JPS61204162A - ナフトキノン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はナフトキノン誘導体に関する。

１迷１とｉ庸 本発明のナフトキノン誘導体は、文献来観の新規化合物
である。

が解決しようとする間　点 本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式（１）で表わされるナフト
キノン誘導体が提供される。

〔式中Ｒ１は低級アルキル基を示す。Ｒ２は置換基とし
て水酸基を有することのめる低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルカルボ
ニルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
オキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基又は
ベンゾイルオキシ低級アルキル基を示す。Ｒ３はアルキ
ル基、ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低級ア
ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、カルボキ
シ基又はカルボキシ低級アルキル基を有することのある
フェニル基、）工二ル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのめるフェニル低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基又はフラニル低級
アルキル基を示す。ｎはＯｌｌ又は２を示す〕 本明細書において、低級アルキル基なる語は、炭素数１
〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基を指称するもので
おり、その具体例としては、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル
、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を例示で
きる。アルキル基なる語には、上記低級アルキル基の他
、例えばオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エ
イコシル基等が包含される。また低級アルコキシ基なる
語は、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルコキシ基
を指称し、その例としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブチル
オキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示で
きる。ハロゲン原子には塩素、弗素、沃素及び臭素原子
が包含される。

一般式（１）中、Ｒ２及びＲ３で定義される低級アルコ
キシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルカルボニ
ルオキシ低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル
オキシ低級アルキル基は、いずれも上記低級アルキル基
又は低級アルコキシ基と上記低級アルキル基とを構成成
分として含んでいる。カルボキシ低級アルキル基、ベン
ゾイルオキシ低級アルキル基及びヒドロキシ低級アルキ
ル基は、カルボキシ基、ベンゾイルオキシ基又はヒドロ
キシ基を置換基として有する上記低級アルキル基である
。フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有す
ることのあるフェニル低級アルキル基としては、例えば
ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニルブ
チル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル基等の無置
換フェニル低級アキル基及びメトキシベンジル、エトキ
シベンジル、メトキシフェネチル、エトキシフェニルブ
チル基等の低級アルコキシ置換フェニル低級アルキル基
を例示できる。また置換基として低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基、カルボキシ基又はカルボ
キシ低級アルキル基を有することのあるフェニル基は、
フェニル環上に上記各置換基の複数個を有していてもよ
く、この場合置換基は同種であっても異種でおってもよ
い。

本発明の上記一般式（１）で表わされる化合物及びその
塩は、プロスタグランジン生合成の遮断作用や調節作用
を有し動物、とりわけ咄乳動物に対して抗炎症、抗リウ
マチ、抗アレルギー、鎮痛、利尿、血小板凝集阻止、血
圧降下等の作用を示す。

従ってこれは抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレルギー剤
、鎮痛剤、利尿剤、抗血栓剤、゛降圧剤等の医薬として
有用でおる。

本発明のナフトキノン誘導体は、例えば、下記各反応工
程式−１に示す方法により製造することができる。

反応工程式−１ （１−ｂ）　　　　　　　　　　　（１−ｃ）〔式中Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３は前記に同じ。Ｒ２Ｆは置換基として水
酸基を有することのある低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基又はカルボキシ低級アルキ
ル基を示し、Ｒ２″は低級アルキルカルボニルオキシ低
級アルキル基、低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基又はベンゾイルオキシ低級アルキル基を示す。

ｍは１を示す。〕 反応工程式−１において、化合物（２）とチオール化合
物（Ｒ３ＳＨ）との反応は、不活性溶媒中で行なわれる
。該溶媒としては例えばメタノール、エタノール等の低
級アルコール類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＥ）、ジオキサン、水
等及びこれらの混合溶媒を使用できる。反応は好ましく
は、窒素、アルゴン等の不活性気流下、化合物（２）に
対してチオール化合物を、通常０．５〜２倍モル量、好
ましくは約１〜１．１倍モ′ル量用い、約り℃〜溶媒の
沸点程度、好ましくは約２０〜８０℃にて、約１〜５０
時間を要して行なわれる。上記反応により中間体として
一般式 〔式中Ｒ’　、Ｒ”　’及びＲ３は上記に同じ〕で表わ
される縮合体が得られる。該縮合体は次いで反応系内に
過剰量の塩化第二鉄の水溶液を添加するか又は酸素（空
気〉を吹きこむことにより酸化され、かくして化合物（
１−ａ＞を収得できる。

