JPS6156193A - 有機スズアルコキシド化合物の製造法 - Google Patents
有機スズアルコキシド化合物の製造法Info
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- JPS6156193A JPS6156193A JP59176863A JP17686384A JPS6156193A JP S6156193 A JPS6156193 A JP S6156193A JP 59176863 A JP59176863 A JP 59176863A JP 17686384 A JP17686384 A JP 17686384A JP S6156193 A JPS6156193 A JP S6156193A
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はオリゴデオキシヌクレオチドを製造スるたメツ
中11j1体として有用なデオキシヌクレオシー
ドまたはデオキシヌクレオチドのトリオルガノスタンニ
ル肋導体の製造法に関するものである。
中11j1体として有用なデオキシヌクレオシー
ドまたはデオキシヌクレオチドのトリオルガノスタンニ
ル肋導体の製造法に関するものである。
従来の技術
本発明者らはさきに、一般式(IV)で示されるトリオ
ルガノスズアミド化合物が一般式〔11〕で示されるN
、3′−保護デオキシヌクレオシドまたはN。
ルガノスズアミド化合物が一般式〔11〕で示されるN
、3′−保護デオキシヌクレオシドまたはN。
3′−保護デオキシヌクレオチドと下記の反応式(1)
に従って反応してN、3′−保護デオキシヌクレオシー
マたはN、3′−保護デオキシヌクレオチドのトリオル
ガノスタンニル化合物[:V]t*:itそのアミン塩
を与えることを卯、出した(特願昭!?−/lり773
号明細書参照) 〔旧 〔■〕 (式中 15はアルキル基またはアリール基を R6お
工びRは少なくとも一方はアルキル基またはアリール基
を、残余は水素原子、アルキル基またはアリール基金あ
られし、RおよびRは保護基を、Bは保護基を有するこ
ともある塩基残基金あられし。
に従って反応してN、3′−保護デオキシヌクレオシー
マたはN、3′−保護デオキシヌクレオチドのトリオル
ガノスタンニル化合物[:V]t*:itそのアミン塩
を与えることを卯、出した(特願昭!?−/lり773
号明細書参照) 〔旧 〔■〕 (式中 15はアルキル基またはアリール基を R6お
工びRは少なくとも一方はアルキル基またはアリール基
を、残余は水素原子、アルキル基またはアリール基金あ
られし、RおよびRは保護基を、Bは保護基を有するこ
ともある塩基残基金あられし。
nはOまたは正の整数をあられす。)
発明が解決しようとする問題点
化合物[IV]は水や炭酸ガスに不安定であるので。
方法(1)にエリ化合物〔■〕を製造する際には1反応
操作中に化合物〔■〕が分解しないように注意全仏う必
要があったり、また化合物(IV)の長期保存が不可能
である等の試薬としての汎用性に欠ける面があった。
操作中に化合物〔■〕が分解しないように注意全仏う必
要があったり、また化合物(IV)の長期保存が不可能
である等の試薬としての汎用性に欠ける面があった。
問題点を解決するための手段1作用および効果本発明は
トリオルガノスズアミド化合物〔■〕の代りに、一般式
〔I〕で示されるトリオルガノ(アルコキシ)スタンナ
ンを用いることによって上記の問題点を解決しl(もの
である。すなわち化合物(T:]’に用いると反応式(
2)にしたがって化合物〔■〕が定量的に得られるだけ
でなく、化合物(1)は化合物〔■〕にくらべて水や炭
酸ガスに安定であり。
トリオルガノスズアミド化合物〔■〕の代りに、一般式
〔I〕で示されるトリオルガノ(アルコキシ)スタンナ
ンを用いることによって上記の問題点を解決しl(もの
である。すなわち化合物(T:]’に用いると反応式(
