JPS61223836A - 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体 - Google Patents
感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体Info
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- -1 nitrogen-containing heterocyclic compound Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 6
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl methane Natural products CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentabromoethane Chemical compound BrC(Br)C(Br)(Br)Br OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISHLYLZTYTIJJ-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(O)OC(=O)C(C)=C IISHLYLZTYTIJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHTZQYDVDPHTAM-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromo-1-phenylethanone Chemical compound BrC(Br)(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 WHTZQYDVDPHTAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 2-Naphthalenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S)=CC=C21 RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZVDYAWIYXVQEB-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1,3-dione;2,2-dimethylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO.C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LZVDYAWIYXVQEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJSFKIUVDXFMS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]methyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)N(CC)CC)C)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1C OKJSFKIUVDXFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanoic acid Chemical compound OCCC(=C)C(O)=O NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKBFTLGGSGOPAC-UHFFFAOYSA-N 5,6-diethyl-1,6-diisocyanatooctane Chemical compound O=C=NC(CC)(CC)C(CC)CCCCN=C=O DKBFTLGGSGOPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233805 Phoenix Species 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229920005684 linear copolymer Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N octan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(CC)OC(=O)C(C)=C KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005526 organic bromine compounds Chemical class 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- JPYTXSWRYBJQHD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;prop-1-enylbenzene Chemical compound OC(=O)C=C.CC=CC1=CC=CC=C1 JPYTXSWRYBJQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層
