JPS61190507A - 医用材料 - Google Patents
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な架橋剤を必須成分とする医用材料に関し
、とくに親水性モノマーおよび(または)疎水性モノマ
ーを主成分とする重合体において有用な架橋剤を利用し
た医用材料に関するものであるO 本発明の医用材料は、コンタクトレンズ、眼内レンズ、
カテーテル、カニユーレおよびその他の人工臓器をはじ
めとする医療用材料として利用でき、また医療産業分野
以外の各種膜材料などにも利用可能である。
、とくに親水性モノマーおよび(または)疎水性モノマ
ーを主成分とする重合体において有用な架橋剤を利用し
た医用材料に関するものであるO 本発明の医用材料は、コンタクトレンズ、眼内レンズ、
カテーテル、カニユーレおよびその他の人工臓器をはじ
めとする医療用材料として利用でき、また医療産業分野
以外の各種膜材料などにも利用可能である。
架橋剤とは、鎖状構造をもつ天然および合成高分子など
を結びつけて新しい化学結合をつくり、三次元の網状構
造をもたらしめるものであり、こうした架橋反応により
、高分子物質の物理的、化学的諸性質を著しく変化させ
ることができ、産業上重要なものである。通常の場合、
高分子内(重合体分子内)に存在する極性の官能基を利
用して、適当な架橋剤でその官能基を結合させることに
より分子間の架橋を行わせることが多い。この場合用い
られる架橋剤としては、たとえばジビニル系やジアリル
系化合物、またはジ(メタ)アクリロイル系化合物など
の重合性不飽和化合物が一般的である。
を結びつけて新しい化学結合をつくり、三次元の網状構
造をもたらしめるものであり、こうした架橋反応により
、高分子物質の物理的、化学的諸性質を著しく変化させ
ることができ、産業上重要なものである。通常の場合、
高分子内(重合体分子内)に存在する極性の官能基を利
用して、適当な架橋剤でその官能基を結合させることに
より分子間の架橋を行わせることが多い。この場合用い
られる架橋剤としては、たとえばジビニル系やジアリル
系化合物、またはジ(メタ)アクリロイル系化合物など
の重合性不飽和化合物が一般的である。
近年、高分子材料の医療産業分野への利用が進むにつれ
て、とくに親水性材料についての関心が高まってあり、
こうした親水性材料は医用材料や産業上の各種膜材料な
どに用いられるようIこなっている。
て、とくに親水性材料についての関心が高まってあり、
こうした親水性材料は医用材料や産業上の各種膜材料な
どに用いられるようIこなっている。
従来、こうした親水性材料は、たとえば含水性コンタク
トレンズの場合には、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、N−ビニルピロリドン、アクリルアンド、メタク
リル酸などで代表される一水性七ノマーに、形状安定性
、力学的特性およびfII媒に対する耐溶解性などを向
上させる目的で、エチレングリコールジメタクリレート
やアリルメタクリレートなどで代擬される架橋剤を加え
て1合することにより、#4mlされでいた。しかし、
通常!用される架橋剤は親水性が光分でないために、便
用臆を壇力口させると、親水性材料がとくに含水性材料
の場合、含水率を低下させてしまうといつ間m+;gL
でおり、こうした間14は、たとえば前記含水性コンタ
クトレンズを盛運する場合において、架橋剤の使用1t
を瑠カロさせると、所望の含水率を維持することができ
ないといった問題が生じでいた。
トレンズの場合には、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、N−ビニルピロリドン、アクリルアンド、メタク
リル酸などで代表される一水性七ノマーに、形状安定性
、力学的特性およびfII媒に対する耐溶解性などを向
上させる目的で、エチレングリコールジメタクリレート
やアリルメタクリレートなどで代擬される架橋剤を加え
て1合することにより、#4mlされでいた。しかし、
通常!用される架橋剤は親水性が光分でないために、便
用臆を壇力口させると、親水性材料がとくに含水性材料
の場合、含水率を低下させてしまうといつ間m+;gL
でおり、こうした間14は、たとえば前記含水性コンタ
クトレンズを盛運する場合において、架橋剤の使用1t
を瑠カロさせると、所望の含水率を維持することができ
ないといった問題が生じでいた。
こうした背景により、架橋剤を必要量加えて瀘合させた
場合でも、従来のものより架橋剤自体の親水性が高く、
それにより親水性材料の含水率の低下を最小限とすると
ともに、材料の形状安定性。
場合でも、従来のものより架橋剤自体の親水性が高く、
それにより親水性材料の含水率の低下を最小限とすると
ともに、材料の形状安定性。
力学的特性および溶媒に対する耐溶解性などに充分満足
のいく効果を発揮させる架橋剤が望まれていた。
のいく効果を発揮させる架橋剤が望まれていた。
本発明者は、前述のごとき従来の実情を鑑み、鋭意研究
を重ねた結果、本発明における新規な架橋剤を使用する
ことが、前記問題点を解決する上で極めて合目的的であ
ることを見い出し、本発明を完成するにいたった。
