JPS6150964A - アゼチジノン誘導体およびその製造法 - Google Patents

アゼチジノン誘導体およびその製造法

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JPS6150964A
JPS6150964A JP60172822A JP17282285A JPS6150964A JP S6150964 A JPS6150964 A JP S6150964A JP 60172822 A JP60172822 A JP 60172822A JP 17282285 A JP17282285 A JP 17282285A JP S6150964 A JPS6150964 A JP S6150964A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
合物とくにカルバペネム系化合物などの合成に重要な中
間体およびその製造法に関するものである。 [従来の技術〕 3−1i7−4−アセトキレ−2−アゼチジノン化合物
がデエナマイシン全合成の重要な中間体であることがテ
トラヘドロンレターズ23巻第2293−2296頁(
1982年)に報告谷れて以来、3−置換−4−アセト
キン−2−アゼチジノン類を製造する種々の試みが行わ
れている。 [発明が解決しようとする問題点] 上;己テトラヘドロンレターズによれば、L−アスパラ
ギンυから7工程以上、21%の収率で(3R,4R)
−3−[(R)−1−ヒドロキノエテルヨー4−アセト
キ/−2−アゼチンノンを、また、テトラヘドロン39
8第2505〜2513頁(1983年)によれば、6
−アミツベニンラン酸から7二〇以上、17%の収宝で
(3R,4R)−3−[:(R)−1−(第3級−プデ
ルンメナル/リルオキン)エチル]−4−アセトキシー
2−アゼチブノンをそれぞれ合成できることが転告され
ている。 しかしながら、これらの公知の方法では二3数が長い上
、操作が煩雑で収宋も低いことから、工業的に3−置換
−4−アセト上ソー2−アゼチノノン類を製造するには
問題があった。 この発明の発明者らは鋭意研究の結果、入手の容易なア
ルカン酸アルキルエステル(Ir)の反応性誘導体と置
換エチニルアルドイミン(I[[)とを反応させること
により、新規な3−!換−4−ニチニルー2−アゼチジ
ノン類(1)を!A!!することに成功し、芒らにこの
3−置換−4−エチニル−2−アゼf′、;ノン類<1
)を経白することにより、アルカン酸アルキルエステル
(I[)から僅か3工程で3−f換−4−アセトキシ−
2−アゼチジノン類(V)が容易に製造できることを見
出しこの発明を完二した。 即ち、この発明による3−2換−4−アセトキノ−2−
アゼナジノン類(V)の製造法は、次のチ、  !、J
により示される。 千−−kI R’−CH7−C0OR10” R2−CE C−CH
=N−R3(I> (式中、R1は不素原子または有機残基、R2は水素原
子または保護基、 R3は水素原子または保護基、 R10は低級アルキル基 をそれぞれ意味する) 製命法1 3−′:L換−4−エチニルー2−アゼデジノン類(I
)は、アルカン酸アルシルエステル(I[)の反応性?
J、m(木と’A2エチニルアルドイミン(m>とを反
応させることにより製造することができる。 置換エチニルアルドイミン(m)は例えば、1゜1.1
.3.3.3−ヘキサメデルジシラザンとブチルリチウ
ムとをテトラヒドロフラン、ツメチルエーテル、ツメチ
ルエーテルなどのエーテル溶媒中で15°C以下好まし
くは0°C以下で反応許せて得られるリチウムビス(ト
リメデルシリル)アミドを、同様のエーテル溶媒中、−
65°C以下で置換エナ−ルカルf、フルテ’c )’
 (R2−C=C−CHO)と反応きせることにより得
ることができる。 アルカン酸アルキルエステル(I[)の反応性v5導体
としては、例えばリチウムエルシー8体が挙げられる。 アルカン酸アルキルエステルのリチウムエルシー8体は
例えば、リチウムジイソプロピルアミンまたはリチウム
ビス(トリメデルノリル)アミドとアルカン酸アルキル
エステル ような溶媒中、−60°C以下で反応させるここにJり
得ることができる。 アルカン酸アルキルエステル 体ト!換エデニルアルドイミン(m)との反応は、QX
己のようなエーテル溶媒中、−50℃を越えない温度で
所望によりアルゴン、窒業などの気l爪中で行うことが
できる.この目的物は常法によりamすることができる
。 この目的化合物(1)は、所■により保護基の導入など
の反応に付して、他の3−置換−4−エデニルー2ー1
%ゼチジノン類(I)に導いたのち、次の製造法2の反
応に付してもよい。 製造法2 3−!換ー4ー7セデルー2ーアゼチジノン類(IV)
は、3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン類(I
)を硫酸第二水銀のような水銀化合物とa硫酸および(
または)スルファミン酸アンモニウムの存在下に反応き
せることにより製造することができる。 この反応は、慣用の溶媒例えばメタノール、エタノール
、イソプロピルアルコールなどのアルコール、前記のよ
うなニーチル、水またはこれらの混合溶媒中で室温ない
し加熱下に行うことができる。 この目的化合物(■)は、m離後、もしくは星離される
ことなく次いで製造法3に記載の反応に付すことができ
る.    ゛ 製造法3 3−!換ー4ーアセト番シー2ー7ゼチジノン類(v)
は、3−!換ー4ー7セチルー2ーアゼチジノン類(I
V)を慣用のバイエル−ビリガー( Baeyer−V
illigar )反応またはそれと均等な方法にで寸
でことにより製造することができる。 Jり詳6には、この反応は、3−置換−4−アセチル−
2−アゼチジノン類(IV)を、メタクロ口過安息香υ
などの過酸化物とクロロホルム、四塩化炭素、塩化メチ
レン、酢酸エチルなどの不活性な溶媒中で室温ないし加
温下に反応させることにより、3−i!換−4−7セト
キシー2−アゼチジノン類(V)を製造することができ
る.目的物(V)は、常法により嵐*gれるが、所望に
より、反応液に硫化メチルなどの還元剤を添加したのち
抽出R離するのがεましい。 この明EWにおいて、以上および以下に使用されている
各種の!換基の定義を以下詳細に説明下る。 ′低級,とは、持に指示がなければ、炭素ぶ子1〜6信
を意味するものとする°。 ′低級アルキル基」の好適な例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような1頷または
分枝鎖アルキル基が挙げられる。 R1の1布機残基」とは、炭欝厘子に置換した水素原子
1個を除いた有機化合物残基でbつ、そのような有機化
合物残基の例としては、アル叱ル基、アルコキ7基、ア
ルカノイル基、ンクロアル七ル基、アルケニル基、アル
キニル基、ノクロアルケニル基、アリール基、これらの
基が1〜3個の同一または異なった菫部分で置換された
基、tどが挙(ずられ己。 1アルキル基」の好適な例は上記の′低級アルシル基、
と同じものが挙げられる。この1アルキル基、は1〜3
σの同一または異なった置部分で1換浮れていてもよく
、そのようなZ部分の好適を例としては、ハロゲン、オ
キソ基、ヒドロキン基、保護されたヒドロキシ基、アル
コキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、カルバモイル
オキシ基、アルカンスルホニルオキン基、アリールスル
ホニルオキン基、アリール基、アルフキジカルボニル基
、ニトロ基、トリ(低級アルキル)シリル基、アミン基
などが挙げられる。 「ハロゲン、としては、塩素、臭素、沃素、フッ素が含
まれる。 1保護されたヒドロキシ基、とは、ヒドロキン基が慣用
の水酸基の保護基で保ff1E’れたものであり、この
ような保護基としては、例えば、ホルミル、アセナル、
プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル、クコ
ロアセチル、ブコモアセデルなどの1換きれていてもよ
いアルカノイル基、β、β、β−トリクロロエトキ/カ
ルボニル、β−トリメチルノリルエトキノカルボニル テル化されたカルボ謳ン基等のアンル基、第3級ブトキ
シ ベンジル、p−ニトフベンジル、トリチル、β−メ
トキンエトキノメチルなどの置換されていてもよいアル
キル基、トリメチルシリル、第3級ブチルジメチル/リ
ルなどのノリル基、ノボラン、トリイソプロピルポラン
などのホウ素基、2−テトラヒドロピラニル、4−メト
キン−4−テトラヒドロピラニルなどのピラニル基等の
慣用の水酸基の保護基の他、ベンゾイル、p−トルオイ
ル、m−トルオイル、ナフトイル等のアロイル基等が挙
げられる。 1アルフキノ基,の好適な例としては、メトキン、エト
キン、プロポキン、イソプロとルオキン、ブトキシ、イ
ンブトキン、第3級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ、などが挙げられる。 1アリール基,の好適な例としては、フェニル、トリル
、キシリル、ナフチル、ビフェニリルなどが挙げられる
。 「アリールオキシ基,および1アリールスルホニル才シ
ン基,におけるアリール部分の例としては、ニス己と同
じようなものが挙(ずられる。 1アルカンスルホニルオキシ基」の好適な例としては、
メノルオモノ、エタンスルホニルオキ/、イソプロパン
スルホニルオキシなどが挙げらnる。 1アルコ番ジカルボニル基、の好適な例としてはメトキ
シカルボニル、ニドキシカルボニル、イソプロピルオキ
シカルボニルなどが挙げられる。 上記の11〜3個の同一または異なった置部分で置換き
れていてもよいアルキル基jの芒らに仔ましい例として
は、式 (式中、R4は水素ぶ子または低級アルキル基、R5は
水素原子または低級アルキル基、R6は水素原子、ハロ
ゲン、ヒドロキン基または保護きれたヒドロキシ基で あるか、または R5とR6とが一緒になってオ番ソ基である をそれぞれ意味する) で示きれる基が挙げられる。 1アルカノイル基,の2通な例としては、ホルミJ呟 
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリノ呟  ピ
バロイル、ヘキサノイルなどが挙げられる。 「シクロアルキル基」の好適な例としては、ンクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、アダマンチルな
どのy.素数3〜12個を有する基が挙げられる。 1アルケニル基」の好適な例としては、ビニル、アリル
、インプロペニル、2−ブテニル、3−ブテニルなどの
次素数2〜6個を有する直鎖もしくは分枝鎖アルケニル
基がダげられる。 1アルキニル基、の好適な例としては、ニゲ−ニル、1
−プロピニル、2−−7’ロビニル、3−−/チニル、
4−ペンチ、;ルなどの次素数2〜6個を有する基が$
(ザられ己。 1ンクロアルケニル基」のけ5な例としては、1−7ク
ロブクベニル、2−ノクロフテニル、1−/クロペンテ
ニル、3−7クロヘキセニルなどの炭#原子3〜6個を
有する基が挙げられる。 これらの1アルフキシ基、アルカノイル基、ンクロアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、ンクロアルケニ
ル基およびアリール基−は、いずれも、′アルキル基」
の項で例示したようなこ部分1〜3個で置換きれていて
もよい。 R2の保護基の好適な例としては、置換されていてもよ
いトリ(低級アルキル)ノリル基が挙げられる。 「トリ(低級アルキル)ノリル基」における低級アルキ
ル基は前に例示したような低級アルキル基から選ぶこと
ができるが、3個の低級アルキル基は[司−または異t
っていても町い、この町うな′トす(イ氏1級アルキル
)ノリル基、の好適なでグーとしては、トリメ千ルノリ
ル、第3級ブチルジメチルノリル、イソプロピルジメチ
ルノリル、クロロ、’ T ル; ) f ルノリルt
どの2>分を有していてもよい慣用のトリ(イエ扱)ア
ルシルノリル基が挙げられる。 Rにおける[保護基、としては、通常、アミ7基の保護
基として使用きれている慣用の保護基であれば特に限定
されないが、例えば、ポルミル、アセチル、クロロアセ
チル、ノクロロアセチル、トリクロロアセチルなどのア
ンル基、第3吸ブトキシカルボニル、β、β、β−トリ
クロロエトキ・ンカルポニル、β−トリメチルンリルエ
トキシカルボニJL、ペンジルオキシカルボニL、パラ
ニトロペン′;?しオキノ力ルボニルなどのエステル化