2)にしたがって化合物〔■〕が定量的に得られるだけ
でなく、化合物(1)は化合物〔■〕にくらべて水や炭
酸ガスに安定であり。
窒素豚囲気下で一、20℃において長期(約/年間)保
存が可能であるので、化合物ClIDを製造するために
繰返し使用することができるという利点も有することを
見出して本発明を完成したものである。
存が可能であるので、化合物ClIDを製造するために
繰返し使用することができるという利点も有することを
見出して本発明を完成したものである。
〔旧 CIII )(式中 R1は
アルキル基またにアリール基を R2は第二′?F友は
第三アルキル基または/−1に換シクロアルキル基をあ
ちわl、、 IC,11、rlおよびnlj前記と同じ
意味をあられ丁。) したがって本発明は、一般式〔I〕であられされるトリ
オルガノ(アルコキシ)スタンナンヲ用いること全特徴
とする一般式〔I■〕で示されるN、3′−保間デオキ
シヌクレオシドマ′fr、はN、3′−保護デオキシヌ
クレオチドのj’−0−)リオルガノスタンニル誘導体
の改良製造法を提供するものである。反応式(2)にし
たがって化合物CIl+)が定量的に生成していること
りよ、化合物(In] ’にそのアミン塩に変えた後、
それの’HNMRを測定することによって認められる。
アルキル基またにアリール基を R2は第二′?F友は
第三アルキル基または/−1に換シクロアルキル基をあ
ちわl、、 IC,11、rlおよびnlj前記と同じ
意味をあられ丁。) したがって本発明は、一般式〔I〕であられされるトリ
オルガノ(アルコキシ)スタンナンヲ用いること全特徴
とする一般式〔I■〕で示されるN、3′−保間デオキ
シヌクレオシドマ′fr、はN、3′−保護デオキシヌ
クレオチドのj’−0−)リオルガノスタンニル誘導体
の改良製造法を提供するものである。反応式(2)にし
たがって化合物CIl+)が定量的に生成していること
りよ、化合物(In] ’にそのアミン塩に変えた後、
それの’HNMRを測定することによって認められる。
たとえばトリエチル(t−ブトキシ)スタンナンと等モ
ルの3′−o−t−ブチルジメチルシリルチミジンとを
塩化メチレンまたハ/。
ルの3′−o−t−ブチルジメチルシリルチミジンとを
塩化メチレンまたハ/。
λ−ジクロルエタン等の有機溶媒中で反応させ。
その後その溶媒全除去し、残った生成物に等モルのジエ
チルアミンを添加した溶液の’ )INMIIスペクト
ルは、原料である3’−0−1−ブチルジメチルシリル
チミジンのj′−水酸基の吸収(δ3./ fppm。
チルアミンを添加した溶液の’ )INMIIスペクト
ルは、原料である3’−0−1−ブチルジメチルシリル
チミジンのj′−水酸基の吸収(δ3./ fppm。
t 三重線、 J = j、OHz )とトリエチ
ル(t−ブトキシ)スタンナンの1−ブトキシ基の吸収
(δ/、/lppm 、−重線)が消失し,3′−0−
1−ブチルジメチルシリル−j′−〇−トリエチルスタ
ンニルチミジンのジエチルアミン塩(特願昭zt−iざ
?/73号明細:!に照)が定S1的に生成しているこ
とを示した。
ル(t−ブトキシ)スタンナンの1−ブトキシ基の吸収
(δ/、/lppm 、−重線)が消失し,3′−0−
1−ブチルジメチルシリル−j′−〇−トリエチルスタ
ンニルチミジンのジエチルアミン塩(特願昭zt−iざ
?/73号明細:!に照)が定S1的に生成しているこ
とを示した。
このように一般式CII+)で示される有機スズアルコ
キシド化合物は、化付物〔1〕と化合物〔11〕の配位
子(アルコキシ基)交換反応に工って容易に製造するこ
とができるが、当該製造法は従来の反応(1)による方
法にくらべて、一般に化合物CI)が化合物〔■〕より
もはるか罠安定であることから、その取扱いおよび反応
操作がエリ簡単であり、ま几上述のごとく反応収率も定
量的である等の長所を有している。
キシド化合物は、化付物〔1〕と化合物〔11〕の配位
