JPS6147444A - 粗フタル酸ジメチルの精製法 - Google Patents
粗フタル酸ジメチルの精製法Info
- Publication number
- JPS6147444A JPS6147444A JP16975984A JP16975984A JPS6147444A JP S6147444 A JPS6147444 A JP S6147444A JP 16975984 A JP16975984 A JP 16975984A JP 16975984 A JP16975984 A JP 16975984A JP S6147444 A JPS6147444 A JP S6147444A
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- JP
- Japan
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- dimethyl phthalate
- dmp
- aqueous ammonia
- crude
- crude dimethyl
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し産業上の利用分野〕
本発明は、相フタル酸ジメチル(以下、DMPと言う)
の精製法に関するものであり、詳しくは、不純物として
、フタル酸(以下、PHAと言う)及び/又は無水フタ
ル酸(以下、PANと言う)を含有するDMPの精製法
に関するものである。
の精製法に関するものであり、詳しくは、不純物として
、フタル酸(以下、PHAと言う)及び/又は無水フタ
ル酸(以下、PANと言う)を含有するDMPの精製法
に関するものである。
DMPをパラジウムの有機塩を触媒として、酸素存在下
に無溶媒で脱水素三量化する仁とによりビフェニルテト
ラカルボン酸テトラメチル(以下、BTOMと言う)を
製造する反応が知られている(%公昭30−、3/、/
ダに号)。
に無溶媒で脱水素三量化する仁とによりビフェニルテト
ラカルボン酸テトラメチル(以下、BTOMと言う)を
製造する反応が知られている(%公昭30−、3/、/
ダに号)。
この反応は、D、MPの反応率が例えは、s〜2S%程
度と著しく低いため反応後の混合物よυ未反応DMPを
回収する必要がある。このDMPの回収法としては、通
常、反応混合物より必要に応じて、パラジウム触媒を分
離した後、混合物を蒸留することによりDMpa留出回
収するが、ここで回収されるDMP中には、反応工程及
び蒸留工程で副生したPHA及び/又はPANが少量含
有される。DMP中に含有されたPHAは加熱によりP
ANに変化し、PANは、沸点が、DMPの沸点と極め
て近接しているため、蒸留などによシ両者を分離するこ
とは困難である。
度と著しく低いため反応後の混合物よυ未反応DMPを
回収する必要がある。このDMPの回収法としては、通
常、反応混合物より必要に応じて、パラジウム触媒を分
離した後、混合物を蒸留することによりDMpa留出回
収するが、ここで回収されるDMP中には、反応工程及
び蒸留工程で副生したPHA及び/又はPANが少量含
有される。DMP中に含有されたPHAは加熱によりP
ANに変化し、PANは、沸点が、DMPの沸点と極め
て近接しているため、蒸留などによシ両者を分離するこ
とは困難である。
そのため、回収DMPを上記反応にそのまま再利用する
場合には、少量のPHA及び/又はPANを含有する混
合物を用いる結果となるが、上記反応においては、PH
A及び/又はPANが含有されると反応活性が大幅に低
下することになる。したがって、回収DMPを原料とし
た場合には、反応条件をより厳しくする必要があシ、回
分式反応においては、第1回目の反応と同一条件を採用
することができず、また、連続式反応においては、工業
的レベルでは現実問題として採用することができなかっ
た。
場合には、少量のPHA及び/又はPANを含有する混
合物を用いる結果となるが、上記反応においては、PH
A及び/又はPANが含有されると反応活性が大幅に低
下することになる。したがって、回収DMPを原料とし
た場合には、反応条件をより厳しくする必要があシ、回
分式反応においては、第1回目の反応と同一条件を採用
することができず、また、連続式反応においては、工業
的レベルでは現実問題として採用することができなかっ
た。
そこで、PHA及び/又はPANを含有する粗DMFよ
り簡単にしかも効率的にPHAとPANを除去する方法
が望まれている。
り簡単にしかも効率的にPHAとPANを除去する方法
が望まれている。
□ 本発明は、粗DMP中のPHA及び/又は
PANを効果的に除去する方法を目的とする〇〔問題点
を解決するための手段〕 本発明は、不純物として、フタル酸及び/又は無水フタ
ル酸を含有するフタル酸ジメチルを、アンモニア水で洗
浄処理することを特徴とする粗フタル酸ジメチルの精製
法を要旨とする。
PANを効果的に除去する方法を目的とする〇〔問題点
を解決するための手段〕 本発明は、不純物として、フタル酸及び/又は無水フタ
ル酸を含有するフタル酸ジメチルを、アンモニア水で洗
浄処理することを特徴とする粗フタル酸ジメチルの精製
法を要旨とする。
本発明で対象となる粗DMPとしては、通常、オルト−
DMPであシ、不純物として例えば、0.0/〜5重量
%のPHA及び/又はPANを含有するものが挙げられ
