JPS61126048A - 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロベンゾ
ノン類の製法に関する。更に詳細には本発明は３，４−
エポキシシクロペンタノンを光学活性ｌ、１′−ビー２
−す７トールの錯体と接触させることによりエポキシ体
を異性化せしめ、４−ζドロキシ−２−シクロペンテノ
ンとし、しかも同時に４位の不斉炭素にＲまたはＳ配位
の光学活性が誘起された化合物の！ｌｌ規な製法であシ
、得られた光学活性４−ヒト−キシ−２−シクロペンテ
ノンは次いで必要に応じ水ｒＲ化基を保護して光学活性
な４−ヒドロキシ−２−シクロベンゾノン類を製造する
方法に関する。

かかる製造法によれば１種々の薬理作用を有するブース
タグランジンあるいは制ガン作用を有するメイタンシン
等の穏々の医薬品の裏道中間体となる光学活性な４−ヒ
トルキシー２−シクロベンゾノン類を高収率で効率よく
得ることができ、更にかかる製造法は立体化学上極めて
意義ａる製造法でるる。

〈従来技術〉 従来、（Ｒ）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン
、（Ｓ）−４−ヒト−キシ−２−シクロペンテノン等の
光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の
製造法としては、例えば次のような製造法が知られてい
る。

すなわち、 （１）　　シクロ・・・ンタジエンから得られるジアセ
トキシシクロベント−１−エンを＃素によシ加水分解し
て、３■−７セトキシー５＠−ヒトルキシシクロベント
−１−エンな得。

次いでこれを二酸化マンガンで酸化し℃、４（６）−７
セトキシシクロベントー２−エン−１−オンを製造する
方法（テトラ・Ｎドロン、３２．１７１３−１７１８（
１９７７）。

テトラヘドロン、３２．１８９３（１９７７）参照）。

（２）　　出発化合物としてＤ又はＬ−酒石酸を用い、
これを４工程の操作によシＤ又はＬ　−１，４−ショー
ト−２，３−イングロピリデンジオキシブタンとし、こ
れとり千オ化合物とを反応させて次いで加水分解し、＠
又は（Ｓ）−４−ｔトーキシー２−シクロペンテノンを
製造する方法（テトラへドロン・レターズ、ＩＯ，７５
９〜７６２（１９７６）参照）、 （３）　　出発物質として、微生物の代謝産物であるテ
ラインという化合物よシ、５工穏を経て４（８）−７セ
トキシー２−シクロペンテノンを製造する方法（プトラ
ヘドロンレターズ、（２９）１２５５３〜２５５ｆｉ（
１９７８）参照）、 （４）　　２．４．６−？リクロロフェノールを、塩素
で反応せしめて、３．５．５−トリクロロ−１，４−ジ
ヒドロキシシクロベント−２−二ノー１−カルボフ級を
得、これをプルシンにて光学分割し、次いで４工程の操
作を経て、（８）−４−ｔ−ブチルジメチルシーキシシ
クロベント−２−二ノンを製造する方法（デトラヘドー
ンレターズ、１５３９〜４２（１９７９）（１））参照
）、 （５）　　１−シクロペアテン−３，５−ジオンをキラ
ルなビナフトール化合物とフルコツ）しと水素化リチク
ムフルミニクムとから得られる化合物で不斉還元して（
８）またはｔｓ＞０４−ヒト−キシ−２−シクロペンテ
ンな得、この水輯基を必要に応じて保護して製造する方
法（野依ら、特開昭５６−１２３９３２　；Ｐｕｒ＠Ａ
ｐｐｌ　ｃｈｅｍ＋　５３　（１９８１）参照）、（６
）ｄｊ−４−ヒドロキシ−２−シクジペ７７ノンと光学
分割剤を結合させ、生成物を２つのジアステレオマーと
して分離した後分割剤を反応で脱保護して光学活性体を
得、この水酸基を必要に応じて保護して製造する方法（
羽里ら、特開昭５７−１５９７７７および野依ら＋　Ｔ
ｓｔｒａｈ＠ｄｒｏｎ　Ｌｉｔｔ　＊　　２３　＊４０
５７（１９８２）参照）、 （７）ｄｊ−４−ｅトーキシー２−シフ−ペンテノノン
をオルト−フタル酸のハーフェステル体とし、これを光
学活性アミンとの塩として、再結晶により一方の異性体
を分離し、脱保護し℃光学活性体を得、水酸基を必要に
応じて保護して製造する方法（渡辺ら。