を重ねた結果、本発明における新規な架橋剤を使用する
ことが、前記問題点を解決する上で極めて合目的的であ
ることを見い出し、本発明を完成するにいたった。
すなわち、本発明は六価アルコールにおいて、少なくと
も2個の水酸基lこ重合基を導入し、他の水酸基をケタ
ール化した架橋剤と、親水性七ツマ−および(または)
疎水性モノマーを主成分とする重合体を酸処理してえら
れる医用材料を提供するものである。
も2個の水酸基lこ重合基を導入し、他の水酸基をケタ
ール化した架橋剤と、親水性七ツマ−および(または)
疎水性モノマーを主成分とする重合体を酸処理してえら
れる医用材料を提供するものである。
本発明を、以下にさらIこ詳しく説明する。
本発明に使用される架橋剤の重合基の数は、架橋剤とし
ての機能(架橋性)を付与するために少なくとも2個以
上必要であるが、重合基の数が多すぎるとかえって架橋
性が高すぎて脆い材料になりやすい。したがって2個が
最も好ましい。
ての機能(架橋性)を付与するために少なくとも2個以
上必要であるが、重合基の数が多すぎるとかえって架橋
性が高すぎて脆い材料になりやすい。したがって2個が
最も好ましい。
そこで、六価のアルコールに重合基を2個導入するため
には、ケタール基で代表される保護基で4個の水酸基を
保論し、つぎに残りの2個の水酸基と重合性不飽和基金
Mハロゲン化物とを反応させることにより、容易lこ達
成できる。とくに保護基としてケタール基を用いること
は、有用なことである。すなわち、たとえば六価のアル
コールのうちで代表的なものであるヘキシトールをケタ
ール化した場合、ケタール基は隣接する2個の水酸基を
同時に保護することができるので、ヘキシトールの6個
の水酸基のうち4個までがケタール化され、2個の水酸
基はケタール化さ几ずに残る場合が多く、この残った2
個の水酸基の位置に各々1個の1合基を導入すれば、所
望の架橋剤を得ることができる。
には、ケタール基で代表される保護基で4個の水酸基を
保論し、つぎに残りの2個の水酸基と重合性不飽和基金
Mハロゲン化物とを反応させることにより、容易lこ達
成できる。とくに保護基としてケタール基を用いること
は、有用なことである。すなわち、たとえば六価のアル
コールのうちで代表的なものであるヘキシトールをケタ
ール化した場合、ケタール基は隣接する2個の水酸基を
同時に保護することができるので、ヘキシトールの6個
の水酸基のうち4個までがケタール化され、2個の水酸
基はケタール化さ几ずに残る場合が多く、この残った2
個の水酸基の位置に各々1個の1合基を導入すれば、所
望の架橋剤を得ることができる。
前d己へキシトールは、OH,0H(OHOH) 40
H,OHの構造を有する化合物であり、具体的lこは、
たとエバソルビトール、マンニトール、イシトール。
H,OHの構造を有する化合物であり、具体的lこは、
たとエバソルビトール、マンニトール、イシトール。
タリトール、ズルシトール、アリトールなどがある。
ヘキシトールのケタール化反i1ごついては、たとえば
特開1@58−176618号公報に記載の方法と同様
にして行うことができる。つまり、ヘキシトールをケト
ン化合物、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキナノン、アセトフェノン、メチルイソブチルケ
トンなどと反応させることにより実施される。この場合
、溶媒は必要fこより使用されつるが、使用する場合は
、反応を阻害しないものであわばよく、たとえばn−へ
キサン、ベンゼン、キシレンなどがあげられる。溶媒を
使用しないときは、ケトン化合物を過剰に使用すればよ
い。
特開1@58−176618号公報に記載の方法と同様
にして行うことができる。つまり、ヘキシトールをケト
ン化合物、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキナノン、アセトフェノン、メチルイソブチルケ
トンなどと反応させることにより実施される。この場合
、溶媒は必要fこより使用されつるが、使用する場合は
、反応を阻害しないものであわばよく、たとえばn−へ
キサン、ベンゼン、キシレンなどがあげられる。溶媒を
使用しないときは、ケトン化合物を過剰に使用すればよ
い。
な$、ヘキシトールの4個の水酸基をケタール化するた
めには、ケタール化反応に使用するケトン化合物が、ヘ
キシトール1モルに対して少なくとも2モル必要である
。
めには、ケタール化反応に使用するケトン化合物が、ヘ
キシトール1モルに対して少なくとも2モル必要である
。
反応温度と反応時間は、使用するケトン化合物の種類や
量により異なり、−概には言えないが、通常的10〜1
40℃の範囲で、約2時間〜7日間反応させるのが好ま
しい。
量により異なり、−概には言えないが、通常的10〜1
40℃の範囲で、約2時間〜7日間反応させるのが好ま
しい。
つぎに、ケタール化したヘキシトールに少なくとも2個
の重合基を導入する反応について述べる。
の重合基を導入する反応について述べる。
重合基導入反応は、ケタール化したヘキシトールと重合
性不飽和基含有ハロゲン化物、たとえばメタクリル酸ク
ロライドやアクリル酸クロ2イドなどの(メタ)アクリ
ル酸ハライドとを反応させる。この場合、ケタール化し