る。具体的には例えば、DMPをパラジウムの有機塩を
触媒として、酸素存在下に無溶媒中で脱水素工量化して
得たBTOMを含有する反応混合物より、必要に応じて
、パラジウム触媒を分離した後の混合物を蒸留すること
によシ回収した粗DMPなどが対象となる。
DMPであシ、不純物として例えば、0.0/〜5重量
%のPHA及び/又はPANを含有するものが挙げられ
る。具体的には例えば、DMPをパラジウムの有機塩を
触媒として、酸素存在下に無溶媒中で脱水素工量化して
得たBTOMを含有する反応混合物より、必要に応じて
、パラジウム触媒を分離した後の混合物を蒸留すること
によシ回収した粗DMPなどが対象となる。
本発明は、上述の粗DMFをアンモニア水で洗浄するこ
とを必須の要件とするものである。
とを必須の要件とするものである。
アンモニア水の濃度としては、通常0./−20重量%
、好ましくは、θ、、1−3重量%の範囲を挙げること
ができ、この濃度があまり低すぎる場合には、粗DMP
中のPHA 、PANを効果的に除去することができず
、逆に、あまり高すぎる場合には、効果は変わらないも
のの、廃液処理の負荷が大きくなる等経済的に好ましく
ないこととなる。また、アンモニア水の使用量としては
、通常、粗DMPに対し、Q、 /、〜コO容量倍、好
ましくは0.3〜八へ容量倍の範囲を挙げることができ
る。洗浄処理の温度は、通常S〜gθ℃、好ましくは7
5〜35℃の範囲を挙げることができ、また、時間とし
ては、通常、3〜60分程度を挙げることができる。洗
浄方式としては特に限定されるものではないが、通常、
攪拌槽に粗DMFと所定量のアンモニア水を加え攪拌処
理する方法が採用される。
、好ましくは、θ、、1−3重量%の範囲を挙げること
ができ、この濃度があまり低すぎる場合には、粗DMP
中のPHA 、PANを効果的に除去することができず
、逆に、あまり高すぎる場合には、効果は変わらないも
のの、廃液処理の負荷が大きくなる等経済的に好ましく
ないこととなる。また、アンモニア水の使用量としては
、通常、粗DMPに対し、Q、 /、〜コO容量倍、好
ましくは0.3〜八へ容量倍の範囲を挙げることができ
る。洗浄処理の温度は、通常S〜gθ℃、好ましくは7
5〜35℃の範囲を挙げることができ、また、時間とし
ては、通常、3〜60分程度を挙げることができる。洗
浄方式としては特に限定されるものではないが、通常、
攪拌槽に粗DMFと所定量のアンモニア水を加え攪拌処
理する方法が採用される。
洗浄後の混合物は常法に従って、DMP層である油相と
水相とを分液して油相を回収する。
水相とを分液して油相を回収する。
この油相は、必要に応じて、同様の方法で塩酸水溶液で
洗浄した後、更に、水で洗浄するのが好ましい。
洗浄した後、更に、水で洗浄するのが好ましい。
また、ここで回収されるDMP中には例えば、= 4−
θ0.t〜3.5重量%の水分が含有されている為、こ
れを通常、go−i、io℃の加熱下に窒素ガスなどの
不活性ガスを流通させるか、又は、モレキュラーシープ
ズなどの吸着剤で処理することによシ、脱水処理するの
が好ましい。
れを通常、go−i、io℃の加熱下に窒素ガスなどの
不活性ガスを流通させるか、又は、モレキュラーシープ
ズなどの吸着剤で処理することによシ、脱水処理するの
が好ましい。
〔作 用〕 “
本発明は、上述の粗DMPをアンモニア水で洗浄するこ
とを必須の要件とするものであるが、この処理により粗
DMP中に少量、含有されるPHA及び/又はPANを
ほぼ完全に除去することができるものであるが、例えば
苛性ソーダ水溶液などの他のアルカリ水溶液では十分に
除去することができない。
とを必須の要件とするものであるが、この処理により粗
DMP中に少量、含有されるPHA及び/又はPANを
ほぼ完全に除去することができるものであるが、例えば
苛性ソーダ水溶液などの他のアルカリ水溶液では十分に
除去することができない。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
実施例1〜亭及び比較例1〜3
一〇〇〇−の攪拌容器に、不純物としてPHA及びPA
Nを合計量でo、ba%含有する粗DMPを9!0tn
t仕込んだ。これに第1表に示すアルカリ水溶液を加え
、30℃の温度で5分間攪拌しつつ洗浄処理を行ない、
次いで、この混合物を靜置分離し、DMP層である油相
と水相とを分液した。
Nを合計量でo、ba%含有する粗DMPを9!0tn
t仕込んだ。これに第1表に示すアルカリ水溶液を加え
、30℃の温度で5分間攪拌しつつ洗浄処理を行ない、
次いで、この混合物を靜置分離し、DMP層である油相
と水相とを分液した。
回収したDMP中に含有されるPHA及びPANの除去
率を求めたところ第1表に示す結果であった。
率を求めたところ第1表に示す結果であった。
第1表
*水のみで洗浄した場合
参考例/〜3
上記の実施例/及び比較例/、コで得られたDMPを1
30℃に加熱し窒素ガスを117mの割合で60分間流
通させることにより脱水処理を行った。このDMPを用
いてBTOMの製造を行った場合の結果を参考のため下
記に示す。
30℃に加熱し窒素ガスを117mの割合で60分間流
通させることにより脱水処理を行った。このDMPを用
いてBTOMの製造を行った場合の結果を参考のため下
記に示す。
攪拌機、温度調節器を有する/A;00dのオートクレ