体に関する。
体に関する。
(従来技術)
感光性樹脂組成物から形成されるフォトレジストは、印
刷配線板を製造する際などに使用されている。感光性樹
脂組成物は、印刷配線板用基板(以下単に基板と言う)
に溶剤を含有した液体皮膜として塗布され次いで、加熱
乾燥によって含有溶剤が除かれ乾燥皮膜とされ、その後
活性光に画像的に露光され現像されてフォトレジスト像
とされている。
刷配線板を製造する際などに使用されている。感光性樹
脂組成物は、印刷配線板用基板(以下単に基板と言う)
に溶剤を含有した液体皮膜として塗布され次いで、加熱
乾燥によって含有溶剤が除かれ乾燥皮膜とされ、その後
活性光に画像的に露光され現像されてフォトレジスト像
とされている。
しかし近年、その低作業性、大気汚染性、低歩留りを改
善するためにフレキシブルな3層積層体。
善するためにフレキシブルな3層積層体。
即ち、フィルム状支持体、乾燥された感光性樹脂組成物
層(以下単に感光層と言う)、保護フィルム層からなる
感光性樹脂組成物積層体(以下単に感光性フィルムと言
う)が用いられるようになってきた。感光性樹脂組成物
としては、未露光部がアルカリ水溶液によって除去(現
像)される所言胃アルカリ現像型と有機溶剤によって除
去(現像)される所謂溶剤現像型の両者が知られている
。
層(以下単に感光層と言う)、保護フィルム層からなる
感光性樹脂組成物積層体(以下単に感光性フィルムと言
う)が用いられるようになってきた。感光性樹脂組成物
としては、未露光部がアルカリ水溶液によって除去(現
像)される所言胃アルカリ現像型と有機溶剤によって除
去(現像)される所謂溶剤現像型の両者が知られている
。
感光性フィルムの使用方法は感光性フィルムから保護フ
ィルム層を取り除いて感光層と支持フィルム層の2層か
らなる積層体セした後、その感光層が基板に接するよう
に加熱圧着(ラミネート)する。次いでネガフィルム゛
等を用いて画像的に露光を行なった後、炭酸ソーダ水s
L1+1 )!Jジクロロタン等の所定の現像液を用
いて未露光部を除去(現像)しフオトレジスBeを形成
する。この形成されたフォトレジスト像をマスクとして
基板の金属表面をエツチングあるいはメッキによる処理
を行ない次いでフォトレジスト像を水酸化ナトリウム水
溶液、塩化メチレン等の所定の剥離液を用いて剥離し、
印刷配線板等が製造される。
ィルム層を取り除いて感光層と支持フィルム層の2層か
らなる積層体セした後、その感光層が基板に接するよう
に加熱圧着(ラミネート)する。次いでネガフィルム゛
等を用いて画像的に露光を行なった後、炭酸ソーダ水s
L1+1 )!Jジクロロタン等の所定の現像液を用
いて未露光部を除去(現像)しフオトレジスBeを形成
する。この形成されたフォトレジスト像をマスクとして
基板の金属表面をエツチングあるいはメッキによる処理
を行ない次いでフォトレジスト像を水酸化ナトリウム水
溶液、塩化メチレン等の所定の剥離液を用いて剥離し、
印刷配線板等が製造される。
上記の工程中、基板の金属表面のエツチングあるいはメ
ッキによる処理に対してフォトレジスト像は、マスクと
して十分な耐性を有していなければならないことは、当
然のことである。エツチング処理は、塩化第二鉄、塩化
第二銅、過硫酸アンモニウムなどの水溶液を用いて基板
の表面層をなしている金属(通常は銅)を除去する工程
である。
ッキによる処理に対してフォトレジスト像は、マスクと
して十分な耐性を有していなければならないことは、当
然のことである。エツチング処理は、塩化第二鉄、塩化
第二銅、過硫酸アンモニウムなどの水溶液を用いて基板
の表面層をなしている金属(通常は銅)を除去する工程
である。
まためっき処理に用いるめっき液の種類は数多くあり、
半田めっき、硫酸鋼めっき、金めつき、ニッケルめっき
、ビロリン酸鋼めっき等がある。
半田めっき、硫酸鋼めっき、金めつき、ニッケルめっき
、ビロリン酸鋼めっき等がある。
めっきは、いずれも高濃度な薬品溶液中で電流を流すの
で、エツチング処理と比較して、かな9きびしい処理と
いえる。
で、エツチング処理と比較して、かな9きびしい処理と
いえる。
この種の感光性樹脂組成物及び感光性フィルムは特開昭
52−94388号公報、特開昭52−130701号
公報、特開昭53−128688号公報、特開昭50−
147323号公報等に開示されさらに、金属との接着
性を改善する添加剤を含有する感光性樹脂組成物として
は特開昭50−9177号公報K 1.λ3−ベンゾト
リアゾール等の−NH−含有の複素環化合物、特開昭5
5−65203号公報にインダゾール又はその誘導体。
52−94388号公報、特開昭52−130701号
公報、特開昭53−128688号公報、特開昭50−
147323号公報等に開示されさらに、金属との接着
性を改善する添加剤を含有する感光性樹脂組成物として
は特開昭50−9177号公報K 1.λ3−ベンゾト
リアゾール等の−NH−含有の複素環化合物、特開昭5
5−65203号公報にインダゾール又はその誘導体。
特開昭55−65202号公報にフタラジン又はその誘
導体がそれぞれ開示されている。しかし。
導体がそれぞれ開示されている。しかし。
金めつきやビロリン酸鋼めっきなどのめっきとして非常
に強い処理を行なうとレジスト膜のはがれ。