されたカルボキン基、例えばトリメチルシリル、第3級
ブチルジメチルシリルなどのトリ((氏1扱アルキル)
ノリル基、ペンシル、p−ニトロベンジルなどの置部分
を有していてもよいアラルキル基などが挙げられる。 この発明のアゼチジノン誘導体(I)には、例えば次の
化合物が含まれる。 3−エチル−4−エチニル−2−フゼチジノン、3−ニ
ブル−4−トリメチルシリルニブニル−2−アゼチンノ
ン、 3−(1−ヒドロキシエチル)−4−ニーニル−2−ア
ゼテンノン、 3−(1−ヒドロキシニブル)−4−トリメチルシリル
ニブニル−2−アゼブジノン、 3−1: 1−(M3級ブチルジメチルシリルオキシ)
エテルツー4−ニチニルー2−フゼチジノン、3−[1
−(第3級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−トリメチルシリルエチニル−2−アゼデジノン、 3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−4−二チ
ニルー2−アゼチジノン、 3−(1−ヒドロキン−1−メチルエチル)−4−トリ
メチルシリルニテニルー2−アゼチジノン、1−(第3
級ブチルジメチルシリル)−3−(1−ヒドロキシエテ
ル)−4−二ナニルー2−7ゼテジノン、 1−(第3級ブチルジメチルシリル)−3−アセチル−
4−トリメチルシリルエチニル−2−アゼデジノン。 3−(1−ホルミルオキシニチル)−4−トリノチルン
リルニチニルー2−アゼf ’、; / ン、3−(1
−ベンゾイルオキシエチル)−4−トリメチルシリルエ
チニル−2−アゼチジノンδよび3−(i−プロモニチ
ル)−4−トリメチルンリルニチニルー2−アゼチジノ
ン。 ざらに、この発明のアゼチジノン誘導体(I)には、例
えば、シス、トランス、ノン、アンチ、光学異性体など
の種々の立体異性体が含まれ、これらの異性体およびそ
の混合物もアゼチンノン誘導体(1)の範!内に含まれ
る。 即ち、この発明のアゼチジノン話二体<1)の立体異性
体としては次のような立体異性体が含まれる。 (式中、R1、R2およびR3は前と同じ意味であり、 −はベータ配位結合、および ・−・・はアルファ配位結合 をそれぞれ意味する) 上記式中、化合物(Ib)と(Ic)とはンス異性体で
あり、これらの個々の異性体および(または)その混合
物は、相対配置を表す結合を使って次式に示す化合物と
しても化8表わせる。 (式中、R、RR3まびR3は上記と同じ意味であり、 −は相対配置の結合を意味する。) 一方、化合物(Ia)と(Id)とはトランス異性体で
あり、これらの個々の異性体および(または)その混合
物は、次式に示す化合物としても書き表わせる。 (式中、R、R%R、・−−−および−はそれぞれ前と
同じ、色味である。) さらに、上記式(Ia〜Id)で表わされる化合物中、
R1で示される基が、式 (式中、R4およびR5はそれぞtNTIと同じ意味で
あり R7は水素原子または保護基を意味する)でbる
場合には、次のような立体異性体もこの発明のアゼチノ
ノン誘濃体<1)の範囲内に含まれる。 (式中、R、R、R%R、R、・−−−および−はそれ
ぞれ前と同じ意味) ところで、強い抗菌活性を有するカルバペネム系抗生物
質はその立体配置が天然型のも−のに限られており、例
えばデエナマイシンは(5R16S、8R)の立体配置
を有するもののみが抗菌活性を示すことが明らかになっ
ている。 この発明の発明者らは、天然型のカルバペネム系化合物
の合成中間体として前記テトラヘドロンレターズ23巻
第2293−2296頁(1982年)およびテト2ヘ
ビ0239巻第2505−2513頁(1983年)等
に記載されているlR,4R)−3−[(R)−1−ヒ
ドロキシエテルツー4−アセトキシ−2−7ゼチジノン
(A)および(3R,4R)−4−7セトキシー3−[
(R)−1−(第3級ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チルツー2−フゼテブノン(B)の立体選択的な合成法
についてきらに研究の結果、この発明の方法による不斉
合成法により極めて容易に化合物(A)、(B)および
その光学異性体を製造できることを見出し、この発明を
完成した。 口も、この発明による化合物(A)および(B)の立体
選択的な合成法は次のチャート■で表わきれる。 チャートπ の反応性読導体 (Ig)                     
(Inン(Ik) 、rv’a ) (式中、R、R、R、R、R、−−−−および−は前と
同じ意味) 見通v:1′ 類8法1における出発物質でわ己アルカンυアルキルニ
スチル(n)の代りに、光学活性な(R)−β−ヒドロ
本シンアルカン酸アルシルエステルたはそのヒドロキン
基に保護基が置換した化合物(以下、保護基がTL換し
ていてもよい基については基の名称:こ*をつ(すてス
己載する)すなわち、(R)−β−ヒドロキノ”アルカ
ン酸アルキルエステル(I[a)を化合物(III)と
製造法1と同様に叉応浮せることにより、はぼ選択的に
シス−3−[(R)−1−ヒドロキシ1アルキルコー4
−エチニノダー2−7ゼチジノンさらに詳しくは、(3
R,4S)−3−[(R)−1−ヒドロキダアルキルコ
ー4−エチニル1−2−アゼチジノン(工&)を得るこ
とができる。 この反応では若干の量の化合物(工1)および(Ik)
などのトランス異性体などの立体異性体が副生ずること
もあるが、これらの副生物はシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより容易に分離することができる。 この目的化合物(Iりは所ヱにより次いで保護基の導入
などの反応に付したのち、次の製造法4または製造法5
の反応に付すことができる。 製造法2′ および3″ F :2注2゛および製造法3′はそれぞれラセミ1本
f:製造する製造法2お;び製造法3と全く同様にして
反応させることができる。 二r−らの反応は、ヌ料として光学活性体を使用すれば
その立体配置が保持eれたまま進行し、それぞれ、目的
化合物(F/a)および(VIを選択的に与える。 製造法3′の反応の最終目的物であるトランス−3−[
CR)−1−ヒドロキシ1アルキルコー ゛4−ア七ト
キンー2−アゼチジノンさらに詳しくは、(3R,4R
)−3−[(R)−1−ヒドロジノ1アルジルコ−4−
アセトキン−2−アゼチジノン(Va)は、例えば、テ
トラヘドロン39巻筒2505 2513頁などに記$
2きれているように、カルバペネム系化合物の中間体と
して極めて工費な立体配位をもつ化合物である。この発
明の反応によnば、上記のよう−極めて簡革に光学活性
な3−置換−4−アセトキシ−2−アゼチジノン誘導体
(Va)を製造することができる。 製造法4 トランス−3−[(R)−1−ヒドロキダアルキル]−
4−ニチニル11−2−7ゼチジノンざらに詳しくは、
(35,4S)−3−[(R)−1−二ドロキン1ニチ
ルコ−4−エチニル1−2−7ゼチジノン(Ik)は、
(3R,4S)−3−[(R)−t−ヒドロキシ”アル
ジルコ−4−エチニル1−2−アゼチジノン(Ig)を
、式(式中、R11、R12およびR13はそれぞれ同
一または異なった炭化水濡残基、 Xは、強酸残基をそれぞれ意味する) で示きれるンリル化合物(VI)と反応扮せ、次いで、
カロ溶媒分解反応にイ寸すことにより製造することがで
きる。 ′炭化水素残基」とは、前記のような低級アルキル基、
アリール基などが含まれる。 「強酸残基」の好適な例としては、例えばトリフルオロ
メタンスルホニルオキシなどのトリハロアルカンスルホ
ニルオキン基、トリ(アルキル)ノリルアイオダイド、
などのスーパー酸の残基およびそれらの均等物などが挙
げられる。 <i)第1工程 化合物(I g>と(VI)との反応は、溶媒中冷却下
ないし加温下に行うことができる。 好適な溶媒としては、特に限定されないが、例えば前記
のようなエーテル、アルコール、酢酸エチル、クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化
水素溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドのような極性溶媒などの慣用の溶媒が挙げら
れる。 この反応は新型により、例えば炭酸水濡ナトリウム、炭
酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩、例えば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属状酸
塩、例えば炭酸マグ不ノウム、炭酸カルノウムなどのア
ルカリ土類金属炭酸塩などの無機塩基、例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、N、N −’、;イソプ
ロピルーN−エチルアミンなどのトリアルキルアミン、
例えばピリジン、ビフリン、ルデンン、N、N−シアル
シルアミノピリジンなどのピリジン類、キノリン、例え
ばN−メデルモルホリンなどのモルホリン類、例えばN
、N−ジメデルベンジルアミンなどのN、N−ジアルキ
ルベンジルアミンなどの有機塩基の存在下に反応を行っ
てもよい。 (i)第2工程 上記の第1工程で得られた生成物はR離してもよいが、
通常単離することなく、加溶媒分解反応に付すことによ
り、化合物(Ik)を製造することができる。 加溶媒分解反応は加水分解、アルコール分解、アミツリ
シス等の慣用の方法により行うことができるが、とくに
、無機もしくは有機の酸の存在下に加水分解することに
より容易に反応が進行する。 力ロ水分解に使用きれる酸は慣用の加水分解に用いられ
る酸であれば特に限定ξれないが、例えば、塩酸、臭化
水素酸、沃化水素酸、硫酸、=塩化硼素、三臭化硼素な
どの無機酸、トリフルオロ酢酸、パラトルニンスルホン
酸、メタンスルホン酸などの有橙酸などが挙げられる。 原溶媒分解に使用される溶媒の種類(=特に限定されな
いが、水の他よ記のようなアルコール、酢8tどの慣用
の溶成中で行うことができる。 叉応温区は特に限定されないが、通常、水冷下ないし加
熱下でffEを行うことかでさる。 この反応によれば、アゼテンノン環の3位と4位の配置
を容易にシス体から所1のトランス体すなわち(3S、
4S)体に異性化することができまた、トランス体から
出発すればシス体を得ることができるので極めて有用で
ある。 t8+造法5 トランス−3−アルカノイル−4−エチニル−2−アゼ
チジノン芒らに詳しくは、(3S、4S)−3−フルカ
ッイル−4−エチニル” −2−7ゼテジノン(In)
は、(3R,4S)−3−[(R)−1−ヒドロキシ1
アルキル〕−4−二チニノター2−7ゼチジノン(Ig
)を酸化することにより製造することができる。 この酸化反応は、所1によりジメチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミンなどのアミンの存在下にトリ
フルオロ酢酸無水物およびジメチルスルホキシドと反応
きせるかまたは二酸化マンガンと反応きせることにより
行うことができる。 この反応は、例えば前記のような゛ハロゲン化炭化水素
溶媒、ニーチル、r11酸エステル、水などの存在下に
行うこともできる。 この反応は、アゼチジノン環の3.4位の配位がシス・
トランス変換きれるので有用である。 製造法6 トランスー3−[(R)−1−ヒドロキシ1アルキルコ
ー4−エチニル*−2−アゼチジノン芒らに詳しくは、
(3S、、4s)−3−[(R)−1−ヒドロキシ1ア
ルキル]−4−エチニノヒー2−アゼチジノン(rit
+は、C3S、4S)−3−アレカメイル−4−ユチニ
ル′1−2−アゼチジノン’lInノを還元することに
−りシ凸す己:とができ己。 〕の、!2元ス応は、1i?7:、己のようなエーテル
7容ば±、kJ(第2扱ブナル)水宋化ホワ素カリウド
も、<:よその均等物で処理することによりンテう二ご
ができる。 反応温度は通常水冷下ないし力04下で行うことができ
る。 この還元反応は、立!4.選択的に進行しく3S。 45)−3−アルカノイル−2−アゼチジノン(In)
から(33,4S)−3−[(R)−1−ヒドロキノ1
アルキル]−2−アゼデジノン(Ik)?製造できる。 上記ナヤ−1−nにおける出発物質である(R)−β−
ヒドロキノ1アルカン酸アルキルエステル(ma)の代
りに、そのエピマーである(S)−β−ヒドロキノ1ア
ルカン酸アルキルエステル< n b>を使用して、チ
ャート■と同様の反応を行うと、その反二二は、と:の
