JPS6135936B2 - - Google Patents
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- JPS6135936B2 JPS6135936B2 JP54114097A JP11409779A JPS6135936B2 JP S6135936 B2 JPS6135936 B2 JP S6135936B2 JP 54114097 A JP54114097 A JP 54114097A JP 11409779 A JP11409779 A JP 11409779A JP S6135936 B2 JPS6135936 B2 JP S6135936B2
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- film
- polyester
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- acid
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
本発明はポリエステル積層フイルムの製造法に
関する。更に詳しくは、優れた機械的特性、電気
的特性、耐熱性、耐薬品性、寸法安定性等の諸特
性を兼備したポリエステル積層フイルムの製造法
に関する。 従来、導電性金属層を電気絶縁性フイルム上に
積層した積層フイルムは、フレキシブルプリント
サーキツト、テープキヤリヤー等の用途に使用さ
れており、電子機器の小型化、軽量化、精密化に
ともなつてその重要性を増しつつある。現在のと
ころ電気絶縁性フイルムとしては、ポリエステル
フイルム、ポリイミドフイルム、ガラス−エポキ
シフイルム等が主に用いられている。 ポリエステルフイルム、殊にポリエチレンテレ
フタレートフイルムは優れた機械的特性及び電気
的特性を有するが、耐熱性が十分であるとは言え
ず、例えば、ポリエチレンテレフタレート延伸フ
イルムでは230℃の如き融点以下の温度でも収縮
率が大きく使用範囲が著しく制限されるし、その
他耐薬品性、寸法安定性についても例えば熱硬化
型樹脂に比べると劣つている。またポリイミドフ
イルムは優れた機械的特性、耐熱性を有している
が、平衡水分率が高く、寸法安定性、電気的特性
が良いとはいえず、また金属層との接着性が充分
でなくベースフイルムの耐熱性を充分発現させう
る耐熱性接着剤を必要とし、更に溶液製膜法によ
ることから非常に高価なものであるという問題点
を有している。更にこの耐熱性接着剤を工業的に
製造し、利用することからもコスト高となる。 更にまた、ガラス−エポキシフイルムは熱硬化
型樹脂であり、伸度が小さく柔軟性に欠けるとい
う欠点がある。 本発明者は、かかる点に着目し、実質的に線状
の飽和ポリエステルの溶融成形性と優れた電気特
性を保有し、製膜後に硬化型樹脂に匹適する耐熱
性を有しうるポリエステルをベースフイルムとす
る耐熱性と屈曲性に優れた積層フイルムを得るべ
く鋭意検討した結果、特定の光重合特性を有する
溶融混合した後溶融製膜した線状ポリエステルの
フイルムに導電性金属箔を直接的に圧着積層し、
次いでベースフイルムを活性線処理して得られた
積層フイルムは、ベースフイルムと金属箔層との
接着性に優れ、かつ耐熱性及び屈曲性にも優れて
いることを見い出し、本発明に到達した。 すなわち、本発明は実質的に線状のポリエステ
ルを下記式(i) 〔但し式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは異な
り、それぞれ水素原子及び１価の炭化水素基より
なる群から選ばれたメンバーを表わす。〕 で表わされ、溶融混合・製膜条件下で安定な光重
合性不飽和基を有する化合物及び光反応開始剤と
溶融混合した後溶融製膜したフイルムに、導電性
金属層を直接圧着積層し、次いでポリエステルフ
イルム層を紫外線照射処理で架橋せしめることを
特徴とするポリエステル積層フイルムの製造法で
ある。 本発明に用いられる実質的に線状のポリエステ
ルを構成する酸成分としては、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジ
フエニルジカルボン酸、ジフエニルスルホンジカ
ルボン酸、ジフエノキシエタンジカルボン酸、ジ
フエニルエーテルジカルボン酸、メチルテレフタ
ル酸、メチルイソフタル酸等の芳香族ジカルボン
酸；コハク酸、アジピン酸、セバチン酸等の脂肪
族ジカルボン酸；ヘキサヒドロテレフタル酸等の
脂環族ジカルボン酸；ε−オキシカプロン酸、オ
キシ安息香酸、ヒドロキシエトキシ安息香酸等の
オキシカルボン酸が挙げられ、芳香族ジカルボン
酸、特にテレフタル酸、イソフタル酸が好まし
い。またポリエステルのグリコール成分として
は、例えばエチレングリコール、トリメチレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、デカメチレングリコール、ネ
オペンチレングリコール、シクロヘキサンジメチ
ロール等が例示され、特にエチレングリコール、
テトラメチレングリコール、ネオペンチレングリ
コール、シクロヘキサンジメチロールが好まし
い。 前記実質的に線状のポリエステルは上述したジ
カルボン酸成分とグリコール成分との縮重合によ
つて得られるが、その製造法は従来公知の方法を
用いることができる。これらポリマーはホモポリ
マーよりコポリマーの方が好ましく、例えば２種
以上の酸成分或いは２種以上のグリコール成分を
用いたコポリマーが好ましく、特にエチレンテレ
フタレートを主たる繰り返し単位とするコポリエ
ステルが好ましい。このコポリエステルの共重合
成分としては、イソフタル酸、ネオペンチレング
リコールが好ましく挙げられる。これらの共重合
割合は全酸成分に対し50モル％以下、更には４〜
30モル％、特に８〜20モル％とするのが望まし
い。 尚上記ポリエステルには実質的に線状である範
囲内でペンタエリスリトール、トリメチロールプ
ロパン、ピロメリツト酸及びこれらのエステル形
成性誘導体等の多官能化合物を共重合せしめても
よい。 本発明に用いられるポリエステルは前記線状ポ
リエステルから主としてなり、これに架橋剤すな
わち該ポリエステルの溶融製膜条件下で実質的に
安定な光重合性不飽和基を有する化合物と光反応
開始剤を溶融ブレンドせしめてから溶融製膜され
る。 ここで、ポリエステルの溶融混合・製膜条件下
実質的に安定であるとは、ポリエステルの溶融す
る温度例えばポリエステルの融点（Tm）より20
