JPS61284822A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61284822A JPS61284822A JP60125324A JP12532485A JPS61284822A JP S61284822 A JPS61284822 A JP S61284822A JP 60125324 A JP60125324 A JP 60125324A JP 12532485 A JP12532485 A JP 12532485A JP S61284822 A JPS61284822 A JP S61284822A
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- JP
- Japan
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- protective layer
- film
- recording medium
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、情報産業分野等で利用される高記録密度の磁
気記録媒体に関する。
気記録媒体に関する。
従来の技術
従来、r−Fe203 、Go含含有−Fe203.0
r02等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散して非
磁性支持体に塗布した、いわゆる塗布型磁気記録媒体が
開発されてきたが、さらに高密度化を目的として、現在
、メッキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブ
レーティング法等によって、非磁性支持体上に強磁性金
属薄膜を形成した磁気記録媒体が活発に研究されている
。
r02等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散して非
磁性支持体に塗布した、いわゆる塗布型磁気記録媒体が
開発されてきたが、さらに高密度化を目的として、現在
、メッキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブ
レーティング法等によって、非磁性支持体上に強磁性金
属薄膜を形成した磁気記録媒体が活発に研究されている
。
しかしながら、上記の方法で作成される強磁性金属薄膜
を用いた磁気記録媒体は、摩擦および耐摩耗性に問題が
ある。
を用いた磁気記録媒体は、摩擦および耐摩耗性に問題が
ある。
すなわち、磁気記録媒体は、磁気信号の記録。
再生の過程において、磁気ヘッド等との高速相対運動の
状態にある゛ため、磁気ヘッド等との接触によシ摩擦に
よって走行が不安定になったり、あるいは、長時間走行
させるとやがては摩耗や破損が発生することなどから出
力低下が著しく生じることになる。したがって、磁気記
録媒体は、円滑な走行性と耐久性が強く望まれている。
状態にある゛ため、磁気ヘッド等との接触によシ摩擦に
よって走行が不安定になったり、あるいは、長時間走行
させるとやがては摩耗や破損が発生することなどから出
力低下が著しく生じることになる。したがって、磁気記
録媒体は、円滑な走行性と耐久性が強く望まれている。
このため、従来、強磁性金属薄膜の改質や、あるいは滑
剤層を設けることが種々提案されており、例えば、改質
を目的として、強磁性金属薄膜の酸化による提案がなさ
れている(特開昭59−203238号公報)。
剤層を設けることが種々提案されており、例えば、改質
を目的として、強磁性金属薄膜の酸化による提案がなさ
れている(特開昭59−203238号公報)。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、この場合耐摩耗性の点では改善が見られ
るものの、潤滑性の点において、強磁性金属薄膜の表面
酸化層のみに依存することから良好な走行性に欠は充分
とは言えない。
るものの、潤滑性の点において、強磁性金属薄膜の表面
酸化層のみに依存することから良好な走行性に欠は充分
とは言えない。
したがって、本発明は、かかる点に鑑み、潤滑性、走行
性、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体を提供することを
目的としている。
性、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体を提供することを
目的としている。
問題点を解決するための手段
非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面部に酸化被