に強い処理を行なうとレジスト膜のはがれ。
持ち上がり、めっきのもぐり(レジストの下にめつきが
析出する現象)が発生する。
析出する現象)が発生する。
(発明が解決しようとする問題点)
−我々は、このような従来の問題点を改善する
ために鋭意研究の結果、優れた耐めっき性、耐エンチン
ダ液性、耐薬品性を有する感光性樹脂組成物を見い出し
1本発明に至った。
−我々は、このような従来の問題点を改善する
ために鋭意研究の結果、優れた耐めっき性、耐エンチン
ダ液性、耐薬品性を有する感光性樹脂組成物を見い出し
1本発明に至った。
(問題点を解決するための手段)
本発明は。
(a) 下記の一般式(I)で示される含窒素複素環
式化合物。
式化合物。
(式中、nは1〜3の整数、R1は水素原子、)・ロゲ
ン原子、低級アルキル基、シアノ基又はニトロ基9mは
1〜3の整数、at、′fLsはそれぞれ炭素al〜1
2のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表わす。
ン原子、低級アルキル基、シアノ基又はニトロ基9mは
1〜3の整数、at、′fLsはそれぞれ炭素al〜1
2のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表わす。
)
(bl 熱可塑性有機高分子化合物。
(C1末端エチレン基を少なくとも1個有する光重合性
化合物 および (dl 活性光線の照射によって前記の不飽和化合物
(C1の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含
有してなる感光性樹脂組成物ならびK(al 下記の
一般式(I)で示される含窒素複素環式化合物。
化合物 および (dl 活性光線の照射によって前記の不飽和化合物
(C1の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含
有してなる感光性樹脂組成物ならびK(al 下記の
一般式(I)で示される含窒素複素環式化合物。
(式中、nは1〜3の整数、 R+1は水素原子、)−
ロゲン原子、低級アルキル基、シアン基又はニトロ基1
mは1〜3の整数、 nz 、 Rsはそれぞれ炭素数
1〜12のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表
わす。) (b) 熱可塑性有機高分子化合物。
ロゲン原子、低級アルキル基、シアン基又はニトロ基1
mは1〜3の整数、 nz 、 Rsはそれぞれ炭素数
1〜12のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表
わす。) (b) 熱可塑性有機高分子化合物。
(C) 末端エチレン基を少なくとも1個有する光重
合性化合物 および (dl 活性光線の照射によって前記の不飽和化合物
(C)の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含
有してなる感光性樹脂組成物層にフィルム状支持体を積
層してなる感光性樹脂組成物積層体に関する。
合性化合物 および (dl 活性光線の照射によって前記の不飽和化合物
(C)の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含
有してなる感光性樹脂組成物層にフィルム状支持体を積
層してなる感光性樹脂組成物積層体に関する。
本発明になる感光性樹脂組成物には上記の一般式(I)
で示される化合物が含有される。
で示される化合物が含有される。
一般式(r)で示される化合物としては、ビス(N。
N−2−エチルへキシルアミノメチレ:/ > −1,
213−ベンゾ) IJアゾール(城北化学社製商品名
BT−LX)、 ビス(N、N−2−エチルへキシル
アミノメチレン)−1,λ3−トリルトリアゾール(城
北化学社製商品名TT−LX)、 ビス(N、N−2
−ヒドロキシルエチルアミノメチレン)−1,λ3−ベ
ンゾトリアゾール等があり、ビス(N、 N−2−エチ
ルへキシルアミノメチレン)−1,2,3−ベンゾトリ
アゾールが好ましい。
213−ベンゾ) IJアゾール(城北化学社製商品名
BT−LX)、 ビス(N、N−2−エチルへキシル
アミノメチレン)−1,λ3−トリルトリアゾール(城
北化学社製商品名TT−LX)、 ビス(N、N−2
−ヒドロキシルエチルアミノメチレン)−1,λ3−ベ
ンゾトリアゾール等があり、ビス(N、 N−2−エチ
ルへキシルアミノメチレン)−1,2,3−ベンゾトリ
アゾールが好ましい。
この化合物の量は、上記の(a)、 (b)、 (C)
及び(d)成分100重量部に対して0.001〜2重
量部の範囲で用いることが好ましい。さらに好ましくは
0.05〜1.0重量部の範囲とされる。さらに、感光
性組成物が有機ハロゲン化合物等のその他の成分(ただ
し、有機溶剤を除く)を含む場合には。
及び(d)成分100重量部に対して0.001〜2重
量部の範囲で用いることが好ましい。さらに好ましくは
0.05〜1.0重量部の範囲とされる。さらに、感光
性組成物が有機ハロゲン化合物等のその他の成分(ただ
し、有機溶剤を除く)を含む場合には。
上記の(a)、 (bl、 (C1,(dl成分とその
他の成分の総量に対して、上記の範囲で用いることが好
ましい。
他の成分の総量に対して、上記の範囲で用いることが好
ましい。