℃高い温度で不活性ガス中例えば約15分間保持し
た場合不飽和基同志或いは不飽和基とポリエステ
ルとの反応等が起らず、不飽和基が安定に存在す
ることを意味する。かかる条件を満足する光重合
性不飽和基は下記式で表わされる基である。 〔但し式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは異な
り、それぞれ水素原子及び１価の炭化水素基より
なる群から選ばれたメンバーを表わす。〕 前記一般式中、R1、R2及びR3について、１価
の炭化水素基の好ましい例としては、C1〜C6の
アルキル、一層好ましくはC1〜C3のアルキルを
挙げることができる。上式で表わされる基、すな
わちアリル若しくは置換アリル中好ましいもの
は、アリル、メタアリル及びクロチル基であり、
特に好ましいものはアリル基である。 かかる光重合性不飽和基をポリエステル中に含
有せしめることは該光重合性不飽和基を有する化
合物（以下化合物(A)と称することあり）をポリエ
ステルに溶融混合せしめることによつてできる。
化合物(A)をポリエステルに配合する場合には、該
化合物(A)中の不飽和基がポリエステルとの溶融混
練下で安定であることは勿論のこと、該化合物(A)
自身も安定であることが好ましく、従つて化合物
(A)を溶融ブレンドした場合、得られる組成物中に
フエノール／テトラクロルエタン混合溶液に35℃
で溶解しない不溶解物が実質的に生じることな
く、且つまたポリエステルの極限粘度〔η〕が著
しく低下しないことが好ましい。よつて、ポリエ
ステルの溶融温度で分解したり、ガス化したりす
る化合物はブレンド用化合物として好ましくな
い。従つてガス化の点からはポリエステルの溶融
温度でその蒸気圧が100mmHg以下、特に10mmHg
以下の化合物が好ましい。 上記一般式で示される基を含有する化合物(A)の
具体例を以下にあげる。 〔〕 アミド結合及び／又はイミド結合を有す
る化合物類：例えば、Ｎ・N′・N″−トリアリ
ルトリメシン酸アミド、Ｎ・Ｎ・N′−トリア
リルトリメリツト酸アミドイミド、Ｎ・Ｎ・
N′・N′・N″・N″−ヘキサアリルトリメシン酸
アミド。 〔〕 エステル結合を有する化合物類： テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリ
ル、ベンゾフエノンジカルボン酸ジアリル、ト
リメリツト酸トリアリル。 〔〕 シアヌル酸又はイソシアヌル酸の誘導
体： トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレート、テトラメチレンビス〔ジアリルイ
ソシアヌレート〕。 前記〔〕、〔〕、〔〕の具体的化合物のア
リル基はクロチル基又はメタアリル基であつて
も良い。 〔〕 エポキシ基を併有する化合物類： (1) ジアリルグリシジルシアヌレート、ジアリ
ルグリシジルイソシアヌレート；これらのア
リル基をクロチル基又はメタリル基に、また
グリシジル基を２・３−エポキシ−２−メチ
ルプロピル基、２・３−エポキシブチル基、
２・３−エポキシ−２−メチル−ブチル基等
で置換したシアヌル酸又はイソシアヌル酸誘
導体。 (2) Ｎ−アリルグリシジルオキシベンズアミ
ド、Ｎ・N′−ジアリル（又はＮ・Ｎ・N′・
N′−テトラアリル）−３・４−エポキシシク
ロヘキサン１・２−ジカルボキシアミド；こ
れらのアリル基をクロチル基又はメタリル基
に、又はグリシジル基を２・３−エポキシ−
２−メチルプロピル基、２・３−エポキシブ
チル基、２・３−エポキシ−２−メチルブチ
ル基等で置き換えた脂肪族、脂環族、芳香族
のアミド又はイミド化合物。 (3) 例えば、２・２−ビス（３−アリル−４−
グリシジルオキシフエニル）プロパン；（２
−アリルフエニル）−グリシジルエーテル；
これらの示されるアリル基をクロチル基や又
はメタアリル基に、又、グリシジル基を２・
３−エポキシ−２−メチルプロピル基、２・
３−エポキシブチル基、２・３−エポキシ−
２−メチル−ブチル基等で置き換えた化合
物、等の如き芳香核にアリル基とグリシジル
オキシ基とが置換されている化合物。 上述のポリエステルとブレンド可能な光重合性
不飽和基を有する化合物は、前記一般式で表わさ
れる基を２個以上有しているものが、後述する紫
外線処理において、より強固な架橋構造がフイル
ム層中に得られるので好ましい。これらのうち更
に前記〔〕、〔〕又は〔〕の化合物が好まし
く、特に〔〕、〔〕の化合物が好ましい。
〔〕のうちでは不飽和基を４個以上有する化合
物が更に好ましい 架橋剤としては上記光重合性不飽和基含有化合
物の他に光反応開始剤を併用するが、かかる光反
応開始剤として芳香族ケトン類、ベンジル及びそ
の誘導体、ベンゾイン及びその誘導体、多核キノ
ン類等が好ましく挙げられる。かかる化合物とし
て、例えばベンゾフエノン、ベンジル、ベンジル
ジアルキルケタール、ベンゾイン、ベンゾインエ
ーテル等及びこれらのアルキル、ニトロ、アルコ
キシ等の置換誘導体、アントラキノン等の置換誘
導体等が好ましい。 上述の光反応開始剤のほかにドイツ公開特許明
細書第1769168号、第1769853号、第1807297号、
第1807301号、第1919078号及び第1949010号に挙
げられている光反応開始剤のうちポリエステルの
溶融下実質的に安定であるものは適宜使用出来
る。 また、例えばベンゾフエノン−４・4′−ジカル
ボン酸等をポリエステルに共重合させてもよい。
これら光反応開始剤のうち、ベンジル及びその誘
導体が好ましく、特にベンジル誘導体が活性が高
いので好ましい。また芳香族ケトン類のうちベン
ゾフエノン残基を２個以上有する化合物も活性が
高いので好ましい。これらの光反応開始剤のうち
特に好ましくは例えばベンジルジメチルケター
ル、ベンゾインエチルエーテル等のベンジルケタ
ール、ベンゾインエーテルの置換誘導体が用いら
れる。 又、前記脂肪族系不飽和基と光反応開始作用の
２つの機能を同時に備えた化合物も好ましい光反
応開始剤として用いることができ、かかる２種類
の機能を有する化合物としては、例えばＮ−アリ
ル（又はクロチル又はメタアリル）ベンゾイルベ
ンズアミド、Ｎ−アリル（又はクロチル又はメタ
アリル）アントラキノンカルボキシアミド、Ｎ−
アリル（又はクロチル又はメタアリル）ベンゾイ
ルフタルイミド、Ｎ・Ｎ−ジアリル（又はジクロ
チル又はジメタアリル）ベンゾイルベンズアミ
ド、Ｎ・N′−ジアリル（又はジクロチル又はジ
メタアリル）ベンゾフエノンテトラカルボキシイ
ミド等が挙げられる。 本発明の積層フイルム製造に用いられるポリエ