特開昭５７−１４５６０参照）。

これらの方法においては、　（１）　ｓ　（２）の方法
は得られる４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の
光学収率が充分に満足し得るものではなく。

またそのトータル収率も低いものであＪ　、　（３）　
ｊ（４）の方法にあっては光学収率は高いが、（３）の
方法によれば入手が困難なプラインという化合物を出発
物質として用いており、また（４ンの方法にあっては、
製造工ｓにおいて光学分割を行うものであり、また（３
）　ｌ　（４）のいずれの方法のドータ　　　゛ル収率
も充分に満足し得るものではない。（５）の方法は原料
である１−シクロペンテン−３，５−ジオンが出発原料
として高価で人手が比較的困難であるものを用いるとい
５Ｊｌ１点がある。

さらに（６）　＋　（７）の光学分割による方法では一
方の光学活性体として利用出来るものは理論的にも高々
５０チであシ、トータル収率も充分ではない。

〈発明の目的〉 このように従来の、光学活性な４−ヒトルキシー２−シ
クロペンテノン類の製造法は、必ずしも工業的（優れた
ものとは言えないものである＠ そこで本発明者らは、容易に入手し得る化合物を用いて
、光学収率が高く、またトータル収率も高い、工業的に
有利な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製造
法を見出すべく鋭意研究した。従来から知られている３
、４−エポキシシクロペンタノンが活性アルミナの作用
によ６ｄｌ−４−ヒドロキシ−２−シクロベンデノンに
異性化するどい５知見（野依ら、　Ｊ　、　Ａｍｅｒ、
Ｃｈｍ、Ｓｏｅ　、　　１０１．　ｐ１６２３（１９７
９）；＃開開５４−１５４７３５参照ンに着目し、３，
４−エポキシシクロペンタノンを原料に、不斉修飾した
アルミニウム錯体や他の金属一体と接触させることによ
シ。

光学収率が高く、工業的に有利に光学活性な４−ヒトジ
キシ−２−シクロペンテノン類が得られることを見出し
本発明に到達したものである。

〈発明の構成及び作用効果ン すなわち本発明ヲ工下記式（１） で表わされる３、４−エポキシシクロペンタノンを光学
活性ｌ、１′−ビー２−ナフトールの錯体と接触させ１
次いで必要九応じ水酸基を保護することを特徴とする下
記式〔旺〕で表わされる光学活性な４−ヒドロキシ−２
−シクロベンゾノン類の製造法である。

本発明の製造法では、出発原料として、前記式〔Ｄで表
わされる３、４−エボキシシク２ペンタノンを用いる。

かかる化合物はシクロペンクジエンよ）、従来知られた
方法によシ容易に得ることができる（野依ら、特開昭５
４−１５４７３４　、野依ら　　　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ　　ムｅｔｔ。

２２１４４１３（１９８１）参照）。

かかる３、４−エボキシシクーペンタノンを光学活性な
１，１′−ビー２−す７トールの錯体で処理することに
よって、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンデ
ルが得られる。

ここで用いられる光学活性な１．１’−ビー２−ナフト
ールは、Ｂｕｌｌ、Ｓｏｃ、Ｃｈｉｍ、Ｆｒ、　４３　
。

１３８Ｂ（１９２８）に記載された方法により、得られ
る田−ビナフチルリン酸をシンコシンで光学分割し、こ
れをボ素化アルミニウムリチウムで処理することによっ
て（Ｓ）　−Ｈ−１，１′−ビー２−ナフトールあるい
は（８）−（ト）−１，１７−ビー２−ナフトールとし
て得ることができる。本発明で用いられるこのものの錯
体は以下のようにして作成される。

すなわち、下記式Ｌｌｌｌ） Ｋ　Ａｌ　　　　　　　　　　・・・・・・−亀 （Ｒ”は炭Ａ数１〜４のフルキル基を妖ゎ丁）で表わさ
れる配置つ子でりるトリフル千ルアルミニウムとフルコ
ール−、フェノール類またはスルホンＩＢＭの補助配４
子と光学τ古性ｌ、１／−ビー２−ナフトールとり組み
合せｉＣ工ってｗ４＠するか、または下記式（ＩＶ）ｋ
Ｃ”　　ＭｅｔａＩｌ−Ｒ”　　　　　−・−・−（１
１／）で表わされる配４ｐ子である有機金属化合物と光
学活性ｌ、１′−ビー２−ナフトールとの組み合せによ
りｉ：１１１１１される。