f〒−ト■で表わきれる。 ザ一−1−m の反応性誘導体 (If)(Ir> (Ig>          (Is)2   3  
 4    ζ (式中、R、R、P、  、R”、R7、R10、−−
−−および酬はそれぞれ前と同じ意味であり、R8はア
/ル基を意味する) R8における1アシル基、の仔適な例としては、前にの
べたような′アルカノイル基、および「ア   ゛−ロ
イル基、と同じものが挙げられる。 上記チャーhmにおける製造法1″、2″、3=、5′
および6′はチャート■における製造法1′、2′、3
’ 5および6とそれぞれ全く同様にして行うことがで
きる。 すなわち、製造法1″において、(S)−β−ヒドロモ
ジ17ルカン酸7ルキルエステル3化合物(I[[)と
反応きせ°ると、は(r立体選択的に(3S.4R)−
3−[(S)−1−ヒドロキシ1アルキルコ−4−ニチ
ニル7ー2ーアゼデジノン(If)を得ることができ、
この目的物(If)は所望により保護基の導入などの反
応に付したのち、次いで製造法5、6、2’ 、3’ 
と同様に反応させることにより、それぞれ化合物(Ir
)、(Is)、(R’d)および(Vd)を製造するこ
とができる。 製造法(1″)の目的化合物(If)は所望により、次
いで保護基の導入などの反応に付したのち、次いでv進
法7に付すこともできる。 、製造法7 (3S、4R)−3−[(R)−1−アンルオキ/アル
キルコー4−エチニル”−2−アゼデジ/ ン(I g
)ハ、(3S、4R)−3−[(S)−1−こドロキン
1アルキル〕−4−エチニル1−2−アゼデノノン(I
f)を式 %式%() (式中、R8は前と同じ意味) で示許れる化合物といわゆるミツノブ反応に付すことに
より製造することができる。 この反応は、例えば、化合物(If)と化合物(■)と
を、アゾジカルボン酸ジアルキルエステルとトリフェニ
ルホスフィンの存在下に、慣用の溶媒中で反応させるこ
とにより行うことができる。 溶媒としてはとくに限定されないが、例えば、アセトン
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、
塩化メチレン、ピリジン、N.N−ジメチルホルムアミ
ドなどの慣用の溶媒を使用することができる。 反応温度は特に限定きれないが、通常、冷部下ないしM
瓜で行うことができる。 目的化合物(Ig)は、所望により保護基の導入などの
反応に付したのち、次いで製造法2′3′ と同様に反
応させることにより、それぞれ化合物l/e)および(
Vc)を製造することかでさる。 この発明の3−置換−4−エチニル”−2−7ゼチノノ
ン誘導体(1)は全て新規化合物でbす、前記のJうな
反応によって製造できる他、下記のようなハロゲン化、
脱ハロゲン化、保護基の導入反応、保護基の脱離反応な
どにより、他の3−置換−4−エチニル*ー2ーアゼチ
ジノン誘導体(1)から合成することもできる。 聚盗盈1 (It)          (Iu)製造?rx9 (ru)             (Iv)製造法1
0 (bl             (lx)製造法11 (Ix)                     
 (Iwン脱juL■ <Itン                   (I
y)梨i]L目 製造法14 (Io)         (Iz) (式中、R  、R  およびR3は前と同じ意味、H
a l !:ハロゲン、R9およびR14は保:j基、
R15は・す(低、扱アルキル)/リル基をそれぞれ才
味する) R9の「保護基」の好適な例としては、R3で説e71
゛−た保護基と同じものが挙げられる。 R147)r夕g(基、の好適な例としては、前記の1
7護されたヒドロキレ基、の項で説明した保護基と同じ
ものが挙げられる。 製造法8 化合物(Iu)は、化合物(工し)を/hロゲン化する
ことにより製造することができる。 ハロゲン化剤としては、臭化水素、塩化水累なとのハロ
ゲン化水素、三臭化溝、五塩化溝などのハロゲン化jJ
、  トリフェニルホスフィン−四塩化炭素混合物、ト
リフェニルホスフィン−四臭化次5付加物、塩化デ才二
ル等が拳げられる。 このハロゲン化反応は所望により硫酸、塩化亜鉛、ピリ
ジンなどの存在下に反応を行うこともできる。 溶媒としては特に限定きれないが、例えば、裂I¥J法
7に21社したJうな溶Jを使用ず己ことがでさ己。 製造法9 化合物(Iv)は、化合物(Iu)を還元剤で還元する
ことにより製造することができる。 A元剖としては、イ列えば亜鉛の;うな金Xと酌υ、塩
Vなどの酸との組合わせの他、水#化すチウムアルミニ
フム、水濡化リチウムなどを使用することができる。 溶桿としては特に限定移れないが、例えば、製造法7に
記載したような溶媒を使用することができる。 V違法10 化合物(Ix)は、化合物(Iv)を式%式%() (式中、R9は、前と同じ意味、Yは酸残基を意味する
) で示きれる化合物と反応させることにより製造すること
ができる。 好適な1は基、としては、ハロゲン、メンルオキ/、p
−トルエンスルホニルオ車7などが挙げら八る。 好適な化合物いワ)としては、例えば、トリメチルシリ
ルクロリド、トリメチルシリルプロミド、第3級ブナル
ジメチルンリルク:リド、p−二トロベンブルク=リド
、アセチルクロリドなどのハロゲン化物が挙げられる0
反応は所望により、製造法4で(グj示したような塩基
の存在下にヲZをンテう二とができる。1容媒としては
、特に限定′ill!れないが、例えば製造法7で例示
したような溶媒が=げられる。 また、この反応は、yi、料化合物(Iw)出に這葦の
水酸基がある場合には、化合物(Iw)をめらかじめ製
造法1で例示したような7つ媒中−60’C以下の温度
でブチルリチウムまた1日へキサメチルジシラザンとブ
チルリチウムの反に生、2物でゐるビス(トリメチルシ
リル)アミドリチウムと処理し、次いで/リル化剤と反
応芒せることにより、本酸基はその!まで、アゼデジノ
ン環の窒素原子のみに選択的に保護基を導入することが
できる。 製造注目 化合物(IW)は、化合物<Ix)を保護基の脱離反応
に1寸すことにより製造することができる。 この反応は、化合物(lx)をアルコールのような慣用
の溶媒士で1塩酸のようなプロトン酸で処理することに
より進行する0反応温度は特に限定されず、冷却下tい
し71]熱下に反応を行う二とができ己。 製造法12 化合物(Iy)は、化合物(It>を式%式%) (式中、RL4およびYはそれぞれ前とグしyL味)で
予きちる化合物と反応芒せることにより製造することが
できる。 3通な化合物(IX)の例およびこの好適な反応条件な
どは、製造法10で説明したものと同じものが挙げられ
る。 但し、反応温度は、−10’Cから100’Cまでの範
囲で選択しうる。 製造法13 化合物(It)は化合物(Iyiを力吐8媒分h7反応
にイすすここにより容易に製造することができる。この
反応は、前記製造法4の第2工程と同様にして行うこと
ができる。 製−3法14 化合物(Iz)は化合物(工0)をその保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる。 この保護基の脱離反応は、例えば、水、アルコール、エ
ーテルなどの慣用の溶媒中でフッ化センウムと反応きせ
ることにより行うことができる。 反応温度は特に限定きれず、室温ないし加熱下に反応を
行うことができる。 さらに、この発明の発明者らは、3,4−シス−2−7
ゼチジノンFJSa体(X)のトランス体(XI)への
変換方法について鋭意研究の結果、次の製造法15で述
べる方法により容易に達成できることを見出し、この発
明を完成した。 製】3法15 (式中、R3、R4、R5、R7、R11、R12、R
13、およびXはそれぞれ前と同じ、Zは有機残基をそ
れぞれ意味する) Zにおける1有機残基ヨの好適な例としては、R1にお
いて例示したような有ta残基と同じものが挙げられる
。 3.4−トランス−2−アゼチジノン誘導体(X I 
)は、3.4−レス−2−アゼチジノン′?J54体(
X)と化合物(Vl)とを反応させ、次いで得られた化
合物をi離後もしくは単離することなく加溶媒分解反応
に付すことにより製造することができる。 乙の反応は前に記載した製造法4と全く同様にして行う
ことができる。 この発明のアゼチジノン誘導体(I>には、例えば、次
の化合物が含まれる。 ンスー3−[(R)−t−ヒドロキシニテル]−4−ニ
チニル−2−アゼデジノン、 トランス−3−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4
−トリメチルシリルニテニルー2−アゼチジノン、 ノスー3−[(R)−1−(第3級ブチルジメチルシリ
ルオキシ)ニチル]−4−トリメチルシリルニチニル−
2−7ゼチジノン、 (3S、4S)−および(3R,4R)−3−エチル−
4−トリメチルシリルニチニル−2−アゼチジノン、 (3S、4S)−および(3R,4R)−3−(1−プ
ロモニデル)−4−二チニルー2−アゼチジノン、 (3S 、 4 S ) −3−[(R) −1−ヒド
ロキンニチルコー4−二チニル−2−アゼチジノン、(
35,45)−および(3R,4S)−3−[(R)−
1−ヒドロキンニチルコー4−トリメチルシリルニチニ
ル−2−7ゼチジノン、 (3S、4S)−3−[:(R)−1−(第3吸ブテル
ジメチルノリルオキン)エチル]−4−1−リメチルン
リルニナニルー2−アゼチジノン、(35,45)−3
−C(R)−1−(トリメチル〉リルオキン)ニチルコ
ー4−トリメチルンリルニテニル−2−アゼチジノン、 (3S、4S)−3−C(R)−1−(第3級ブチルジ
メチルシリルオキシ)工°チルコー4−トリメチルシリ
ルニチニル−1−トリメチルシリル−2−7ゼチジノン
、 (3S、4R)−3−[(R)−1−ホルミルオキシエ
チルツー4−トリメチルシリルニテニル−2−7ゼチジ
ノン、 (3S、4R)−3−[(R)−1−(第3吸ブテルジ
メチルノリルオキン)ニチル]−4−ニナニルー2−ア
ゼチジノン、 (3s、4R)−3−[(R)−1−ベンゾイルオ七/
エチル〕−4−トリメチルノリルエチニル−2−アゼチ
ジノン、 (3S、45)−3−アセデル−1−(第3級ブナルノ
メデルンリル)−4−トリメチルノリルニブニル−2−
アゼfジノン 以下、この発明を実25vJにより、さらに詳細に説明
する。 実:15イク11 1.1.1.3,3.3−へキサメチルジシラザン(1
,30g)を乾燥テトラハイドロフラン(tsmQ)に
溶解した液に、−5℃−0℃で市販のn−ブチルリチウ
ム(1,60M )ヘキサン溶液5 mQを滴下し、リ
チウムビス(トリメチルシリル)アミドを含有する液を
製造する。この反応液を0℃で10分間撹拌した後、ト
リメチルシリルプロピナール(1,0g )の乾燥テト
ラヒドロフラン(5mlり溶液に一70″C〜−65°
Cで滴下する1反応液を一70°Cで1時間攪拌し、ト
リメチルシリルイミン化合物を含有するl夜を得る。 市販のn−ブチルリチウム・ヘキサン溶液(13ゴ)を
、−5℃〜O℃でジイソプロピルアミン(2,0g)の
乾燥テトラヒドロフラン(L5M)溶・′夜へ、場下し
、リチウム・ジイソプロピルアミンを含有する液を製造
する。この溶/12と一70℃に冷却後、この7容液に
3−ヒドロキシブタン酸二チルニス5−ル(1,20息
)の乾燥テトラヒドロフラン(51)溶液を4下し、ざ
らに同温で15時間攪拌する。この溶液に、先に製造し
たトリメチルシリルイミン化合物を含有する液を反応温
度が一65°Cを超えないように注意しながら滴下する
6反応液を一70’Cでt、S、−:間、きらに室温で
1.5時間攪拌後、10%塩酸(30119)および酢
酸二チル(250m1l )の混合液に注ぎ、10%塩
酸でpHを30へ調!する。 有機届を分取し、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥後ム二
諜腟する。得られた褐色の残7kをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付しく23%酢酸エテル−ヘキサン
混合液で溶出)、溶出液を減圧濃縮して、残渣をn−ヘ
キサンで洗うことにより、0.20gのシスすなわち(
3R,4S)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチル]
−4−1−リメチルシリルエチニル−2−アゼデジ5ノ
ン(1)を白色結晶として得る。 上点: 95−97℃ IR(2ジs−4>  ’  3360. 3190.