ステルは上記架橋剤を含有せしめたのち溶融製膜
される。 上記架橋剤の添加量は光重合性不飽和基含有化
合物の場合はポリマー100ｇ当り光重合性不飽和
基として0.01〜0.5当量程度、更に好ましくは0.03
〜0.4当量程度、特に好ましくは0.06〜0.3当量程
度であり、又光反応開始剤の添加量は、ポリエス
テル100重量部に対し0.01〜20重量部程度、好ま
しくは0.05〜10重量部、更に好ましくは0.1〜５
重量部、特に好ましくは0.1〜３重量部程度であ
る。 本発明で用いるポリエステルフイルムは、例え
ば所定量の光重合性不飽和基と光反応開始剤とを
溶融ブレンドにより含有せしめたポリエステル
を、該ポリエステルの溶融下製膜して所望の厚さ
のフイルムとなすことによつて得られる。 溶融ブレンドによつて光重合性不飽和基及び光
反応開始剤をポリエステルに含有せしめる場合、
通常ポリエステルと光重合性不飽和基を有する化
合物及び光反応開始剤とを例えば８型ブレンダ
ー、Ｖ型ブレンダーの如き機械的混合手段で混合
し、次いでエクストルーダーの如き混練機を用い
て両者を該ポリエステルが溶融状態となる温度又
はそれ以上、好ましくは該ポリエステルの融点又
は該融点より約60℃高い温度の範囲で均一にブレ
ンドする。次いで溶融し、連続的に押出し成形等
の通常の熱可塑性樹脂の成形方法によつて容易に
フイルムとなす事が出来る。 又、ブレンドの他の方法として、溶融押出機又
は混練機を用いてポリマーを溶融後に、溶融供給
されるポリマーの計量計と連動させて前記架橋剤
を計量しながら供給し、ポリマーの溶融状態で所
定量の混練を行う方法も利用出来る。例えば溶融
押出機好ましくは異方向回転２軸押出機や、コニ
ーダー等のポリマーが溶融したシリンダー部分に
計量供給ポンプで架橋剤を所定量導入し、その後
好ましくはダルメージ付スクリユーや、スタテイ
ツクミキサー等を用いて混練する方法を用いるこ
とができる。本発明では上記の如くして混練され
たポリマー組成物をシートダイ等のスリツトより
溶融押出して冷却固化せしめる事により、ベース
ポリマーのフイルム状成形体を得る。 本発明においてはこのようにして得たベースポ
リマーフイルムは導電性金属と圧着され、導電性
金属層とベースポリマー層とからなる複合フイル
ムを得る。 本発明における導電性金属層としては、銅アル
ミ等が用いられ、特に銅箔が好ましく用いられ
る。又銅箔として電解銅箔と圧延銅箔とがあるが
一般的には電解銅箔が好ましく用いられる。特に
屈曲性の要求される場合には、圧延銅箔が好まし
く用いられる。かかる金属箔は厚さ５μ以上、好
ましくは15μ以上の箔として市場で容易に入手可
能である。 これら導電性金属箔は、以下に述べるベースポ
リマーとの圧着による密着性を向上させる為に、
圧着側の面を化学的、又は物理的に粗面化させら
れているのが好ましい。 かかる粗面化は従来公知の方法と技術でなされ
たものでよく、当該業者には容易な加工方法であ
る。 本発明の積層フイルムは、加圧ホツトローラや
ラミネーターによつて前記架橋剤を含有したポリ
エステルベースフイルムと導電性金属箔とを圧着
し、ベースポリマー層と導電性金属層からなる複
合フイルムよりなる。ベースポリマー層と導電性
金属層との複合化はベースポリマーシート成形
後、該ポリマーの架橋化処理前になされ、例えば
該ポリマーの溶融押出時に前記金属箔とラミネー
トする、いわゆるエクストルージヨンラミネート
法や、該ポリマーを溶融押出しをして一度シート
とした後、前記金属箔と加圧ホツトローラーで圧
着する方法等が用いられる。 前記エクストルージヨンラミネート法において
も、ポリマー層と金属層との密着性を向上させる
為に金属箔上にポリマーをキヤステイング後、ポ
リマーの温度が以下に述べる所定の温度になつた
時点で加圧ホツトローラーで圧着する事が好まし
い。 加圧ホツトローラーで前記ベースポリマーと金
属箔の圧着をする温度（TH：℃）は、該ポリマ
ーに対しそれに含有される光重合性不飽和基を有
する化合物の重量％（Ｗ）で次式の範囲で実施す
るのが好ましい。 0.89W2−24W＋250TH−6W＋250 TH40 圧着の圧力は２Kg/cm2以上、好ましくは３Kg/
cm2、特に好ましくは５Kg/cm2以上、250Kg/cm2以下
好ましくは200Kg/cm2以下、更に好ましくは150Kg/
cm2以下、特に好ましくは100Kg/cm2以下であり、ロ
ーラーによる圧着時間は0.5秒以上、更には１秒
以上あれば好ましい。さらに、上記条件内ではあ
るが、圧着の条件はロールの表面材質によつて変
化させることが望ましい。ロールの表面材質は、
圧着によつて得られる複合フイルムのポリマー層
外面の外観に特に影響を与える。かかる材質とし
ては圧着温度THでの長期連続使用に耐えるもの
でなければならない。その具体例としては、硬質
メツキをした研摩ロール、シリコンゴムライニン
グロール、テフロンライニングロール等があげら
れる。 複合フイルムの加熱圧着をより効果的に実施す
る為に、加熱温度、圧力等を変えた多段のローラ
ーを用いる事も可能である。 本発明の積層フイルムは、前記の様にして複合
化した後にベースポリエステルに紫外線を照射
し、架橋させる事によつて製造される。 紫外線の照射条件は、室温乃至ポリエステルの
分解温度より低い温度（℃）、好ましくはポリエ
ステルの二次転移点（Tg）乃至融点（Tm）
（℃）、より好ましくは（Tg＋10）乃至Tm
（℃）、更に好ましくは（Tg＋10）〜（Tm−10）
の温度で、１秒〜10時間、好ましくは２秒〜１時
間、更に好ましくは５秒〜30分、特に好ましくは
10秒〜10分である。 上記の如くして圧着架橋処理した複合フイルム
はそのままでも使用し得るが、さらに、150℃以
上、好ましくは180℃以上、特に好ましくは210℃
以上で10秒以上、好ましくは30秒以上、さらに好
ましくは１分以上、60分以下好ましくは30分以下
の熱処理をする事により、さらに密着性を向上さ
せる事が出来る。この熱処理は熱風下で行う事も
出来るが、複合した金属箔の酸化を抑制するなど
の点からポリマー層側から赤外線加熱を施こすの
が好適である。 本発明で用いるポリエステルフイルム層にはガ
ラスクロスガラスフイバー、マイカ、タルク等の
強化材や強化剤を含有することも可能である。こ
の場合、架橋剤、開始剤と同時に強化剤を混合
し、溶融押出し後上記の如く複合化架橋処理する
ことにより容易に目的を達成できる。 本発明方法によつて製造された積層フイルム
は、耐熱寸法安定性に優れ、260℃以上ひいては