0.001重量部未満であると、耐めっき性等の接着力
の向上の効果が少なく、2重量部より多いと。
の向上の効果が少なく、2重量部より多いと。
感光性フィルムとしての他特性たとえば剥離性が悪くな
ったり、現像後に露出する銅面が茶色に変色する傾向が
ある。
ったり、現像後に露出する銅面が茶色に変色する傾向が
ある。
本発明中の熱可塑性有機高分子化合物は、フィルム付与
性ポリマであり特に制限はないが、感光性フィルムとし
て、それぞれの現像液に可溶な高分子量体が好ましい。
性ポリマであり特に制限はないが、感光性フィルムとし
て、それぞれの現像液に可溶な高分子量体が好ましい。
例えば溶剤現像型としてはメタクリル酸の共重合体で重
量平均分子量が2〜40万のビニル共重合体、アルカリ
現像型としては、カルボキシル基含有量が17〜50モ
ルチ。
量平均分子量が2〜40万のビニル共重合体、アルカリ
現像型としては、カルボキシル基含有量が17〜50モ
ルチ。
重量平均分子量が3〜40万の線状共重合体等があげら
れる。ビニル共重合体に用いられるビニル重合性単量体
としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸α−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリ
ル、アクリル酸エチル。
れる。ビニル共重合体に用いられるビニル重合性単量体
としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸α−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリ
ル、アクリル酸エチル。
アクリル酸メチルスチレン、ビニルトルエン、N−ビニ
ルピロリドン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、アクリルアミド、アクリロニトリル、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、カルボキシル基を有するビニル共重合体として
はアクリル酸、メタアクリル酸、フマル酸、けい皮酸、
イタコン酸、マレイン酸等があげられる。
ルピロリドン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、アクリルアミド、アクリロニトリル、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、カルボキシル基を有するビニル共重合体として
はアクリル酸、メタアクリル酸、フマル酸、けい皮酸、
イタコン酸、マレイン酸等があげられる。
末端エチレン基を少なくとも1個有する光重合性化合物
としては、末端エチレン性不飽和基を少なくとも1個有
する附加重合性物質であれば良く。
としては、末端エチレン性不飽和基を少なくとも1個有
する附加重合性物質であれば良く。
例えばトリメチロールプロパントリアクリレート。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、1.6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、ス2−ビス(4−メタク
リロキシエトキシフェニル)フロパン、2.2−ビス(
4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート等の多価アルコールのポリ
アクリレート又はポリメタクリレート、トリメチルプロ
パントリグリシジルエーテルのアクリル酸又はメタクリ
ル酸トの付加物、ビスフェノールAエピクロルヒドリン
系のエポキシ樹脂のアクリル酸又はメタクリル酸付加物
等のエポキシアクリレート、無水フタル酸−ネオペンチ
ルグリコール−アクリル酸の1:1:2(モル比)の縮
合物等の低分子不飽和ポリエステル、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、2価アルコール、2価アル
コールのアクリル酸又はメタアクリル酸のモノエステル
等を反応させて得られるウレタンジアクリレート化合物
、2.スλ′2′−テトラキス(ヒドロキシルメチル)
−33’−オキシジグロバノールと6−ヘキサノリド付
加物との縮合物とアクリル酸とのエステル化物等が用い
られる。
サンジオールジアクリレート、ス2−ビス(4−メタク
リロキシエトキシフェニル)フロパン、2.2−ビス(
4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート等の多価アルコールのポリ
アクリレート又はポリメタクリレート、トリメチルプロ
パントリグリシジルエーテルのアクリル酸又はメタクリ
ル酸トの付加物、ビスフェノールAエピクロルヒドリン
系のエポキシ樹脂のアクリル酸又はメタクリル酸付加物
等のエポキシアクリレート、無水フタル酸−ネオペンチ
ルグリコール−アクリル酸の1:1:2(モル比)の縮
合物等の低分子不飽和ポリエステル、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、2価アルコール、2価アル
コールのアクリル酸又はメタアクリル酸のモノエステル
等を反応させて得られるウレタンジアクリレート化合物
、2.スλ′2′−テトラキス(ヒドロキシルメチル)
−33’−オキシジグロバノールと6−ヘキサノリド付