上記式（ＩＩＩ）ＫおいＣＲ１は炭素数１〜４のアルキ
ル基で６！）、例えばメチルツエザール、グロビル、ｎ
−ブチル、色ブチル基がるり、特にメチル基が好ましい
。

単座補助配位子として用いられるアルミニウム原子に！
ｌｌ方力鎖い酸累原子を１′するフルフール類、フェノ
ール類、マた）Ｘ　スルホン酸類が用いられる。アルコ
ール類とし℃は炭Ｓ数１〜１０の低級アルコール類例え
ばメタノール、エタノール、イングロバノール、ｎ−デ
シルアルコール等があり、特にメタ／−ルが好ましい。

フェノール類としては炭素数１〜１０のフルキルＳ１換
フエノール＠１例えハ２．６−ジーブチルー４−メチル
フェノール。

２．６−シーイツグロビルフエノール等がわり、また個
のＩｎｎスフエノール類例えば４−メトキシフェノール
、０−りｃｙ　Ｃｌフェノール、２−二トロフェノール
、４−ニトロフエ／−ル。

２．４−ジニトロフェノール、２．６−ジニトロフェノ
ール、２．６−ジーを一エチルー４−二トｐフェノール
等があり、特に４−ニトロフェノールが光学収率の点で
好ましく用いられる。スルポン酸類としては４−メチル
ベンゼンスルホン［、２，４，６−）リメチルベンゼン
スルホン酸等がある。

上記式（ＩＶ）においてＲ１は炭素数１〜４のフルキル
基であり例えばメチル、エチル、グロビル、ｎ−ブチル
、ｒ−ブチル基があり、特にメチル、エチル基が好まし
い。Ｒｓは８８に岡じか、またはへログン原子を表わし
、ハｐゲン原子ではＡｍ！子が好ましく用いられる。

錯体のｇｌｌ製は配（発子上記式（ｌｉｔ）　ｌ’）浴
部に単座配〈ζ子（Ｒ’Ｈと表記］、ついで光学活性Ｉ
１１′−ビー２−す７トール（”　ＢＮ（ＯＨ）ｓと課
記）の溶液を加え、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲
気下に撹拌することにより行なう（Ａ法）と く　Ａ　法　＞　　　　Ｒ”Ａ７　＋　ａ４ＨＲ：ノＬ
ＩＲ４＋ＲＬ−Ｈ−一−−ラ 上記式〔瓜〕の浴液に光学活性１，１′−ビー２−ナフ
トールの溶液、ついで単座配イを子を加えて行な５（Ｂ
法〕のいづれの方法でも作成される。

また単座配φ子を用いない錯体の調製方法もめる。すな
わち上記式（転）の配＜ｄ子を用いることによって達成
される。方法としては（ｉ）ジアルキルマグネシウム、
またはジフルキル亜鉛（転）の溶液に光学活性１１１’
−ビー２−ナフトールを加える方法、　（ｉｉ）光学活
性ｌ、１′−ビー２−ナフトールの１つの水散基を例え
ばｎ−ブチルリチウム、ｎ−１−ビルリチウムｖｎ−メ
チルリチウム等でリチオ化した後、これに配伝子でらる
フルキル−金属−ハロゲン翰を加える方法のいづれかに
よって達成される。

錯体のｉｑａ及び反応には不活゛性媒体が用いられる。

例えばへログン化炭化水素類１例えばジクロロメタン、
り一一フォルム、ジクロロエタン、ジグｐモメタン等、
または芳香族炭化水素類９例えばベンゼン、トルエン、
キシレン等、またはエーテル類１例えばジエチルエーテ
ル、テトラζドロフラン、ジオキナン等、ニドニル類２
例えばアセトニトリル。

グルビオニトリル等が用いられ、中でもハーグン化炭化
水素類が好ましく用いられ、特にジクロロメタン、りｇ
ロフォルムが好ましく用いられる。用いられる溶媒の量
は反応をスムーズに進行させるに十分な量があればよく
。

