JPS61123630A - ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造法 - Google Patents
ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造法Info
- Publication number
- JPS61123630A JPS61123630A JP24434684A JP24434684A JPS61123630A JP S61123630 A JPS61123630 A JP S61123630A JP 24434684 A JP24434684 A JP 24434684A JP 24434684 A JP24434684 A JP 24434684A JP S61123630 A JPS61123630 A JP S61123630A
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- Japan
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- heteropolyacid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、/分子中に2個以上の水酸基を有するアルコ
ール類(以下多価アルコールと略す)を脱水縮重合させ
て、ポリアルキレンエーテルポリオールを製造する方法
に関するものである。
ール類(以下多価アルコールと略す)を脱水縮重合させ
て、ポリアルキレンエーテルポリオールを製造する方法
に関するものである。
(従来の技術)
ポリオキシテトラメチレングリコール(以下PTMOと
略す)、ポリオキンヘキナメチレンゲリコール等のポリ
アルキレンエーテルポリオールはボリクレタンエラスト
マーの主要原料、各種潤滑剤、溶剤、圧力流体等(二用
いられる工業的に有用なポリマーである。
略す)、ポリオキンヘキナメチレンゲリコール等のポリ
アルキレンエーテルポリオールはボリクレタンエラスト
マーの主要原料、各種潤滑剤、溶剤、圧力流体等(二用
いられる工業的に有用なポリマーである。
これらポリエーテルポリオールは従来テトラヒドロフラ
ン(以下TI(Pと記す)等の環状エーテルな開環重合
して合成される。そしてこれら公知の方法は重合工程と
その復水を加えて加水分解し末端をOH基化する工程の
二段より成り、その場合1重合触媒としては、フルオロ
スルフォン酸、発煙硫酸等の超強酸或いは過塩素酸−無
水酢酸、ナフィオン樹脂(弗素化スルフオン酸樹脂)−
無水酢酸、BF、−HF−無水酢酸等のプロト、ン酸や
ルイス酸に酸無水物を組み合わせた系が使用されている
。
ン(以下TI(Pと記す)等の環状エーテルな開環重合
して合成される。そしてこれら公知の方法は重合工程と
その復水を加えて加水分解し末端をOH基化する工程の
二段より成り、その場合1重合触媒としては、フルオロ
スルフォン酸、発煙硫酸等の超強酸或いは過塩素酸−無
水酢酸、ナフィオン樹脂(弗素化スルフオン酸樹脂)−
無水酢酸、BF、−HF−無水酢酸等のプロト、ン酸や
ルイス酸に酸無水物を組み合わせた系が使用されている
。
(発明が解決しようとする問題点)
これら従来公知の方法では、重合直後のポリマー末端は
水酸基ではなく、たとえば、−8o3H基、或いは一〇
C0CR3基として停止されており、これに水あるいは
アルカリ水を加えて加水分解し、末端を水酸基とする必
要があり、これが故(=多くの工業的不利をもたらして
いるのである。
水酸基ではなく、たとえば、−8o3H基、或いは一〇
C0CR3基として停止されており、これに水あるいは
アルカリ水を加えて加水分解し、末端を水酸基とする必
要があり、これが故(=多くの工業的不利をもたらして
いるのである。
例えば、無水酢酸存在下によって得られる末端アセチル
基の加水分解は、痕跡のアセチル基の残留をも回避する
ため還流下/〜!十という苛酷な条件を要し、アルカリ
も必要とし、無水酢酸を消費してしまう事になり、酸触
媒のリサイクル使用も困難にしている。
基の加水分解は、痕跡のアセチル基の残留をも回避する
ため還流下/〜!十という苛酷な条件を要し、アルカリ
も必要とし、無水酢酸を消費してしまう事になり、酸触
媒のリサイクル使用も困難にしている。
また、フルオロスルフォン酸触媒使用の場合は、生成し