 1755  c+++−’NバR(CDC13−pP
m) 0.10 (9H−s) 、 1.18 (3H
−d。 J=7.1)1x) 、 2.74 (1)1.d、J
=3.3Hz> 。 3、21 (IH,ddd、Jニア、 7.5.7.1
.5)1.z) 。 4.12 (IH,m) 、 4.22 (1)1.d
j;6.7)1z) 。 6.50 (LH,m) 35光度[α コ”  :  −H,8° (C□1.
12.EtoH)′D 一方、n−ヘキサン洗液を減圧乾jすることにより、0
.1gのトランス−3−(1−ヒドロキシエチル)−4
−トリメチルシリルニブニル−2−フゼテジノンを油状
物として得る。 IR(スジー−ル)  :  3300. 1770(
sh)、  1740. 1720  cm−’NMR
(CDCl2.ppm) : 0.10 (9H,s)
 、 1.LO(3H,y+) 。 2、10  (IH,m> 、 3.18 <LH,d
d、J=3.3゜3.3Hz>4.06  (1)1.
d、J:3.3Hz> 、 4.16  (LH,m)
 。 6.23  (LH,+++) 実35例2 化合物(1)および化合物(2)の合成アルゴン気流下
で1.1.1.3,3.3−ヘキサメチルジシラザン(
3,8g)を乾燥テトラヒドロフラン(2011111
)溶液に78Mした後、−10°C−−5°Cで市販n
−ブデルリチウム(1,6M )ヘキサン溶7夜(15
−)を滴下し、リブラムビス(トリメチルシリル)アミ
ド含有液を製造する。この溶液を一10’Cで0.5時
間攪拌した後、この溶液にトリメチルノリルプロピナー
ル(3,0g)の乾燥テトラヒドロフラン(4111Q
)を反応温度が一68°Cを超えないように滴下する。 /ii下終了後、反応液を一75℃で1時間攪拌して、
トリメチルシリルイミン化合物を含有する溶液を製造す
る。 アルゴン気流中で、1.1.1.3.3.3−へキサメ
チルジシラザン(8g)とn−ブチルリチウム・ヘキサ
ン溶液(3011111)を上記と同様に反応きせて、
リブラムビス(トリメチルノリル)アミド含有液を製造
した後、この(母液に、3−ヒドロキシブタン酸二チル
エステル(26g)の乾燥テトラヒドロフラン(4mf
f)溶液を一68℃以下で徐々に滴下し、きらに−70
°C以下で1時間攪拌する。 この反応液に、上記で製造したトリメチルシリルイミ〉
化合物を含有する液を一70″C以下で加え、同温で1
時間さらに3°Cで1時間攪拌する1反応液を酢酸エチ
ル(200+1111 )、食塩水(200mn )、
酢酸(20m1りの混合液中へ注いだ後、6N塩酸でp
Hを38にy4整する。有@層を分取し、食塩水で洗浄
後、重曹水でpHを7.5にy4整した後有機屡を分取
、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、σ圧a縮
する。B渣に、n−ヘキサン(50誰)を加え、室温で
15時間放置し、生成する結晶を濾取して、1.35g
のシス−3−[(R)−1−ヒドロキシエデル]−4−
1リメチルシリルエチニル−2−アゼチジノンを得る。 この目的物の物性値は実施例1で得られたものと同一で
あることが確認された。 n−ヘキサン母液ヲシリカゲル力ラムクロマトグラフィ
ーにより精製して、シス対トランスが1イぶ2の比工で
含有きれた3−(1−ヒドロキシエチル)−4−トリメ
チルシリルエチニル−2−フゼチジノン(1,54$)
を得る。 IR(ス;1−ル)  :  3350. 3200.
 2150. 1760゜1740 crn−’ NMR<CDCDC13−pP ’ O(9Ls) 。 (、ム:)■=g:土13H,2,90(IH,・)。 3.17 (1H,m) 、 4.13 (2,H,a
+) 。 ’e’、’ao L> )IH 実記例3 化合物(1)および(2)の合成 アルゴン気流中、乾燥テトラヒドロフラン(1〇−)、
1.1,1,3,3.3−へキサメチルジシラザン(1
,1mA )、市販のn−ブチルリチウム(1,6M)
ヘキサン溶液(31Q)、)リメチルシリルブロピナー
ル(0,6g)および乾燥テトラヒドロフラン(21!
1fi)を実記例1と同様に反応許せて、トリメチルシ
リルイミン化合物を含有する液を製造する。 アルゴン気流中で、乾燥テトラヒドロフラン(lQaf
fl ’I、ジイソプロピルアミン(1,7截)、n−
ブチルリチウム・ヘキサン溶液(7鶴)を実施例1と同
様に処理してリチウム・ジイソプロピルアミンを含有す
る溶液を製造し、この溶液に3−ヒドロキシブタン酸二
チルエステル(065g)の乾燥テトラヒドロフラン(
、2” ) ’f@’7・夜を反応、二重が一68°C
を超えないように注意しながら、傭下する。 滴下終了後−70°Cでξらに40分間攪拌する。この
1容液に同温でトリイソプロピルホウ素(2,3mQ)
を加えた後、1時間攪拌する。この溶液に、上記で11
したトリメチルシリルイミン化合物を含有する漬を一6
8°C以下で加えた後、P3温で30分きらに3℃で1
時間P!L拝する1反応液に酢酸(3鵬)を加えた後、
酢酸二チル(70mR)および食塩水(50IC11)
の1党合液中へ注ぐ、有機層を分取し、食塩水、重曹水
、食塩水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧a
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに(
寸して、0.29 g、の3−(1−ヒドロキノエチル
)−4−)リメナルノリルエテニルー2−アゼナノ/ン
を/ス対トランスー1スj2の比率で得る。 ”     ア尻イ列 4 /スー3−[(R)−1−とドロキシエチルツー4−ト
リメチルンリルエチニル−2−7ゼテノノン(0,2g
)のN、N−ジメチルホルムアミドぐ7 mQ)溶液に
、イミダゾール(0,2g)および第3級ブチル−ジメ
チルシリルクロリド(0,3g)ヲ力=工、60°C−
65°Cテ1.5a!F間攪2字する。ス応l夜を酢酸
エチル(50zQ )および水(50mQ)のf昆合液
へ江ぎ、有機層を分取し、食塩水で洗浄、硫酸マグ不し
ウム乾燥後減圧a縮し、1Ltftをンリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付して、0.24 gのノスー−
「なわち(3R,4S)−3−[(Rシー1−(第3級
ブナルジメチル/リルオキ/)エナル]−4−トリメチ
ルノリルエデニル−2−アゼナジノンを結晶として得る
。 IR(スフ1−ル)  ’  3200. 2150.
 1765  cm−’Nl’jR(CDC13,pp
m) : O(158,s) 、 0.9 (9H,s
) 。 1.30 (3H,d、J=6.6Hz) 、 3.3
0 (IH,m) 。 4.30 (1)1.d、J:6.0Hz> 、 4.
30 (LH,+n) 。 6.17 (IH,+++) 施光度 [α]”  :  −20,6° (C=1.
01.エラノール)実胞例5 シス−3−[(R)−1−(第3級ブチルレメチルシリ
ルオキシ)エチル]−4−トリメチルシリルエチニル−
2−アゼチジノン(o、2gg)ヲテトラヒドロフラン
(5fflQ)および水(にBの混液に溶解後、このT
8液に硫酸第二水銀(0,03g)および1虚硫a(0
,06g)を加えて室温で15時間攪注下る9反応液に
次1!2*素ナトリウム(0,2g)?;IOえた後、
酢酸二チルー水の、Q合液中へ注ぎ、M搬7警を分取し
、食塩水で洗浄、硫酸マグ不ノウムで乾〉渠、1′:L
王濃床宿し、残渣?ノリカゲル力ラムクロマトグラフィ
ーにけして、0.03gの・/スー4−アセデルー3−
[i−(第3級ブチルジメチル/リルオモン)ニデル]
−2−7ゼチジノンを得る。 1F!(Z)i4)  :  1950. 1760.
 1720  e+r+−’NMF!(CDC13,p
pm) : 0 (6)’、、s) 、 0.9 (9
H,s) 。 1.33 (3H,d、J=6.2Hz) 、 2.3
0 (3H,s) 。 3.73  <LH,ddj=6.2.3.3Hz) 
、 4.20  (i)1.d。 j=6.0Hz) 、 4.40  (LH,ad、J
=6.0.3.3Hz) 。 6.67 (1)!、+11) 実箆例6 化合物(3)および 3−(1−ヒド:モンニチル)−4−トリメデルシリル
エチニル−2−アゼチジノンのシス体およびトランス体
の混合物(1,44g)をN、N−ジメチルホルムアミ
ド(i5mQ)に溶解後、イミダゾール(1,4g)お
よび第3級ブチルジメチルシリルクロリ!’(3,0g
)を加え、60°Cで2時間攪拌す己1反応、斐を酢酸
エチル(1oora )および水(50mQ )の混液
へ注ぎ、有機層を分取し、本、食塩水で、洗浄後、硫酸
マグネシウムで芝燥し、丘工a基宿する。残渣をンリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸して、0.62g
のシス−3−r(R)−1−(第3級ブチルンメチルシ
リルオキン)ニチル3−<−トリメチルノリルエチニル
−2−アゼチンノンおまび097gのトランス−3−[
−(第3級プチルノメテルンリルオキ/)エデルコL 
 −4−1リメチルンリルニチニル−2−アゼデジノン
ならびに0.36 gの73体およびトランス体の混合
物を得る。〉ス体の物性値は実施例4で得らnたものと
一致した。 トランス体の物性値 IR(スジター4)  :  3150. 3100.
 2200. 1760゜1720 crn−1 NMR(CDCl2.ppm> : O(15)1.m
) 、 0.83 (9H,m) 。 1.20および1.27 (dj:6.7Hz計3H)
。 323および3.37 (+++、計IH)。 413および4.30 (d、J:3)1z、計IH)
14.23 <IH,m> 、 6.47 (IH,m
)実施例7 トランスー3−[1−(第3級ブチルジメチルシリルオ
キン)エチル]−4−トリメチルンリルエデニルー2−
アゼチジノン(1,2g)をテトラヒドロフラン(20
mQ )および水(2mQ)の混合液に溶解後、この溶
液を硫酸第二水銀(0,07g)および濃硫酸(触媒f
k)を加え、室温で15時間撹拌する6反応液を酢9エ
チル(150m11 )および水(1oomn )中へ
注ぎ、有機層を分取し、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧a縮することにより、0.60gのト
ランス−4−アセチル−3−[1−第3級ブチルジメチ
ルシリルオキ/)エテルツー2−アゼチジノンを得る。 IR(スジツール)  :  3200. 1745(
肩>、  1740. 1705  crn−1HMR
(CDC1,pprn) : O(6H,s) 、 0
.83 (9H,s) 。 123および1.28 (dJ=6.7Hz計3H)。 2.17および2.20 (s、計3H)。 303および3.17 (m、計IH) 、 4.10
および4.20 (d、J=3Hz、計L)り 、 4
.23 (1)1.m) 。 6.63  (iH,i) 実施イ列8 トランス−4−7セナルー3−C1−(第3級ブチルジ
メチルシリルオキシ)ニチル〕−2−アセチジノン(0
,23g)のクロロ*ノwム(15mA)溶液に、メタ
クロロ通安息香酸(1g)を加え、室温で15時間放置
する0反応液を酢酸エチル(1001)、5%すオNu
ナトリウム水(50mQ )および重曹水(3omi 
)混合液中へ注し1だ後、有機層を分取し、食塩水で洗
、φ、硫酸マグネシウムで乾燥後、減王濃縮して0.2
3 gのトランス−4−アセトキン−3−[1−(第3
級ブナルジメチルオキン)エチルツー2−アゼチンノン
を得る。 IR(スジ今一ル)    3250− 1780. 
t7so  cm″″INMRtCDC13,ppm>
 : O!6)1.s> 、 0.87 <98.5)
 。 1233よび1.32 (d、J=7.3)!z、 E
十3H) 。 2.10 (3H,s) 、 3.23 (LH,m)
 。 4.30 <LH,m) 、 5.73および5.90
 (brOad S。 計L)!> 、 6.87(LH,m) 。 実施例9 トランス−4−7セトキシー3−[1−(第3級ブチル
ジメチルシリルオキシ)エチルツー2−アゼチジノン(
0,20g)を酢酸(5鮫)および水(21Ω)のl昆
l夜にl8解した後、70〜80’Cで25時間+W 
It’ fる0反応1&を減圧、ff縮し、残漬をノリ
力ゲル力ラムクロマトグラフィーに付して、0.03 
gのトランス−4−アセトキン−3−(1−ヒドロ$/
ニデル)−2−アゼチンノンを得る。 IR(ニー))   ’  3300.  1750.