錯体１モルに対して１００１１ｊか５１０ノ、好ましく
は０．．５７〜２ノの範囲が用いられる。

用いられる媒体の１Ｌ量は反応生成物の光学純度に大き
な影響を与えるので適切な組み合せと選択をすれば艮い
。

配位子の当量関係については上記式（，１）のトリアル
キルアルミニウムに対して光学活性１．１′−ビー２−
す７トールを０．１〜５，０当量好ましくは０．５〜３
．０当量、特に好ましくは１．５〜１・＋ｇ当量を用い
るのが良い。また上記式（ｆＶ）のアルキル有機金属化
合物に対しては光学活性１，１′−ビー２−す７トール
を０．２〜５．０当量好ましくは０．８〜１．５当量を
用いる。

また単座配喧子に対しては光学活性′１　、１／　＋＋
　７ｅ−２−ナフトールを０．１〜３．０当量好ましく
は０．８〜１．５当量を用いる。

か＜Ｌ−’Ｃ上述した方法によυ錯体は調製さされるか
らＵ４製後のエージング時間については０．５〜１００
時間好ましくは１時間〜７５時間が良い。また用いられ
る錯体の量は原料に対して１〜５０モル％、好ましくは
５〜２０モルチが用いられる。

かくして錯体と原料は錯体を調製した時と同じ媒体を用
いて光学活性を誘起しながら異性化反応に付される。反
応は通常はＯ℃〜７０℃、好ましくは１０〜４０℃で進
行する。

反゛応の進行は薄層クジマドグラフィー等の手段によシ
追跡出来る。反応時間＆１目的に応じて設定される。す
なわち反応の初期と後期で立体化学が逆転する場合もお
る。

生成物は非常に水に溶けやすいので、リン酸ｉｓ液（ｐ
ｌ　７．４）　　を加えて有機解媒で抽出される。累層
部は再度減圧６１Ａ細した伐、イートンが好工しく用い
られる。

かくして前記式叩においてＲが’Ｊ＜８原子である粗部
の光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンが得
られ、これは通常の蒸留カラムクロマトグラフィー等の
手段によって＃１製される。

このものは必要に応じて更にその水酸基を保肢せしめ℃
もよい。

かかる化合物の＊酸基を保護するｅζは、公知の反応を
採用することができる。

すなわち、保護基が例えば７セチル基、グロパノイ／し
基、クローアセチル晟、ベンゾイルＭ　＋　ｐ−１０モ
ペンゾイル基、ｐ−ニド−ベンゾイル基等のアシル基の
場合には、ｆＲハロゲン化物もしくは酸無水物とピリジ
ンとを反応せしめることによシ容易に保護基を導入する
ことができる。また保護基がトリメチルシリル基ｔジメ
チル−ｔ−ブチルシリル基等のトリアルキルシリル基の
場合には、トリアルキルシリルハロゲン化物とイミダゾ
ールとへキサメチルホス承りツクトリアミドを反応せし
めることＫよって保護基を導入することができる。また
保護基が２−テトラヒドロピラニル基；２−デトラしド
ジフラニル基、α−エトキシエチル基、α−エトキシ−
α−メチルエチル基等の場合は対応するビニルエーテル
化合物であをジヒドロビラン、ジしドロフラン、エチル
ビニルエーテル、エチルイソ７　ａ　ヘニルエーテルを
゛パラトルエンスルホン駿などの酸性触媒存在下に接触
せしめることにより保護基な導入することができる。

かくして上記式ｌで表わされる光学活性がｄ起ｇれた４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類が製造される。

また保護された水成基を有する生成物はその光学純度を
さらに上げるため罠再結晶等の手段で処理し℃も艮い。

特にＲが　ブチルジメチルシリル基の場合は低温で例え
ばペンタン、ヘキサン等の炭化水素類を用いて再結晶さ
れ、光学純度を上げることも出来る。

以上の如くして、種々のグジスタグランジ・ン類の合成
中間体となり得る光学活性な４−ヒト−キシ−２−シク
ロペンテノン類を、容ＭＫ入手し得る３、４−エポキシ
シクロペンタノンより高い光学収率で効率よく製造する
ことができる。

