JPS61133016A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61133016A JPS61133016A JP25430784A JP25430784A JPS61133016A JP S61133016 A JPS61133016 A JP S61133016A JP 25430784 A JP25430784 A JP 25430784A JP 25430784 A JP25430784 A JP 25430784A JP S61133016 A JPS61133016 A JP S61133016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vinyl chloride
- vinyl
- undercoat layer
- adhesion
- copolymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は下塗り層を介して磁性層を基体上に設けた磁
気記録媒体に関し、さらに詳しくは磁性層の基体に対す
る接着性に優れた前記の磁気記録媒体に関する。
気記録媒体に関し、さらに詳しくは磁性層の基体に対す
る接着性に優れた前記の磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体は、通常、磁性粉末、結合剤成分、有機溶
剤およびその他の必要成分からなる磁性塗料をポリエス
テルフィルムなどの基体上に塗布、乾燥してつくられる
が、基体として一般に汎用されているポリエステルフィ
ルムは結晶性が高いため、磁性層の基体に対する接着性
が弱く、使用中に磁性層が剥離するおそれがある。
剤およびその他の必要成分からなる磁性塗料をポリエス
テルフィルムなどの基体上に塗布、乾燥してつくられる
が、基体として一般に汎用されているポリエステルフィ
ルムは結晶性が高いため、磁性層の基体に対する接着性
が弱く、使用中に磁性層が剥離するおそれがある。
そこで、これを改善するため、従来より下塗り剤を基体
に塗布して磁性層と基体との間に下塗り層を設けること
によって磁性層の接着性を改善することが行われており
、このような効果の優れた下塗り剤としてポリエステル
樹脂を使用したり(特公昭58−9488号公報)して
、磁性層の基体に対する接着性を改善することが試みら
れている。
に塗布して磁性層と基体との間に下塗り層を設けること
によって磁性層の接着性を改善することが行われており
、このような効果の優れた下塗り剤としてポリエステル
樹脂を使用したり(特公昭58−9488号公報)して
、磁性層の基体に対する接着性を改善することが試みら
れている。
ところが、ポリエステル樹脂を下塗り剤として使用した
ものは、ポリエステルフィルムと化合物の組成が近似し
ているため、磁性層の基体に対する接着性は改善される
ものの、未だ、充分に満足できるものではない。
ものは、ポリエステルフィルムと化合物の組成が近似し
ているため、磁性層の基体に対する接着性は改善される
ものの、未だ、充分に満足できるものではない。
この発明は、かかる現状に鑑み、種々検討を行った結果
なされたもので、重合度が200以下でOH基を2重量
%以上含む塩化ビニル系共重合体を、下塗り層中に含有
させることによって、ポリエステルフィルムと下塗り層
の接着性を改善し、磁性層と下塗り層の接着性を改善し
て、磁性層の基体に対する接着性を充分←向上させたも
のである。
なされたもので、重合度が200以下でOH基を2重量
%以上含む塩化ビニル系共重合体を、下塗り層中に含有
させることによって、ポリエステルフィルムと下塗り層
の接着性を改善し、磁性層と下塗り層の接着性を改善し
て、磁性層の基体に対する接着性を充分←向上させたも
のである。
この発明において、下塗り層に使用される重合度が20
0以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル系共重合
体は、重合度が小さく低粘度であるため、下塗り層を薄
くかつ均一に塗布形成することができ、またOH基を2
重量%以上含むため、この多量のOH基がポリエステル
ベースフィル “広表面の残存C0OH基と強固に結合
するとともに、磁性層表面とのなじみがよ(磁性層表面
にも良好に吸着する。従って、この種の重合度が200
以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル系共重合体
を下塗り層中に含ませると、非常に薄くかつ均一で、ポ
リエステルベースフィルムに対して優れた接着性を示す
とともに、磁性層にも良好に吸着する下塗り層が、ポリ
エステルベースフィルムと磁性層間に形成され、この下
塗り層によって、磁性層の基体に対する接着性が一段と
向上される。
0以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル系共重合
体は、重合度が小さく低粘度であるため、下塗り層を薄
くかつ均一に塗布形成することができ、またOH基を2
重量%以上含むため、この多量のOH基がポリエステル
ベースフィル “広表面の残存C0OH基と強固に結合
するとともに、磁性層表面とのなじみがよ(磁性層表面
にも良好に吸着する。従って、この種の重合度が200
以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル系共重合体
を下塗り層中に含ませると、非常に薄くかつ均一で、ポ
リエステルベースフィルムに対して優れた接着性を示す
とともに、磁性層にも良好に吸着する下塗り層が、ポリ
エステルベースフィルムと磁性層間に形成され、この下
塗り層によって、磁性層の基体に対する接着性が一段と
向上される。
このような重合度が200以下でOH基を2重量%以上
含む塩化ビニル系共重合体としては、たとえば、重合度
が200以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体などが挙げられ、これらは単独で
、あるいは二種以上混合して使用される。また、この種
の重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む塩化
ビニル系共重合体は、従来公知の重合度が300を超え
る同種の共重合体の製造方法に準じて作製される。
含む塩化ビニル系共重合体としては、たとえば、重合度