  1680  cm−’NMR(CDC13,ppm
) : 1.37お:びC43fd、J=6.6Hz。 :+ 3.3H) 、 2.13 (3H,s) 、 
2.83オヨ(/’3.13 (m、計18) 、 3
.23 <IH,m) 。 4.20 (1)1.n+) 、 5.77および58
7 (broad s。 計IH) 、 7.13 (LH,m)実箆例10 3−(1−とドロキンエチル)−4−トリメチルシリル
ニブニル−2−フゼテジノンのシスおよびトランスの混
合物(1,Og)をテトラヒドロフラン(10vQ)お
よびメタノール(5mΩ)の混澄にt’ij M後、二
のrf#夜に、セノウムフルオリド(0,2g)の水(
2+Q)溶液をカロえ、60°Cで1時間撹拌する0反
応液4!:ム王、豐縮し、残、・hを酢酸エチル(20
zN )お−びテトラヒドロフラン(20ip )で1
山出し、抽出液と硫酸マグネ/ラムで乾燥、減圧波線し
た後、酢酸エチルで晶析して、0.18gの/スー3−
[(R)−t−ヒドロシシエチル]−4−エナニル−2
−アゼチジノンを得る。 酢酸ニブル母l夜をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、010gのトランス−3−(1−ヒドロキン
エテル)−4−エチニル−2−7ゼテジノン、ならびに
、シスおよびトランス体の混合物(0,3g)を得る。 シス体物性値 IR(スジシール)  :  3400. 3250.
 3200. 2100゜1740 cm’ NMR(CDCl2.pPm)   :   137 
 (3)!、d、J:6.6Hz)。 2.57 (LH,d、J=2.5H2) 、 2.7
7 (IH,d。 J=3.0Hz> 、 3.37 (IH,m) 、 
4.30 (LH,+++) 。 4.43  (L)l、dd、J:6.6.2.5Hz
)、6.50  (LH,m)トランス体物性イI IR(り=二本んム)  ’  3400. 3300
. 2250. 1760  cm−’NMR(CDC
13,ppm) : 1.33および1.40 (d、
J−6,6)’、z。 計3H) 、 2.57 (LH,d、J:2.0Hz
> 。 2.87および3.87 (+11.計IH)。 3.43 (LH,m) 、 4.20 <LH,Il
l> 、 4.30および4.47 (dd、J=3.
3.2.0Hz、計IH)。 7.20 (LH,m) 実た例11 トランス−3−(1−ヒドロキシエチル)−4−ニブニ
ル−2−アゼチジノン(0,10&)のエタノール(5
−)溶液を、リンドラ−(Lindlar )触媒(0
,01g)の存在下に水素ガスで接触還元反応に付し、
水素ガスが14i111吸収された時点で反応を止め、
触媒を濾去後、減圧濃縮して、O,1gのトラ〉・スー
3−(1−とドロキンエチル)−4−ビニル−2−アゼ
チジノンを得る。 IR(7=ロ孝ルJ  :  3400. 1750.
  lε60  ccn−1HMR(CDC1z、PP
ff1) ; 1.33 (3H,m) 、 2.96
 (l)’、、e> 。 3.40 (LH,m) 、 4.17 (2H,m)
 、 5.27 (IH,d。 J:lO,6P、z) 、 5.40 (LH,d、J
:11i1.0Hz) 、 6.00(IH,m) 、
 6.73 (IH,m)実T5例12 O アルゴン気流中で、トランス−3−(1−とドロキンエ
チル)−4−ビニル−2−7ゼデブノン(Ω、lO[)
の乾燥テトラヒドロフラン(101!IQ)78液を−
75“Cに冷却し、この78液に市販n−ブチルJデウ
ム(1,6M ) −ヘキサン溶l夜(0,9zQ)を
、反応温度を一65°C以下に保ちながら滴下する。こ
の溶液を一75°Cで1時間撹拌した後、この液に第3
級ブチルジメチルシリルクロリド(O,ta()の=i
テトラiヒド口一二フラン(2ml)溶液を一70°C
以下で滴下する。反応液をきらに一73°Cで0.5時
間攪拌後、酢iVニテル(70mQ )、水(50a)
および酢U(211111)の混液へ注ぎ、有機層を分
取する。有機層を重曹水でpH7,0にした後食塩水で
洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮して、0.1
gのトランス−3−(1−ヒドロキシエチル)−1−(
第3級プチルジメデルシリル)−4−ビニル−2−7ゼ
チジノンを得る。 IR(二4)  :  3400.  1740(り、
  1720. 1660  cm−’NMR(CDC
l2.ppIll) : O(6)1.s) 、   
   。 0.80 (9H,s) 、 1.17 (3H,m)
 、 2.90 (IH,m)。 3.20 (IH,m) 、 4.10 (2H,m)
 、 5.17 (IH,d。 J:10.0)Iz) 、 5.30 (LH,d、J
=17.0Hz) 。 5.90 (LH,m) 実施例13 O トリメチルンリルブロピナール(126()、1.1.
1.3,3.3−へキサメチルジシラザン(0,61g
)、および市販ブチルリチウム(160M)ヘキサン(
6,zmQ)溶液ならびに3−ヒドロキシ−3−メチル
ブタン酸エチル(1,46g)、ジインプロピルアミン
(2,40g)および市販ブチルリチウム・ヘキサン(
14all )溶液をそれぞれ実施例1と同様に処理し
た後反応きせる。目的物を含む反応液を減圧t1縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(30%酢酸エチ
ル−70%ヘキサンの混液により溶出)に付し、0.2
78 gの3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
−4−トリメチルシリルエチニル−2−7ゼテジノンを
、シス対トラシス比1対2の混合物として得る。 融点: 137−140℃ IR(スジ會−ル)  :  3500. 3250.
 2960. 1735゜1710 am’ シス体のNMR(CDC13−Ppm) ’0.10 
(9H,s) 、 133 (6H,s) 、 2.8
5 (IH,s) 。 3.33 (−1H,dd、J46.3.2.0Hz>
 、 4.30 (IH,d。 J=6.3)1z) 、 6.47 (IH,m) 。 トランスイ本のNMR(CDCl3.ppm) :0.
10 (9H,s) 、 1.13 (3H,s) 、
 1.40 (3H,’s) 。 20ε(LH,s) 、 3.16 (LH,d、J4
3.3Hz) 。 4.13 (LH,d、J:3.3Hz) 、 6.3
0 (IH,m)実記例14 シスおよびトランスの混合物である3−(1−ヒドロキ
シ−1−メチルエチル)−4−トリメチルシリルエチニ
ル−2−アゼチジノン(0,143g )のテトラヒド
ロフラン(10−)およびメタノール(3飄)混合液に
、セシウムフルオリド(0,05g>の水(3証)溶液
を加え、0.5時間加熱還流する0反応液を酢酸エチル
(toomx )および水(50mN )の混液へ注ぎ
、有@贋を分取し、食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒を汽E留去する。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(30〜40%の酢酸エチル−60〜
70%のヘモサン混液で溶出)に付し、最初の留分かも
0.04 gのトランス−3−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノンを得
る。 IR(ニー))  :  3400. 3200. 1
750(肩)、  1740  cm−INMR(CD
Cl2.ppm) : 12B (3H,s) 、 1
.43 (31(、s) 。 2.59 (LH,d、J=2.4Hz) 、 2.8
3 (LH,m) 。 3.30 (1)1.d、J=3.0)Iz) 、 4
.27 (LH,cid。 J=3.0.2.4Hz> 、 6.83 (LH,m
)上記トランス体が留出した後の第2留分から、0、0
22 gのシス−3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−4−エチニル−2−アゼチジノンと得る。 融焦: 82−85℃ IR(ス′jシール)  :  3520. 3480
. 3300. 3200゜1750(肩)、 174
0 am−1HMP!(CDC13,ppm)   =
  1.46  (6H,si  、  2.67  
<2H,n)。 3.56  (LH,dd、J=6.0.L、SHzン
 、  4.43  <1)1.dd。 J:6.0.2.4Hz) 、 6.50 (1)!、
+n)実施例15 アルゴン気流中で、il、1.3,3.3−へキサメチ
ルジシラザン(0,78g)、市販n−ブチルリチウム
(1,6M )・ヘキサン溶液(3fflll)、乾燥
テトラヒドロフラン(10mm )およびトリメチルシ
リルプロピナール(0,6g)ならびにジイソプロピル
アミン(0,9nQ ) 、乾謹テトラヒドロフラン(
lQmQ)、市販n−プチルリナウム(1,6M )へ
本す’/ +87佼(3,2mM)およびブタン醋エナ
ル(0,6g)をそれぞれ実35伊11と同様に処理し
た後、反応させて、目的物を含むテトラヒメロフランl
容l夜を得る。こ′7)ヲ応l夜に酸5身(2mM)を
刃口えた後、このl′8液を酢酸エチル(7QmQ)お
よび不(50mm )の混液中へ江ぎ、有機層を分取し
、m曹水次いで食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(酢酸エチルn−ヘキサンの1対9
の混合溶媒により溶出)に付し、留出液から順次、トラ
ンス−3−エチル−4−トリメチルシリルエチニル−2
−アゼチジノン(0,05g)、およびそのシス−トラ
ンス混合物(0,13g)およびそのシス体(0,19
g)を得る。 シス体の物性値 IRにニート)  ;  3250.  2150. 
  L750  cm−1HMR(CDC13,pPm
) : 0 (9H,s) 、 0.97 (3)!、
t。 に7.3Hz) 、 1.73 (2H,m) 、 3
.LO(LH,m) 。 4.22 (LH,d、J=6.7Hz) 、 6.2
0 (LH,m)トランス体の物性値 IR(ニート) 二 3250. 2150.  17
60  cm−1HMR(CDC13−ppm) : 
O(9H,s) 、 1゜00 (3H,t。 Jニア、3) 、 1.70 (2H,m) 、 3.
13 (1)1.、m) 。 3.83 <LH,dj4?1.0Hz) 、 6.3
0 (LH,s)寅五例16 シスー3−[(R)−1−ヒドロキンニチルコー4−ト
リメチルシリルニチニル−2−アゼチジノン(0,8g
)をアルゴン気流中で乾燥テトラヒドロフラン(151
d )に溶解後、−70”Cに冷却し、この溶液にn−
ブチルリチウム(15M)・ヘキサン溶液(4,8i1
11)を反応温度が一65℃を越えtいよう注意しなが
ら滴下する。この反応液に、第3級ブナルブメチルンリ
ルクロリド(0,86[)の乾燥テトラヒドロフラン(
51nQ )溶液を一70℃以下で4下し、ざらに同温
で1時間攪拌する0反応′液を酢酸エチル(100≦)
および水(100rr=1 )の混液中へ注ぎ、有@】
を分取し、食塩水で、洗浄後硫酸マグ2ノウムで乾燥す
る。溶媒を減EE仁去し、り1.−fLをンリカゲルカ
ラムクロマトグラフイー(耐酸二チノ=−n−ヘモサン
の1寸9混合γ容媒によりτ容土)に付し、0.40 
Kの/スー1−〔第3.殻ブチルジメチルシリル)−3
−4(R)−1−とドロキンニチルコー4−hリメチル
シリルニデニル−2−アゼチジノンを得る。 XR(スジ3−ル)  ’  3350. 2300.