本発明方法の特長は異性化と同時に比較的高い光学活性
を簡単忙しかも温和な条件で誘起出来る点でめ９、従来
の方法に比べて非常に工程数が短かく、目的の光学活性
体を得ることが出来る、新規で有利な方法と言える。

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。

実施例１〜４ アルミニウム錯体による反応 方法Ａ 減圧下前熱乾燥したアンプルをアルゴン置換し、乾燥脱
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（０，９５Ｍ、　０．１０ｔｎｔ。

０．０９５　ｍｍｏｌ）を加えた。攪拌しなからｐ−ニ
トロ７ｚ　／−ル（ｆ　３．３　Ｑ、０．０９６　ｍｍ
ｏｌ　）の塩化メチレン溶液上前えた。ついで（３）−
ビナフトール（２７，２ｔｎｇ、０．０９５　ｍｍｏｌ
　）の塩化メチＬ／７溶液を加え２時間室温（２０−２
５℃）にて攪拌した。３．４−エポキシシクロペンタノ
ン（９５，１■、０．９７　ｍｍｏｌ　　）の塩化メチ
レン溶液を加えて反応を行った。液量は全体で１Ｏ−１
２ＴＲｔとなるようくした＠ ユ支ｌ 減圧下前熱乾燥したアンプルをアルゴン置換し、乾燥脱
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（０，９５Ｍ、　０．１０ｔｄ、０．０９５　
ｍｍｏｌ　）を加えた。攪拌しながら（ａｌ−ビナフト
ール（２７，２ｑ、０．０９５　ｍｍｏｌ　）の塩化メ
チレン溶液、ついでｐ−ニトクフェノール（１３，２■
、０．０９５　ｍｍｏｌ　　）の塩化メチレン溶液を加
え２時間室温（２０−２５℃）にて攪拌した。

３．４−エボキシシクａペンタノ：ｙ　（９５，１■、
０．９７　ｍｍｏ　１　　）の塩化メチレン溶液を加え
反応を行った。全体の液量は１０−１２−とじた。

異性化反応の後処理、精製法 １、　反応液にＰ）＋７゜４のリン酸緩衝液と、ヘキサ
ンを加えて分液ロートに移しよく振る。水層（ヒドロキ
シシクロペンテノンヲ含む）全分離した。

有機層は再度リン酸緩衝液を加え抽出゛を行った。（こ
の操作ｔ−２回行う）。有機層にはビナフトールおよび
フェノール、水層にはエポキシ体およびヒドロキシエノ
ンが抽出されたＯ 水層を真空ポンプを用いて注意深く濃縮し、はぼ乾固さ
せた。この液に酢駿エテルを加え超音波浴につけて抽出
を行った。有機／ｉ！を分離し再度抽出を行った。有機
層を濃縮し、クーゲルロール蒸習（３順Ｈｆｌ、１０８
−１１２℃）を行い４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンを得た。

２　反応液に微量のリン酸緩衝液を加え、メチルミーブ
チルケトン（ＭＩＢＫ　）　ｔ−加え分液ロートに移し
よく振る。水１＃ヲ分離し、メチルイソブデルケトンを
加え再度抽出を行った。

有機層を集めエバポレーター（オイルレス真空ポンプ付
）で濃縮した。濃縮液はマイクロビーズ５Ｄ（１００−
２００メツシユ、富士デビソン社）１０ｇを朋いて、ヘ
キサン−酢酸エチル（６：１）でカラムクロマトグラフ
ィーを行い、ビナフトール、フェノール、エポキシ体、
ヒドロキシエノンを分取した。

１　反応液に数滴のリン酸緩衝液を加え、超音波浴につ
けた。定性用ろ紙（東洋ろ紙２番）で−過した。

さらに２０−の塩化メチレンを使って沈殿を洗った。

Ｆ液と法浄液を集めシリボアフィルター（トーヨーメン
プレムフィルター、０．４５　ａｍＴＹＰＥ　ＲＣ）で
−過し、濃縮しマイクロピース５Ｄ（富士デビソン社）
１０ｇを用いてヘキサン−酢酸エチル（６：１）でカラ
ムクロマトグラフィーを行った。