た5o3H基の加水分解は、水を加えるだけで容易に進
行するが、フルオロスルフォン酸は弗化水素と硫酸に分
解され、高価な試薬を多量に消費する事になると共に、
発生するHF等の処理に多額の設備投資なせざるを得な
かった。
た5o3H基の加水分解は、水を加えるだけで容易に進
行するが、フルオロスルフォン酸は弗化水素と硫酸に分
解され、高価な試薬を多量に消費する事になると共に、
発生するHF等の処理に多額の設備投資なせざるを得な
かった。
(間紬点を解決する為の手段)
本発明者らは先にヘテロポリ酸を用いて/、4を一ブタ
ンジオールを脱水縮重合してPTMGを合成する方法を
出願した(特願昭jターフ3夕23)。
ンジオールを脱水縮重合してPTMGを合成する方法を
出願した(特願昭jターフ3夕23)。
更に本発明者は、多価アルコールを脱水縮重合させ、−
挙に末端がOH基であるポリアルキレンエーテルポリオ
ールな合成する方法について鋭意研究した結果、ヘテロ
ポリ酸及び/又はその塩の存在下で反応を行なうことに
よりその目的を達することを見出し、本発明を成すに至
った。
挙に末端がOH基であるポリアルキレンエーテルポリオ
ールな合成する方法について鋭意研究した結果、ヘテロ
ポリ酸及び/又はその塩の存在下で反応を行なうことに
よりその目的を達することを見出し、本発明を成すに至
った。
即ち、本発明は7分子当り/!分子以下の水を配位又は
存在させたヘテロポリ酸及び/又はその塩の存在下で、
7分子中に2個以上の水酸基を有するアルコール類を脱
水縮重合する事を特徴とするポリアルキレンエーテルポ
リオールの製造法である。(但し、アルコールが/譲−
ブタンジオールで、触媒が遊離のヘテロポリ酸の場合を
除く。)ヘテロポリ酸及びその塩(以下ヘテロポリ酸類
と記すことがある)は種類C9よっても異なるが、通常
、コθ〜<10の水和物として合成されるが、この状態
で多価アルコールと接触させても全°く重合活性が認め
られなかった。
存在させたヘテロポリ酸及び/又はその塩の存在下で、
7分子中に2個以上の水酸基を有するアルコール類を脱
水縮重合する事を特徴とするポリアルキレンエーテルポ
リオールの製造法である。(但し、アルコールが/譲−
ブタンジオールで、触媒が遊離のヘテロポリ酸の場合を
除く。)ヘテロポリ酸及びその塩(以下ヘテロポリ酸類
と記すことがある)は種類C9よっても異なるが、通常
、コθ〜<10の水和物として合成されるが、この状態
で多価アルコールと接触させても全°く重合活性が認め
られなかった。
しかしながら、上記ヘテロポリ酸類を乾燥処理して、そ
の水和数を変化させた後、重合活性を調べるとヘテロポ
リ酸類7分子に対し、水和数を/!以下特に好ましくは
/〜♂にすると意外な事に重合活性が出現し、多価アル
コールの脱水縮合により直接ポリエーテルポリオールが
合成された。
の水和数を変化させた後、重合活性を調べるとヘテロポ
リ酸類7分子に対し、水和数を/!以下特に好ましくは
/〜♂にすると意外な事に重合活性が出現し、多価アル
コールの脱水縮合により直接ポリエーテルポリオールが
合成された。
特に水和数♂以下において、より高゛収率にポリエーテ
ルポリオールが合成された。
ルポリオールが合成された。
多価アルコールの脱水縮合反応が進行すると水が生成す
るため、系中の水量がヘテロポリ酸類の/!倍モルを越
えると、重合活性は消失する。そのために、反応を継続
させるには、ヘテロポリ酸及びその塩の水和数を7!以
下に保つことが必要である。
るため、系中の水量がヘテロポリ酸類の/!倍モルを越
えると、重合活性は消失する。そのために、反応を継続
させるには、ヘテロポリ酸及びその塩の水和数を7!以
下に保つことが必要である。
ヘテロポリ酸類の水和数を/夕以下に保つ方法としては
連続的又は間欠的に無水のヘテロポリ酸類を添加しつつ
反応を行ない系全体のヘテロポリ酸類の水和数を/!以
下に保つ方法、ヘテロポリ酸類触媒を反応器より連続的
又は間欠的に抜き出し、脱水処理後反応器にもどす方法
、反応器より水を蒸留により糸外へ除きつつ反応する方
法等がとられる。
連続的又は間欠的に無水のヘテロポリ酸類を添加しつつ
反応を行ない系全体のヘテロポリ酸類の水和数を/!以
下に保つ方法、ヘテロポリ酸類触媒を反応器より連続的
又は間欠的に抜き出し、脱水処理後反応器にもどす方法
、反応器より水を蒸留により糸外へ除きつつ反応する方