たヘキシトールは固体として得られるので、これを#屏
して反応を進めるためlこ、クロロホルムやアセトンな
どの溶媒の存在下で行うのが好ましい。
性不飽和基含有ハロゲン化物、たとえばメタクリル酸ク
ロライドやアクリル酸クロ2イドなどの(メタ)アクリ
ル酸ハライドとを反応させる。この場合、ケタール化し
たヘキシトールは固体として得られるので、これを#屏
して反応を進めるためlこ、クロロホルムやアセトンな
どの溶媒の存在下で行うのが好ましい。
なお、架橋剤として重合基を少なくとも2個導入するた
めには、重合性不飽和基含有ハロゲン化物が、ヘキシト
ール1%ルIこ対して、少なくとも2モル必要である。
めには、重合性不飽和基含有ハロゲン化物が、ヘキシト
ール1%ルIこ対して、少なくとも2モル必要である。
反応温度と反応時間は、使用する重合性不飽和基含有ハ
ロゲン化物の種類や址により異なり一概lこは言えない
が、反応熱が発生するので、通常的0〜20℃に保ち、
約2時間〜数十時間反応させるのが好ましい。
ロゲン化物の種類や址により異なり一概lこは言えない
が、反応熱が発生するので、通常的0〜20℃に保ち、
約2時間〜数十時間反応させるのが好ましい。
該重合基導入反応段階においては、ハロゲン化水素が発
生するので、このハロゲン化水素を除去するために、ト
リエチルアミンなどのアミン化合物を加えてもよい。
生するので、このハロゲン化水素を除去するために、ト
リエチルアミンなどのアミン化合物を加えてもよい。
以下に、前述のとおり調製さnた架橋剤を使用した本発
明の親水性材料について述べる。親水性材料の成分にお
いて、本発明における架橋剤を好ましく適用するために
使用する親水性モノマーとしては、たとえば(メタ)ア
クリル酸;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシ−2
−メチルクロビル(メタ)アクリレート、2゜3−ジヒ
ドロキシクロビル(メタ)アクリレートなどのヒドロキ
シエルキル(メタ)アクリレートジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メタ
)アクリレート、プロピレングリコール(メタ)アクリ
レートなどのアルキレングリコール(メタ)クリレー)
; 3−ヒドロキシグリセロール(メタ)アク!J
v −トt2−エチルヘキソキシグリセロ−ル(メタ)
アクリレート、フェノキシグリセロール(メタ)アクリ
レートなどのヒドロキシ、アルコキシまたはアリールオ
キシグリセロール(メタ)アクリレート;(メタ)アク
リルアミド;N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、 N、N−
ジメチル(メタ)アクリルアミドなどのN−置換(メタ
)アクリルアミド:(メタ)アクリロイルオキシエチル
アミンなどの(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミ
ン:N−メチル(メタ)アクリロイルオキシエチルアミ
ン、 N、N−ジメチル(メタ)アクリロイルオキシエ
チルアミンなどのN−置換(メタ)アクリジイルオキシ
アルキルアミン;α−メチレン−N−メチルピロリドン
;N−ビニルピロリドン、N−ビニルピペリジンなどの
N−ビニルラクタム漬などがあげられ、これらのうち1
種もしくは2種以上を組み合わせて使用してもよいし、
これらの成分を単独もしくは主成分とするマクロ七ツマ
−として使用してもよい。
明の親水性材料について述べる。親水性材料の成分にお
いて、本発明における架橋剤を好ましく適用するために
使用する親水性モノマーとしては、たとえば(メタ)ア
クリル酸;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシ−2
−メチルクロビル(メタ)アクリレート、2゜3−ジヒ
ドロキシクロビル(メタ)アクリレートなどのヒドロキ
シエルキル(メタ)アクリレートジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メタ
)アクリレート、プロピレングリコール(メタ)アクリ
レートなどのアルキレングリコール(メタ)クリレー)
; 3−ヒドロキシグリセロール(メタ)アク!J
v −トt2−エチルヘキソキシグリセロ−ル(メタ)
アクリレート、フェノキシグリセロール(メタ)アクリ
レートなどのヒドロキシ、アルコキシまたはアリールオ
キシグリセロール(メタ)アクリレート;(メタ)アク
リルアミド;N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、 N、N−
ジメチル(メタ)アクリルアミドなどのN−置換(メタ
)アクリルアミド:(メタ)アクリロイルオキシエチル
アミンなどの(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミ
ン:N−メチル(メタ)アクリロイルオキシエチルアミ
ン、 N、N−ジメチル(メタ)アクリロイルオキシエ
チルアミンなどのN−置換(メタ)アクリジイルオキシ
アルキルアミン;α−メチレン−N−メチルピロリドン
;N−ビニルピロリドン、N−ビニルピペリジンなどの