得られる化合物（’１−ａ）は、これを酸化することに
より容易に化合物（１−Ｃ）のスルフィニル体とするこ
とができる。この酸化反応は、適当な酸化剤、例えば過
沃素酸ナトリウム、過沃素酸カリウム等の過沃素酸塩や
、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸や過酸化
水素等を用いて通常の方法に従って実施できる。より詳
しくは、上記酸化反応は、例えばメタノール、エタノー
ル等の低級アルコール類、ジクロロメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、ジオキサン、
酢酸等の有機溶媒又はこれらの含水溶媒中で行なわれる
。上記酸化剤は、例えば有機過酸では化合物（１−ａ＞
に対して約１〜１．２倍モル量用いられる。反応は約−
２０〜３０’Ｃの温度条件下に、約１０分〜６０分を要
して行なわれる。

また化合物（１−ａ＞中、Ｒ２＋が置換基として水酸基
を有する低級アルキル基である化合物は、これに適当な
酸ハライドを反応′さぜることにより、該水酸基をアシ
ル化させて化合物（１−ｂ）とすることができる。該ア
シル化反応は、通常の方法に従い、非プロトン性溶媒中
、好゛ましくはアルヵリの存在下に行なわれる。非プロ
トン性溶媒としては例えばジクロルメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、ＴＨＦ、ジオキサン等の
エーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類
、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ＞等を使用できる。

アシル化剤として用いられる酸ハライドとしては、例え
ばアセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオ
ニルクロライド等の低級脂肪酸のハライド類、カルボメ
トキシクロライド、カルボエトキシクロライド、カルボ
プロポキシクロライド等のカルボ低級アセチルクロライ
ド、ベンゾイルクロライド等のベンゾイルハライド等を
例示することができる。アルカリとしては、例えばピリ
ジン、トリエチルアミン等の有機アミン類や炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の無機化合物を例示できる。化合
物（１−ａ＞に対する酸ハライド及びアルカリの使用量
は、限定的ではないが、通常夫々約１〜５倍モル量、好
ましくは約１〜１．５倍モル量とするのが適当である。

上記アシル化反応は、一般に約Ｏ〜６０’Ｃの温度条件
下に実施され、約０．５〜５時間で完結し、かくして化
合物（１−ｂ）を収得できる。

該化合物（１−ｂ）の酸化反応は、上記した化合物（１
−ａ）の酸化反応と同様にして行なわれ、これにより化
合物（１−ｃ）を収得できる。

上記各反応により得られる目的物は慣用の分離手段、例
えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等に
より容易に単離精製することができる。

上記反応工程式−１において出発原料として用いられる
化合物は、例えば下記各反応工程式に従って得られる。

反応工程式−２ （Ａ＞（Ｂ） （Ｃ） 〔各式中Ｒ１は上記に同じ。〕 上記反応工程式−２において出発原料とする化合物（Ａ
＞は、公知である（Ｊ、　Ｏｒｏ、　Ｃｈｅｍ、。

４４．２１５３　（１９７９））。

化合物（Ａ＞のブロム化は、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ＞等の極性溶媒中、Ｎ−ブロムコハ
ク酸イミド（ＮＢＳ）等のブロム化剤を用いて実施され
る。ブロム化剤は化合物（Ａ＞に対して好ましくは当モ
ル量使用され、反応は約Ｏ〜８０’Ｃの湿度条件下に良
好に進行し、約２〜１６時間で完結する。

上記により得られる化合物（Ｂ）の低級アルコキシ化は
、ラオ（［）ｕｒｖａｓｕｌａ　　Ｖ、　Ｒａｏ）らの
報文（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、　３０８　（１９８３）　
）に従い、メタノール、エタノール等の低級アルコール
類のナトリウム塩を化合物（Ｂ）に対して１〜４倍当母
用いて、ＤＭＦ及び低級アルコール類の混合溶媒中、約
８０〜１２０℃で１〜４時間程度を要して実施される。