 1720  cm−’NとR(CDCl2.pprn
)  :  O(9H,sン 、 0.10  (oH
、s )+0.83 (9H,s) 、 1.20 (
3H,d、J=6.5Hz) 。 2.83 (LH,m) 、 3.23 (IH,dd
j=6.5.6.5Hz>。 4.13  (IH,m)、  4.20  <LH,
d、J=6.6Hzン芒らに、留出液からシスー3−(
1−とドロキンエチル)−4−トリメチルシリルニブニ
ル−2−アゼチジノン(0,20g)を回収した。 実351列17 トリフルオロ酢酸(0,21)の塩化メチレン(3mQ
)i’g液を一65℃以下で滴下し、さらに−70°C
で05時間撹拌する。この’18/&、にシス−1−(
第3汲ブテルジメチルンリル)−3−[(R)−1−ヒ
ドロキンエチルツー4−トリメチルシリルエチニル−2
−アゼデジノン(0,4g)の塩化メチレン(4荊)溶
液を一65°C以下で浦下し、きらに同温で05時間撹
拌する。この溶液にトリエチルアミン(0,3111Q
 )を同温で加えた後、徐々に室温へ戻す0反応液を酢
酸エチル(70mQ )および水(100躯)混液へ注
ぎ、有機層を分取し、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮し、Ptl五を7リカゲルカラムク
ロマトグラフイー(3%酢酸エチル、97%n−ヘキサ
ン混合液にて78出)に付し、0.13 Kのトランス
すなわち(35,45)−3−アセチル−1−(第3汲
ブテルジメチルンリル)−4−トリメデルシリルエチニ
ル−2−アゼナジノンを得る。 IR(ニー))  ’  2150. 1750.  
1705  ctn−’NMR(CDCl2.ppm)
 : O(9H,s> 、 0.10 (6H,s) 
。 0、90 (9)1.s) 、 2.20 (3H,s
) 、 4.23 (LH,d、J=3.0Hz> 、
 4.53 (LH,d、J:3.0Hz> 。 実施例18 化合物<13)の合成 シス−1−(第3級ブチルジメチルシリル)−3−[(
R)−1−ヒドロキシエチルクー4−トリメチルンリル
エチニル−2−アゼチジノン(0,15g)を酢酸エチ
ル(20ffl11 )に溶解した後、活性二酸化マン
ガン(5g)を加え、25°Cで5時間撹拌する0反応
液を濾過して二酸化マンガンを濾去し、濾液を減圧−a
縮して、0.14 gのトランス−3−アモテル−1−
(第3汲ブテルジメチルンリル)−4−トリメチルシリ
ルエチニル−2−アゼチジノンを得る。 実記例19 アルゴン気流下で、(3S、4S)−すなわちトランス
−3−アセチル−1−(第3級ブチルジメチルシリル)
−4−トリメチルシリルエチニル−2−アゼチジノン(
0,2g)をンニテルニーテル(15mQ )に溶解し
た後、この溶液に市販のに−セ゛−クトリド■のテトラ
ヒドロフラン溶液(1,−5戚)を25°Cで滴下下る
。0.5時間同温で攪拌した後、酢酸エチル(50口2
)および水(5QiQ :)のi箆濠中へ圧ぐ、有機、
壱を分取し、食塩水で洸、φ、g酸マグネノウムで乾燥
後、減!:[:濃縮する。歿ン査をメタノール(15m
fl )に溶解後、濃塩酸(0,3証)をカロえ、芒ら
に室温で1時間攪拌する。この溶液を酢酸エチル(70
踵)水(5QmQ )の混液中に注ぎ、有芳層を分取後
、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧a縮す
る。得られた夕1渣をノリカゲル力ラムクロマトグラフ
イ−(酢酸エチル−n−・\キサンの3対7混合溶媒に
より溶出)に付し、0.08 gのトランスすなわち(
35,45)−3−C(R)−1−ヒドロキシニチルコ
ー4−トリメチルンリルニチニルニ2−アゼチジノン(
14)を得る。 IR<スジタール)  :  3370. 3200.
 2200. 1740  am−1HMP!(CDC
l2.ppm) : 0.10 (9H,s) 、 1
.20 (3H,d。 に6.5)!z) 、 3.20 (2H,m) 、 
4.10 (IH,m) 。 4.23 (ILd、J:2.51(z) 、 El、
67 (1)1.111)Pw25゜ ZfFr光g  1a      、 +47.2° 
(C=0.72. りao本hJ′D =ヌ5:2011イ3鱈120 (3S、4S)−すなわちトランス−3−C(R)−1
−とドロキシエチルツー4−トリメチルシリルエチニル
−2−アゼチジノンCO,OBg)をテトラヒドロフラ
ン(lomll )および水(2躯)の混液に溶解した
液に、硫酸第二水銀(0,02g)、a硫酸(触媒量)
を加え、室温で3時間攪拌する。この溶液に炭酸水素ナ
トリウム(0,1g)を加えた後、減圧a縮する。残渣
を酢酸エチル(50mlりで抽出し減圧t1縮する。残
渣をざらに酢酸エチル(10mQ )に溶解した後、メ
タクロロ安息8酸(0,2g)を加え、室温で50時間
82拌する。 反応液にジメチルスルフィド(0,2mm)をカロえて
きらに室温で0.5時間攪拌する0反応液を減圧4二繍
し、夕j=tfをンリカゲル力ラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル−n−ヘキサンの6対4混合t’8媒によ
り溶出)に付し、(3S、4R)−すなわちトランス−
4−アセトキシ−3−[(R)−1−ヒドロキノエチル
ツー2−アゼデジノン(0,045)を得る。 IR(スノー−ん)  :  3300. 1750.
 1680  cm−1HMR(CDCl2.ppm)
  :  1.23  (3H,d、J=6.6Hz)
。 2.06 (3H,s) 、 3.16 (LH,ff
1) 、 4.13 (II(、m>。 5.80 (IH,m> 、 7.00 (LH,m)
実施例121 3−ヒドロキリブタン酸エチルエステルの代りにR−(
−)−3−ヒドロキシブタン酸メチルを使用して実施例
1と同様に反応させて化合物(1)を得る。 物性値は化合物(1)のそれと一致した。 実施例21の目的化合物(0,15g)を、イミダゾー
ル(0,15g)、ジメチルホルムアミド(DMF)(
Iomaン、第3級ブテルノメチルシリルクPリド(0
,21g)を使って実a例4と同様に処理して(3R,
4s)−3−C(R)−1−(第3級ブチルジメチルシ
リルオキジ)エナル]−4−トリメチルシリルエチニル
−2−7ゼチジノンを得る。この化合物をメタノール(
131d )、水(2=2)、硫酸第二水t!(0,1
g)、硫酸アンモニウム(0,3g)、a硫酸(触媒1
)を使って実施例5と同様に処理して、0.1=の(3
R,4S)−4−アセチル−3−[(R)−1−(第3
級ブチルジメチルシリルオキジ)ニチルコー2−アゼチ
ジノンを得る。 IR(スジ1−ル) 二 2950. 1760. 1
720  =m−’NMR(CDC13,Ppm) ’
 0.1 (6’d、s) 、O19(9H,s) 。 1.37 (3Ld、J=6.9)’、z) 、 2.
35 (3H,s) 。 3.77 (LH,IIり 、 4.22 (LH,d
、J=6.0Hz) 。 4.47 (IH,m) 、 6.70 (IH,m)
実施例23 買方例220目約化合物(0,08g)を実施例8と同
様に処理して、(35,4R)−4−アセトキ/−3−
C(t)−t−(第3級ブチルジメチルシリルオキジ)
ニデル]−2−アゼチジノン(0,045g )を得る
。 北光度 [αE20 :  +22.4° (C=0.
90  ニブノール)Ht(zジ書−ル)  :  3
250. 1780. 1720  am−1HMR(
CDC13,ppffi) : 0.1 (61(、s
) 、 1.0 (9H,s) 。 1.33 (3H,d、J=6.6Hz) 、 2.1
6 (3H,s) 。 3.43 (1)’、、m) 、 4.33 (IH,
m) 、 5.97 (1)!、d。 J:4.5+’、z) 、 6.67 (1)1.m)
実施例24 実施例2と同様にしてリチウムビス(トリメチルシリル
)アミド含有液を製造し、この液を一70’Cに冷却し
た後、実施例1の目的化合物(1)(0,21g)のテ
トラヒドロフラン(5mll)溶液を温度が一65℃を
越えないよう注意しながら滴下する。同温で1時間攪拌
後、第3級ブデルジメチルシリルクロリド(0,15g
)の乾燥テトラヒドロフラン溶液(3戚)を−65℃以
下で加え、さらに同温で1時間、室温で1,5時間攪拌
する0反応液を酢酸エチル(loomll )と水(5
0区)の混液に注いだ後、有@層を分取、食塩水で洗浄
、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残
渣を酢酸エチル(20ffll! )に溶解する。この
液に活性二酸°化マンガン(20g)を加え、室温で1
5時間攪拌する。二酸化マンガンを濾去し、濾液を減圧
e!縮し、fjc dtをノリ力ゲル力ラムクロマトグ
ラフィ−(酢酸エチルとヘキサンの2対98の′/g、
液により溶出)にけり、、0.15区の(3S、4S)
−3−アセチル−1−(第3級ブチルジメチルシリル)
−4−トリノチルンリルエデニルー2−アゼチンノンを
得る。 施光度 〔αコ24 : ◆7,3“ (C=1.70
.70口ホルム)その他の物性値は実施例17で得られ
た化合物のそれと一致した。 実施例25 実施例19の目的化合物(14)(0,036g )の
DMF (5mQ >溶液に、40℃でイミダゾール(
0,1g)および第3級ブチルンメチルシリルクロリド
(0,08&)を加え、同温で2時間攪拌した後、酢酸
エチル(50mQ )および水(301d )の混液へ
注ぐ、有機層を分離、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥後、江圧濃縮する。残渣をテトラヒドロフラン(
7+nQ)および水(2111Q)の混液に溶解した後
、j硫酸(微量)の存在下に室温で4時閘攪拌する1反
応液を酢aニチル(5(MJI)と水(30mff1 
) ノ混液に圧ぎ、有機1を分離、食塩水で洗浄、硫酸
マグ不ノウムで乾燥後、滅三a縮する。残?fを酢酸二
チル(12瓢)に溶解した液を実施例8と同様に処理し
て、0.012gの(3R,4R)−4−アセトキシ−
3−[CR)−1−(第3級ブチルジメチルシリルオキ
ン)エチルツー2−フゼチジノンを得る。 N 光FE  Ca ’J舌5 二 434.2° <
C=0.24. りoo本ルム)IR(スジ14)  
:  3200. 1780、1740  eI!l−
1NMR(C1−1N、Ppm) : 0.10 (6
H,s) 、 O,B7 (9H,s) 。 1.23 (3Ld、J:6.3)’、z) 、 2.
13 (3)!、s) 。 3.20 (ILm) 、 4.27 (1)!、n)
 、 5.90 (ILm)。 6.70 DH,a+) 実施例26 3−とドロキシブタン酸エチルニスチルの代りに、(S
)−(+)−ヒドロキシブタン酸二デルエステルを使用
して実施例1と同様に屓応芒せて、(3S、4R)−3
−[(5)−1−ヒドロキンエチル)−4−)リメチル
シリルニチニルー2−アゼチジノンを得る。 25゜ 施光度 [α]    、+16.7° (C=LO4
,ニブノール)   −iR(スン嘗−ル)  :  
3360. 3190.  )755  cm−1NM
R(CDC13−PPm) ’ 0.1 (9B、s)
 、L−37(3H−d。 J=6.9Hz) 、 2.87 (IH,m) 、 
3.40 (LH,m) 。 4.37 (LH,m) 、 4.43 (LH,d、
J:6.0Hz) 。 6.43 (LH,m) 実Σ5(り]27 実記例26の目的化合#(0,3g)を実施例24と同
様に処理して、(3R,4R)−3−アセデル−1−(
第3級ブチルジメデルシリル)−4−トリメチルシリル
エチニル−2−アゼチジノン(0,32g)を得る。 施光度 [α125  、 −7.2° (C=1.2
8.クロロホルム)その他の物性値からこの目的化合物
は実施例24で得られた化合物のエピマーでδることが
確認された。 ニーZaイ列28 実施例27の目的化合物(0,32g)を実施例19と
同様に処理して、(3R,4R)−a−4(S)=1−
ヒドロキシエナル]−4−トリメチルンリルエテニル−
2−アゼチジノン(0,06匹)ヲ得る。 施光度 [αlo6 : −49,2° (C=1.0
4.クロロホルム)IR(”*−Aン :  3370
. 3200. 1740  cm−1HMR(CDC
’−3−ppm) ’ 0.10 (9H3s) 、 
123 (3M、d。 J=5.6)1z) 、 2.70 (IH,m) 、
 3.30 (l)t、l11) 。 4.13 (1)!、!D> 、 4.30 ()H,
d、J=2.7)1z) 。 6.40  (1)’、、m) 実記例29 実施例230目的化合物(0,052g)を実施例部と
I?I揉に処理して、0.023 gの(3S、4S)
−4−7セiキン−3−[(S)−i−(第3級ブナル
ジメチルンリルオキシ)ニデルコー2−7ゼチジノンを
得る。 施光度 [αコ邑8 :  −2B、7° (C=0.