加物との縮合物とアクリル酸とのエステル化物等が用い
られる。
末端エチレン基を少なくとも1個有する光重合性化合物
の量は、上記の(al、 (b)、 (C1及び(d)
成分に対して10〜70重量−の範囲が好ましい。
の量は、上記の(al、 (b)、 (C1及び(d)
成分に対して10〜70重量−の範囲が好ましい。
有機ハロゲン化合物等のその他の成分(ただし有機溶剤
を除く)を含む場合には、この化合物は上記の(−1)
、 (b)、 (C)、 (d)成分とその他の成分の
総量に対して上記の範囲で用いることが好ましい。この
量が10重量−未満であると感度が不足し、70重量%
よシ多いとコールドクローを起こし、樹脂がフィルム端
面からしみ出す等の傾向がある。
を除く)を含む場合には、この化合物は上記の(−1)
、 (b)、 (C)、 (d)成分とその他の成分の
総量に対して上記の範囲で用いることが好ましい。この
量が10重量−未満であると感度が不足し、70重量%
よシ多いとコールドクローを起こし、樹脂がフィルム端
面からしみ出す等の傾向がある。
活性光線の照射によって前記の不飽和化合物(C)の重
合を開始する増感剤及び/−またけ増感剤系としては2
00℃以下の温度では熱的に活性化しない物質で、活性
光線9例えば紫外線などKより活性化する物質が推奨さ
れる。これらの物質としては、置換または非置換の多核
キノン類があり9例えば2−エチルアントラキノン、2
−1ert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアン
トラキノン、1.2−ベンズアントラキノン、2.3−
ヘンズアントラキノン、2−フェニルアントラ中ノン。
合を開始する増感剤及び/−またけ増感剤系としては2
00℃以下の温度では熱的に活性化しない物質で、活性
光線9例えば紫外線などKより活性化する物質が推奨さ
れる。これらの物質としては、置換または非置換の多核
キノン類があり9例えば2−エチルアントラキノン、2
−1ert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアン
トラキノン、1.2−ベンズアントラキノン、2.3−
ヘンズアントラキノン、2−フェニルアントラ中ノン。
λ3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラ
キノン、2−クロロアントラキノン、2−メチルアント
ラキノン、1.4−ナツタキノン、9゜10−7エナン
トラキノン、1.4−ジメチルアントラキノン、ス3−
ジメチルア/トラキノン、3−クロロ−2−メチルアン
トラキノンなどがある。
キノン、2−クロロアントラキノン、2−メチルアント
ラキノン、1.4−ナツタキノン、9゜10−7エナン
トラキノン、1.4−ジメチルアントラキノン、ス3−
ジメチルア/トラキノン、3−クロロ−2−メチルアン
トラキノンなどがある。
その他の芳香族ケトン、例えば、ベンゾフェノン。
ミヒラーケトン(4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベ
ンゾフェノン)、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノンなどがある。他にベンゾイン。
ンゾフェノン)、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノンなどがある。他にベンゾイン。
ベンゾインエーテル、 例、tばベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニル
エーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどが
ある。更にλ4.5− トリアリールイミダゾールニ量
体と2−メルカプトベンゾ牛すゾール、ロイコクリスタ
ルバイオレット、トリス(4−ジエチルアミノ−2−メ
チルフェニル)メタンなどとの組み合わせも使用できる
。
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニル
エーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどが
ある。更にλ4.5− トリアリールイミダゾールニ量
体と2−メルカプトベンゾ牛すゾール、ロイコクリスタ
ルバイオレット、トリス(4−ジエチルアミノ−2−メ
チルフェニル)メタンなどとの組み合わせも使用できる
。
感光性樹脂組成物における上記の増感剤及び/又は増感
剤系の量は、上記の(a)、 (b)、 (C)及び(
d)成分100重量部に対して、さらにその他の成分(
ただし有機溶剤を除く)を含む場合には(a)、 (b
l。
剤系の量は、上記の(a)、 (b)、 (C)及び(
d)成分100重量部に対して、さらにその他の成分(
ただし有機溶剤を除く)を含む場合には(a)、 (b
l。
(C1,(d)及びその他の成分の総31100重量部
に対して0.5〜10.0重量部が好ましく、より好ま
しくは1.0〜S、 OZ置部である。0.5重量部未
満の場合は、感光層に活性光線を照射して硬化させる際
、硬化が十分に進行せず、10.0重量部よシ多い場合
は、感光層の活性光線に対する感度が高すぎるために、
解像度が低下したシ、安定性が低下したりする傾向があ
る。
に対して0.5〜10.0重量部が好ましく、より好ま