その際銅塩例えば塩化第２銅、沃化第１銅等を化合物（
Ｂ）に対して約１／２〜２倍モル聞用いれば反応はより
好適に進行する。かくＣて化合物（Ｃ）を収得する。

反応工程式−３ ０Ｈ （Ｃ）　　　　　　　　　　　　　（Ｃ−１＞〔式中Ｒ
１は上記に同じ。Ｒ４は低級アルキル基又はベンジルオ
キシ低級アルキル基、Ｒ４／は置換基として水酸基を有
することのある低級アルキル基、Ｒ４″は置換基として
水酸基を有することのある低級アルキル基又はカルボキ
シ低級アルキル基を夫々示す。〕 上記の示す化合物（Ｃ）のグリニヤール反応は、通常の
方法に従って実施できる。即ちグリニヤール試薬を用い
適当な溶媒中、約−２０〜６０℃、好ましくは約Ｏ〜２
５℃の温度条件下に行なわれる。グリニヤール試薬は常
法に従って、例えばハロゲン化アルキル、ハロゲン化フ
ェニル低級アルキル又はハロゲン化低級アルケニルとこ
れらハロゲン化物１モルに対し約１．１〜１．２倍モル
量のマグネシウムとから容易に調製できる。溶媒として
は通常のエーテルや丁ＨＦ等を用い得る。グリニヤール
試薬の使用量は、通常化合物（Ｃ）に′　対して等モル
−５倍モル量、好ましくは化合物（Ｃ）の溶媒液が本来
呈している黄色が消失する量、通常約等モル〜４倍モル
量とするのが望ましい。かくして化合物（Ｃ−１＞を得
る。

化合物（Ｃ−１＞の脱水反応は、通常布＠溶媒中、酸触
媒の存在下に行なわれる。溶媒としては、例えばベンゼ
ン、エーテル、クロロホルム、ジクロルメタン等を使用
できる。酸触媒としては、例えば塩化水素ガス、ｐ−ト
ルエンスルホン酸等を使用できる。反応は上記酸の触媒
量を用いて、約０°Ｃ〜溶媒の沸点温度範囲にて良好に
進行する。

上記脱水反応に引き続く、接触還元反応は、常法に従い
、例えば５〜１０％パラジウムカーボン、酸化白金（Ｐ
ｔ０２＞、ラネーニッケル等を触媒として用いて、アル
コール、酢酸エチル、ＤＭＦ。

水、エーテル等の溶媒中、常圧〜３気圧程度の水素圧下
に行なわれる。かくして原料化合物の脱ベンジン化及び
二重結合の還元が同時に行なわれ、化合物（Ｃ−２＞を
収得できる。

化合物（Ｃ−２＞の酸化反応は、目的とする化合物（Ｃ
−３）の有するＲ４″基の種類に応じて、例えば次の二
種の方法により行なわれる。即ちＲ４″が置換基として
水酸基を有することのある低級アルキル基である化合物
を製造する場合、上記酸化反応は好ましくはセリツクア
ンモニウムニドラード（（ＮＨａ　）２　ＣＱ　（ＮＯ
３）６　、以下ｒｃＡＮＪという）等の四価セリウム塩
を用いる方法又は希硝酸中、酸化銀（ＡＣ）０＞を用い
る方法により行なわれる。上記ＣＡＮを用いる方法は、
例えばジオキサン、アセトニド」ノル、ＴＨＦ、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、エーテル等の溶媒中、化合物
（Ｃ−２＞に対して当モル〜５倍モル量、好ましくは２
〜２．５倍モル量のＣＡＮを用い、約−２０〜６０　’
Ｃ、好ましくは約０〜３０℃下に実施される。希硝酸中
ＡＣＩＯを用いる方法は、例えばアセトン、ジオキサン
、ＴＨＦ、エーテル等の溶媒中、化合物（Ｃ−２＞に対
して等モル−２０倍モル量、好ましくは約３〜１０倍モ
ル量のＡｇＯ及び約６Ｎ前後の硝酸を用い、Ｏ〜溶媒の
沸点、好ましくは０〜６０℃の温度下に実施される。ま
たＲ４″基がカルボキシ低級アルキル基である化合物を
製造する場合、上記酸化反応は、Ｒ４１が水酸基を有す
る低級アルキル基である化合物（Ｃ−２＞を、ジョーン
ズ（Ｊ　０ｎｅＳ）試薬を用いる方法（Ｒｅａｇｅｎｔ
ｓ　ｆｏｒ　Ｑｒｇａｎｉｃ３ｙｎｔｈｅｓｉｓ、　Ｖ
ｏｌｌ　、　１４２．　ＷｉｌｅＶ、　ＮｅＷＹｏｒｋ
、１９６７）に従わせることにより行なわれる。即ち該
酸化反応は、例えばアセトン、ジオキサン、エーテル等
、好ましくはアトンを溶媒として約Ｏ〜３０’Ｃの温度
条件下に実施される。用いられるジョーンズ試薬量は、
化合物（Ｃ−２＞に対して、クロ酸量として当モル〜２
０倍モル量、好ましくは２〜８倍モル量とするのが好適
である。