4s、り:口字ルム))R(スジタール)  :  3
200. 1780゜ l740  am−’NMR(
CDCl2.I)りm) : 0.10 (6H,s)
 、 0.83 (9H,s) 。 1.23 (3)1.d、j:6.3Hz> 、 2.
07 (3H,s) 。 3、17 (LH,m) 、 4.20 (IH,m)
 、 5.83 (IH,m)。 6.60  (LH,m) 実xI例30 実記例1と同様にして、トリメチルンリルプロビナール
(1,5g)と(R,5)−3−ヒドロキシブタン酸二
チル(1,3”g)を反応させ、反応液を酢酸エチル(
200飄)、酢an (>am )および水(zoom
p )の混液中へ注ぐ、有@石を分取し、次酸水濡ナト
リウム水、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減
圧下に濃縮する。残渣にn−ヘキサン(50m1l )
を加えて室温で一夜放置して、(3S、4R)−3−[
(S)−1−ヒドロキシニテル]−4−トリメチルシリ
ルエナニル−2−アゼテノノンと(3R,4S)−3−
[(R)−1−ヒドロキンエテルクー4−トリメチルシ
リルニテニル−2−アゼナジノンの1対1a合物(0,
52g)を得る。 IR(スジシール)  ’  3360. 3190.
 1755  cm’NMI’!(CDC13,ppm
) ’ 0.1 (9)1.s) 、1.37 (3H
−d。 J=6.9Hz) 、 2.87 (LH,m) 、 
3.40 (LH,m> 。 4.37  (lH,m)、4.43  (IH,d、
に6.0Hz)。 6.43  (LH,m) 実;)654列31 1.0 実施例30の目的化合物(嬬g )の乾燥テトラヒドロ
フラン(20+1111 )の溶液に、トリフェニルホ
スフィン(2,5g)、義酸(Q、5m11)を加え、
15℃に冷却する。この溶液に25℃以下で7ゾジカル
ボン酸ジメチル(1,6g)のテトラヒドロフラン(5
mQ)溶液を15分間かけて滴下し、きらに2時間室温
で攪拌する6反応液を酢酸エチル(150mR)と水(
loomQ )の混液に注ぎ、有機層を分離し、食塩水
でfcII+、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧波、にす
る、残虐をンリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸
エチルとn−ヘキサンの1対9混液にてγ容土)に付し
、(3S、4R)−3−[(R)−1−ホルミルオキン
エチル]−4−トリメチルンリルエテニルー2−アゼチ
ジノンと(3R,4S)−3−[(5)−1−ホルミル
オキシエチル] −4−トリメチルシリルエチニル−2
−アゼチジノンの1対1混金物(0,78K)を得る。 IR(スジ1−ん)  :  3250. 2017.
 1775. 17601735 cm−1 NtlR(CDC13,1)prn) : O,L3 
(9H,s> 、 1.53 (3H,d。 J−6,0Hz> 、 3.57 (1B、 dd、J
=7.5.5.1Hz) 。 4、43 (LH,d、J=5.1)1z) 、 5.
30 日5.73(IH,m) 、 6.50 (LH
,bs) 、 8.10 (LH,s>およびメタノー
ル(3mg)の混液に溶解し、次いで、センウムフルオ
リド(0,7g)の水C3ml! )をカロえ、65°
Cで1.5時間攪拌する6反応液を酢酸エチル(100
誰)でうすめ、食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥する。この溶液を減圧濃縮し、!Liをノリ力ゲル力
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチルとn−ヘキサンの
4対6混液にて溶=)に付し、(3S、4S)−3−[
(R)−1(7A 3 Bブチルジメテルンリルオキシ
)エチル3−4−ニチニルー2−アゼチジノンおよび、
(3R,4S)−1−[(S)−1−(第3級プチルブ
メチルンリルオキシ)エテルツー4−エチニル−2−フ
ゼテジノンの1対1混合物(1,0g)を得る。 IR(スジa−J  :  3250. 1755. 
1715  cm−1HMR(CDCI、、ppm) 
: 0.10 (6H,s) 、 0.86 (9H,
s) 。 1.37 (3)’、、d、J=6)12) 、 2.
47 <LH,d。 J:L、5Hz) 、 3.40 (LH,ddj=7
.0.5.2Hz> 。 4.33 ear 4.60 (2H,m) 、 6.
13 (LH,bs)実艶例32 実王例31の口約化合物(1,1g)のメタノール(l
omR)溶γ夜に102≦塩酸(2mQ)をカロえ、室
温で1.5時間攪拌後、酢酸二チル(1oom11)と
炭酸水素ナトリウム水(1oomu )の混液中へ注ぐ
、有機層を分離し、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥り減圧下に溶媒を留去する。残渣をDMF(10証
〉に溶解した液に、第3級ブチルジメチルシリルクロリ
ド(1,6g)とイミダゾール(1,1g)を加え、4
0℃〜45℃で2時間攪拌する0反応液を酢酸二チル(
100疎)と水(100mQ )のfL液中へ注ぎ、有
機層を分離、水洗、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥して、γ酸三下に溶媒を留去する。残渣をテトラヒ
ドロフラン(T HF ) (10mQ)*犯例33 実記例32の目的化合物(1,0区)を実記例5と同様
に処理して、(3S、4R)−4−アセデル−3−4(
R)−1−(第三級プチルジメチルシリルオキン)エチ
ルツー2−アゼチジノンおよび(3R,4S)−4−ア
セテルー3−[(S)−1−(第三級ブチルジメチルシ
リルオキシ)エデル]−2−アゼチジノンの1対1混合
物(0,53g )を得る。 IR(スジ嘗−ル)  :  3250. 17B0.
 1760. 1720゜1690 cm−1 NMR(CDC13,ppm) ’ 0.10 (6H
,s) 、 0.90 (9H,s) 。 1、33 (3H,d、J=6Hz) 、 2.33 
(3H,s) 。 3、60 (LH,dd、Jニア、 5.6Hz) 、
 4.17 bm 4.50(IH,ra) 、 4.
26 (IH,d、J=6Hz> 。 6.83  (lH,bs) Σ坂ミz(5イダ134 実記例30の目的化合物(045に)を′li!、方伍
例31次いで実施例5と同様に処理して、(3S、4 
R)−31(R)−1−アセトキシエチルツー4−アセ
チル−2−アゼチジノンおよび(3R,4S)−3−4
(S)−1−7セトキシエデルコー4−7セチルー2−
アゼチジノンの1対1混合物(O,OS区)を得る。 IR(スリ!−ル)  :  3250. 17B0.
 1745. 1725゜1710CIIl−1 NMR(CDC13,Ppm) ’ 1.43 (3H
,d、J=6.0Hz> 、2.06(3)1.s) 
、 2.30 (3H,s) 、 3.83 (11,
dd。 J=7.5.6.0Hz) 、 4.50 (IH,d
;J=6.0Hz> 。 5.00 aa 5.37  (LH,m) 、 6.
93 (LH,bs)実施例35 実施例34の目的化合物(0,05[)を実施例8とP
1様に処理(但し、反応温度は45°Cで4時間撹拌)
して、(3R,4S)−3−4(R)−1−アセトキシ
エチル)−4ニアセトキシ−2−7ゼデジノンおよび(
3S、4 R)−3−[: (5)−1−アセトキシエ
チル)−4−アセトキシ−2−7ゼチジノン(0,04
g)を得る。 IR(りoo宇hム)   :  3400. 17B
0. 1730  cI!l−1NMR(C1−1N、
ppm) : 1.43 (3H,d、J=6Hz) 
、 2.03(3)!、s) 、 2.10 (3H,
s) 、 3.50 m 3.70(LH,m) 、 
5.33−5.70 (LH,m) 。 6.03 (1M、dj=4.8Hz> 、 6.90
 (IH,bs)実記例36 実施例26の目的化合物(0,5g)を、義酸の代りに
安息香酸(0,9g)を使用して実施例31と同様に処
理して、ls、4R)−3−[(R)−1−ベンゾイル
オキシエチルツー4−トリメチルシリルエチニル−2−
アゼチジノン(0,52匹)を得る。 ・   20 旌光rTf  L αID   −−72,5”  (
C=1.26.2oo*r、ム)IR(Xジi−4> 
 ’  3230. 1765. 1730. 171
5  cm−1NMR(CDCl2.Ppm) ’ −
0,04(9H,s) 、 1.60 (3H,d。 J=6.0Hz) 、 3.70 (1)i、q、J=
6.0Hz> 、 4.47(IH,d、J=5.7H
z) 、 5.62 (IH,d、d、J=6.0゜5
、7Hz) 、 6.93 (IH,s) 、 7.3
757.65(3H,m) 、 8.03 津8.20
 (2H,m)実施例37 実施例36の目的化合物(0,48g)を実施例5と同
様に処理(但し、反応温度は60”Cで3時間IW住)
して、(3S、4R)−4−アセチル−3−[(R)−
1−ベンゾイルオキシエデル]−2−アゼナノノン(0
,3g)を得る。 施光度 〔α コ22 :  −112,9’IR(ス
ジ會−ル)  :  3350. 1785. 177
0. 1715  cm−1NMR(CDCl2.pp
m) :L、S)3 (3H,d、J=6.9Hz) 
。 2.13 (3H,s) 、 3.93 (LH,dd
、J=6.9,6.0Hz)。 4.48 (LH,d、J=6Hz) 、 5.07 
M 5.50(IH,m) 、 6.80 (IH,s
) 、 7.27 btz 7.63(3H,m) 、
 7.85468.10 (2H,m>寅た例38 実記例37の目的化合物(0,12g)を実施例8と同
様に処理(但し、反応温度は55〜60℃で5時間攪拌
)して、0.12 gの(3R,4S)−4−アセトキ
シ−3−[(R)−1−ベンゾイルオキシエチルツー2
−アゼチジノンを得る。 施光度[α]:0: −124,9゜ IR(スジタール)  ’  3240. 1780.
 1735. 1715  cm−1NMR(CDC1
3,ppm) : Z、S7 (3H,d、J=6.3
Hz) 。 1.90 (3H,s) 、 3.72 (IH,q、
d、J=2.1゜9.0Hz) 、 3JO−3,83
(1)1.m) 、 6.03  (IH,d。 J=5.4)1z) 、 7.10  (IH,s) 
、 7.38−7.67(3H劃) 、 7.96−8
.17 (21,m)実施例39 実施例30の目的化合物(2,0g)を実施例36と同
様に処理して、(3R,4S)−3−[(S)−1−ベ
ンゾイルオキシニチル]−4−トリメチルシリルニブニ
ル−2−アゼブジノンおよび(3S、4R)−3−[(
R)−1−ベンゾイルオキシエデル〕−4−トリメチル
シリルエデニル−2−7ゼチジノンの1対1混合物(2
,0g)を得る。 IR(スジシール)  :  3230. 1765.
 1730. 1715  c+n−1NMR(Cn−
1N、ppm) ’ −0,04(9H1s) 、16
0 (3H0d。 J=5.0Hz) 、 3.70 (1)1.Q、J=
6.0Hz) 、 4.47(LH,d、J45.7H
z> 、 5.62 (lH,d、dj:6.0゜5.
7Hz) 、 6.93 (LH,s) 、 7.37
功7.65(3H,m) 、 8.03 t、o  8
.20  (2H,m)実た例40 実施例39の目的化合物(1,7g)を実筋例37と同
様に処理して、(3S、4R)−4−アセチル−3−4
(R)−1−ベンゾイルオキシエチル]−2−7ゼチジ
ノンおよび(3R,4S)−4−アセデル−[(S)−
1−ベンゾイルオキシエテルクー2−アゼチノノンの1
対1混合物(1,62g)を得る。 IR(7シ(−ル)  :  3350. 1785.