300℃以上のハンダ付け等も可能であり、さら
に、金属層とベースポリマー層との密着性も高
く、その剥離強度も１Kg/cm以上更には1.5Kg/cm
以上の優れた複合フイルムとなる。 本発明における積層フイルムは、フレキシブル
ープリントサーキツト、テーブーキヤリヤー面発
熱体等の如き耐熱性と柔軟性を要求する素材に対
して有効に適用される。 以下実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明
する。実施例中「部」とあるのは、いずれも「重
量部」を意味し、極限粘度はフエノール／テトラ
クロルエタン混合溶液（重量比60／40）中35℃で
測定した値である。剥離強度はインストロン社製
引張り試験機を用い、１cm／分の引張り速度で測
定した。半田耐熱性はJIS−Ｃ−6481（印刷回路
用銅張積層板試験方法）に準じて測定した。 実施例 １〜４ イソフタル酸を15モル％共重合したポリエチレ
ンテレフタレート（極限粘度0.74）を充分乾燥し
たのちベントを有する30mmφ異方向回転二軸ルー
ダーに計量供給し、シリンダー内で溶融させ、一
方ベント部から第１表に示した架橋剤及び光反応
開始剤を計量ポンプを用いてルーダー内に導入
し、溶融ポリマーと添加物とを均密ブレンドし、
次いで均密ブレンド物をＴダイ部に導びき、冷却
ドラム上に押出して厚さ約100μの透明非晶フイ
ルムを得た。このフイルムとプリント配線基板に
用いられる厚さ35μの接着剤の塗布していない銅
箔とをシリコンゴムのライニングしてある２本の
ホツトローラーを用いて第１表に示す条件で圧着
し次いで、ポリエステルフイルム層を2KW高圧
水銀灯（30W/cm）下20cmの条件下で３分間紫外
線照射して架橋化させた。次いで第１表に示す温
度で熱処理を行なつて積層フイルムを得た。この
積層フイルムについて、剥離強度を測定し、また
260℃、30秒の半田溶浸漬試験を実施した。その
結果を第１表に示す。 実施例 ５、６ イソフタール酸を15モル％及びネオペンチレン
グリコールを20モル％共重合したポリエチレンテ
レフタレート（極限粘度0.72）を用い実施例１と
同様にして第１表に示す所定の架橋剤及び光反応
開始剤をブレンドし、更に製膜した。 さらに得られたフイルムを用いて実施例１と同
様にして積層フイルムを得た。この積層フイルム
の剥離強度を測定し、また半田溶浸漬試験を実施
した。その結果を第１表に示す。 比較例 １、２ 実施例１のポリマー（比較例１）又は実施例５
のポリマー（比較例２）に架橋剤、及び光反応開
始剤を添加していない以外は実施例１又は実施例
５と同様にして得たフイルムについて銅箔の圧着
を試みたが該フイルムは金属箔とほとんど密着し
なかつた。
関する。更に詳しくは、優れた機械的特性、電気
的特性、耐熱性、耐薬品性、寸法安定性等の諸特
性を兼備したポリエステル積層フイルムの製造法
に関する。 従来、導電性金属層を電気絶縁性フイルム上に
積層した積層フイルムは、フレキシブルプリント
サーキツト、テープキヤリヤー等の用途に使用さ
れており、電子機器の小型化、軽量化、精密化に
ともなつてその重要性を増しつつある。現在のと
ころ電気絶縁性フイルムとしては、ポリエステル
フイルム、ポリイミドフイルム、ガラス−エポキ
シフイルム等が主に用いられている。 ポリエステルフイルム、殊にポリエチレンテレ
フタレートフイルムは優れた機械的特性及び電気
的特性を有するが、耐熱性が十分であるとは言え
ず、例えば、ポリエチレンテレフタレート延伸フ
イルムでは230℃の如き融点以下の温度でも収縮
率が大きく使用範囲が著しく制限されるし、その
他耐薬品性、寸法安定性についても例えば熱硬化
型樹脂に比べると劣つている。またポリイミドフ
イルムは優れた機械的特性、耐熱性を有している
が、平衡水分率が高く、寸法安定性、電気的特性
が良いとはいえず、また金属層との接着性が充分
でなくベースフイルムの耐熱性を充分発現させう
る耐熱性接着剤を必要とし、更に溶液製膜法によ
ることから非常に高価なものであるという問題点
を有している。更にこの耐熱性接着剤を工業的に
製造し、利用することからもコスト高となる。 更にまた、ガラス−エポキシフイルムは熱硬化
型樹脂であり、伸度が小さく柔軟性に欠けるとい
う欠点がある。 本発明者は、かかる点に着目し、実質的に線状
の飽和ポリエステルの溶融成形性と優れた電気特
性を保有し、製膜後に硬化型樹脂に匹適する耐熱
性を有しうるポリエステルをベースフイルムとす
る耐熱性と屈曲性に優れた積層フイルムを得るべ
く鋭意検討した結果、特定の光重合特性を有する
溶融混合した後溶融製膜した線状ポリエステルの
フイルムに導電性金属箔を直接的に圧着積層し、
次いでベースフイルムを活性線処理して得られた
積層フイルムは、ベースフイルムと金属箔層との
接着性に優れ、かつ耐熱性及び屈曲性にも優れて
いることを見い出し、本発明に到達した。 すなわち、本発明は実質的に線状のポリエステ
ルを下記式(i) 〔但し式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは異な
り、それぞれ水素原子及び１価の炭化水素基より
なる群から選ばれたメンバーを表わす。〕 で表わされ、溶融混合・製膜条件下で安定な光重
合性不飽和基を有する化合物及び光反応開始剤と
溶融混合した後溶融製膜したフイルムに、導電性
金属層を直接圧着積層し、次いでポリエステルフ
イルム層を紫外線照射処理で架橋せしめることを
特徴とするポリエステル積層フイルムの製造法で
ある。 本発明に用いられる実質的に線状のポリエステ
ルを構成する酸成分としては、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジ
フエニルジカルボン酸、ジフエニルスルホンジカ
ルボン酸、ジフエノキシエタンジカルボン酸、ジ
フエニルエーテルジカルボン酸、メチルテレフタ
ル酸、メチルイソフタル酸等の芳香族ジカルボン
酸；コハク酸、アジピン酸、セバチン酸等の脂肪
族ジカルボン酸；ヘキサヒドロテレフタル酸等の
脂環族ジカルボン酸；ε−オキシカプロン酸、オ
キシ安息香酸、ヒドロキシエトキシ安息香酸等の
オキシカルボン酸が挙げられ、芳香族ジカルボン
酸、特にテレフタル酸、イソフタル酸が好まし
い。またポリエステルのグリコール成分として
は、例えばエチレングリコール、トリメチレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、デカメチレングリコール、ネ
オペンチレングリコール、シクロヘキサンジメチ