しくは1.0〜S、 OZ置部である。0.5重量部未
満の場合は、感光層に活性光線を照射して硬化させる際
、硬化が十分に進行せず、10.0重量部よシ多い場合
は、感光層の活性光線に対する感度が高すぎるために、
解像度が低下したシ、安定性が低下したりする傾向があ
る。
本発明になる感光性樹脂組成物中に有機ハロゲン化合物
を含有させるとさらに現像性やめつき性が向上される。
を含有させるとさらに現像性やめつき性が向上される。
有機ハロゲン化合物の例としては、四塩化炭素。
クロロホルム、ブロモホルム、1,1.1−)!j/ロ
ロエタン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メチレ
ン、四臭化炭素、ヨードホルム、1,1,2.2−テト
ラフロモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモアセ
トフェノン、ビス−(トリブロモメチル)スルホン、ト
リブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩素化
オレフィン等が挙げられる。炭素−ハロゲン結合強度の
弱い脂肪族ハロゲン化合物、特に同一炭素上に2個以上
のハロゲン原子が結合している化合物とりわけ有機ブロ
ム化合物が好ましい。トリブロモメチル基を有する有機
ハロゲン化合物が一層好ましい結果をあたえるが、トリ
ブロモメチルフェニルスルホyカ好tしい。
ロエタン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メチレ
ン、四臭化炭素、ヨードホルム、1,1,2.2−テト
ラフロモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモアセ
トフェノン、ビス−(トリブロモメチル)スルホン、ト
リブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩素化
オレフィン等が挙げられる。炭素−ハロゲン結合強度の
弱い脂肪族ハロゲン化合物、特に同一炭素上に2個以上
のハロゲン原子が結合している化合物とりわけ有機ブロ
ム化合物が好ましい。トリブロモメチル基を有する有機
ハロゲン化合物が一層好ましい結果をあたえるが、トリ
ブロモメチルフェニルスルホyカ好tしい。
なお9本発明になる感光性樹脂組成物には、公知の染料
、可塑剤、連鎖移動剤、顔料、難燃剤。
、可塑剤、連鎖移動剤、顔料、難燃剤。
安定剤、密着性付与剤等を必要に応じて添加することも
できる。
できる。
本発明になる感光性樹脂組成物は、メチルエチルケトン
、メチルセロソルブ、塩化メチレン等の有機溶剤を用い
て溶液とされる。
、メチルセロソルブ、塩化メチレン等の有機溶剤を用い
て溶液とされる。
本発明になる感光性樹脂組成物は、溶液状態で被処理物
上に塗布され、乾燥して用いられるかあるいはフィルム
状支持体上に塗装されて使用される。
上に塗布され、乾燥して用いられるかあるいはフィルム
状支持体上に塗装されて使用される。
本願の第二の発明は、感光性樹脂組成物積層体に関する
が、これは、上記の感光性樹脂組成物層をフィルム状支
持体に積層して得られるものである。この積層は既に公
知の方法によって行なわれる。
が、これは、上記の感光性樹脂組成物層をフィルム状支
持体に積層して得られるものである。この積層は既に公
知の方法によって行なわれる。
例えば、感光性樹脂組成物の溶液をフィルム状支持体上
に塗布し、乾燥して感光性樹脂組成物積層体とすること
ができる。フィルム状支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等が用いられる。必要に応じてフィル
ム状支持体の上に積層された感光性樹脂組成層の上に保
護フィルムを積層してもよい。保護フィルムとしては。
に塗布し、乾燥して感光性樹脂組成物積層体とすること
ができる。フィルム状支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等が用いられる。必要に応じてフィル
ム状支持体の上に積層された感光性樹脂組成層の上に保
護フィルムを積層してもよい。保護フィルムとしては。
上記のフィルム状支持体として用いられる材料の他にポ
リエチレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム等
が用いられる。
リエチレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム等
が用いられる。
(実施例)
本発明の詳細な説明する。
実施例1
−a
以下に記した手順で熱可塑性有機隔分子化合物を合成〔
7た。
7た。
表1の配合に従って二種類のモノマ混合溶液400gを
調整した。次に冷却器、温度計、l’iii下装置を備
えたII!の4ソロ反応フラスコにトルエン2509.
表1に従って秤量したモノマ溶液各4009のうち15
09金入れ、窒素気流を通じ93℃に昇温した。次いで
残りのモノマ2509゜トルエンi s o g、アゾ
ヒスイソブチロニトリル0.509を混合し、溶解した
ものを3時間にわたって滴下した。滴下終了後更に7時
間保温を続けた。この間フラスコの温度は93℃に保た
れた。
調整した。次に冷却器、温度計、l’iii下装置を備
えたII!の4ソロ反応フラスコにトルエン2509.