４−ヒトａキシ−２−シクロペンテノンのスペクトルデ
ーター ’ＨＮＭＲ（ＣＤ（Ｊ、）Ｊ、２．２６（１）１．ｄｄ
、Ｊ＝１８．２Ｈｚ）、２．７８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１
８．６Ｈｚ）、３．１０（ＩＨｂｒ）、５．０５（ＩＨ
，ｍ）。

４−ヒト−キシ−２−シクロペンテノンの光学純度は、
ＭＴＰＡエステル体に導びき’ＨＮＭＲを測定して求め
た。

ＭＴＰＡエステル化 ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン（１０■、０．
１ｍｍｏｌ　）を０．２−の塩化メチンに溶かし、ピリ
ジン（４Ａ、モレキュラーシープにより乾燥）をマイク
ルシリンジを用いて２５ａｌ　（０，３ｍｍｏｌ、３ｅ
ｔ　）　ＭＴＰＡＣＩ　（（＋）−ＭＴＰＡより合５３
りを５０　＃ｊ　（０，２ｍｍｏｌ、２・シ）加えた・
液はただちに白濁した。このまま−晩攪拌した。

エーテルと飽和硫酸調水溶液を加え抽出した。

有機層を分離し、再度硫酸調水溶液を加えて抽出した。

有機層を分離し、Ｎ＆ｆＳ０４を加えて乾燥し、−過し
て濃縮した。シリカゲル（Ｍｅｒｃｋ７７４３）　５　
ｇを用りて、ヘキサン−酢酸エチル（８：Ｉ）Ｋてカラ
ムクロマトグラフィーを行い、’Ｍ’１Ｒｔ−測定した
・ ＭＴＰＡエステル体のスペクトルデータ゛−（８）体 ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｊ３）δ。

２．３９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１８．７，２．４Ｈｚ）、
２．９４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１８．７．１’ｉ、２Ｈｚ
）、３．０１（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝１．３Ｈｚ）、５．６８
（ＩＨ，ｍ）、６．４０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ
）、７．４５−７．６．５（６Ｈ，ｍ） ０体 ’　ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１、）δ。

２．２９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１８．７，２．４Ｈ１）　
、２．８７（ＩＨ，ｄｄ。

ｐ１８．７．６．２Ｈｚ）、３．０１（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝
１．３Ｈｚ）、５．６８（ＩＨ，ｍ）　、６．４０（Ｉ
ｆ（、ｄｄ、；５．７Ｈ１）、７．４５−７．６５（ｓ
Ｈ，ｍ）。

錯体のｍ製法（Ａ法とＢ法）Ｋよる効果を検討して表１
の結果を得た。

実施例５ スターリングバーを入れたアルゴンを減圧下加熱乾燥し
、アルゴン置換した。これに脱気したりｇａホルム（３
ｍｌ＞ｋ入れ、トリメチルアルミニウムヘキサン溶液（
０，１０１Ｒ１，０，０９５＋ｎｎｏｌ　）をシリンジ
にて加えた。スターリングしながらｐ　−＝　）　ａフ
ェノール（１３，２ｍＨ１０，０９５ｍｍｏｌ　）のフ
クロホルム溶液（４ｒｄ）をアルゴン圧にてステンレス
チューブを用いて加えた。液は直ちに＊色の懸濁液とな
った。次いで（Ｉ！ｌ）−ビナフト−ル（４６，ｌｆｆ
１ｇ、１．６１ｍｍｏｌ）のりＯＯホルム溶液（４−）
を同様にして加え室温にて２時間攪拌した。

この液１ｃ３．４−エポキシシクロペンタノン（９１，
５Ｑｒ、０．９３　ｍｍｏ　ｌ　）のりａｏホルム溶液
を加えた０液はほとんど透明な溶液となる。このまま室
温にて５５時間攪拌を続けた。反応液は黄かつ色の懸濁
液となった。

ＰＨ７，４のリン酸緩衝液数滴を加え超音波で浸透する
。これを定量用ろ紙（トヨ−ろ紙、５ｃ）を用いて一過
した。さらに約２０−の塩化メチレンを用いて洗い込ん
だ。Ｆ液と洗液を濃縮した。００ｍ樹脂（富士デヴイソ
ン、マイク−ビーズ５Ｄ、１００−２００メツシユ）１
０ｇを用いて、ヘキサン−酢酸エチル８：１を展開溶媒
としてカラムクロマトグラフィーを行った。