子(アルコキシ基)交換反応に工って容易に製造するこ
とができるが、当該製造法は従来の反応(1)による方
法にくらべて、一般に化合物CI)が化合物〔■〕より
もはるか罠安定であることから、その取扱いおよび反応
操作がエリ簡単であり、ま几上述のごとく反応収率も定
量的である等の長所を有している。
本発明方法の原料化合物である一般式〔I〕で示される
トリオルガノ(アルコキシ)スタンナンについて説明す
ると、−f:の有機、JI!:R’はアルキル基あるい
はアリール基のいずれでもよいが、化合物CI)を単離
、精製する場合を考えると、それが容易なメチル基、エ
チル基あるいはn−ブチル基等の低級アルキル基が好適
である。またその有機基R2♂:1.では1−プロピル
基、S−ブチル基等の第ニア/lギル基、I−ブチル基
、t−7ミル基、トリーt−ブチルメチル基、トリシク
ロヘキシルメチル基等の第三アルキル基および/−メチ
ルシクロヘギシル基、l−シクロへキシルシクロヘキシ
ル基杵の/−置換シクロアルキル基を挙げることができ
るが、化合物〔11〕との反応性を考慮すると。
トリオルガノ(アルコキシ)スタンナンについて説明す
ると、−f:の有機、JI!:R’はアルキル基あるい
はアリール基のいずれでもよいが、化合物CI)を単離
、精製する場合を考えると、それが容易なメチル基、エ
チル基あるいはn−ブチル基等の低級アルキル基が好適
である。またその有機基R2♂:1.では1−プロピル
基、S−ブチル基等の第ニア/lギル基、I−ブチル基
、t−7ミル基、トリーt−ブチルメチル基、トリシク
ロヘキシルメチル基等の第三アルキル基および/−メチ
ルシクロヘギシル基、l−シクロへキシルシクロヘキシ
ル基杵の/−置換シクロアルキル基を挙げることができ
るが、化合物〔11〕との反応性を考慮すると。
それが大きい第三アルキル基捷たは/−置換シクロアル
キル基が適している。化合物〔■〕は2丁でに知られて
いるように、トリオルガノスズクロリド化合物(Vl)
と対応する金属アルコキシド〔■〕との反応により製造
することができる(たとえば(1゜p、 Mack 、
米国特許第2.7グ!、l’ 20号明細書参照)。
キル基が適している。化合物〔■〕は2丁でに知られて
いるように、トリオルガノスズクロリド化合物(Vl)
と対応する金属アルコキシド〔■〕との反応により製造
することができる(たとえば(1゜p、 Mack 、
米国特許第2.7グ!、l’ 20号明細書参照)。
R25n01 +MOR2→几2SnOR2+MO4(
J)(Vl) (V!I〕[1)] (式中、RおよびR2は前記と同じ意味をあられし。
J)(Vl) (V!I〕[1)] (式中、RおよびR2は前記と同じ意味をあられし。
Mはアルカリ合端をあられ丁。)
つぎに本発明方法のもう一方の原料化合物である一般式
〔II〕であられされるN、3′−保護デオキシヌクレ
オシドおよびN、3′−保護デオキシヌクレオチドにつ
いて説明すると、その塩基残基、3′−位水酸基および
リン酸エステルの保睦基は、オリゴデオキシヌクレオチ
ドの化学合成法VC用いられているいずれのものも適し
ているが、主なものを挙げると、塩基残基についてはベ
ンゾイル基。
〔II〕であられされるN、3′−保護デオキシヌクレ
オシドおよびN、3′−保護デオキシヌクレオチドにつ
いて説明すると、その塩基残基、3′−位水酸基および
リン酸エステルの保睦基は、オリゴデオキシヌクレオチ
ドの化学合成法VC用いられているいずれのものも適し
ているが、主なものを挙げると、塩基残基についてはベ
ンゾイル基。
アニフィル基およびインブチリル基等がある。−まだ3
′−位水酸基の保護基としては、アセチル基。
′−位水酸基の保護基としては、アセチル基。
ベンゾイル基あるいはt−ブチルジメチルシリル基等を
、さらにリン酸エステルの保穫基としては。
、さらにリン酸エステルの保穫基としては。
フェニル基、o−クロルフェニル基あるいはp−クロル