 1770. 1715  cm’NMR(CDC13
,ppm) : 1.53 (3H,dj=6.9Hz
) 、 2.13(3H,s) 、 3.93 (LH
,dd、J=6.9.6.0Hz) 、 44g(LH
,d、J=6Hz) 、 5.07 &45.50 (
LH,m) 。 6.80  (IH,s)、  7.27 44− 7
.63  <38.+n)。 785 &48.10 (28,m) 実施例41 四臭化炭素(12g)のテトラヒドロフラン(20mm
 ) i液に、5℃でトリフェニルホスフィン1.0 (−2)をPil拌下に着える。同温で20分間P!を
押漬、実施例300目的化合物(0,5g)を加え、室
温で2時間撹拌する0反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮
し、残渣をソリ力ゲル力ラムクロマトグラフイ−(ML
!エチルとn−ヘキサンの1対9の混、唆で溶出)に付
し、ぐ3R,4R)−3−(1’−ブロモエチル)−4
−トリメデルンリルエテニル−2−アゼチジノンと(3
5,4S)−3−(1−ブロモエチル)−4−hリメデ
ルシリルエチニル−2−7ゼデジノンの1対1混合物(
0,45区)を得る。 IR(スジタール)  :  3150. 3050.
 1755  cm−’NMR(CDCl2.ppm)
 : 0.20 (9H,s) 、 2.00 (3H
,d。 J=6.3Hz) 、 3.77 (IH,dd、J=
5.0.11.0Hz) 。 4.33〜4.73 (IR,m) 、 4.46 (
LH,d。 J=5)1z) 、 6.33 (IH,bs)実zi
ii例40の目的化合物(1,7g)を実施例38と同
様に処理して、(3R,4S)−4−7セトキンー3−
C(R)−1−ベンゾイルオキシニチル〕−2−アゼチ
ジノンおよび(35,4R)−4−7セトキシー3−[
(S)−1−ベンゾイルオキジニチル]−2−7ゼチジ
ノンの1対17昆金物(162g)を得る。 IR(スジ曹−ル)  :  3240. 1780.
 1735. 17i5  cm’NMR(CDCl2
.ppm) : 1.57 (3H,d、J:6.3H
z) 。 1.90 (3H,s) 、 3.72 (LH,q、
d、J:2.1゜9、0Hz) 、 3.60−3.8
3 (IH,m) 、 6.03 (LH,d。 J=5.4Hz) 、 7.10 (LH,s) 、 
7.38−7.67(3H,m) 、 7.96−jl
、17 (2H,m)実尻例42 実Pi例43 実記例42の目的化合物(o、sg)をDMF(10:
QQ )およびr2酸(3ma)の混液に溶解し、この
溶液に攪拌下で亜鉛末(0,5g)を10°Cで加える
。 この溶液を室温で2時間撹拌する1反応液に酢酸エチル
(150社)を加えた後、食塩水で洗浄、硫酸マグネシ
ウムで乾燥、減圧a縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチルとヘキサンの13対87の
混合溶媒により溶出)に付し、(3R,4R)−3−エ
チル−4−トリメチルノリルエチニル−2−アゼチジノ
ンおよび(3S、4S)−3−エチル−4−トリメデル
シリルエチニル−2−フゼチジノンの1対l混合物(0
,26g)を得る。 IR(スジ1−ル)  :  3200. 2150.
 1755. 1700  ca+−1gMR(CD(
:13.ppm) : 0.17 (9H,s) 、 
1.10 (3H,t。 J=6.5Hz)、1.67〜2.10  (2H,m
)、3.10〜3.43  (1)1.m)、  4.
37  (IH,d、J=6.0Hz)。 6、20(IH,bs ) 実記例44 実施例43の目的化合物(0,1g)を実施例37と同
様に処理して、(3R,4R)−4−アセテルー3−エ
チル−2−アゼチジノンおよび(3S。 4S)−4−アセチル−3−エチル−2−7ゼチジノン
の1対1混合物(0,1区)を得る。 IR(スジ1−ル)  ;  3260. 1780.
 1710. 1705  cm−INMR(CDCl
2.ppm) : 1.10 (3H,t、J=6.0
Hz) 。 1、33 ac+= t、g3(2H,m> 、 2.
27 (3H,s) 。 3、3311I+4−3.73 <LH,m) 、 4
.40 <IH,d。 J=6.0Hz>、7.00  (LH,bs)実記例
45 実藷例26の目的化合物(0,5g)を実記例42と同
様に処理して、(3R,4R)−3−(1−ブ0 :g
−エチル) −4−トリメチルシリルエチニル−2−7
ゼナジノン(0,4gg)を得る。 北光度 [αコニ0 :  −232,9’  (C=
1.14  クロロホルム)IR(スジシール)  :
  3150. 3050. 1755  am−1g
MR(CDC13−ppm) ’ 0.20 (9)1
.s) 、 2.00 (3H,d。 J:6−3Hz) 、 3.77 (IH,dd、J:
5.0.11.(lHz) 。 4.33 .4.73  (11,鳳)、4.46  
(LH,d。 J=5Hz) 、 6.33 (LH,bs)実施例4
6 実た例45で得られた目的化合#(0,46g)を実T
f1例43と同様に!A理して、(3R,4R)−3−
エチル−4−トリメチルシリルエチニル−2−アゼチジ
ノン(0,2息)を得も。 箆光度 [α]乙’  :  −41i° (C=1.
08.クロロホルム〉LR(スジテール)  ’  3
200. 2150. 1755. 1700  cI
Il−1gMR(CDC13,ppm)   ’  0
.17  (9H,s)、  1.10  (31(、
t。 J=6.5Hz) 、 1.67、、、、.2.10 
(2H,m) 、 3.1(1〜3、43 (IH,m
) 、 4−37 (IH,d、J:6.0)!z) 
。 6.20 <1)1.bs) 実施例47 実施例46の目的化合物(0,11!に)を、実施例3
7と同様に処理して、(3R,4R)−4−アセチル−
3−エチル−2−アゼチジノン(0,08K)を得る。 飾光パ
【 [αコ”  :  +84.0’  (C=
1.52.クロロホルム)IR(スジ曽−ル)  : 
 3260. 1780. 1710. 1705  
am″″INMR(CDC13,9I>m) : 1.
10 (3H,t、J=6.0Hz) 。 1.33〜1.83 (2H,m) 、 2.27 (
3H,s) 。 3、33〜3.73 (IH,m) 、 4.40 (
IH,d。 J=6.0)lz) 、 7.00 <L)1.bs)
実!I5例48 (3R,4s)−s−[(R)−1−(vg3級ブチル
ジメチルシリルオキシ)エデル]−4−トリメデルシリ
ルエチニル−2−アゼチジノン(0,73g)の塩化メ
チレン(1oall )溶液にトリニブルアミン(1m
)を加える。この溶液に、トリフルオロメタンスルホン
酸トリメデルシリル(1,2111)を5°Cで加えた
後、室温で15時間fiff!する0反応液を酢酸二チ
ル(100m1! ’)、10%塩酸(10社)、水(
100m1l )の混液に注ぎ、室温で30分間撹拌す
る。有機層を分離し、食塩水、j12酸水素ナトリウム
水溶液、食塩水で順次fc浄、硫酸マグネシウムで!!
燥後、減圧濃縮する。残渣をn−ヘキサンから再結晶し
て、(35,45)−3−[(R)−1−(i3級ブチ
ルジメデルシリJしオキシ)エデルコー4−トリメチル
シリルニチニル−2−7ゼテジノン(0,64匹)を得
る。 五光度 〔αコ21 :  −39,0° (C=1.
016.クロロホルム)D ・IR(スジ會−ル)  :  3170. 2200
. 1770. 172ONMR(CDCI 、ppa
+) i 0.13 (61!、s) 、 0.20 
(91i、s) 。 0.87 <9H,s) 、 1.23 (3H,d、
J=7.2Hz) 。 3.17−3.30 (LH,m) 、 4.23−4
.37 (LH,−) 。 4.30 (1)!、dJ=2.7Hz> 、 6.1
7 (LH,br s)実施例49 トリフルオロメタンスルホン酸トリメデルシリル(0,
48蛙)を、5℃で(3R,4S)−3−[(R)−1
−ヒドロキシニデル]−4−トリメチルシリルニチニル
−2−アゼデジノン(0,15区)、トリニブルアミン
(0,4m11)および塩化メチレン(7−)の混合液
に加えた後、反応液を室温で3時間ffi!牢する0反
応液を酢酸エテル(7fi )、工タノール(10誠)
、10%塩酸(1ull )および水(50m1l )
の混液に注ぎ、室温で30分間攪拌する。 有機】を分取し1食塩水、飽和訣酸水素ナトリウム水溶
液、食塩水で頭次洗θ、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧
濃縮して、生成する結晶を集め、n−ヘキサンから再結
晶して、0.13にの(35゜45)−3−[(R)−
1−ヒドロキンエチルツー4−トリメチルシリルエナニ
ル−2−7ゼデジノンを得る。 施光度: 65.14゜ 他の物性値は実施例19のそれと一致した。 実施例50 実施例48の目的化合物(0,3g)を、実施例7Rい
て実施例8と同様に処理して、(3R,4R)−4−ア
セトキシ−3−[(R)−1−(fJ。 3級ブチルジメチルシリルオキシ)エチルツー2−アゼ
チジノン(0,t4g)を得る。 物性値から実施例250目的化合物と同一であることが
確認きれた。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 をそれぞれ意味する) で示される3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン
    誘導体。
  2. (2)R^1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5は水素原子または低級アルキル基、 R^6は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ 基または保護されたヒドロキシ基で あるか、または R^5とR^6とが一緒になってオキソ基である をそれぞれ意味する) であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
    の3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  3. (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 ・・・・はアルファ配位結合、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) で示される特許請求の範囲第(1)項記載の3−置換−
    4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  4. (4)R^1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5は水素原子または低級アルキル基、 R^6は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ 基または保護されたヒドロキシ基で あるか、または R^5とR^6とが一緒になってオキソ基であり、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) であることを特徴とする特許請求の範囲第(3)項記載
    の3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  5. (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 ・・・・はアルファ配位結合 をそれぞれ意味する) で示される特許請求の範囲第(1)項記載の3−置換−
    4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  6. (6)R^1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5は水素原子または低級アルキル基、 R^6は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ 基または保護されたヒドロキシ基で あるか、または R^5とR^6とが一緒になってオキソ基であり、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) であることを特徴とする特許請求の範囲第(5)項記載
    の3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  7. (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I c) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 ■はベータ配位結合、 をそれぞれ意味する) で示される特許請求の範囲第(1)項記載の3−置換−
    4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  8. (8)R^1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5は水素原子または低級アルキル基、 R^6は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ 基または保護されたヒドロキシ基で あるか、または R^5とR^6とが一緒になってオキソ基であり、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) であることを特徴とする特許請求の範囲第(7)項記載
    の3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  9. (9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I d) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 ・・・・はアルファ配位結合、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) で示される特許請求の範囲第(1)項記載の3−置換−
    4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  10. (10)R^1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5は水素原子または低級アルキル基、 R^6は水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ 基または保護されたヒドロキシ基で あるか、または R^5とR^6とが一緒になってオキソ基である ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) であることを特徴とする特許請求の範囲第(9)項記載
    の3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン誘導体。
  11. (11)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される化合物の反応性誘導体と 式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で示される化合物とを反応させることを特徴とする 式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水素原子または有機残基、R^2は水
    素原子または保護基、 R^3は水素原子または保護基、 R^1^0は低級アルキル基 をそれぞれ意味する) で示される3−置換−4−エチニル−2−アゼチジノン
    誘導体の製造法。
  12. (12)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) で示される化合物と、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) で示される化合物とを反応させ、次いで加溶媒分解反応
    に付すことを特徴とする、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中、R^3は水素原子、または保護基、R^4は水
    素原子、または低級アルキル基、R^5は水素原子、ま
    たは低級アルキル基、R^6は水素原子、または保護基
    、 R^1^1、R^1^2およびR^1^3はそれぞれ同
    一または異なった炭化水素残基、 Xは強酸残基、 Zは有機残基、 ・・・・はアルファ配位結合、 ■はベータ配位結合 をそれぞれ意味する) で示される2−アゼチジノン誘導体の製造法。
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