膜を形成し、さらにその上面に、トリアジンジチオール
又はその塩の化合物を含有した保護層を設ける。
膜を形成し、さらにその上面に、トリアジンジチオール
又はその塩の化合物を含有した保護層を設ける。
作用
酸化被膜の形成による耐摩耗性の向上と、同時に、前記
保護層の潤滑性の作用が加わわシ、良好な走行性と耐摩
耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られる。このことはお
そらく、酸化被膜層と、トリアジンジチオール又はその
塩の活性基が強く結合するためと思われる。
保護層の潤滑性の作用が加わわシ、良好な走行性と耐摩
耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られる。このことはお
そらく、酸化被膜層と、トリアジンジチオール又はその
塩の活性基が強く結合するためと思われる。
実施例
図は、本発明の磁気記録媒体の断面図である。
図において、1は非磁性基板、2は強磁性金属薄膜、3
は酸化処理により形成される酸化被膜、4はトリアジン
ジチオール又はその塩の化合物からなる保護層である。
は酸化処理により形成される酸化被膜、4はトリアジン
ジチオール又はその塩の化合物からなる保護層である。
本発明による磁気記録媒体に使用しうる非磁性基板1と
しては、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸セルロース、ホリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミドおよびポ
リスルフォン等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス
、磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
しては、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸セルロース、ホリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミドおよびポ
リスルフォン等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス
、磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
又、強磁性金属薄膜2を形成する強磁性材料としては、
周知の材料を使用でき、例えば、鉄、コバルト、ニッケ
ルの1種以上の合金、又は、これらと他の金属例えばマ
ンガン、クロム、チタン。
周知の材料を使用でき、例えば、鉄、コバルト、ニッケ
ルの1種以上の合金、又は、これらと他の金属例えばマ
ンガン、クロム、チタン。
リン、イツトリウム、サマリウム、ビスマス等を組み合
わせた合金があり、又、上述の金属の酸化物等がある。
わせた合金があり、又、上述の金属の酸化物等がある。
非磁性基板1上に強磁性金属薄膜2を形成させるに当っ
ては、真空蒸着法、スパッタリング法。
ては、真空蒸着法、スパッタリング法。
イオンブレーティング法、メッキ法等、任意の方法で形
成させることができる。
成させることができる。
本発明においては、上述した強磁性金属薄膜2の表面部
を酸化処理することにより酸化被膜3を形成し、さらに
その上面にトリアジンジチオール又はその塩の化合物の
保護層を形成することが要点である。
を酸化処理することにより酸化被膜3を形成し、さらに
その上面にトリアジンジチオール又はその塩の化合物の
保護層を形成することが要点である。
本発明に述べる酸化被膜とは、酸素が金属成分に対して
元素比において50%以上である組成状態を言う。その
形成方法は、非磁性基板1上に強磁性金属薄膜2を形成
する際に酸素等の酸化性ガスを同時に注入して行なう通
常の乾式法や、強磁性金属薄膜2の形成後に、クロム酸
塩等の酸化剤で行なう湿式法等を含む。これらの方法に
より形成される酸化被膜3の膜厚は、100Å以上であ
ると、co、cr等で形成される柱状結晶構造に支障を
きたし磁気特性の低下を生じ、20八以下だと膜質の改
良にはならないため、20〜100人が良いと言える。
元素比において50%以上である組成状態を言う。その
形成方法は、非磁性基板1上に強磁性金属薄膜2を形成
する際に酸素等の酸化性ガスを同時に注入して行なう通
常の乾式法や、強磁性金属薄膜2の形成後に、クロム酸
塩等の酸化剤で行なう湿式法等を含む。これらの方法に
より形成される酸化被膜3の膜厚は、100Å以上であ
ると、co、cr等で形成される柱状結晶構造に支障を
きたし磁気特性の低下を生じ、20八以下だと膜質の改
良にはならないため、20〜100人が良いと言える。