該ジョーンズ酸化反応により、原料化合物（Ｃ−２）の
有する水酸基がカルボキシル基に変換されると同時にナ
フタレン環の酸化によってナフトキノン環が形成され、
所望の化合物（Ｃ−３＞が収得される。

反応工程式−１にお【プる出発原料（２）の内、Ｒ２＋
　がメチル基又はヒドロキシメチル基でｂるものは、下
記反応工程式−４に従う化合物（Ｃ）の還元反応及びこ
れに引き続く生成化合物（Ｄ＞の酸化反応によって、製
造できる。

反応工程式−４ Ｒ’　ＯＣＨＯＲ’　ＯＲ２′” （Ｃ）　　　　　　　　　　　（Ｄ） Ｑ　　　Ｒ２Ｊｌｆ （Ｅ） 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒ２ＩＩＩはメチル基又はヒ
ドロキシメチ基を示す。〕 上記において、化合物（Ｃ）の還元反応は、公知の方法
に従い、ＮａＢＨａ　、Ｌ　！ＡＱＨａ等のハイドライ
ドを用いる方法又は接触還元によることができる。ハイ
ドライドを用いる還元反応によれば、Ｒ２ｍがヒドロキ
シメチル基である化合物（Ｄ＞を収得できる。接触還元
は、好ましくは過塩素酸の少量（触媒量）を用いて、常
法に従い、例えば５〜１０％パラジウムカーボン、Ｐｔ
Ｏ２、ラネーニッケル等の触媒の存在下、アルコール、
酢酸エチル、ＤＭＦ、水、エーテル等の溶媒中、常圧〜
１０気圧程度の水素圧下に実施され、これによりＲ２″
′がメチル基である化合物（Ｄ＞を収得できる。

かくしてｊｑられる化合物（Ｄ＞の酸化反応は、前述し
たＣＡＮを用いる酸化反応と同様にして行なわれ、これ
により化合物（Ｅ）を製造できる。

反応工程式−３に示す化合物（Ｃ−３＞の内、特にＲ４
′がカルボキシメチル基であるものは、次の反応工程式
−５に示す方法によっても得られる。

、／−−’ ／／′ ／″ １．７′ ／′ ／′ 反応工程式−５ 〔各式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒ５は低級アルキル基を示
す。〕 上記方法によれば化合物（Ｃ）の増炭反応を、レポルマ
トスキイ反応に従い実施することにより、化合物（Ｆ）
を収得できる。該反応はベンゼン、トルエン、キシレン
等の溶媒中、亜鉛等の存在下に化合物（Ｃ）にα−ハロ
酢酸エステルを縮合させることにより行なわれる。α−
ハロ酢酸エステルとしては、ブロム酢酸低級アルキルエ
ステルが好ましく用いられる。その使用量は、化合物（
Ｃ）に対して通常等モル〜５倍モル量、好ましくは等モ
ル−３倍モル量とされるのがよく、亜鉛は化合物（Ｃ）
に対して通常等モル〜５倍モル量、好ましくは等モル−
３倍モル量用いられるのがよい。

反応は約５０℃と〜溶媒の沸点温度の範囲で良好に進行
する。

かくして得られる化合物（Ｆ）の脱水反応は、　　　　
゛通常有機溶媒中、酸触媒の存在下に行なわれる。

溶媒としては、例えばベンゼン、エーテル、クロロホル
ム、ジクロルメタン等を使用できる。酸触媒としては、
例えば塩化水素ガス、ｐ−トルエンスルホン酸等を使用
できる。反応は上記酸の触媒量を用いて、約Ｏ′Ｃ〜溶
媒の沸点温度範囲にて良好に進行し、化合物（Ｇ）を収
得できる。

化合物（Ｇ）の加水分解反応は、常法に従い実施され、
待に水酸化アルカリを用いたアルカリ加水分解法が好ま
しく採用される。水酸化アルカリは化合物（Ｇ）に対し
て通常等モル〜２０倍モル量の範囲で用いられ、反応は
アルコール、水、これらの混合溶媒中、約２０’Ｃ〜溶
媒の沸点範囲の温度下に行なわれる。

上記により得られる化合物（Ｈ）の水素添加反応は、通
常の接触還元反応に従い、例えば５〜１０％パラジウム
カーボン、酸化白金 （Ｐｉ０２）、ラネーニッケル等を触媒として用いて、
アルコール、酢酸エチル、ＤＭＦ、水、エーテル等の溶
媒中、常圧〜１０気圧程度の水素圧下に行なわれる。