N−ビニルラクタム漬などがあげられ、これらのうち1
種もしくは2種以上を組み合わせて使用してもよいし、
これらの成分を単独もしくは主成分とするマクロ七ツマ
−として使用してもよい。
マタ、ジヒドロキシ(メタ)アクリレートなどの2個の
隣接する水酸基を有する化合物をケタール化したもの、
たとえば2,3−ア七トングリセロール(メタ)アクリ
レート、2−メチル−2−エチル−4−(メタ)アクリ
ロイルオキシメチル−1,3−ジオキソ2ン、メチル−
2,3−ア七トングリセロール(メタ)アクリレートな
ども前記親水性七ツマ−と同等の作用を発揮するものと
して使用することができる。
隣接する水酸基を有する化合物をケタール化したもの、
たとえば2,3−ア七トングリセロール(メタ)アクリ
レート、2−メチル−2−エチル−4−(メタ)アクリ
ロイルオキシメチル−1,3−ジオキソ2ン、メチル−
2,3−ア七トングリセロール(メタ)アクリレートな
ども前記親水性七ツマ−と同等の作用を発揮するものと
して使用することができる。
前記親水性七ツマー以外の成分も親水性モノマーとあわ
愉て、材料の力学的特性(強直、硬寂。
愉て、材料の力学的特性(強直、硬寂。
弾性)、形状安定性、耐久性、気体透過性、汚れに対す
る抗汚染性などの諸物性の向上のために使用することが
できる。こうした成分としては、たとえば、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロ
ピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、ペンチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(
メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート。
る抗汚染性などの諸物性の向上のために使用することが
できる。こうした成分としては、たとえば、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロ
ピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、ペンチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(
メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート。
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テシル(メタ)
アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレートなどの鎖
状または環状アルキル(メタ)アクリレート;ベンジル
(メタ)アクリレート;スチレ/;トリス(トリメチル
シロキシ)シリルプロピル(メタ)アクリレート、メチ
ルビス(トリメチルシロキシ)シリルクロビルグリセロ
ール(メタ)アクリレート、メチルビス(トリメチルシ
ロキシ)シリルクロビルグリ七ロールエチル(メタ)ア
クリレートなどのけい素富有(メタ)アクリレート;
2 e 2 t 2−)リフルオロエテル(メタ)アク
リレ−) = Z−L3t3−テトラフルオロクロビル
(メタ)アクリレート、2.2.2−)リフルオLff
−1−)リフルオロメチルエチル(メタ)アクリレート
などの7ツ索含有(メタ)アクリレートなどの疎水注量
ツマ−があげられ、これらのうち1種もしくは23以上
を組み合わせて使用してもよいし、こわらの成分を単独
もしくは主成分とするマクロモノマーとしで使用しても
よい。
アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレートなどの鎖
状または環状アルキル(メタ)アクリレート;ベンジル
(メタ)アクリレート;スチレ/;トリス(トリメチル
シロキシ)シリルプロピル(メタ)アクリレート、メチ
ルビス(トリメチルシロキシ)シリルクロビルグリセロ
ール(メタ)アクリレート、メチルビス(トリメチルシ
ロキシ)シリルクロビルグリ七ロールエチル(メタ)ア
クリレートなどのけい素富有(メタ)アクリレート;
2 e 2 t 2−)リフルオロエテル(メタ)アク
リレ−) = Z−L3t3−テトラフルオロクロビル
(メタ)アクリレート、2.2.2−)リフルオLff
−1−)リフルオロメチルエチル(メタ)アクリレート
などの7ツ索含有(メタ)アクリレートなどの疎水注量
ツマ−があげられ、これらのうち1種もしくは23以上
を組み合わせて使用してもよいし、こわらの成分を単独
もしくは主成分とするマクロモノマーとしで使用しても
よい。
本発明゛における架橋剤の使用量については、種々の目
的に応じ、適轟量使用すればよいが、全重合成分100
部(重量部、以下同じ)に対して、約0.05部以上が
好ましい。ただし、とくに親水性組成物に混合する場合
には、使用量が約5部をこえると均一に混合しにくくな
る。
的に応じ、適轟量使用すればよいが、全重合成分100
部(重量部、以下同じ)に対して、約0.05部以上が
好ましい。ただし、とくに親水性組成物に混合する場合
には、使用量が約5部をこえると均一に混合しにくくな