が200以下でOH基を2重量%以上含む塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体などが挙げられ、これらは単独で
、あるいは二種以上混合して使用される。また、この種
の重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む塩化
ビニル系共重合体は、従来公知の重合度が300を超え
る同種の共重合体の製造方法に準じて作製される。
このような、前記の重合度が200以下でOH基を2重
量%以上含む塩化ビニル系共重合体は、この種の塩化ビ
ニル系共重合体と比較的相溶性のよい従来公知の一般に
磁気記録媒体に使用される結合剤樹脂と併用してもよく
、たとえば、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂
、ビニルアセタール系樹脂、繊維素系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合体、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル
系樹脂等が好適なものとして併用される。なかでも、従
来公知の塩化ビニル系樹脂は、同種で極めて相溶性がよ
いため、特に好ましく併用される。これらの従来公知の
結合剤樹脂と併用する場合、その配合割合は、これらの
従来公知の結合剤樹脂対重合度が200以下でOH基を
2重量%以上含む塩化ビニル系共重合体の比にして、重
量比でO対100〜80対20の範囲内にするのが好ま
しく、重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む
塩化ビニル系共重合体が少なすぎては磁性層のポリエス
テルベースフィルムに対する接着性を充分に向上させる
ことができない。
量%以上含む塩化ビニル系共重合体は、この種の塩化ビ
ニル系共重合体と比較的相溶性のよい従来公知の一般に
磁気記録媒体に使用される結合剤樹脂と併用してもよく
、たとえば、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂
、ビニルアセタール系樹脂、繊維素系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合体、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル
系樹脂等が好適なものとして併用される。なかでも、従
来公知の塩化ビニル系樹脂は、同種で極めて相溶性がよ
いため、特に好ましく併用される。これらの従来公知の
結合剤樹脂と併用する場合、その配合割合は、これらの
従来公知の結合剤樹脂対重合度が200以下でOH基を
2重量%以上含む塩化ビニル系共重合体の比にして、重
量比でO対100〜80対20の範囲内にするのが好ま
しく、重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む
塩化ビニル系共重合体が少なすぎては磁性層のポリエス
テルベースフィルムに対する接着性を充分に向上させる
ことができない。
さらに、この種の重合度が200以下でOH基を2重量
%以上含む塩化ビニル系共重合体は、イソシアネート化
合物、エポキシ化合物基、エチレンイミン化合物等の硬
化剤と併用してもよく、これらの硬化剤を併用すると、
前記塩化ビニル系共重合体中のポリエステルベースフィ
ルム表面に吸着しないで残存するOH基とこれらの硬化
剤の官能基が架橋結合するため、強靭な下塗り層が形成
されるとともに磁性層との接着性が改善され、この下塗
り層を介して磁性層のポリエステルベースフィルムに対
する接着性が充分に向上される。このようなイソシアネ
ート化合物、エポキシ化合物、およびエチレンイミン化
合物等の硬化剤の具体例としては、たとえば、コロネー
トしく日本ポリウレタン工業社製、3官能性低分子量イ
ソシアネート化合物)、エピクロン800 (大日本
インキ化学工業社製、2官能性ビスフエノールタイプ・
エポキシ樹脂)、PAZ33(日本触媒化学社製、3官
能性工チレンイミン化合物)等が挙げられる。使用量は
、下塗り剤樹脂全量に対して1〜40重量%の範囲内で
使用するのが好ましく、少なすぎると所期の効果が得ら
れず、多すぎると下塗り層塗料の粘度上昇が著しくなる
。
%以上含む塩化ビニル系共重合体は、イソシアネート化
合物、エポキシ化合物基、エチレンイミン化合物等の硬
化剤と併用してもよく、これらの硬化剤を併用すると、
前記塩化ビニル系共重合体中のポリエステルベースフィ
ルム表面に吸着しないで残存するOH基とこれらの硬化
剤の官能基が架橋結合するため、強靭な下塗り層が形成
されるとともに磁性層との接着性が改善され、この下塗
り層を介して磁性層のポリエステルベースフィルムに対
する接着性が充分に向上される。このようなイソシアネ
ート化合物、エポキシ化合物、およびエチレンイミン化
合物等の硬化剤の具体例としては、たとえば、コロネー
トしく日本ポリウレタン工業社製、3官能性低分子量イ
ソシアネート化合物)、エピクロン800 (大日本
インキ化学工業社製、2官能性ビスフエノールタイプ・
エポキシ樹脂)、PAZ33(日本触媒化学社製、3官
能性工チレンイミン化合物)等が挙げられる。使用量は
、下塗り剤樹脂全量に対して1〜40重量%の範囲内で
使用するのが好ましく、少なすぎると所期の効果が得ら
れず、多すぎると下塗り層塗料の粘度上昇が著しくなる
。
この発明において基体上に下塗り層を形成するには、前
記の重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む塩
化ビニル系共重合体を、必要な場合は他の結合剤樹脂お
よび硬化剤とともにシクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、トルエン、テトラヒドロフランあるいはこれらの
混合溶剤などのを機熔剤に熔解させ、所望の濃度の溶液
を調整してこれを基体上に塗布すればよく、塗布厚は乾
燥厚で0.05μより薄くなると磁性層の基体に対する
接着性が充分に改善されず、3.θμより厚くなると下
塗り層の厚みむらが磁性層の厚みむらを大きくして磁気
記録媒体に悪影響を及ぼすため、乾燥厚で0.05〜3
.0μの範囲となるように塗布するのが好ましい。