ロール等が例示され、特にエチレングリコール、
テトラメチレングリコール、ネオペンチレングリ
コール、シクロヘキサンジメチロールが好まし
い。 前記実質的に線状のポリエステルは上述したジ
カルボン酸成分とグリコール成分との縮重合によ
つて得られるが、その製造法は従来公知の方法を
用いることができる。これらポリマーはホモポリ
マーよりコポリマーの方が好ましく、例えば２種
以上の酸成分或いは２種以上のグリコール成分を
用いたコポリマーが好ましく、特にエチレンテレ
フタレートを主たる繰り返し単位とするコポリエ
ステルが好ましい。このコポリエステルの共重合
成分としては、イソフタル酸、ネオペンチレング
リコールが好ましく挙げられる。これらの共重合
割合は全酸成分に対し50モル％以下、更には４〜
30モル％、特に８〜20モル％とするのが望まし
い。 尚上記ポリエステルには実質的に線状である範
囲内でペンタエリスリトール、トリメチロールプ
ロパン、ピロメリツト酸及びこれらのエステル形
成性誘導体等の多官能化合物を共重合せしめても
よい。 本発明に用いられるポリエステルは前記線状ポ
リエステルから主としてなり、これに架橋剤すな
わち該ポリエステルの溶融製膜条件下で実質的に
安定な光重合性不飽和基を有する化合物と光反応
開始剤を溶融ブレンドせしめてから溶融製膜され
る。 ここで、ポリエステルの溶融混合・製膜条件下
実質的に安定であるとは、ポリエステルの溶融す
る温度例えばポリエステルの融点（Tm）より20
℃高い温度で不活性ガス中例えば約15分間保持し
た場合不飽和基同志或いは不飽和基とポリエステ
ルとの反応等が起らず、不飽和基が安定に存在す
ることを意味する。かかる条件を満足する光重合
性不飽和基は下記式で表わされる基である。 〔但し式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは異な
り、それぞれ水素原子及び１価の炭化水素基より
なる群から選ばれたメンバーを表わす。〕 前記一般式中、R1、R2及びR3について、１価
の炭化水素基の好ましい例としては、C1〜C6の
アルキル、一層好ましくはC1〜C3のアルキルを
挙げることができる。上式で表わされる基、すな
わちアリル若しくは置換アリル中好ましいもの
は、アリル、メタアリル及びクロチル基であり、
特に好ましいものはアリル基である。 かかる光重合性不飽和基をポリエステル中に含
有せしめることは該光重合性不飽和基を有する化
合物（以下化合物(A)と称することあり）をポリエ
ステルに溶融混合せしめることによつてできる。
化合物(A)をポリエステルに配合する場合には、該
化合物(A)中の不飽和基がポリエステルとの溶融混
練下で安定であることは勿論のこと、該化合物(A)
自身も安定であることが好ましく、従つて化合物
(A)を溶融ブレンドした場合、得られる組成物中に
フエノール／テトラクロルエタン混合溶液に35℃
で溶解しない不溶解物が実質的に生じることな
く、且つまたポリエステルの極限粘度〔η〕が著
しく低下しないことが好ましい。よつて、ポリエ
ステルの溶融温度で分解したり、ガス化したりす
る化合物はブレンド用化合物として好ましくな
い。従つてガス化の点からはポリエステルの溶融
温度でその蒸気圧が100mmHg以下、特に10mmHg
以下の化合物が好ましい。 上記一般式で示される基を含有する化合物(A)の
具体例を以下にあげる。 〔〕 アミド結合及び／又はイミド結合を有す
る化合物類：例えば、Ｎ・N′・N″−トリアリ
ルトリメシン酸アミド、Ｎ・Ｎ・N′−トリア
リルトリメリツト酸アミドイミド、Ｎ・Ｎ・
N′・N′・N″・N″−ヘキサアリルトリメシン酸
アミド。 〔〕 エステル結合を有する化合物類： テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリ
ル、ベンゾフエノンジカルボン酸ジアリル、ト
リメリツト酸トリアリル。 〔〕 シアヌル酸又はイソシアヌル酸の誘導
体： トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレート、テトラメチレンビス〔ジアリルイ
ソシアヌレート〕。 前記〔〕、〔〕、〔〕の具体的化合物のア
リル基はクロチル基又はメタアリル基であつて
も良い。 〔〕 エポキシ基を併有する化合物類： (1) ジアリルグリシジルシアヌレート、ジアリ
ルグリシジルイソシアヌレート；これらのア
リル基をクロチル基又はメタリル基に、また
グリシジル基を２・３−エポキシ−２−メチ
ルプロピル基、２・３−エポキシブチル基、
２・３−エポキシ−２−メチル−ブチル基等
で置換したシアヌル酸又はイソシアヌル酸誘
導体。 (2) Ｎ−アリルグリシジルオキシベンズアミ
ド、Ｎ・N′−ジアリル（又はＮ・Ｎ・N′・
N′−テトラアリル）−３・４−エポキシシク
ロヘキサン１・２−ジカルボキシアミド；こ
れらのアリル基をクロチル基又はメタリル基
に、又はグリシジル基を２・３−エポキシ−
２−メチルプロピル基、２・３−エポキシブ
チル基、２・３−エポキシ−２−メチルブチ
ル基等で置き換えた脂肪族、脂環族、芳香族
のアミド又はイミド化合物。 (3) 例えば、２・２−ビス（３−アリル−４−
グリシジルオキシフエニル）プロパン；（２
−アリルフエニル）−グリシジルエーテル；
これらの示されるアリル基をクロチル基や又
はメタアリル基に、又、グリシジル基を２・
３−エポキシ−２−メチルプロピル基、２・
３−エポキシブチル基、２・３−エポキシ−
２−メチル−ブチル基等で置き換えた化合
物、等の如き芳香核にアリル基とグリシジル
オキシ基とが置換されている化合物。 上述のポリエステルとブレンド可能な光重合性
不飽和基を有する化合物は、前記一般式で表わさ
れる基を２個以上有しているものが、後述する紫
外線処理において、より強固な架橋構造がフイル
ム層中に得られるので好ましい。これらのうち更
に前記〔〕、〔〕又は〔〕の化合物が好まし
く、特に〔〕、〔〕の化合物が好ましい。
〔〕のうちでは不飽和基を４個以上有する化合
物が更に好ましい 架橋剤としては上記光重合性不飽和基含有化合
物の他に光反応開始剤を併用するが、かかる光反
応開始剤として芳香族ケトン類、ベンジル及びそ
の誘導体、ベンゾイン及びその誘導体、多核キノ
ン類等が好ましく挙げられる。かかる化合物とし
て、例えばベンゾフエノン、ベンジル、ベンジル
ジアルキルケタール、ベンゾイン、ベンゾインエ
ーテル等及びこれらのアルキル、ニトロ、アルコ
キシ等の置換誘導体、アントラキノン等の置換誘