る。
また、前述の親水性モノマーおよび疎水性モノマーの使
用量については、目的に応じて所望量使用すればよいが
、前記親水性材料の成分のなかでも、とりわけヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、ヒドロ争ジプロピル(
メタ)アクリレート。
用量については、目的に応じて所望量使用すればよいが
、前記親水性材料の成分のなかでも、とりわけヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、ヒドロ争ジプロピル(
メタ)アクリレート。
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのようなヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートを全重合成分1
00部に対して、約50部以上使用した場合に、本発明
に使用する架橋剤の望ましい効果が顕著Iこ現われる。
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートを全重合成分1
00部に対して、約50部以上使用した場合に、本発明
に使用する架橋剤の望ましい効果が顕著Iこ現われる。
親水性材料は、前述のごとき、本発明に使用する架橋剤
と稽々の成分とを均一に混合し、さらζ、ζ重合開始剤
を加えて、通常の重合方法により調製することができる
。
と稽々の成分とを均一に混合し、さらζ、ζ重合開始剤
を加えて、通常の重合方法により調製することができる
。
使用される重合開始剤としては、たとえば2,2′−ア
ゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)。
ゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)。
2.2′−アゾビス(4−メチルメトキシ−2,4−ジ
メチルバレロニトリル)、アゾビスイソブチロニトリル
、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロ
パーオキサイド、過酸化ベンゾイルなどがあげられ、そ
の使用量は、全重合成分100部に対して、約0.01
〜2部が好ましい。
メチルバレロニトリル)、アゾビスイソブチロニトリル
、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロ
パーオキサイド、過酸化ベンゾイルなどがあげられ、そ
の使用量は、全重合成分100部に対して、約0.01
〜2部が好ましい。
重合方法としては、通常の塊状重合または溶液重合のい
ずれでもよい。溶液重合による場合、使用する溶媒は重
合反応を阻害しないものであり、かつ使用する全成分を
溶解できるものであればよく、たとえばアセトニトリル
、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミドなどを使用することができる。また、
いずれの重合方法による場合においても、昇温方式、た
とえば約40〜501℃にて数時間〜数十時間加温重合
すればよく、とくに塊状重合の場合には、焼き入れをし
て重合を完結するのが好ましい。
ずれでもよい。溶液重合による場合、使用する溶媒は重
合反応を阻害しないものであり、かつ使用する全成分を
溶解できるものであればよく、たとえばアセトニトリル
、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミドなどを使用することができる。また、
いずれの重合方法による場合においても、昇温方式、た
とえば約40〜501℃にて数時間〜数十時間加温重合
すればよく、とくに塊状重合の場合には、焼き入れをし
て重合を完結するのが好ましい。
成形も通常の方法により行うことができる。たとえば、
重合を所望の物品、たとえばコンタクトレンズなどの形
状に対応した臘の中で行って成形し、さらに必要に広し
て機械的lこ仕上げ加工してもよいし、また、重合を適
当な型または容器の中で行い、ブロック状、板状または
棒状としたのち、切削・研磨などの機械加工により、所
望の物品の形状に成形してもよい。
重合を所望の物品、たとえばコンタクトレンズなどの形
状に対応した臘の中で行って成形し、さらに必要に広し
て機械的lこ仕上げ加工してもよいし、また、重合を適
当な型または容器の中で行い、ブロック状、板状または
棒状としたのち、切削・研磨などの機械加工により、所
望の物品の形状に成形してもよい。
こうして得られた成形物を、特開昭58−176618
号会報に記載の方法と同様にして、種々の有機酸または
無機酸を使用して酸処理(親水住処jりすることにより
、重合体中のケタール基を水酸基に置換する。すなわち
、加水分解lこよって脱ケタール化反応をすることによ
り、成形物の親水性をより向上させることができる。
号会報に記載の方法と同様にして、種々の有機酸または
無機酸を使用して酸処理(親水住処jりすることにより
、重合体中のケタール基を水酸基に置換する。すなわち
、加水分解lこよって脱ケタール化反応をすることによ
り、成形物の親水性をより向上させることができる。