法等がとられる。
本発明に於けるヘテロポリ酸及びその塩は、Mo、W、
Vのうち、少なくとも一種の酸化物と、他の元素、例え
ば、P、8i、λs 、 Ge 、 B、 Ti 、C
e。
Vのうち、少なくとも一種の酸化物と、他の元素、例え
ば、P、8i、λs 、 Ge 、 B、 Ti 、C
e。
Co等のオキン酸が縮合して生ずるオキン酸の総称であ
るヘテロポリ酸及びその塩である。
るヘテロポリ酸及びその塩である。
これらヘテロポリ酸及びその塩の具体例としては、リン
モリブデン酸、リンタングステン酸、リンモリブドタン
グステン酸、リンモリブドバカジン酸、リンモリブドタ
ングストバナジン酸、リンタングストバナジン酸、リン
モリブドニオブ酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデ
ン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイそりブトタン
グストバナジン酸、ゲルマニワムタングステン酸、ホウ
タングステン酸、ホウモリブデン酸、ホウモリブドタン
グステン酸、ホウモリプドパナジン酸、ホウモリブドタ
ングストバナジン酸、コバルトモリブデン酸、コバルト
タングステン酸、砒素モリブデン酸、砒素タングステン
酸、チタンモリブデン酸、セリワムモリブデン酸及びそ
の塩である。塩の種類は特に限定されないが、例えば、
Li、Na、K、Rh、Ca、Cu、Ag%Au等の周
期律表111jc。
モリブデン酸、リンタングステン酸、リンモリブドタン
グステン酸、リンモリブドバカジン酸、リンモリブドタ
ングストバナジン酸、リンタングストバナジン酸、リン
モリブドニオブ酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデ
ン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイそりブトタン
グストバナジン酸、ゲルマニワムタングステン酸、ホウ
タングステン酸、ホウモリブデン酸、ホウモリブドタン
グステン酸、ホウモリプドパナジン酸、ホウモリブドタ
ングストバナジン酸、コバルトモリブデン酸、コバルト
タングステン酸、砒素モリブデン酸、砒素タングステン
酸、チタンモリブデン酸、セリワムモリブデン酸及びそ
の塩である。塩の種類は特に限定されないが、例えば、
Li、Na、K、Rh、Ca、Cu、Ag%Au等の周
期律表111jc。
Mg、 Ca、Sr、 Ba%Zn、Cd、 Hg等の
n族、Sc 、 La 1lCe %AU、%Ga 、
In等の■族、Fa 。
n族、Sc 、 La 1lCe %AU、%Ga 、
In等の■族、Fa 。
Co、 Ni 、 Ru、 Pd%PL等の1族、及び
8n、PblMn、Bi等の金属塩、又はアンモニウム
塩、アミン塩等である。ヘテロポリ酸塩は、ヘテロポリ
酸の水溶液を各金属の炭酸塩又は硝酸塩、アンモニア、
アミンで滴定し、蒸発乾固して調製される。
8n、PblMn、Bi等の金属塩、又はアンモニウム
塩、アミン塩等である。ヘテロポリ酸塩は、ヘテロポリ
酸の水溶液を各金属の炭酸塩又は硝酸塩、アンモニア、
アミンで滴定し、蒸発乾固して調製される。
本発明で使用するヘテロポリ酸及びその塩は、多価アル
コール中では固相又は多価アルコールに溶解して存在す
る。水和数の調節は、ヘテロポリ酸又はその塩を高温に
加熱する事や、比較的低温で減圧下に保持する事により
可能である。
コール中では固相又は多価アルコールに溶解して存在す
る。水和数の調節は、ヘテロポリ酸又はその塩を高温に
加熱する事や、比較的低温で減圧下に保持する事により
可能である。
使用するヘテロポリ酸類の量は、特に限定されないが反
応器内におけるヘテロポリ酸類の量が少ないと、重合速
度が低く、原料の0.θ7〜20倍重量、好ましくはθ
、/〜70倍重量使用される。
応器内におけるヘテロポリ酸類の量が少ないと、重合速
度が低く、原料の0.θ7〜20倍重量、好ましくはθ
、/〜70倍重量使用される。
生成する水を系外へ除かずに反応を行なう為には、生成
する水によりヘテロポリ酸類の配位水数が/!を越えな
いよう1;、ヘテロポリ酸類の使用量を調節する必要が
ある。さもなければ、ヘテロポリt*aの配位水数が/
!を越えたところで重合活性は消失しポリアルキレンエ
ーテルポリオールの収率が低くなる。