表1に従って秤量したモノマ溶液各4009のうち15
09金入れ、窒素気流を通じ93℃に昇温した。次いで
残りのモノマ2509゜トルエンi s o g、アゾ
ヒスイソブチロニトリル0.509を混合し、溶解した
ものを3時間にわたって滴下した。滴下終了後更に7時
間保温を続けた。この間フラスコの温度は93℃に保た
れた。
次にアゾビスインブチロニトリル0.25g&トルエン
759に溶解したものを30分にわたシ滴下した。滴下
後4時間保温を続けたものをトルエン75g、メチルエ
チルケトン759で希釈したものをそれぞれポリマ(I
)、ポリマ(2)とした。得られたポリマの特性を表2
に示した。
759に溶解したものを30分にわたシ滴下した。滴下
後4時間保温を続けたものをトルエン75g、メチルエ
チルケトン759で希釈したものをそれぞれポリマ(I
)、ポリマ(2)とした。得られたポリマの特性を表2
に示した。
表1
表2
1−b
表3に示す配合で感光性樹脂組成物溶液を製造した。
表3
(数字は重量部を示す。)
表3中、4と5が本発明の実施例であり、他は比較例で
ある。
ある。
*1 新中村化学■製 トリメチロールプロパントリ
アクリレート *2 日本化薬■製 2. Z 2:2’−テトラキ
ス(ヒドロキシメチル)−3,3’−オキシジブロバノ
ールと6−ヘキサノリド付加物との縮合物とアクリル酸
のエステル化物 *3 城北化学■製 ビス(N、N−2エチルへキシ
ルアミノ) −1,2,3ベンゾトリアゾール −c 表3に示す1〜5の感光性樹脂組成物溶液を。
アクリレート *2 日本化薬■製 2. Z 2:2’−テトラキ
ス(ヒドロキシメチル)−3,3’−オキシジブロバノ
ールと6−ヘキサノリド付加物との縮合物とアクリル酸
のエステル化物 *3 城北化学■製 ビス(N、N−2エチルへキシ
ルアミノ) −1,2,3ベンゾトリアゾール −c 表3に示す1〜5の感光性樹脂組成物溶液を。
厚み23μmを有するたて20 cm +横15cmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム(東し■装ルミラ
ー0)にアプリケータを用いて乾燥後の膜厚が40μm
となるように塗工乾燥し、厚み35μmのポリエチレン
フィルムで被覆して感光性フィルムを得た。
ポリエチレンテレフタレートフィルム(東し■装ルミラ
ー0)にアプリケータを用いて乾燥後の膜厚が40μm
となるように塗工乾燥し、厚み35μmのポリエチレン
フィルムで被覆して感光性フィルムを得た。
銅はく(厚さ35μm)を両面に積層したガラスエポキ
シ材である基板(日立化成工業株式会社製、商標MCL
−E −61)の銅表面をす800のサンドペーパー
で研磨し、水洗して空気流で乾燥した。次いで、基板を
60℃に加温し、その銅面上にポリエチレンフィルムを
除去した感光性フィルムを感光層が基板に接するように
160℃に加熱しながら各々、別々の基板にラミネート
した。
シ材である基板(日立化成工業株式会社製、商標MCL
−E −61)の銅表面をす800のサンドペーパー
で研磨し、水洗して空気流で乾燥した。次いで、基板を
60℃に加温し、その銅面上にポリエチレンフィルムを
除去した感光性フィルムを感光層が基板に接するように
160℃に加熱しながら各々、別々の基板にラミネート
した。
これらの基板にネガフィルムを使用して、3XWの高圧
水銀灯(オーク製作所製、商標フェニックスー3000
)で10秒間50cmの距離で露光を行なった。その後
1,1.1−)リクロロエタンシャワーによって現像し
た。現像条件を表4に示す。
水銀灯(オーク製作所製、商標フェニックスー3000
)で10秒間50cmの距離で露光を行なった。その後
1,1.1−)リクロロエタンシャワーによって現像し
た。現像条件を表4に示す。
表4
−d
以上のようにして得られたレジスト像を表5に示す条件
圧よシめつきを行ない、目視テストおよびテープはくり
テストを行なった。
圧よシめつきを行ない、目視テストおよびテープはくり
テストを行なった。
評価基準を表6に示す。
斧 種水化学c社)製粘着テープをめっき後の基板に圧
着し、基板に対して180°の方向忙ひきはがし上記の
基準により評価した。
着し、基板に対して180°の方向忙ひきはがし上記の
基準により評価した。
その結果を表7に示す。
本発明になる感光性樹脂組成物から得られるレジスト像
はビロリン酸鋼めっきに対して十分な耐性を有すること
が示される。
はビロリン酸鋼めっきに対して十分な耐性を有すること
が示される。
実施例2
−a
実施例1*1aに示す方法で溶媒としてトルエンのかわ
1)Kエチルセロソルブを用いて表8の配合によってポ
リマ(3)を合成した。得られたポリマ(3)の特性を
表9に示した。
1)Kエチルセロソルブを用いて表8の配合によってポ
リマ(3)を合成した。得られたポリマ(3)の特性を
表9に示した。
−b
表10に示す配合で感光性樹脂組成物溶液を製造した。
(数字は重量部を示す。)
*1 合 成 品 トリエチルへキサメチレンジイソ
シアナートと1.4ジヒドaキシルメチルシクロヘキサ
ンとヒドロキシルエチルアクリル酸の4:1:3(モル
比)縮合物 *2 城北化学■製 ビス(N、N−2−エチルへキシ
ルアミノメチレン)1,2.3)リルトリアゾ表10中
6〜7,10が比較例であシ8〜9゜11〜12が実施
例である。
シアナートと1.4ジヒドaキシルメチルシクロヘキサ
ンとヒドロキシルエチルアクリル酸の4:1:3(モル
比)縮合物 *2 城北化学■製 ビス(N、N−2−エチルへキシ
ルアミノメチレン)1,2.3)リルトリアゾ表10中
6〜7,10が比較例であシ8〜9゜11〜12が実施
例である。
−c
実施例1.1−Cに示した方法で感光性フィルムを作製
し、基板にラミネートし、露光後ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを除去した後、2チ、30℃の炭酸ナト
リウム水溶液を75秒間スプレーするととKよって現像
しレジスト像を得た。
し、基板にラミネートし、露光後ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを除去した後、2チ、30℃の炭酸ナト