なお、重合させる際に、たとえばエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセ
リン、水などの重合反応に対して不活性な物質を湿潤剤
として使用して重合を行い、得らnた重合体を成形した
のちに、前記の酸処理をしてもよい。この場合、重合体
中に含浸された前記湿潤剤を介して、酸#Igが有効に
1合体内lこ浸透するため、所期の脱ケタール化反応を
効率的に行うことが回層となり、これらの湿潤剤は、酸
処理ののち水和処理をすることにより容易に水と置換す
ることができる。
プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセ
リン、水などの重合反応に対して不活性な物質を湿潤剤
として使用して重合を行い、得らnた重合体を成形した
のちに、前記の酸処理をしてもよい。この場合、重合体
中に含浸された前記湿潤剤を介して、酸#Igが有効に
1合体内lこ浸透するため、所期の脱ケタール化反応を
効率的に行うことが回層となり、これらの湿潤剤は、酸
処理ののち水和処理をすることにより容易に水と置換す
ることができる。
前記酸処理に便用される軟としでは、たとえば塩酸、&
を酸、リン酸、酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢mなどがあ
げられる。使用する処理液の酸の一度が高い4曾には、
レンズ#質の劣化を招来したりククックを生じたりする
危険性があるため、酸処理は徐々にまたは段階的ξζ誠
のm寂を高めて行うのが好ましい・は績戚および錫層時
間は、処理する成形物の材質や使用する酸の種類により
で異なるため一概には首えないが、約3〜90チの画表
1ζおいて13111下で約1時間〜20日間6颯する
のが好ましい◎ 酸処理された成形物中にS′mする酸を収り除くために
は、炭酸ナトリウムなどIこよるアルカリ白水#i液に
浸漬して中和処4したり、さらには、水または主通食塩
水中で&漬または煮沸処理をしたすするのが好ましい〇 〔実施例〕 本発明を、具体的な実施例にもとづき説明する。
を酸、リン酸、酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢mなどがあ
げられる。使用する処理液の酸の一度が高い4曾には、
レンズ#質の劣化を招来したりククックを生じたりする
危険性があるため、酸処理は徐々にまたは段階的ξζ誠
のm寂を高めて行うのが好ましい・は績戚および錫層時
間は、処理する成形物の材質や使用する酸の種類により
で異なるため一概には首えないが、約3〜90チの画表
1ζおいて13111下で約1時間〜20日間6颯する
のが好ましい◎ 酸処理された成形物中にS′mする酸を収り除くために
は、炭酸ナトリウムなどIこよるアルカリ白水#i液に
浸漬して中和処4したり、さらには、水または主通食塩
水中で&漬または煮沸処理をしたすするのが好ましい〇 〔実施例〕 本発明を、具体的な実施例にもとづき説明する。
実施例1
ズルシトール(半井化学薬品■製、商品名ズルシット)
100F、アセトン31を秤取して攪拌した後、濃塩酸
34mノを滴下し、4日間攪拌を続は反応させ、しかる
後に上澄液を採取した。ついで沈澱している未反応ズル
シトールにアセトン31、濃塩酸40m1を加え、1日
間攪拌して反応させた後、前記上澄液と反応液とを合わ
せて、5チ水酸化ナトリウム水溶液で塩酸を中和し、ア
セトンを減圧除去し、しかる後にクロロホルム1ノで抽
出した。ついでクロロホルム層を無水硫酸−ジアセトン
ズルシトール(以下IPDと称す)の粗結晶を得た。得
られたIPDの結晶をメタノS)、融点は145〜15
6℃であった。
100F、アセトン31を秤取して攪拌した後、濃塩酸
34mノを滴下し、4日間攪拌を続は反応させ、しかる
後に上澄液を採取した。ついで沈澱している未反応ズル
シトールにアセトン31、濃塩酸40m1を加え、1日
間攪拌して反応させた後、前記上澄液と反応液とを合わ
せて、5チ水酸化ナトリウム水溶液で塩酸を中和し、ア
セトンを減圧除去し、しかる後にクロロホルム1ノで抽
出した。ついでクロロホルム層を無水硫酸−ジアセトン
ズルシトール(以下IPDと称す)の粗結晶を得た。得
られたIPDの結晶をメタノS)、融点は145〜15
6℃であった。
実施例2
IPDの結晶151 (0,06moAり、溶媒として
クロロホルム300mj?を秤取し、攪拌して結晶を溶
解した。ついでトリエチルアミン26gを加えて攪拌し
、さらIこ溶液を10℃前後に保ちながら、メタクリル
酸クロライド28 、li+ (0,27mol)を滴
下し、16時間攪拌して反応させた。
クロロホルム300mj?を秤取し、攪拌して結晶を溶
解した。ついでトリエチルアミン26gを加えて攪拌し
、さらIこ溶液を10℃前後に保ちながら、メタクリル
酸クロライド28 、li+ (0,27mol)を滴
下し、16時間攪拌して反応させた。
その後、メタノール51Iを滴下し、5時間攪拌をリロ
イル−2,3:5.6 −ジアセトンズルシトール(以
下IPDDMAと称す、、)の白色粉末を得た。
イル−2,3:5.6 −ジアセトンズルシトール(以
下IPDDMAと称す、、)の白色粉末を得た。
収量は10.p(収率421)%融点は137℃〜14