また上記で得られる化合物（Ｉ＞は、前述したＣＡＮを
用いる酸化反応又はジョーンズ試薬を用いる酸化反応に
従わせることにより、化合物（Ｊ）に誘導することがで
きる。

反応工程式−１における原料化合物（２）の内Ｒ２＋　
が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基でおるもの
は次の反応工程式−６に示す方法により製造できる。

反応工程式−６ 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒ６はカルボキシアルキル基
を、Ｒ７は低級アルコキシカルボニルアルキル基を夫々
示す。〕 上記によれば、化合物（Ｋ）のエステル化反応により、
化合物（Ｌ）を製造できる。該エステル化反応は、好ま
しくはアルカリ存在下に、ハライド類を用いて行なわれ
る。ここでハライド類としては低級アルキルハライド、
例えば沃化メチル、塩化メチル、沃化イソプロピル等を
例示できる。

アルカリとしては、ピリジン、１〜リエヂルアミン等の
有機アミン類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等を利用
できる。反応はＤＭＦ、ＤＭＳＯ。

ＴＨＦ等の極性溶媒中、約２０〜５０℃の温度条件下に
行なわれる。アルカリ及びハライド類の使用問は任意に
決定されるが、通常化合物（Ｋ＞に対して、夫々約１〜
１０倍モル量、好ましくは約１〜５倍モル量とされるの
がよい。

反応工程式−７ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記に同じ。〕本発明
化合物（１）（キノン化合物）は、これを常法に従い還
元することにより、化合物（Ｍ）（ハイドロキノン化合
物）に変換できる。この還元反応は、例えば塩化第１錫
、水素化ホウ素ナトリウム、ナトリウムハイドロサルフ
ァイド等のよく知られた触媒（接触水添用触媒）を用い
て、通常の方法により行ない得る。例えば塩化第１錫を
用いる場合、反応は塩酸酸性として含水アルコール中で
、化合物（１）に対して等モル−３倍モル量の５ｎＣＱ
２　・２Ｈ２０を用い約−２０〜３゜°Ｃで行なわれる
。水素化ホウ素ナトリウムの場合、反応は好ましくアル
コール中で、化合物（１）の約１／２〜３倍モル量の水
素化ホウ素ナトリウムを用い、約０〜３０℃で実施され
る。ナトリウムハイドロサルファイドの場合、これは約
１０％前後の水溶液形態で用いられ、反応はアセトン、
エーテル、ジオキサン、水等の溶媒中で約Ｏ′Ｃ〜沸点
の範囲の温度で進行する。

また化合物（Ｍ）は、空気酸化や塩化第二鉄、酸化銀等
の酸化剤を用いて常法に従い、容易に酸化され、本発明
化合物（１）とすることができる。

上記塩化第二鉄は通常水溶液形態で化合物（Ｍ）に対し
当モル〜２０倍モル用いられ、この場合、反応はＴＨＦ
、アルコール、水等の溶媒中で約Ｏ〜３０℃で実施され
る。また酸化銀は化合物（Ｍ＞に対し等モル−２０倍モ
ル用いられ、この場合、反応はエーテル、アセトン、ジ
オキサン、ＴＨＦ等の溶媒中、約Ｏ〜３０℃で行なわれ
る。

上記各反対により得られる目的物は、慣用の分離手段、
例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクマロマドグラフィー
等により容易に単離精製することができる。

また本発明化合物（１）中、遊離のカルボキシル基を有
するものは、アルカリ金属塩例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩等やアルカリ土類金属塩例えばカルシウム塩、マ
グネシウム塩等とすることができる。これらの塩形成反
応は常法に従って行なうことができる。かくして得られ
る塩類も亦、遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性
を有しており、本発明範囲に包含される。更に本発明化
合物には光学異性体や幾何異性体が考えられ、かかる異
性体も赤本発明範囲に含まれるものである。

実施例 以下、本発明化合物を製造するための原料化合物の製造
例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例を
実施例として挙げる。

参考例１ ４，５．８−トリメトキシ−１−ナフトアルデヒドの製
造 ４．８−ジメトキシ−１−ナツトアルデヒド１９５ｇを
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ＞８００１Ｔｌｆ２に溶
解させ、水冷下、これにＮ−ブロモコハク酸イミド（Ｎ
ＢＳ）１６０ｇのＤＭＦ溶液８００ｍ（？を加える。反
応混合物を１晩撹拌した後、水約８Ｑに移し、析出結晶
をｉ月収し、水洗する。