導体等が好ましい。 上述の光反応開始剤のほかにドイツ公開特許明
細書第1769168号、第1769853号、第1807297号、
第1807301号、第1919078号及び第1949010号に挙
げられている光反応開始剤のうちポリエステルの
溶融下実質的に安定であるものは適宜使用出来
る。 また、例えばベンゾフエノン−４・4′−ジカル
ボン酸等をポリエステルに共重合させてもよい。
これら光反応開始剤のうち、ベンジル及びその誘
導体が好ましく、特にベンジル誘導体が活性が高
いので好ましい。また芳香族ケトン類のうちベン
ゾフエノン残基を２個以上有する化合物も活性が
高いので好ましい。これらの光反応開始剤のうち
特に好ましくは例えばベンジルジメチルケター
ル、ベンゾインエチルエーテル等のベンジルケタ
ール、ベンゾインエーテルの置換誘導体が用いら
れる。 又、前記脂肪族系不飽和基と光反応開始作用の
２つの機能を同時に備えた化合物も好ましい光反
応開始剤として用いることができ、かかる２種類
の機能を有する化合物としては、例えばＮ−アリ
ル（又はクロチル又はメタアリル）ベンゾイルベ
ンズアミド、Ｎ−アリル（又はクロチル又はメタ
アリル）アントラキノンカルボキシアミド、Ｎ−
アリル（又はクロチル又はメタアリル）ベンゾイ
ルフタルイミド、Ｎ・Ｎ−ジアリル（又はジクロ
チル又はジメタアリル）ベンゾイルベンズアミ
ド、Ｎ・N′−ジアリル（又はジクロチル又はジ
メタアリル）ベンゾフエノンテトラカルボキシイ
ミド等が挙げられる。 本発明の積層フイルム製造に用いられるポリエ
ステルは上記架橋剤を含有せしめたのち溶融製膜
される。 上記架橋剤の添加量は光重合性不飽和基含有化
合物の場合はポリマー100ｇ当り光重合性不飽和
基として0.01〜0.5当量程度、更に好ましくは0.03
〜0.4当量程度、特に好ましくは0.06〜0.3当量程
度であり、又光反応開始剤の添加量は、ポリエス
テル100重量部に対し0.01〜20重量部程度、好ま
しくは0.05〜10重量部、更に好ましくは0.1〜５
重量部、特に好ましくは0.1〜３重量部程度であ
る。 本発明で用いるポリエステルフイルムは、例え
ば所定量の光重合性不飽和基と光反応開始剤とを
溶融ブレンドにより含有せしめたポリエステル
を、該ポリエステルの溶融下製膜して所望の厚さ
のフイルムとなすことによつて得られる。 溶融ブレンドによつて光重合性不飽和基及び光
反応開始剤をポリエステルに含有せしめる場合、
通常ポリエステルと光重合性不飽和基を有する化
合物及び光反応開始剤とを例えば８型ブレンダ
ー、Ｖ型ブレンダーの如き機械的混合手段で混合
し、次いでエクストルーダーの如き混練機を用い
て両者を該ポリエステルが溶融状態となる温度又
はそれ以上、好ましくは該ポリエステルの融点又
は該融点より約60℃高い温度の範囲で均一にブレ
ンドする。次いで溶融し、連続的に押出し成形等
の通常の熱可塑性樹脂の成形方法によつて容易に
フイルムとなす事が出来る。 又、ブレンドの他の方法として、溶融押出機又
は混練機を用いてポリマーを溶融後に、溶融供給
されるポリマーの計量計と連動させて前記架橋剤
を計量しながら供給し、ポリマーの溶融状態で所
定量の混練を行う方法も利用出来る。例えば溶融
押出機好ましくは異方向回転２軸押出機や、コニ
ーダー等のポリマーが溶融したシリンダー部分に
計量供給ポンプで架橋剤を所定量導入し、その後
好ましくはダルメージ付スクリユーや、スタテイ
ツクミキサー等を用いて混練する方法を用いるこ
とができる。本発明では上記の如くして混練され
たポリマー組成物をシートダイ等のスリツトより
溶融押出して冷却固化せしめる事により、ベース
ポリマーのフイルム状成形体を得る。 本発明においてはこのようにして得たベースポ
リマーフイルムは導電性金属と圧着され、導電性
金属層とベースポリマー層とからなる複合フイル
ムを得る。 本発明における導電性金属層としては、銅アル
ミ等が用いられ、特に銅箔が好ましく用いられ
る。又銅箔として電解銅箔と圧延銅箔とがあるが
一般的には電解銅箔が好ましく用いられる。特に
屈曲性の要求される場合には、圧延銅箔が好まし
く用いられる。かかる金属箔は厚さ５μ以上、好
ましくは15μ以上の箔として市場で容易に入手可
能である。 これら導電性金属箔は、以下に述べるベースポ
リマーとの圧着による密着性を向上させる為に、
圧着側の面を化学的、又は物理的に粗面化させら
れているのが好ましい。 かかる粗面化は従来公知の方法と技術でなされ
たものでよく、当該業者には容易な加工方法であ
る。 本発明の積層フイルムは、加圧ホツトローラや
ラミネーターによつて前記架橋剤を含有したポリ
エステルベースフイルムと導電性金属箔とを圧着
し、ベースポリマー層と導電性金属層からなる複
合フイルムよりなる。ベースポリマー層と導電性
金属層との複合化はベースポリマーシート成形
後、該ポリマーの架橋化処理前になされ、例えば
該ポリマーの溶融押出時に前記金属箔とラミネー
トする、いわゆるエクストルージヨンラミネート
法や、該ポリマーを溶融押出しをして一度シート
とした後、前記金属箔と加圧ホツトローラーで圧
着する方法等が用いられる。 前記エクストルージヨンラミネート法において
も、ポリマー層と金属層との密着性を向上させる
為に金属箔上にポリマーをキヤステイング後、ポ
リマーの温度が以下に述べる所定の温度になつた
時点で加圧ホツトローラーで圧着する事が好まし
い。 加圧ホツトローラーで前記ベースポリマーと金
属箔の圧着をする温度（TH：℃）は、該ポリマ
ーに対しそれに含有される光重合性不飽和基を有
する化合物の重量％（Ｗ）で次式の範囲で実施す
るのが好ましい。 0.89W2−24W＋250TH−6W＋250 TH40 圧着の圧力は２Kg/cm2以上、好ましくは３Kg/
cm2、特に好ましくは５Kg/cm2以上、250Kg/cm2以下
好ましくは200Kg/cm2以下、更に好ましくは150Kg/
cm2以下、特に好ましくは100Kg/cm2以下であり、ロ
ーラーによる圧着時間は0.5秒以上、更には１秒
以上あれば好ましい。さらに、上記条件内ではあ
るが、圧着の条件はロールの表面材質によつて変
化させることが望ましい。ロールの表面材質は、
圧着によつて得られる複合フイルムのポリマー層
外面の外観に特に影響を与える。かかる材質とし
ては圧着温度THでの長期連続使用に耐えるもの
でなければならない。その具体例としては、硬質
メツキをした研摩ロール、シリコンゴムライニン
グロール、テフロンライニングロール等があげら
れる。 複合フイルムの加熱圧着をより効果的に実施す