さらに好ましい膜厚としては、磁気特性の出力低下を伴
なわず、かつ、耐摩耗性の向上も加味される範囲として
、20〜50人が良い。
なわず、かつ、耐摩耗性の向上も加味される範囲として
、20〜50人が良い。
保護層4としては、S−)リアジン骨格の2゜6位にチ
オール基、4位に水素基又は炭化水素基が組み合わさっ
て結合している −NR,R2を有する化合物すなわち
下式 〔R1:水素基、炭化水素基(c4〜C20’ )。
オール基、4位に水素基又は炭化水素基が組み合わさっ
て結合している −NR,R2を有する化合物すなわち
下式 〔R1:水素基、炭化水素基(c4〜C20’ )。
R2:炭化水素基(04〜C20 ) )で表わされる
トリアジンジチオールを用いる。又はチオール基のNa
、に等のアルカリ金属塩類化合物で形成される。これら
の化合物は、その化学構造から、後述の実施例に述べる
ように、炭化水素基が良好な滑性の役割を果す一方、チ
オール基が酸化被膜と強く結合することにより、磁気ヘ
ッド等の摺動によるはかれかなく、又、介在するトリア
ジン骨格が固い構造のため耐摩耗性においてもすぐれた
特性を示すと考えられる。したがって、これらの化合物
を保護層4として形成すると良好な走行性と、耐摩耗性
にすぐれた特性が得られ、使用方法は、単独、又は混合
して用いることが可能である。
トリアジンジチオールを用いる。又はチオール基のNa
、に等のアルカリ金属塩類化合物で形成される。これら
の化合物は、その化学構造から、後述の実施例に述べる
ように、炭化水素基が良好な滑性の役割を果す一方、チ
オール基が酸化被膜と強く結合することにより、磁気ヘ
ッド等の摺動によるはかれかなく、又、介在するトリア
ジン骨格が固い構造のため耐摩耗性においてもすぐれた
特性を示すと考えられる。したがって、これらの化合物
を保護層4として形成すると良好な走行性と、耐摩耗性
にすぐれた特性が得られ、使用方法は、単独、又は混合
して用いることが可能である。
又、炭化水素基の炭素数は、3以下だと低分子化に伴な
う潤滑性の低下と磁気ヘッド等の摺動熱による分解があ
り、21以上の炭素数であれば、期待できるほどの潤滑
効果が得られないばかりか合成の取り扱いもむつかしく
なるため、4〜20の炭素数が好ましい。
う潤滑性の低下と磁気ヘッド等の摺動熱による分解があ
り、21以上の炭素数であれば、期待できるほどの潤滑
効果が得られないばかりか合成の取り扱いもむつかしく
なるため、4〜20の炭素数が好ましい。
保護層4の形成は、スピンコード、LB法等の湿式法お
よび蒸着等の乾式法で容易に達せられる。
よび蒸着等の乾式法で容易に達せられる。
又、保護層4の膜厚は、50〜400人が好ましい。何
故なら、5oÅ以下だと膜形成においてピンホール等が
生じやすいことと、基板(酸化被膜3)の影響が生じて
くるため潤滑性が充分得られなくなる一方、400Å以
上だと、スペーシングロスによる信号の出力低下、が生
じるからである。
故なら、5oÅ以下だと膜形成においてピンホール等が
生じやすいことと、基板(酸化被膜3)の影響が生じて
くるため潤滑性が充分得られなくなる一方、400Å以
上だと、スペーシングロスによる信号の出力低下、が生
じるからである。
したがって、保護層4は、本発明のトリアジンジチオー
ル又はその塩類化合物で上述の方法により形成される。
ル又はその塩類化合物で上述の方法により形成される。
以下、実施例で説明する。
実施例1
膜厚12μmのポリイミドフィルム基板上に、連続蒸着
法によりコバルト−クロム(元素比、9:1)の組成比
で膜厚1660人(A、E、S。
法によりコバルト−クロム(元素比、9:1)の組成比
で膜厚1660人(A、E、S。
分析)の強磁性金属薄膜を作成しサンプルとした(サン
プル庖■)。これをさらに、硝酸溶液中で浸漬処理する
ことにより酸化被膜が形成されたサンプルを作成した(
サンプル應■)。次に、サングリコール水)をスピンコ
ードし保護層を形成した(サンプル雁■)。
プル庖■)。これをさらに、硝酸溶液中で浸漬処理する
ことにより酸化被膜が形成されたサンプルを作成した(
サンプル應■)。次に、サングリコール水)をスピンコ
ードし保護層を形成した(サンプル雁■)。
以上のサンプルを、動摩擦係数を測定することにより比
較評価した。その結果を第1表に示す。
較評価した。その結果を第1表に示す。
なお評価に使用した測定装置は、協和界面科学(株)製
、DF−PM型動摩擦係数計である。
、DF−PM型動摩擦係数計である。
第1表
以上の試験条件は、ヘッドとしてφ3朋の鋼球(SUJ
)を用い、荷重(P)=1(1,走行速度(マ)=1.
s顧/Sである。
)を用い、荷重(P)=1(1,走行速度(マ)=1.