記の重合度が200以下でOH基を2重量%以上含む塩
化ビニル系共重合体を、必要な場合は他の結合剤樹脂お
よび硬化剤とともにシクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、トルエン、テトラヒドロフランあるいはこれらの
混合溶剤などのを機熔剤に熔解させ、所望の濃度の溶液
を調整してこれを基体上に塗布すればよく、塗布厚は乾
燥厚で0.05μより薄くなると磁性層の基体に対する
接着性が充分に改善されず、3.θμより厚くなると下
塗り層の厚みむらが磁性層の厚みむらを大きくして磁気
記録媒体に悪影響を及ぼすため、乾燥厚で0.05〜3
.0μの範囲となるように塗布するのが好ましい。
また、下塗り層上の磁性層の形成は、r−Fe203扮
末、Fe3O4粉末、Co含有r−Fe203粉末、C
O含有Fe3O4粉末、Fe粉末、co粉末、F e
−N i粉末およびバリウムフェライトなどの従来公知
の各種磁性粉末、結合剤樹脂、を機溶剤およびその他の
添加剤を含む磁性塗料を、吹きつけもしくはロール塗な
ど任意の手段で、基体上に形成した下塗り層上に塗布、
乾燥するなどの方法で形成される。
末、Fe3O4粉末、Co含有r−Fe203粉末、C
O含有Fe3O4粉末、Fe粉末、co粉末、F e
−N i粉末およびバリウムフェライトなどの従来公知
の各種磁性粉末、結合剤樹脂、を機溶剤およびその他の
添加剤を含む磁性塗料を、吹きつけもしくはロール塗な
ど任意の手段で、基体上に形成した下塗り層上に塗布、
乾燥するなどの方法で形成される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ 5重量部ルアルコー
ル共重合体(重合 度200、OH基含有量2重 量%) シクロヘキサノン 100〃この組成物
をディスパーで5時間混合分散して下塗り層塗料を調製
し、この下塗り層塗料を厚さ12μのポリエステルベー
スフィルム上に塗布、乾燥して約0.3μ厚の下塗り層
を形成した。
ル共重合体(重合 度200、OH基含有量2重 量%) シクロヘキサノン 100〃この組成物
をディスパーで5時間混合分散して下塗り層塗料を調製
し、この下塗り層塗料を厚さ12μのポリエステルベー
スフィルム上に塗布、乾燥して約0.3μ厚の下塗り層
を形成した。
次いで、この下塗り層上に、下記組成の磁性塗料を乾燥
厚が6μとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成し、
3.81mm巾に裁断して磁気テープをつくった。
厚が6μとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成し、
3.81mm巾に裁断して磁気テープをつくった。
Co含含有−Fe203粉末 80重量部VAGH
(米国U、C,C社製、塩 12〃化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニ ルアルコール共重合体) タケネー1−L(成田薬品工業社 7 〃製、ポリウ
レタンプレポリマー) コロネーH,(日本ポリウレタ 1 〃ン工業社製
、三官能性低分子 量イソンアネート化合物) メチルイソブチルケトン 60〃トルエン
60〃実施例2 実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有N2重量%の塩化ビニル−プロピオン酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体を同量使用した以外は
以外は実施例1と同様にして下塗り層を形成し、磁気テ
ープをつくった。
(米国U、C,C社製、塩 12〃化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニ ルアルコール共重合体) タケネー1−L(成田薬品工業社 7 〃製、ポリウ
レタンプレポリマー) コロネーH,(日本ポリウレタ 1 〃ン工業社製
、三官能性低分子 量イソンアネート化合物) メチルイソブチルケトン 60〃トルエン
60〃実施例2 実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有N2重量%の塩化ビニル−プロピオン酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体を同量使用した以外は
以外は実施例1と同様にして下塗り層を形成し、磁気テ
ープをつくった。
実施例3
実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−アクリル酸エス
テル共重合体を同量使用した以外は以外は実施例1と同
様にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−アクリル酸エス
テル共重合体を同量使用した以外は以外は実施例1と同
様にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
実施例4
実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有N2重量%の塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体を、同量使用した以外は、実施例1と同様にし
て下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、重合度200
、OH基含有N2重量%の塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体を、同量使用した以外は、実施例1と同様にし
て下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
実施例5
実施例1における下塗り層塗料の組成において、さらに
コロネートLを0.5重量部加えた以外は実施例1と同
様にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
コロネートLを0.5重量部加えた以外は実施例1と同
様にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
実施例6
実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体の使用量を5重量部から