る為に、加熱温度、圧力等を変えた多段のローラ
ーを用いる事も可能である。 本発明の積層フイルムは、前記の様にして複合
化した後にベースポリエステルに紫外線を照射
し、架橋させる事によつて製造される。 紫外線の照射条件は、室温乃至ポリエステルの
分解温度より低い温度（℃）、好ましくはポリエ
ステルの二次転移点（Tg）乃至融点（Tm）
（℃）、より好ましくは（Tg＋10）乃至Tm
（℃）、更に好ましくは（Tg＋10）〜（Tm−10）
の温度で、１秒〜10時間、好ましくは２秒〜１時
間、更に好ましくは５秒〜30分、特に好ましくは
10秒〜10分である。 上記の如くして圧着架橋処理した複合フイルム
はそのままでも使用し得るが、さらに、150℃以
上、好ましくは180℃以上、特に好ましくは210℃
以上で10秒以上、好ましくは30秒以上、さらに好
ましくは１分以上、60分以下好ましくは30分以下
の熱処理をする事により、さらに密着性を向上さ
せる事が出来る。この熱処理は熱風下で行う事も
出来るが、複合した金属箔の酸化を抑制するなど
の点からポリマー層側から赤外線加熱を施こすの
が好適である。 本発明で用いるポリエステルフイルム層にはガ
ラスクロスガラスフイバー、マイカ、タルク等の
強化材や強化剤を含有することも可能である。こ
の場合、架橋剤、開始剤と同時に強化剤を混合
し、溶融押出し後上記の如く複合化架橋処理する
ことにより容易に目的を達成できる。 本発明方法によつて製造された積層フイルム
は、耐熱寸法安定性に優れ、260℃以上ひいては
300℃以上のハンダ付け等も可能であり、さら
に、金属層とベースポリマー層との密着性も高
く、その剥離強度も１Kg/cm以上更には1.5Kg/cm
以上の優れた複合フイルムとなる。 本発明における積層フイルムは、フレキシブル
ープリントサーキツト、テーブーキヤリヤー面発
熱体等の如き耐熱性と柔軟性を要求する素材に対
して有効に適用される。 以下実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明
する。実施例中「部」とあるのは、いずれも「重
量部」を意味し、極限粘度はフエノール／テトラ
クロルエタン混合溶液（重量比60／40）中35℃で
測定した値である。剥離強度はインストロン社製
引張り試験機を用い、１cm／分の引張り速度で測
定した。半田耐熱性はJIS−Ｃ−6481（印刷回路
用銅張積層板試験方法）に準じて測定した。 実施例 １〜４ イソフタル酸を15モル％共重合したポリエチレ
ンテレフタレート（極限粘度0.74）を充分乾燥し
たのちベントを有する30mmφ異方向回転二軸ルー
ダーに計量供給し、シリンダー内で溶融させ、一
方ベント部から第１表に示した架橋剤及び光反応
開始剤を計量ポンプを用いてルーダー内に導入
し、溶融ポリマーと添加物とを均密ブレンドし、
次いで均密ブレンド物をＴダイ部に導びき、冷却
ドラム上に押出して厚さ約100μの透明非晶フイ
ルムを得た。このフイルムとプリント配線基板に
用いられる厚さ35μの接着剤の塗布していない銅
箔とをシリコンゴムのライニングしてある２本の
ホツトローラーを用いて第１表に示す条件で圧着
し次いで、ポリエステルフイルム層を2KW高圧
水銀灯（30W/cm）下20cmの条件下で３分間紫外
線照射して架橋化させた。次いで第１表に示す温
度で熱処理を行なつて積層フイルムを得た。この
積層フイルムについて、剥離強度を測定し、また
260℃、30秒の半田溶浸漬試験を実施した。その
結果を第１表に示す。 実施例 ５、６ イソフタール酸を15モル％及びネオペンチレン
グリコールを20モル％共重合したポリエチレンテ
レフタレート（極限粘度0.72）を用い実施例１と
同様にして第１表に示す所定の架橋剤及び光反応
開始剤をブレンドし、更に製膜した。 さらに得られたフイルムを用いて実施例１と同
様にして積層フイルムを得た。この積層フイルム
の剥離強度を測定し、また半田溶浸漬試験を実施
した。その結果を第１表に示す。 比較例 １、２ 実施例１のポリマー（比較例１）又は実施例５
のポリマー（比較例２）に架橋剤、及び光反応開
始剤を添加していない以外は実施例１又は実施例
５と同様にして得たフイルムについて銅箔の圧着
を試みたが該フイルムは金属箔とほとんど密着し
なかつた。
【表】
実施例 ７〜10
イソフタル酸を20モル％共重合したポリエチレ
ンテレフタレート（極限粘度0.67）を充分乾燥し
たのち実施例１と同じ方法で第２表に示す架橋剤
及び光反応開始剤と溶融ブレンドし、次いで均密
ブレンド物を溶融製膜して厚さ約100μの透明非
晶フイルムを得た。 このフイルムを用いて、実施例１と同じ方法
（但し4KW高圧水銀灯を用いる）で積層フイルム
を得た。 得られた積層フイルムの特性を第２表に示す。
ンテレフタレート（極限粘度0.67）を充分乾燥し
たのち実施例１と同じ方法で第２表に示す架橋剤
及び光反応開始剤と溶融ブレンドし、次いで均密
ブレンド物を溶融製膜して厚さ約100μの透明非
晶フイルムを得た。 このフイルムを用いて、実施例１と同じ方法
（但し4KW高圧水銀灯を用いる）で積層フイルム
を得た。 得られた積層フイルムの特性を第２表に示す。
【表】
実施例 11〜14
イソフタル酸を15モル％共重合したポリエチレ
ンテレフタレート（極限粘度0.74）を充分乾燥し
たのちベントを有する30mmφ異方向回転二軸ルー
ダーに計量供給し、シリンダー内で溶融させ、一
方ベント部から第３表に示した架橋剤及び光反応
開始剤を計量ポンプを用いてルーダー内に導入
し、溶融ポリマーと添加物とを均密ブレンドし、
次いで均密ブレンド物をＴダイ部に導びき、冷却
ドラム上に押出して厚さ約100μの透明非晶フイ
ルムを得た。 このフイルム（ｐ）と厚さ30μの市販されてい
る平板状ガラスクロス(G)とプリント配線基板に用
いられる厚さ35μの接着剤の塗布していない銅箔
（Ｍ）とをシリコンゴムのライニングしてある２
本のホツトローラーを用いて第３表に示す条件で
圧着し、次いでポリエステルフイルム層を2KW
高圧水銀灯（30W/cm）下20cmの条件下で３分間
紫外線照射して架橋化させた。次いで第３表に示
す温度で熱処理を行なつて積層フイルムを得た。
この積層フイルムについて、剥離強度を測定し、
また260℃、30秒の半田溶浸漬試験を実施した。 その結果を第３表に示す。 実施例 15、16 イソフタル酸を15モル％及びネオペンチレング
リコールを20モル％共重合したポリエチレンテレ
フタレート（極限粘度0.72）を用い実施例11と同
様にして第３表に示す所定の架橋剤及び光反応開