フェニル基等を挙げることができる。これらの保護基金
有する化合物C11)の製造は既知の方法(たとえば0
゜B、 Rcese、 Tetrahedron 、
341 。
フェニル基等を挙げることができる。これらの保護基金
有する化合物C11)の製造は既知の方法(たとえば0
゜B、 Rcese、 Tetrahedron 、
341 。
J/4tj(/P7f)とその引用文献全参照されたい
)により行なうことができる。
)により行なうことができる。
本発明に従う反応(λ)ijV機溶媒溶媒中り円滑に進
行し、かかる溶媒としては塩化メチレン、/。
行し、かかる溶媒としては塩化メチレン、/。
−一ジクロルエタン、エーテル、テトラヒドロフラン、
p−ジオキサン、ベンゼン等を挙げることができるが、
この反応は脱水系で行なう必要があるので脱水精製の容
易な溶媒、たとえば塩化メチレン、/、コージクロルエ
タンあるいはベンゼン等が特に適11°Cいる。また反
応は0〜31℃で行なわせることができるが、冷却およ
び加熱等の操作を必要としない室温で行なうのが都合が
よい。
p−ジオキサン、ベンゼン等を挙げることができるが、
この反応は脱水系で行なう必要があるので脱水精製の容
易な溶媒、たとえば塩化メチレン、/、コージクロルエ
タンあるいはベンゼン等が特に適11°Cいる。また反
応は0〜31℃で行なわせることができるが、冷却およ
び加熱等の操作を必要としない室温で行なうのが都合が
よい。
化合物[111と化合物〔■〕のモル比はl:l〜IO
の範囲であり得るが、経済面全考慮すると化合物[11
を過剰に用いない方が得策であり1通常は/:/で行な
えばよい。化合物[:I]?つぎの反応。
の範囲であり得るが、経済面全考慮すると化合物[11
を過剰に用いない方が得策であり1通常は/:/で行な
えばよい。化合物[:I]?つぎの反応。
タトエばオリゴデオキシヌクレオチドの製造反応。
に用いる場合には、化合物〔I〕と化合物(1111上
記溶媒中で室温下t〜IO分間反応させた後、その溶媒
全除去り、オリゴデオキシヌクレオチド製造用の反応溶
媒に置換してから用いればよい。
記溶媒中で室温下t〜IO分間反応させた後、その溶媒
全除去り、オリゴデオキシヌクレオチド製造用の反応溶
媒に置換してから用いればよい。
なお1本明細書において述べる各塩基残基の構造式はつ
ぎのとおりである。
ぎのとおりである。
チミン残基 N4−ベンゾイルシトシン残基N
2−イソブチ1橘グアニン残基 N6−ベンゾイルア
デニン残基実施例 以下実施例によって1本発明を具体的に説明するが1本
発明は実施例に限定されるものではない。
2−イソブチ1橘グアニン残基 N6−ベンゾイルア
デニン残基実施例 以下実施例によって1本発明を具体的に説明するが1本
発明は実施例に限定されるものではない。
実施例/
3’−0−t−ブチルジメチルシリルチミジン(0,/
71’ f 、θ、tミリモル)を/1.2−ジクロ
ルエタン(/ ynt )に溶解し、これにトリエチル
(!−ブトキシ)スタンナン(0,14t o y 、
o、jミ’)モル)を加えた。この溶液を室温で5分
間攪拌した後、/、、2−ジクロルエタンを減圧留去し
。
71’ f 、θ、tミリモル)を/1.2−ジクロ
ルエタン(/ ynt )に溶解し、これにトリエチル
(!−ブトキシ)スタンナン(0,14t o y 、
o、jミ’)モル)を加えた。この溶液を室温で5分
間攪拌した後、/、、2−ジクロルエタンを減圧留去し
。
残渣に重塩化メチレン(0,j、l)とジエチルアミン
(0,037f 、0,0jtprt、jミリモル)を
加え。
(0,037f 、0,0jtprt、jミリモル)を
加え。
その溶液の’HNMflを測定した。’HNMR(OD
2(M2゜TMS) δ : 0./ 0 (
s 、JH,5i(O見、)2)、0.タコ(a
、 P tf 、 81(1(OH3
)い、 八〇 タ (t、jIl、J= 7.