する水によりヘテロポリ酸類の配位水数が/!を越えな
いよう1;、ヘテロポリ酸類の使用量を調節する必要が
ある。さもなければ、ヘテロポリt*aの配位水数が/
!を越えたところで重合活性は消失しポリアルキレンエ
ーテルポリオールの収率が低くなる。
本発明で使用する7分子中C2個以上の水酸基を有する
アルコール類としては、触媒の活性を阻害する置換基を
持たないものであればどのようなものであってもよい。
アルコール類としては、触媒の活性を阻害する置換基を
持たないものであればどのようなものであってもよい。
たとえば、1,3−プロパンジオール、/、4L−ブタ
ンジオール、/、3−ブタンジオール、/、J″−ベン
タンジオール、1,6−へキナンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ジプロピレンクリコール等テア
ル。
ンジオール、/、3−ブタンジオール、/、J″−ベン
タンジオール、1,6−へキナンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ジプロピレンクリコール等テア
ル。
アルコールとしてモノアルコールを存在させることによ
り末端CニアルコキV基を導入することもできる。
り末端CニアルコキV基を導入することもできる。
反応温度は0〜200℃、特に30〜700℃が好まし
い。200℃を越えると収率は激減し、0℃未満では反
応性が極めて低く、実用価値がない。
い。200℃を越えると収率は激減し、0℃未満では反
応性が極めて低く、実用価値がない。
反応に要する時間は触媒量や反応温度(二よっても異な
るがθ、j〜jθ時間である。
るがθ、j〜jθ時間である。
反応は、多価アルコールと所定水和数のヘテロポリ酸及
び/又はその塩とを攪拌しつつ行なう事が出来るので、
特に溶媒は必要としないが、反応に不活性なものを加え
ても良い。
び/又はその塩とを攪拌しつつ行なう事が出来るので、
特に溶媒は必要としないが、反応に不活性なものを加え
ても良い。
反応形式は、種型、基型等の一般に用いられる反応器で
よく、特に限定されない。また、バッチ式、連続式のい
ずれも実施可能である。触媒は、活性炭やシリカアルミ
ナ等に担持して固定床又は流動床として用いてもよい。
よく、特に限定されない。また、バッチ式、連続式のい
ずれも実施可能である。触媒は、活性炭やシリカアルミ
ナ等に担持して固定床又は流動床として用いてもよい。
重合反応後は触媒が固相の場合は濾過で、触媒が液体で
二相分離している場合は相分離により、また触媒が均一
1=溶解している場合は抽出等でポリエーテルポリオー
ルと触媒を分離する。回収した触媒は水和数を調節する
ことにより繰り返し使用される。
二相分離している場合は相分離により、また触媒が均一
1=溶解している場合は抽出等でポリエーテルポリオー
ルと触媒を分離する。回収した触媒は水和数を調節する
ことにより繰り返し使用される。
本反応の機構については明らかではないが、多価アルコ
ールのOH基の触媒上での解離が起こり、これより重合
が進行して行くものと考えられる。
ールのOH基の触媒上での解離が起こり、これより重合
が進行して行くものと考えられる。
(効果)
本発明法により、−挙に末端がOH基であるポリアルキ
レンエーテルポリオールが合成できる。
レンエーテルポリオールが合成できる。
また、従来、テトラヒドロビクン(ペンタメチレンオキ
ナイド)は開環重合性がなく、ポリオキンペンタメチレ
ングリコールの合成は困難であったが、本発明により合
成されることがわかった。さら(:、本発明で用いる、
ヘテロポリ酸及びその塩は、腐蝕性も少なく、またリナ
イクル使用も可能である利点を有する。
ナイド)は開環重合性がなく、ポリオキンペンタメチレ
ングリコールの合成は困難であったが、本発明により合
成されることがわかった。さら(:、本発明で用いる、
ヘテロポリ酸及びその塩は、腐蝕性も少なく、またリナ
イクル使用も可能である利点を有する。
(実施例)
以下、実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例/
攪拌装置を付けた容器に、/譲−ブタンジオールなj
j、4 f仕込む。次いで、2よ0℃で3時間加熱して
無水の状態にした/2−タングストリン酸−/−9f
r7 A (LiH,FW!、O,)を9 /、2 を