始剤をブレンドし、更に製膜した。 さらに得られたフイルムを用いて実施例11と同
様にして積層フイルムを得た。この積層フイルム
の剥離強度を測定し、また半田溶浸漬試験を実施
した。 その結果を第３表に示す。
ンテレフタレート（極限粘度0.74）を充分乾燥し
たのちベントを有する30mmφ異方向回転二軸ルー
ダーに計量供給し、シリンダー内で溶融させ、一
方ベント部から第３表に示した架橋剤及び光反応
開始剤を計量ポンプを用いてルーダー内に導入
し、溶融ポリマーと添加物とを均密ブレンドし、
次いで均密ブレンド物をＴダイ部に導びき、冷却
ドラム上に押出して厚さ約100μの透明非晶フイ
ルムを得た。 このフイルム（ｐ）と厚さ30μの市販されてい
る平板状ガラスクロス(G)とプリント配線基板に用
いられる厚さ35μの接着剤の塗布していない銅箔
（Ｍ）とをシリコンゴムのライニングしてある２
本のホツトローラーを用いて第３表に示す条件で
圧着し、次いでポリエステルフイルム層を2KW
高圧水銀灯（30W/cm）下20cmの条件下で３分間
紫外線照射して架橋化させた。次いで第３表に示
す温度で熱処理を行なつて積層フイルムを得た。
この積層フイルムについて、剥離強度を測定し、
また260℃、30秒の半田溶浸漬試験を実施した。 その結果を第３表に示す。 実施例 15、16 イソフタル酸を15モル％及びネオペンチレング
リコールを20モル％共重合したポリエチレンテレ
フタレート（極限粘度0.72）を用い実施例11と同
様にして第３表に示す所定の架橋剤及び光反応開
始剤をブレンドし、更に製膜した。 さらに得られたフイルムを用いて実施例11と同
様にして積層フイルムを得た。この積層フイルム
の剥離強度を測定し、また半田溶浸漬試験を実施
した。 その結果を第３表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 実質的に線状のポリエステルを下記式 〔但し式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは異な
り、それぞれ水素原子及び１価の炭化水素基より
なる群から選ばれたメンバーを表わす。〕 で表わされ、溶融混合・製膜条件下で安定な光重
合性不飽和基を有する化合物及び光反応開始剤と
溶融混合した後溶融製膜したフイルムに、導電性
金属層を直接圧着積層し、次いでポリエステルフ
イルム層を紫外線照射処理で架橋せしめることを
特徴とするポリエステル積層フイルムの製造法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11409779A JPS5638223A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Preparation of polyester laminate film |
| US06/122,664 US4369207A (en) | 1979-02-23 | 1980-02-19 | Process for production of laminated film structure of aromatic polyester |
| EP80100837A EP0015441A3 (en) | 1979-02-23 | 1980-02-20 | Laminated film structure of aromatic polyester and process for production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11409779A JPS5638223A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Preparation of polyester laminate film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5638223A JPS5638223A (en) | 1981-04-13 |
| JPS6135936B2 true JPS6135936B2 (ja) | 1986-08-15 |
Family
ID=14629030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11409779A Granted JPS5638223A (en) | 1979-02-23 | 1979-09-07 | Preparation of polyester laminate film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5638223A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101668301B1 (ko) * | 2009-02-10 | 2016-10-21 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 장쇄 알킬렌기 함유 에폭시 화합물 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1008083A (en) * | 1971-11-18 | 1977-04-05 | Sun Chemical Corporation | Radiation-curable compounds and compositions |
| JPS5515695B2 (ja) * | 1973-08-07 | 1980-04-25 | ||
| AU507014B2 (en) * | 1975-11-05 | 1980-01-31 | Hercules Inc. | Photopolymer compositions |
| JPS54117572A (en) * | 1978-03-06 | 1979-09-12 | Teijin Ltd | Molded article of crosslinked polyester and its production |
-
1979
- 1979-09-07 JP JP11409779A patent/JPS5638223A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5638223A (en) | 1981-04-13 |
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