s顧/Sである。
第1表によると、サンプル煮■は、初期からμが大きく
、20パス後においては、μ=0.85と大きいばかり
か損傷がはなはだ激しかった。これに対し、サンプル魚
■は、μが小さくて変化もなく、かつ表面観察において
も何ら異常が見られないなど良好な走行性と耐摩耗性に
すぐれた磁気記録媒体が得られている。又、サンプル雁
■は、サンプル尻■と比較してμの変化こそ改良されて
いるものの、傷の発生が同程度であるため、耐久性が不
充分であることが分る。
、20パス後においては、μ=0.85と大きいばかり
か損傷がはなはだ激しかった。これに対し、サンプル魚
■は、μが小さくて変化もなく、かつ表面観察において
も何ら異常が見られないなど良好な走行性と耐摩耗性に
すぐれた磁気記録媒体が得られている。又、サンプル雁
■は、サンプル尻■と比較してμの変化こそ改良されて
いるものの、傷の発生が同程度であるため、耐久性が不
充分であることが分る。
以上のことから、本発明に述べるごとく、強磁性金属薄
膜の表面部を酸化し、さらに保護層を形成して得られる
磁気記録媒体は、良好な走行性と、耐摩耗性にすぐれた
記録媒体として実現できることがわかる。
膜の表面部を酸化し、さらに保護層を形成して得られる
磁気記録媒体は、良好な走行性と、耐摩耗性にすぐれた
記録媒体として実現できることがわかる。
実施例2
膜厚20μmのポリアミドフィルム基板上に、実施例1
と同様の組成と方法で、膜厚140o人のサンプルを作
成した(サンプル五〇)。サンプル五〇を作成する工程
中、強磁性薄膜の蒸着において酸素を導入し、100人
(AJ、S1分析)の酸化被膜層が形成されたサンプル
も同時に作成した(サンプル煮■)。そしてサンプル雁
■の上面に、4−モノステアリルアミノ−2,6−シチ
オールーs−)リアジン(o、1 wt%’タ空チレン
グリコール水)を塗布しサンプル煮■を得た。
と同様の組成と方法で、膜厚140o人のサンプルを作
成した(サンプル五〇)。サンプル五〇を作成する工程
中、強磁性薄膜の蒸着において酸素を導入し、100人
(AJ、S1分析)の酸化被膜層が形成されたサンプル
も同時に作成した(サンプル煮■)。そしてサンプル雁
■の上面に、4−モノステアリルアミノ−2,6−シチ
オールーs−)リアジン(o、1 wt%’タ空チレン
グリコール水)を塗布しサンプル煮■を得た。
以上のサンプルについて、実施例1と同様の方法で評価
し、その結果を第2表に示す。
し、その結果を第2表に示す。
第2表
以上のように、サンプル應■はμにおいて30パス後も
何ら変化なく安定していたのに対し、サンプル煮■はも
とより、サンプル遥■も同様に悪い現象を呈していたこ
とから、本発明の効果がすぐれていることが分かる。
何ら変化なく安定していたのに対し、サンプル煮■はも
とより、サンプル遥■も同様に悪い現象を呈していたこ
とから、本発明の効果がすぐれていることが分かる。
実施例3
Go 、Or 、Ni 、等の膜組成で、膜厚130o
〜2000への強磁性金属薄膜を形成し、酸化法は実施
例1と同様にしてさらにサンプルを作成し、以下の第3
表に記載の化合物で保護層を形成した。
〜2000への強磁性金属薄膜を形成し、酸化法は実施
例1と同様にしてさらにサンプルを作成し、以下の第3
表に記載の化合物で保護層を形成した。
これらのサンプルを水の接触角測定により評価し、同時
に、ヘッドφ6tnのSUJで、P:20g。
に、ヘッドφ6tnのSUJで、P:20g。
マ=3gx/sの試験条件でμ比較した。その結果を第
3表に示す。なお保護6層の膜厚はエリプソメーターで
測定した。
3表に示す。なお保護6層の膜厚はエリプソメーターで
測定した。
(以下余白)
以上のことから、サンプル黒■〜[相]はいずれも接触
角が高く、走行試験においても、初期値と同様の安定し
た値を示し、μ、、=0.24〜0.29と良好な潤滑
性を示す効果が得られた。したがって、本発明に述べる
保護層は、R7が水素基又は炭素数がC4〜C20の炭
化水素基で、R2が同様の炭化水素基を有するトリアジ
ンチオール又はその塩で形成されることによりすぐれた
磁気記録媒体が得られることがわかる。
角が高く、走行試験においても、初期値と同様の安定し
た値を示し、μ、、=0.24〜0.29と良好な潤滑
性を示す効果が得られた。したがって、本発明に述べる
保護層は、R7が水素基又は炭素数がC4〜C20の炭
化水素基で、R2が同様の炭化水素基を有するトリアジ
ンチオール又はその塩で形成されることによりすぐれた
磁気記録媒体が得られることがわかる。
実施例4
実施例1〜3と同様に強磁性金属薄膜を作成し、酸化被
膜層を約50〜100人形成し、保護層を積層してサン
プル作成した(サンプル黒■〜[相]、第4表)。保護
層の膜厚は、実施例3と同様にエリプソメトリ−で行な
い、評価は、傷の発生パス数を測定装置に付設のファイ
バースコープで見ながらチェックした。その結果を第4
表に示す。
膜層を約50〜100人形成し、保護層を積層してサン
プル作成した(サンプル黒■〜[相]、第4表)。保護
層の膜厚は、実施例3と同様にエリプソメトリ−で行な
い、評価は、傷の発生パス数を測定装置に付設のファイ
バースコープで見ながらチェックした。その結果を第4
表に示す。
なお試験法は、ヘッドがφ6朋SUJ、P=30、F、
v=1朋/sで行ない、保護層の化合物は化学式で示し
た。
v=1朋/sで行ない、保護層の化合物は化学式で示し
た。