エポキシ体（収量２３％）アルコール体（４０％）をそ
れぞれ分取した。アルコール体の一部を■−α−メトキ
シーα−トリフルオロメチル−フェニル酢酸ククライド
（２当景）ピリジン（１，５当量）を用いてエステル化
した。反応液にエーテルと飽和硫酸調水溶液を加え抽出
を行った。有機層を濃縮し、シリカゲル２ｇを用いて、
ヘキサン−酢酸エチル８：１の展開溶媒でカラムクロマ
トグラフィーを行った。ＭＴＰＡエステル体を分取し、
濃縮し、’ＨＮＭＲを測定またところ７０％ｅｅで、（
ｓ）一体の４−、ヒドロキシ−２−シククベンテノンが
得られたことがわかった０ 実施例６〜１１ 光学活性ｌ、１′−ビー２−ナフトール／ト１ノアルキ
ルアルミニウムの比についテ検討しテ表２に示す結果を
得た。ここで単座配位子としては４−ニドａフェノ−ｌ
しを用いた。

単座配位子として２，６−シメチル−４−二トロフェノ
ール、２，６−ジーｔ−ブチル−４−二トロフェノール
を用いた結果を表３に示した。

実施例１２〜２５ 単座配位子の種類の効果について検討して表４．５．６
に示した。

実施例２６〜３３ 単座配位子として２．６−ジーｔ−ブチル−４−メチル
フェノール、４−ニトロフェノールを用いた場合の媒体
の種類を検討し、それぞれ表７．８に示した結果を得た
。

実施例３４−３６ 単座配位子として４−ニトロフェノールを用いた時の錯
体に対する媒体の量について検討して表９に示す結果を
得た。

実施例３７へ４３ 単座配位子４−ニド費フェノ−Ｉしを用いて実施した錯
体ｖ／４製のエージング時間ｌと２と用いられる量につ
いて検討した結果下に示すような表１０．１１の結果を
得た。

実施例４４ マグネシウム錯体を用いた異性化反応 域圧下加熱乾燥した反応管をアルゴン置換し凍結脱気し
た塩化メチレン（４−）を加えＥｔ、Ｍｇ　（０，６２
５Ｍ、０．０８ｍ、０．０５０　ｍｍｏｌ　）を加え（
８）−ビナフトール（１４，２ｆｆ１ｇ、　０．０５０
τ画ｏ１）の塩化メチレン溶液（４ｍ）を加えた。３．
４−エポキシシクロペンタノン（４８，３■、０．５０
　ｍｍｏ　ｌ　）の塩化メチレン溶液を加え０°にて７
２時間攪拌したＯ 後処理は実施例ＩＫ従って行い、ヒドロ中ジェノン（２
４，５■、０．２５　ｍｍｏ　１　）収ＩＫ５１％を得
た。

光学純度は３６ページに記した方法でＭＴＰＡエステル
化し’ＨＮＭＲを測定し、１０％ｅ＠と決定した０表１
２に結果をまとめた。

実施例４５　、４６ 減圧上加熱乾燥したアンプルに乾燥脱気Ｔ、ＨＦ（２＋
ｄ）をとりρ）−ビナフトール（１５，３■、０．０５
３　ｍｍｏｌ　）を加えアルゴン雰囲気下で一７８℃に
冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ　（１，６Ｍ、　０．０３５　ｍ
、０．０５６ｍｍｏ　１　）を加え室温に昇温した。再
度−７８℃まで冷却し、ＣＨ，ＭｇＢｒ　（３，３６Ｍ
、　０．０１５　ｍ、０．０５０ｍｍｏ　１　）を加え
室温にまで昇温した。１−のＴＨＦに３，４−エポキシ
シクロペンタノン（５３，０■、０．５４　ｍｍｏ　ｌ
）　ｔ−とかして加え０°で１時間攪拌した。

反応の後処理、精製、光学収率の決定は前ページと同様
にして行った。表１２に結果管まとめたＯ 実施例４７ Ｂと同様の操作を溶媒ｔＴＨＦのかわり（ベンゼンを用
いて行った。表１２に結果をまとめたＯ 実施例４８．４９ 亜鉛錯体を用りた異性化反応 減圧上加熱乾燥したアンプルをアルゴン置換　　　′し
、　（ｇ）−ビナ７トーｌしく　２８．０■−，０，０
９８ｍｍｏ　１　）のトルエン溶液を加え、ジエチル亜
鉛（１，９６Ｍ、０．０５ｍ、０．０９８　ｍｍｏｌ　
　）を加え室温にて攪拌した。３．４−エポキシシクロ
ペンタノン（９７，５ｍｇ、０．９９　ｍｍｏｌ　）を
加え０°で攪拌した。