2.5重量部に変更し、新たに無定形線状飽和ポリエス
テル樹脂を2.5重量部加えた以外は、実施例1と同様
にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
200、OH基含有量2重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体の使用量を5重量部から
2.5重量部に変更し、新たに無定形線状飽和ポリエス
テル樹脂を2.5重量部加えた以外は、実施例1と同様
にして下塗り層を形成し、磁気テープをつくった。
比較例1
実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有92重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、VAGH(米
国U、C,C社製塩化ビニルー酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体、重合度400、OH基含有92重量%
)を同量使用した以外は実施例1と同様にして下塗り層
を形成し、磁気テープをつくった。
200、OH基含有92重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、VAGH(米
国U、C,C社製塩化ビニルー酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体、重合度400、OH基含有92重量%
)を同量使用した以外は実施例1と同様にして下塗り層
を形成し、磁気テープをつくった。
比較例2
実施例1における下塗り層塗料の組成において、重合度
200、OH基含有92重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、無定形線状飽
和ポリエステル樹脂〔イソフタル酸、セバシン酸、エチ
レングリコールのターポリマー、平均分子量:1700
0、極限粘度(30°C、フェノール/テトラクロルエ
タン−6/4の0.5%溶液:0.54) )を同量使
用した以外は実施例1と同様にして下塗り層を形成し、
磁気テープをつくった。
200、OH基含有92重量%の塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体に代えて、無定形線状飽
和ポリエステル樹脂〔イソフタル酸、セバシン酸、エチ
レングリコールのターポリマー、平均分子量:1700
0、極限粘度(30°C、フェノール/テトラクロルエ
タン−6/4の0.5%溶液:0.54) )を同量使
用した以外は実施例1と同様にして下塗り層を形成し、
磁気テープをつくった。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
、磁性層の基体に対する接着性を試験した。接着性試験
は、3.81mm巾磁気テープの磁性層の表面に10m
m巾で長さ10cmの粘着テープを貼りつけた後、1m
/secの速度で瞬゛間的に引き剥がして行い、磁性層
の剥離が生じたときの荷重の大きさで、接着性を評価し
た。
、磁性層の基体に対する接着性を試験した。接着性試験
は、3.81mm巾磁気テープの磁性層の表面に10m
m巾で長さ10cmの粘着テープを貼りつけた後、1m
/secの速度で瞬゛間的に引き剥がして行い、磁性層
の剥離が生じたときの荷重の大きさで、接着性を評価し
た。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ(実施例1〜6)は、いずれも従来の磁気テープ(比
較例1および2)に比し、磁性層が剥離する際の荷重が
大きく、このことからこの発明によって得られる磁気記
録媒体は、磁性層の基体に対する接着性が改善されてい
ることがわかる。
プ(実施例1〜6)は、いずれも従来の磁気テープ(比
較例1および2)に比し、磁性層が剥離する際の荷重が
大きく、このことからこの発明によって得られる磁気記
録媒体は、磁性層の基体に対する接着性が改善されてい
ることがわかる。
Claims (1)
- 1、基体上に重合度が200以下でOH基を2重量%以
上含む塩化ビニル系共重合体が含まれてなる下塗り層を
形成し、この下塗り層上に磁性層を設けたことを特徴と
する磁気記録媒体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25430784A JPS61133016A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25430784A JPS61133016A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61133016A true JPS61133016A (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=17263170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25430784A Pending JPS61133016A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61133016A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005228464A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-08-25 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-11-30 JP JP25430784A patent/JPS61133016A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005228464A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-08-25 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
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