リウム水溶液を75秒間スプレーするととKよって現像
しレジスト像を得た。
−d
以上のようにして得られたアルカリ現像型のレジスト像
を表11に示す条件で硫酸鋼−半田めっきを行なった。
を表11に示す条件で硫酸鋼−半田めっきを行なった。
評価基準はl−dに示した基準で行なった。その結果を
表12に示す。
表12に示す。
表11 メッキ工程
表12
本発明になる感光性樹脂組成物から得られたレジスト像
は優れた硫酸鋼−半田メッキ性を示す。
は優れた硫酸鋼−半田メッキ性を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)下記の一般式( I )で示される含窒素複素
環式化合物、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは1〜3の整数、R_1は水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、シアノ基又はニトロ基、mは
1〜3の整数、R_2、R_3はそれぞれ炭素数1〜1
2のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表わす。 ) (b)熱可塑性有機高分子化合物、 (c)末端エチレン基を少なくとも1個有する光重合性
化合物 および (d)活性光線の照射によつて前記の不飽和化合物(c
)の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含有し
てなる感光性樹脂組成物。 2、感光性樹脂組成物が、有機ハロゲン化合物を含有し
てなる特許請求範囲第1項記載の感光性樹脂組成物。 3、(a)下記の一般式( I )で示される含窒素複素
環式化合物、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは1〜3の整数、R_1は水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、シアノ基又はニトロ基、mは
1〜3の整数、R_2、R_3はそれぞれ炭素数1〜1
2のアルキル基又はヒドロキシルアルキル基を表わす。 ) (b)熱可塑性有機高分子化合物、 (c)末端エチレン基を少なくとも1個有する光重合性
化合物 および (d)活性光線の照射によつて前記の不飽和化合物(c
)の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系を含有し
てなる感光性樹脂組成物層に、フィルム状支持体を積層
してなる感光性樹脂組成物積層体。 4、感光性樹脂組成物層が、有機ハロゲン化合物を含有
してなる特許請求第3項記載の感光性樹脂組成物積層体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6610685A JPS61223836A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6610685A JPS61223836A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61223836A true JPS61223836A (ja) | 1986-10-04 |
| JPH0528827B2 JPH0528827B2 (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=13306305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6610685A Granted JPS61223836A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61223836A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0233148A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPH0243552A (ja) * | 1988-08-04 | 1990-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JP2000347391A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| CN106918993A (zh) * | 2015-10-26 | 2017-07-04 | 旭化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体以及保护图案形成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198146A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP6610685A patent/JPS61223836A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198146A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
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| JP2000347391A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| CN106918993A (zh) * | 2015-10-26 | 2017-07-04 | 旭化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体以及保护图案形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0528827B2 (ja) | 1993-04-27 |
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