反応の後処理は実施例の方法に従って行った。

表１２に結果をまとめた。

マグネシウム、亜鉛系の配位子を用いた光学活性ｌ、ｔ
’−ヒ２　　＋　ｙ　ト−ル（ＢＮ（ＯＲ）ｔ）　Ｏ錯
体を用いて実施した。結果を表１２に示す結果を得た。

実施例５０へ５５ 再結晶による精製 ７０％ｅｅＫｉｌ製したジメチル−１−ブチルシリル基
で保護した。二ノン（７７２■）を４０−のペンタンに
溶かしたアルゴン雰囲気下で一４５℃に冷却した。

ジメチル−ｔ−ブチルシリル基で保護した光学活性二ノ
ンを接徨し、再結晶を行った。結晶が十分生成した後ス
テンレスチューブを用いてアルゴン圧で母液を除いた。

−４５℃に冷却したペンタン（３ｍ）で結晶を洗い再度
ステンレスデユープを用いて洗液を除いた。結晶は一昨
真空ポンプで吸引すること罠より乾燥した。収量は１６
％であった。これから９．２１■を秤りと９２−のメタ
ノールに希釈し、施光度の測定を行った。〔α）”ｐ　
＋　６１．９°（二〇、４６０５、メタノール）光学活
性シリル保護エノンの施光度〔α〕Ｄ＋６７．４°（ｃ
　Ｏ，４、メタノール）から計算して得られた結晶は９
２％ｅｅであった。（冥施例５４）他の条件で検討した
結果を表１３にまとめて示した０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（ I
   ） で表わされる３，４−エポキシシクロペンタノンを光学
   活性１，１′−ビ−２−ナフトールの錯体と接触させ、
   次いで必要に応じ水酸基を保護することを特徴とする下
   記式〔II〕▲数式、化学式、表等があります▼・・・・
   ・・（II） 式中、・印は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表わ
   し、Ｂは水素原子又は保護基を表わす。 で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペン
   テノン類の製法。 ２、錯体が下記式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（III
   ） （Ｒ＾１は炭素数１〜４のアルキル基を表わす）で表わ
   される配位子であるトリアルキルアルミニウムとアルコ
   ール類、フェノール類またはスルホン酸類の補助配伝子
   と光学活性１，１′−ビ−２−ナフトールとの組み合せ
   である特許請求の範囲第１項記載の光学活性４−ヒドロ
   キシ−２−シクロペンテノン類の製法。 ３、錯体が下記式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（IV） （Ｒ＾２は炭素数１〜４のアルキル基を表わしＲ＾２は
   Ｒ＾３に同じか、またはハロゲン原子を表わし、Ｍｅｔ
   ａｌはマグネシウム原子または亜鉛原子を表わす。） で表わされる配位子である有機金属化合物と光学活性１
   ，１′−ビ−２−ナフトールとの組み合せである特許請
   求の範囲第１項記載の光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
   クロペンテノン類の製法。 ４、トリアルキルアルミニウムがトリメチルアルミニウ
   ムである特許請求の範囲第２項記載の光学活性４−ヒド
   ロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。 ５、補助配位子のフェノール類がニトロフェノール類で
   ある特許請求の範囲第２項記載の光学活性４−ヒドロキ
   シ−２−シクロペンテノン類の製法。 ６、補助配位子のスルホン酸類がベンゼンスルホン酸類
   である特許請求の範囲第２項記載の光学活性４−ヒドロ
   キシ−２−シクロペンテノン類の製法。 ７、式（II）においてＲがｔ−ブチルジメチルシリル基
   であり、光学活性が誘起された生成物をさらに再結晶に
   より光学純度を高めた光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
   クロペンテノン類の製法。 ８、式（IV）においてＲ＾２がメチル基又はエチル基で
   ある特許請求の範囲第３項記載の光学活性４−ヒドロキ
   シ−２−シクロペンテノン類の製法。