加える(この時のl譲−ブタンジオールのモル数はリン
タングステン酸塩のモル数の約73倍であり、脱水縮合
反応後もヘテロポリ酸塩の配位水数が/!を越えること
はない)。容器を密閉し、温度を2j℃に設定して30
時間攪拌を行なう。リンタングステン酸塩は最初固相と
して存在するが、脱水縮合反応の進行に伴ない均一に溶
解する。反応後糸に水λ00fとクロロホルム2001
を加えて振とうし、その後二相に分離させる。水相から
は触媒が回収される。クロロホルム相から未反応の7,
4t−ブタンジオールとクロロホルムを蒸留で除くこと
(二より、/、Ofのポリマーを得た。赤外スペクトル
、NMRスペクトル測定の結果、ポリマーは両末端がO
H基であり、PTMGであることを決定した。ゲルパー
メイトヨンクロマトグラフイー(GPC)測定の結果得
られたPTMGは数百から数千までの分子電分布を持っ
た数平均分子量りθOのものであった。
j、4 f仕込む。次いで、2よ0℃で3時間加熱して
無水の状態にした/2−タングストリン酸−/−9f
r7 A (LiH,FW!、O,)を9 /、2 を
加える(この時のl譲−ブタンジオールのモル数はリン
タングステン酸塩のモル数の約73倍であり、脱水縮合
反応後もヘテロポリ酸塩の配位水数が/!を越えること
はない)。容器を密閉し、温度を2j℃に設定して30
時間攪拌を行なう。リンタングステン酸塩は最初固相と
して存在するが、脱水縮合反応の進行に伴ない均一に溶
解する。反応後糸に水λ00fとクロロホルム2001
を加えて振とうし、その後二相に分離させる。水相から
は触媒が回収される。クロロホルム相から未反応の7,
4t−ブタンジオールとクロロホルムを蒸留で除くこと
(二より、/、Ofのポリマーを得た。赤外スペクトル
、NMRスペクトル測定の結果、ポリマーは両末端がO
H基であり、PTMGであることを決定した。ゲルパー
メイトヨンクロマトグラフイー(GPC)測定の結果得
られたPTMGは数百から数千までの分子電分布を持っ
た数平均分子量りθOのものであった。
比較例/
配位水数76の/コータングストリン酸−7−リテクム
を用いること以外は、実施例/と同じ操作を行なったが
、クロロホルム相からはポリマーは得られなかった。
を用いること以外は、実施例/と同じ操作を行なったが
、クロロホルム相からはポリマーは得られなかった。
実施例コー/j
攪拌装置と還流冷却器を付けた容器C二、/譲−ブタン
ジオールを3j1仕込む。次いで、無水状態にした表−
/に示す各種ヘテロポリ酸塩をりOf加える。温度を乙
θ℃に設定して、/!時間攪拌を続けた後、固体の触媒
は濾過により除き、次いでF液に水2001とクロロホ
ルム2001を加えて攪拌し、その後二相に分離させる
。クロロホルム相から未反応の/譲−ブタンジオールと
クロロホルムを蒸留で除くことによりPTMGを得た。
ジオールを3j1仕込む。次いで、無水状態にした表−
/に示す各種ヘテロポリ酸塩をりOf加える。温度を乙
θ℃に設定して、/!時間攪拌を続けた後、固体の触媒
は濾過により除き、次いでF液に水2001とクロロホ
ルム2001を加えて攪拌し、その後二相に分離させる
。クロロホルム相から未反応の/譲−ブタンジオールと
クロロホルムを蒸留で除くことによりPTMGを得た。
得られたPTMGの数平均分子量(GPC分析値)と収
量を表−/1;示す。
量を表−/1;示す。
(以下余白)
表−/
実施例/6
攪拌装置と還流冷却器を付けた容器に、/、ターペンタ
ンジオールな100?仕込む。次いで、無水状態(二し
たリンタングステン酸(H3PW1.O@)=00fと
リンタングステン酸ナトリウム(NaHlPWHOm)
2 Ofを加える。温度を60℃に設定して、/j時
間攪拌を続けた後、水J″00?とクロロホルムjoo
tを加えて攪拌し、その後二相に分離させる。クロロホ
ルム相から未反応の/、j−ベンタンジオールとクロロ
ホルムを蒸留で除くことにより、ポリオキシペンタメチ
レングリコール/、♂tを得た。GPC測定の結果、数
平均分子量は2jOであった。
ンジオールな100?仕込む。次いで、無水状態(二し
たリンタングステン酸(H3PW1.O@)=00fと
リンタングステン酸ナトリウム(NaHlPWHOm)
2 Ofを加える。温度を60℃に設定して、/j時
間攪拌を続けた後、水J″00?とクロロホルムjoo