3℃であった。
3℃であった。
実施例3
IPDの結晶34g(0,13moJ)、溶媒としてア
セトン1200ml % )リエチルアミン30i1
メタクリル酸クロライド311 (0,30mob)を
用いて実施例2と同様にして17.5時間反応させで、
白色粉末のIPDDMAを得た。収量は弁キ/It た0 得らnたIPDDMAの赤外線吸収スペクトル(以下I
R,スペクトルと称す)を臭化カリタム錠剤法にて測定
し、その結果を第1図に示す。
セトン1200ml % )リエチルアミン30i1
メタクリル酸クロライド311 (0,30mob)を
用いて実施例2と同様にして17.5時間反応させで、
白色粉末のIPDDMAを得た。収量は弁キ/It た0 得らnたIPDDMAの赤外線吸収スペクトル(以下I
R,スペクトルと称す)を臭化カリタム錠剤法にて測定
し、その結果を第1図に示す。
また、IPDDMAの−H−核磁気共鳴スペクトル(以
下“H−NMRスペクトルと称す)を測定し、第2図に
示す。ただし、溶媒として重水素化クロロホルム、基準
物質としてテトラメチルシラン(以下TMSと称す)を
使用した。
下“H−NMRスペクトルと称す)を測定し、第2図に
示す。ただし、溶媒として重水素化クロロホルム、基準
物質としてテトラメチルシラン(以下TMSと称す)を
使用した。
な$、IINスペクトルは、日本分光A−202屋赤外
分光元度計(日本分光工業−Iiり8用いて測定シ、1
H−NMR,スペクトルは、日本電子JNM−PMX6
0型核磁気共鳴装置t(日本軍子■製)を用いて測定し
た。
分光元度計(日本分光工業−Iiり8用いて測定シ、1
H−NMR,スペクトルは、日本電子JNM−PMX6
0型核磁気共鳴装置t(日本軍子■製)を用いて測定し
た。
実施例4〜6
表1に示す各種成分を配合し、ポリプロピレン製試験管
に入れ、恒温水槽中にて35°0で2日間、50℃で2
日間重合させ、さらに熱風循環乾燥器にて、50υ〜1
10℃で24時間段階的に加熱重合を行ない、棒状の重
合体を得た。こ几を所定の寸法に切削研磨加工し、水中
で1晩浸漬して膨潤させ、4N塩酸水溶液lこ1晩浸漬
して脱ケタール化処理(親水化石理)を行なった。つい
で1%炭酸ナトIJクム水溶液中に浸漬して中和処理を
行ない、水中に1晩浸漬し、水で洗浄後、0.9チ生理
食塩水中で煮佛°した。得られた試験片の含水率、ゴム
硬度、線膨潤係数および屈折率を測定し、その結果を或
lに示T0 なおs ml定した物性は、下記のようlこして測定し
た。
に入れ、恒温水槽中にて35°0で2日間、50℃で2
日間重合させ、さらに熱風循環乾燥器にて、50υ〜1
10℃で24時間段階的に加熱重合を行ない、棒状の重
合体を得た。こ几を所定の寸法に切削研磨加工し、水中
で1晩浸漬して膨潤させ、4N塩酸水溶液lこ1晩浸漬
して脱ケタール化処理(親水化石理)を行なった。つい
で1%炭酸ナトIJクム水溶液中に浸漬して中和処理を
行ない、水中に1晩浸漬し、水で洗浄後、0.9チ生理
食塩水中で煮佛°した。得られた試験片の含水率、ゴム
硬度、線膨潤係数および屈折率を測定し、その結果を或
lに示T0 なおs ml定した物性は、下記のようlこして測定し
た。
(含水率)
20°0にて、次式に従って測定した口ただし、Wは平
衡含水状態での試験片の重量、We は乾燥状態での
試験片のX*+表す。
衡含水状態での試験片の重量、We は乾燥状態での
試験片のX*+表す。
(ゴム硬度)
JIS規格に6301に従りて測定した〇(線膨潤率)
20℃にて、次式lこ従って測定した。
ただし、Lは平衡含水状態での試験片の直径、lは乾燥
状態での試験片の直径を茨す。
状態での試験片の直径を茨す。
(屈折率)
2o+ ・
屈折率(n ) は、エルマ新型アツベ屈折率り
計を使用し、20℃、相対湿度50%の恒温恒湿室内に
て測定した。
て測定した。
比較例1〜6
表1に示す配合にて、冥j例4〜6と同様にして、本発
明における架橋剤を使用するかわりに、通常の架橋剤を
使用して、試頼片を得た。物性として含水率およびゴム
硬度も同様にして測定し、その結果を41にあわせて示
した。
明における架橋剤を使用するかわりに、通常の架橋剤を
使用して、試頼片を得た。物性として含水率およびゴム
硬度も同様にして測定し、その結果を41にあわせて示
した。
実施例4〜6および比較例1〜6についで、20℃にお
ける、架橋剤添加量1チ当たりの含水率低下量、架橋剤
添加ifチ当たりのゴム硬度増大量およびゴム硬度増大
に対する含水率低下の割合として下記のように設定した
効果指数を表2に示す。
ける、架橋剤添加量1チ当たりの含水率低下量、架橋剤
添加ifチ当たりのゴム硬度増大量およびゴム硬度増大
に対する含水率低下の割合として下記のように設定した
効果指数を表2に示す。
(効果指数)
以上の結果から、低首水性または中吉水性親水性材料に
おいては、とくに従来から通常使用される架橋剤と比べ
て、本発明に使用する架橋剤は含水率の低下を極めて小
さくシ、同時にゴム硬度を増大させることがわかる。
おいては、とくに従来から通常使用される架橋剤と比べ
て、本発明に使用する架橋剤は含水率の低下を極めて小
さくシ、同時にゴム硬度を増大させることがわかる。
実施例7〜14