ーブに上記処理で得た各々のD M P 900−を仕
込み、これに触媒として酢酸パラジウムコ、o 、r
g、炭酸カリウム0.A4’ li+、酢酸23.91
を加えた後、これを/−0℃に加熱するとともに、圧力
がq、rKg/adになるように空気で加圧し、攪拌下
、空気を13θt/hr、無水酢酸及び酢酸の/二/(
容量比)の混合物を!;、Oml/hr添加しつつ3時
間、脱水素三量化反応を行った。
ーブに上記処理で得た各々のD M P 900−を仕
込み、これに触媒として酢酸パラジウムコ、o 、r
g、炭酸カリウム0.A4’ li+、酢酸23.91
を加えた後、これを/−0℃に加熱するとともに、圧力
がq、rKg/adになるように空気で加圧し、攪拌下
、空気を13θt/hr、無水酢酸及び酢酸の/二/(
容量比)の混合物を!;、Oml/hr添加しつつ3時
間、脱水素三量化反応を行った。
そして、反応後の混合物を分析することにより、BTC
Mの生成率を求めたところ第−表に示す結果を得た。
Mの生成率を求めたところ第−表に示す結果を得た。
−マ −
〔発明の効果〕
本発明によれば、粗DMPをアンモニア水で洗浄すると
言う簡単な操作でPHA及び/又はPANを効果的に除
去することができる。従って、例えば、BTOMの製造
工程よシ回収された粗DMFをリサイクル使用する場合
などに本発明を適用すると、DMPのリサイクルによる
反応活性の低下が防止されるという効果を生ずる。
言う簡単な操作でPHA及び/又はPANを効果的に除
去することができる。従って、例えば、BTOMの製造
工程よシ回収された粗DMFをリサイクル使用する場合
などに本発明を適用すると、DMPのリサイクルによる
反応活性の低下が防止されるという効果を生ずる。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士長谷用 −
(ほか7名)
Claims (3)
- (1)不純物として、フタル酸及び/又は無水フタル酸
を含有するフタル酸ジメチルを、アンモニア水で洗浄処
理することを特徴とする粗フタル酸ジメチルの精製法。 - (2)フタル酸及び無水フタル酸の合計含有量が0.0
1〜5重量%であることを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項記載の粗フタル酸ジメチルの精製法。 - (3)アンモニア水の濃度が0.1〜20重量%である
ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の粗フ
タル酸ジメチルの精製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16975984A JPS6147444A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 粗フタル酸ジメチルの精製法 |
| GB08608582A GB2175897B (en) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Process for preparing tetramethyl biphenyltetracarboxylate |
| DE19853590385 DE3590385T1 (de) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Verfahren zur Herstellung von Tetramethylbiphenyltetracarboxylat |
| PCT/JP1985/000447 WO1986001200A1 (fr) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Procede de preparation de biphenyltetracarboxylate de tetramethyle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16975984A JPS6147444A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 粗フタル酸ジメチルの精製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147444A true JPS6147444A (ja) | 1986-03-07 |
Family
ID=15892321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16975984A Pending JPS6147444A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 粗フタル酸ジメチルの精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147444A (ja) |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP16975984A patent/JPS6147444A/ja active Pending
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