得られる粗結晶を減圧下に乾燥して、５−ブロモ−４，
８−ジメトキシ−１−ナツトアルデヒド２４０ｇ（９０
％）を得る。

ＮＭＲ分析（ＣＤＣＱ３、δ値） １０．７８　（１Ｈ，ｓ＞ ７．８８　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３＞ ７．７２　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３＞ ６．９３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．３＞ ６．７７　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３＞ ３．９９　　（３Ｈ，ｓ＞ ３．９７　　（３Ｈ，ｓ＞ このものは、精製することなく、次の反応に使用できる
。

次いで、無水メタノール１Ｑにナトリウム７７．５Ｃ］
を溶解さぜた液に、沃化銅（Ｉ＞（Ｃｕ　Ｉ　）　１５
５ＣＩ及びＤＭＦ１９を加え、得られる混液に上記で得
たブロム体２４０ｇを加え、１時間還流する。反応混合
物から不純物をｊ戸別し、母液に水約６Ｑを加えて結晶
を析出させ、これを炉取し、１０％塩酸で洗浄し、次い
で水洗し、更にイソプロピルアルコール次いでエーテル
で夫々洗浄して、目的化合物の粗結晶１４０ｇ（７０％
）を得る。

ＮＭＲ分析（ＣＤＣ９３、δ値〉 １０．８７　（１Ｈ，ｓ＞ ７．９１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８−６＞ ６．９０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．６＞ ６．８７　　（２Ｈ，ｂｓ） ４．０１　　（３Ｈ，ｓ＞ ３．９３　　（３Ｈ，ｓ＞ ３．９１　　（３Ｈ，ｓ＞ このものも更に精製せずとも、次の反応に使用できる。

参考例２ １−ヒドロキシメチル−４，５，８−トリメトキシナフ
タレンの製造 参考例１で１ｑた４、５．８−トリメシトキシ−１−ナ
ツトアルデヒド８ｑをエタノール２００ｍＱ及びＴＨＦ
２００鵬に溶解し、６０℃で加温し、撹拌下にＮａＢＨ
ａの２ｇを徐々に加える。１時間撹拌の後に、３％ＨＣ
９にて酸性とし、反応混合物をＣＨ２ＣＱ２で抽出し、
乾燥（ＭＱＳＯａ）し、濃縮後、得られた粗結晶をクロ
ロホルム・ヘキサン混合溶媒から再結晶して、６．５０
（８２％）の目的物を白色結晶として得る。

融点１１２．５〜１１３．５°Ｃ 参考例３ １−メチル−４，５，８−トリメトキシナフタレンの製
造 参考例１で得た４、５．８−トリメトキシ−１一ナフ１
〜アルデヒド３ｇを酢酸５０ｍ１２及び７０％ＨＣ９０
ａ　０．１Ｔｎ１２に溶解し、１０％ＰｄＰｄ−Ｃ７０
Ｏ］を加え、常圧下に２５°Ｃで水素添加を行なう。撹
拌を３．５時間続け、触媒をン戸別し、ン戸液に水を加
えＣＨ２ＣＱ２抽出し、有機層を５％ＮａＨＣＯ３水溶
液で洗い、その後水洗、乾燥（ＭＱＳＯ４＞及び濃縮し
て得られる結晶を、クロロホルム・ヘキサン混合溶媒で
再結晶して、１．９５Ｑ　（７０％）の白色結晶の目的
物を得る。

融点９５〜９６．５℃ 参考例４ ３−　（１−（４，５，８−トリメ１〜キシ〉ナフチル
〕アクリル酸 ４．５．８−トリメトキシナフトアルデヒド２３ＣＩ、
亜鉛板２０ｇ及びベンゼン６００ｍｆ２の混合液に、ブ
ロム酢酸メチル２８ｍＱを還流撹拌下、約１時間を要し
て加える。その後、３０分加熱還流を続けた後、反応混
合物を水に移し、不溶物をｉ戸別、塩化メチレンで洗い
、炉液を塩化メチレンで抽出する。乾燥（ＭｑＳＯ４）
　、濃縮後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、
塩化メチレン：酢酸エチル−３：１）で精製すると、３
−ヒドロキシ−３−（１−（４，５，８−１〜リメトキ
シ）ナフチル〕プロピオン酸メチルエステル１２Ｑ　（
４０％）を淡黄色結晶として得る。