我3に示す配合lこて、実施例4〜6と同様にして試験
片を得た。物性も同様Iこして測定し、その結果を我3
正こ示す。
片を得た。物性も同様Iこして測定し、その結果を我3
正こ示す。
本発明における架橋剤を親水性材料に使用した場合、材
料の含水率の低下を最小限lこおさえるとともに、ゴム
硬度を向上させることができる。とくに低含水性または
中宮水性親水性材料に本発明に詔ける架橋剤を使用した
場合fこは、その効果が顕著に現れる◎ 本発明における架橋剤を使用した親水性材料は箋コンタ
クトレンズ、眼内し/ズ、カテーテル、カニ:−レおよ
びその他の人工臓器をはじめとする
料の含水率の低下を最小限lこおさえるとともに、ゴム
硬度を向上させることができる。とくに低含水性または
中宮水性親水性材料に本発明に詔ける架橋剤を使用した
場合fこは、その効果が顕著に現れる◎ 本発明における架橋剤を使用した親水性材料は箋コンタ
クトレンズ、眼内し/ズ、カテーテル、カニ:−レおよ
びその他の人工臓器をはじめとする
第1図は本発E!A−こ使用する架橋剤であるI P
D DMAのIaスペクトル図、第2図はIPf)DM
Aの・H−NMRスペクトル図である。
D DMAのIaスペクトル図、第2図はIPf)DM
Aの・H−NMRスペクトル図である。
Claims (1)
- 六価のアルコールにおいて、少なくとも2個の水酸基に
重合基を導入し、他の水酸基をケタール化した架橋剤と
、親水性モノマーおよび(または)疎水性モノマーを主
成分とする重合体を酸処理してえられる医用材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030897A JPS61190507A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 医用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030897A JPS61190507A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 医用材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190507A true JPS61190507A (ja) | 1986-08-25 |
Family
ID=12316521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60030897A Pending JPS61190507A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 医用材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61190507A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004124102A (ja) * | 2003-12-08 | 2004-04-22 | Omura Toryo Kk | 易分解性高分子樹脂および易分解性樹脂組成物の処理方法 |
| EP2472324A1 (en) * | 2010-12-31 | 2012-07-04 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Monomers, polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP60030897A patent/JPS61190507A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004124102A (ja) * | 2003-12-08 | 2004-04-22 | Omura Toryo Kk | 易分解性高分子樹脂および易分解性樹脂組成物の処理方法 |
| EP2472324A1 (en) * | 2010-12-31 | 2012-07-04 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Monomers, polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns |
| CN102603701A (zh) * | 2010-12-31 | 2012-07-25 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 单体,聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法 |
| US8771917B2 (en) | 2010-12-31 | 2014-07-08 | Rohm And Haas Electronics Materials Llc | Monomers, polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns |
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