tを加えて攪拌し、その後二相に分離させる。クロロホ
ルム相から未反応の/、j−ベンタンジオールとクロロ
ホルムを蒸留で除くことにより、ポリオキシペンタメチ
レングリコール/、♂tを得た。GPC測定の結果、数
平均分子量は2jOであった。
実施例/7
攪拌装置と還流冷却器を付けた容器に、/、6−へキチ
ンジオールな1001仕込む。次いで無水状態にしたリ
ンタングステン酸(HxPW12046 )を3002
加える。温度を60℃に設定して50時間攪拌を続けた
後、水!00tとクロロホルム!θθ?を加えて攪拌し
、その後二相に分離させる。クロロホルム相から未反応
の/、6−ヘキサンジオールとクロロホルムを蒸留で除
去してポリオキンヘキナメテレングリコールへj?を得
た。数平均分子量はGPC測定の結果24tθであった
。
ンジオールな1001仕込む。次いで無水状態にしたリ
ンタングステン酸(HxPW12046 )を3002
加える。温度を60℃に設定して50時間攪拌を続けた
後、水!00tとクロロホルム!θθ?を加えて攪拌し
、その後二相に分離させる。クロロホルム相から未反応
の/、6−ヘキサンジオールとクロロホルムを蒸留で除
去してポリオキンヘキナメテレングリコールへj?を得
た。数平均分子量はGPC測定の結果24tθであった
。
Claims (1)
- 1分子当り、15分子以下の水を配位又は存在させたヘ
テロポリ酸及び/又はその塩の存在下で、1分子中に2
個以上の水酸基を有するアルコール類を脱水縮重合する
事を特徴とするポリアルキレンエーテルポリオールの製
造法(但し、アルコールが1,4−ブタンジオールで、
触媒が遊離のヘテロポリ酸の場合を除く)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24434684A JPS61123630A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24434684A JPS61123630A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123630A true JPS61123630A (ja) | 1986-06-11 |
| JPH0558012B2 JPH0558012B2 (ja) | 1993-08-25 |
Family
ID=17117331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24434684A Granted JPS61123630A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61123630A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004048440A1 (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | ポリエーテルポリオールの製造方法 |
| WO2004099110A1 (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | 1,3−プロパンジオールの製造方法 |
| JP2004352713A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-12-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | 1,3−プロパンジオールの製造方法 |
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-
1984
- 1984-11-21 JP JP24434684A patent/JPS61123630A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004048440A1 (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | ポリエーテルポリオールの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
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