以上のことから、サンプル五〇〜[相]は上記試験にお
いても、μ=0.28〜0.42 と潤滑性が200パ
ス以上安定した値を示し、観察結果においても、殆んど
磁気記録媒体の表面に何ら異常がないなどの耐摩耗性に
もすぐれていることが分かる。
いても、μ=0.28〜0.42 と潤滑性が200パ
ス以上安定した値を示し、観察結果においても、殆んど
磁気記録媒体の表面に何ら異常がないなどの耐摩耗性に
もすぐれていることが分かる。
したがって、酸化被膜層を20〜100人形成したあと
で、さらに、トリアジンチオール又は、その塩類化合物
を、膜厚5o〜400人形成することにより、良好な潤
滑性と、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られる。
で、さらに、トリアジンチオール又は、その塩類化合物
を、膜厚5o〜400人形成することにより、良好な潤
滑性と、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られる。
発明の効果
本発明に述べる磁気記録媒体は、強磁性薄膜の表面部に
酸化被膜を形成し、その上に、トリアジンジチオール又
はその塩類化合物を含む保護層を形成することにより、
良好な走行性と、耐摩耗性にすぐれた記録媒体として実
現できる。
酸化被膜を形成し、その上に、トリアジンジチオール又
はその塩類化合物を含む保護層を形成することにより、
良好な走行性と、耐摩耗性にすぐれた記録媒体として実
現できる。
図は、本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面図
である。 1・・・・・・非磁性基板、2・・・・・・強磁性金属
薄膜、3・・・・・・酸化被膜層、4・・・・・・保護
層。
である。 1・・・・・・非磁性基板、2・・・・・・強磁性金属
薄膜、3・・・・・・酸化被膜層、4・・・・・・保護
層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面部に
酸化被膜を形成し、さらにその上面に、下式に示すトリ
アジンジチオール又はその塩の化合物を含有した保護層
を形成することを特徴とする磁気記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔R_1:水素基、炭化水素基(C_4〜C_2_0)
、R_2:炭化水素基(C_4〜C_2_0)〕(2)
前記トリアジンジチオール又はその塩の化合物を、膜厚
50〜400Å積層することを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の磁気記録媒体。 (3)前記酸化被膜厚を、膜厚20〜100Å形成する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60125324A JPH07101505B2 (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60125324A JPH07101505B2 (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284822A true JPS61284822A (ja) | 1986-12-15 |
| JPH07101505B2 JPH07101505B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=14907294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60125324A Expired - Lifetime JPH07101505B2 (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101505B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5189702A (ja) * | 1975-02-05 | 1976-08-06 | Jikikiokutai | |
| JPS5345390A (en) * | 1976-10-04 | 1978-04-24 | Yoshiroo Nakamura | Composite materials comprising metal material and polymer material |
-
1985
- 1985-06-10 JP JP60125324A patent/JPH07101505B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5189702A (ja) * | 1975-02-05 | 1976-08-06 | Jikikiokutai | |
| JPS5345390A (en) * | 1976-10-04 | 1978-04-24 | Yoshiroo Nakamura | Composite materials comprising metal material and polymer material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07101505B2 (ja) | 1995-11-01 |
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