液とし、テ
トラヒトOフランを5%添加しこの溶液を水面上に厚み
が0.2μIとなるように展開し、実施例1と同様に多
孔質支持体上に担持し、共重合体の膜を多孔質支持体上
に得た。この膜を含めた全体の酸素透過速度は、1に9
1011の圧力で10.8秒/100C1炭酸ガスとの
分離比は4.2であった。次に実施例1と同様にセルロ
ース膜を付着させたところ、全体の酸素透過速度は25
.4秒/l0CGで炭酸ガスとの分離比は5,3であっ
た。
また、炭酸ガスとメタンガスの分離比は3.8であった
。
。
実施例3
実施例1で用いたエチルセルロースの代わりにポリキシ
レンオキシドを用いて、同様に0.2μmの厚みに付着
した。全体の酸素透過jili度は、1 Ky/aIの
圧力で50秒/1GGG、炭酸ガスとの分離比は4.5
であった。また、炭酸ガスとメタンガスの □分
離比は、16.8であった。
レンオキシドを用いて、同様に0.2μmの厚みに付着
した。全体の酸素透過jili度は、1 Ky/aIの
圧力で50秒/1GGG、炭酸ガスとの分離比は4.5
であった。また、炭酸ガスとメタンガスの □分
離比は、16.8であった。
実施例4
実施例2で用いたエチルセル0−スの代わりにポリキシ
レンオキシドを用いて、同様に0,2μ−の厚みに付着
した。全体の酸素透過速度は、1 Kg/aIの圧力で
42.6秒/l0CC1炭酸ガスとの分離比は3.8ま
た、炭酸ガスとメタンガスの分離比は14.1であった
。
レンオキシドを用いて、同様に0,2μ−の厚みに付着
した。全体の酸素透過速度は、1 Kg/aIの圧力で
42.6秒/l0CC1炭酸ガスとの分離比は3.8ま
た、炭酸ガスとメタンガスの分離比は14.1であった
。
発明の効果
以F述べたように、本発明のよれば、多孔質支持体に、
これと密着性がよく、かつガス透過係数の高い第1層目
の高分子薄膜を形成し、さらにこの高分子薄膜の上にこ
れよりもガス透過係数及びガス分離係数の大きい第21
!!i目の高分子薄膜を形成する構成なので、水面展開
法によって均一に膜形成を行なうことができ、しかもそ
れによ、りて膜材料の特性を損なうことがないという効
果がある。
これと密着性がよく、かつガス透過係数の高い第1層目
の高分子薄膜を形成し、さらにこの高分子薄膜の上にこ
れよりもガス透過係数及びガス分離係数の大きい第21
!!i目の高分子薄膜を形成する構成なので、水面展開
法によって均一に膜形成を行なうことができ、しかもそ
れによ、りて膜材料の特性を損なうことがないという効
果がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、多孔質支持体上に、この支持体に対する密着性に優
れ、かつガス透過係数の大きい第1層目の高分子薄膜を
形成し、さらにこの第1層目の高分子薄膜上に、それよ
りもガス透過係数及びガス分離係数の大きい第2層目の
高分子薄膜を形成してなる気体分離用複合膜。 2、第1層目の高分子薄膜が、ポリオルガノシロキサン
もしくはポリジメチルシロキサン共重合体からなる特許
請求の範囲第1項に記載の気体分離用複合膜。 3、第2層目のn分子膜がエチルセルロースもしくはポ
リキシレンオキシドからなる特許請求の範囲第1項又は
第2項に記載の気体分離用複合膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241662A JPS61120617A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 気体分離用複合膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241662A JPS61120617A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 気体分離用複合膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120617A true JPS61120617A (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=17077650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59241662A Pending JPS61120617A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 気体分離用複合膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120617A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63296822A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体分離複合膜 |
| US5868428A (en) * | 1994-11-21 | 1999-02-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Structure for mounting a canister for reducing transmission of vibration generated in a wheel to the canister |
| JP2008013126A (ja) * | 2006-07-07 | 2008-01-24 | Fuji Heavy Ind Ltd | 車両の燃料冷却装置 |
| WO2014141868A1 (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離複合膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法 |
| CN104128101A (zh) * | 2014-07-18 | 2014-11-05 | 南京工业大学 | 一种银掺杂的金属陶瓷复合膜及其制备方法 |
| WO2016136396A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法 |
-
1984
- 1984-11-15 JP JP59241662A patent/JPS61120617A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63296822A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体分離複合膜 |
| US5868428A (en) * | 1994-11-21 | 1999-02-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Structure for mounting a canister for reducing transmission of vibration generated in a wheel to the canister |
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| WO2014141868A1 (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離複合膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法 |
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| WO2016136396A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法 |
| JPWO2016136396A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法 |
| US10507437B2 (en) | 2015-02-27 | 2019-12-17 | Fujifilm Corporation | Gas separation membrane, gas separation module, gas separation apparatus, and gas separation method |
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