融点１０５〜１０７°Ｃ 次いで上記で得た化合物１０Ｑをクロロホルム５００ｍ
ｆ２に溶解し、エタノール性塩酸（９０ｑＨＣ９ガス／
９００ｍｆ２ＥｔＯＨ）５ｍＱを加え、室温で２．５時
間放置する。その後、無水に２ＣＯ３で乾燥後、溶媒留
去し、得られた結晶を、クロロホルム；ヘキザン混合溶
媒で再結晶すると９ＣＩ　（９５％）の脱水生成物を黄
色結晶として得る。この様にして得られた３−（１−（
４゜５．８−トリメトキシ）ナフチル）アクリル酸メチ
ルエステル４．３０をメタノール１５０ｍＱ及び２ＮＮ
ａＯＨ７０ｍＱに混合し、３０分還流する。

冷却後、濃塩酸にて酸性にし、析出する結晶を炉取、水
洗する。黄色結晶を乾燥すると４Ｑ　（９７％〉で３−
　（１−（４，５，８−ｔ−リメトキシ）ナフチル）ア
クリル酸を得る。

参考例５ ３−　（１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチル〕
プロピオン酸の製造 参考例４で得た３−（１−（４，５，８−トリメトキシ
）ナフチルコアクリルｌｌをＤＭＦ３００ｍ１２及びエ
タノール３００ＴＩｌ１２に溶解し、１０％Ｐｄ−Ｃｌ
　Ｑを加え、常圧下に２５℃にて水素添加する。約２時
間後、触媒を）戸別し、溶媒を留去し、得られた結晶を
クロロホルム・ヘサキン混合溶媒から再結晶して３．７
ｇ（９２％）の目的物を１ｑる。

融点１６８〜１７０’Ｃ 参考例６ ５−ヒドロキシメチル−８−メ１〜キシ−１゜４−ナフ
トキノンの製造 １−ヒドロキシメチル−４，５，８−トリメｌルキシナ
フタレン８ｑを塩化メチレン１００１ｆｔＧに溶解し、
その中にＣＡＮ４４ｇを水１５０ｍ１２に溶解したもの
を加え、１５分間撹拌し、その後右成層を水洗し、乾燥
（ＭＣＩＳＯ４）Ｌ、濃縮して得られる結晶を、クロロ
ホルム・エチルエーテル混合溶媒で再結晶して、５．３
ｑ　（７５％）の黄色結晶の目的物を得る。

融点１６５〜１６７℃（分解） 同様の操作で、１−メチル−４，５，８−トリメトキシ
ナフタレンから、黄色結晶の５−メチル−８−メトキシ
−１，４−ナフトキノンを得る。

融点１１６〜１１７．５°Ｃ 参考例７ ５−（２−カルボキシエチル シ−１，４−ナフトキノンの製造 ３−　（１−　（４，５．８−トリメトキシ〉ナフチル
〕プロピオン酸５ｇを、アセトン５００１ＴＩｆ２に溶
解し、水冷下ジョーンズ試薬３６戒を加え、３０分間撹
拌する。反応混合物を水に移し、塩化メチレン抽出し、
有機層を乾燥（ＭＱＳＯｔ）Ｌ、濃縮して得られる粗結
晶をクロロホルム・エチルエーテル混合溶媒で再結晶し
て、３ｑの黄色結晶の目的物を得る。

融点１６７〜１６８．５°Ｃ（分解） 参考例８ ５−（２−メトキシカルボニルエチル −メトキシ−１．４−ナツトキノンの製造５−〈２−カ
ルボキシエチル −１，４−ナフトキノン２．６Ｑ、に２　ＣＯ３２，５
ｇ及び沃化メチル３ｍＱをＤＭＦ５０ｍｆ２に混合し、
２５°Ｃで１６時間撹拌する。反応混合物を水に移し、
酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、乾燥（ＭｑＳＯ，
）及び濃縮し、得られる結晶を酢酸エチル・ヘキサン混
合溶媒で再結晶して、２ｇ（７２％〉の黄色結晶の目的
物を得る。

融点１２３．５〜１２５℃ 実施例１ ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ベンゼンス
ルフェニル−１，４−ナフトキノンの製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−１，４−ナフト
キノン’１．Ｏｇ、チオフェノール５１０ｍｇ、エタノ
ール６０ｍ１２及びＤＭ　Ｆ　２０ｍ１２の混合物を５
時間撹拌する。その後１０％ＦｅＣＱ３溶液５０ｍｆ２
を加え、１時間更に撹拌を続ける。反応混合物を水に移
し、酢酸エチルで析出し、有機層を水洗、乾燥（Ｍｃｔ
ｓｏ４．）、濃縮して得られる結晶を酢酸エチル：エー
テルの混合溶媒から再結晶して９００＋ｎｃ＋の目的化
合物を黄色結晶として冑た。

融点１４４〜１４５°Ｃ（分解） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ９３） ７．７１　（ＩＨ，ｄＳＪ＝８．１Ｈｚ＞７．２６　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ＞７．５０（５Ｈ，ｂｓ） ６．００　（１Ｈ，ｓ＞ ４、　　７４　　（２ト１、　ｄ、　　Ｊ＝７．　　２
Ｈｚ＞４、　　０２　　（３ト１　、　　Ｓ　）３．０
７　（ＩＨ１↑、Ｊ＝７．２Ｈｚ＞実施例２〜２０ 実施例１と同様にして下記第１表に示す各化合物を得る
。

尚第１表には実施例１で得た化合物も併記する。

実施例２１ ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ｎ−ブタン
スルフィニル−１，４−ナフトキノンの製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ｎ−ブタン
スルフェニル−１，４−ナフトキノン１．６０を塩化メ
チレン１５０ｍＧに溶解し、氷冷下、ｍ−クロル過安息
香酸（７０％＞１．３ＣＩを徐々に加え、その後１５分
間撹拌を続ける。不溶物をン戸別し、）月額を５％Ｎａ
ＨＣＯ３水溶液で洗い、その後水洗、乾燥（ＭｇＳＯａ
　＞　、２ｉ１縮して得られる化合物を、シリカゲルク
ロマトグラフィーに付し、クロロホルムにて展開して１
ｑの目的化合物を黄色結晶として得る。

融点１３９．５〜１４１℃（分解） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３） ７．８５　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ＞７．３１　（
１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ＞６．５０　（ＩＨ，Ｓ） ４．８３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．０Ｈｚ＞４．０１　　
（３ＨＳ　Ｓ＞ ３．３７　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ＞２．８１　（
２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ＞１．３−１．８　（４Ｈ，
ｍ＞ ０．９７　（３Ｈ１↑、Ｊ＝６．６Ｈ２）実施例２２〜
２５ 実施例２１と同様にして下記第２表に示す各化合物を得
る。

尚第２表には実施例２１の化合物も併記する。

実施例２６ ８−アセトキシメチル−５−メトキシ−２〜ｐ−トルエ
ンスルフェニル−１，４−ナフトキノンの製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−Ｄ−トルエ
ンスルフェニル−１，４−ナツトキノン６８０ｍｇをク
ロロホルム１０ｍ１２に溶解し、ピリジン２０（］ｎｇ
存在下にアセチルクロライド１５０ｍｇのクロロホルム
２ｍＱ溶液を水冷上滴下する。その後１時間撹拌を続け
た後、反応混合物を水に移し、クロロホルムで抽出し、
有機層を水洗、乾燥（ＭＱＳＯ＆＞、濃縮して得られる
化合物をシリカゲルクロマトグラフィーにイ寸しクロロ
ホルム：ｎ−ヘキサン混合溶媒で展開して５４０ｍａの
目的化合物を黄色結晶として得る。

融点１４８〜１５０℃（分解） ＮＭＲ（ＣＤＣ９３） ７．７３　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８Ｈ２）７．４１　　
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈｚ＞７．３５　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８．９Ｈｚ＞７．２６　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ＞６．００　（１Ｈ，ｓ） ５．５７　（２Ｈ，ｓ＞ ３．９６　（３Ｈ，ｓ） ２．４１　　（３Ｈ，ｓ） ２．１８（３ト１　、　　Ｓ　） 実施例２７及び２８ 実施例２６と同様にして下記第３表に示す各化合物を得
る。

尚第３表には実施例２６の化合物も併記する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は低級アルキル基を示す。Ｒ＾２は置換基
   として水酸基を有することのある低級アルキル基、低級
   アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルカ
   ルボニルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボ
   ニルオキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基
   又はベンゾイルオキシ低級アルキル基を示す。Ｒ＾３は
   アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として
   低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、カ
   ルボキシ基又はカルボキシ低級アルキル基を有すること
   のあるフェニル基、フェニル環上に置換基として低級ア
   ルコキシ基を、有することのあるフェニル低級アルキル
   基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はフラ
   ニル低級アルキル基を示す。ｎは０、１又は２を示す〕
   で表わされるナフトキノン誘導体及びその塩。