01Tz 、 N(0+l2(IQ3)2) 、 ’
、コr (s 、 / j )i 。
2(M2゜TMS) δ : 0./ 0 (
s 、JH,5i(O見、)2)、0.タコ(a
、 P tf 、 81(1(OH3
)い、 八〇 タ (t、jIl、J= 7.
01Tz 、 N(0+l2(IQ3)2) 、 ’
、コr (s 、 / j )i 。
5n(02115)5)、 / 、1 j (3e 3
He j ) 、 J、/ 0−2、JO(m、、2
H,,2’)、2.1ノ(q* ” H*J=7.0t
−1x、 N(OH2flH3)2) 、 j、≦
θ−J、P j (m 。
He j ) 、 J、/ 0−2、JO(m、、2
H,,2’)、2.1ノ(q* ” H*J=7.0t
−1x、 N(OH2flH3)2) 、 j、≦
θ−J、P j (m 。
3 H、j′およびj′)、グ、λf(s、コ11,3
お工びf(NBt2)、 ’1,3 j −4’、A
(1) (m 、 / Hlj’ ) 。
お工びf(NBt2)、 ’1,3 j −4’、A
(1) (m 、 / Hlj’ ) 。
Ao、211 (t 、 / H、J=7.OH
2,/’)、 7.63(s 、 /HI A
) pp”、。
2,/’)、 7.63(s 、 /HI A
) pp”、。
実施例λ〜♂
第7表に記載したトリオルガノ(アルコキシ)スタンナ
ンとN、3′−保護デオキシヌクレオシドまたはN、3
′−保護デオキシヌクレオチドとアミンとを用い、実施
ト11/と同様の操作全行ない、第1表に記載しy、−
N 、 3/−保護デオキシヌクレオシドまたはN、3
′−保81デオキシヌクレオチドのj′−O−)リオA
・ガノスタンニル誘導体のアミン塩を得た。
ンとN、3′−保護デオキシヌクレオシドまたはN、3
′−保護デオキシヌクレオチドとアミンとを用い、実施
ト11/と同様の操作全行ない、第1表に記載しy、−
N 、 3/−保護デオキシヌクレオシドまたはN、3
′−保81デオキシヌクレオチドのj′−O−)リオA
・ガノスタンニル誘導体のアミン塩を得た。
第7表における略号の意味は、つぎのとおりである。
Me;メチル基 E t:エテル基 1−pr;イソゾ
ロビル基、 n−Bu ; n−ブチル基、t−flu
;t−ブチル基、 t−Am ; 宜−アミル基、
/ −Mehex ; /−メチルシクロヘキシル基
、 Ac;アセチル基。
ロビル基、 n−Bu ; n−ブチル基、t−flu
;t−ブチル基、 t−Am ; 宜−アミル基、
/ −Mehex ; /−メチルシクロヘキシル基
、 Ac;アセチル基。
Bz;ベンゾイル基、 TBDMS: t−ブチルジメ
チルシリル基、T:チミン残基 □bz;N4−ベンゾ
イルシトシン残基 1bz;H6−ペンゾイルアデニン
残基、G 、N−インブチリルグアニン残基。
チルシリル基、T:チミン残基 □bz;N4−ベンゾ
イルシトシン残基 1bz;H6−ペンゾイルアデニン
残基、G 、N−インブチリルグアニン残基。
−097=
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式〔 I 〕で示されるトリオルガノ(アルコキシ)
スタンナンと一般式〔II〕で示されるN,3′−保護デ
オキシヌクレオシドまたはN,3′−保護デオキシヌク
レオチドとを反応させることを特徴とする一般式〔III
〕で示される有機スズアルコキシド化合物の製造法。 R^1_3SnOR^2〔 I 〕 (式中、R^1はアルキル基またはアリール基を、R^
2は第二または第三アルキル基または1−置換シクロア
ルキル基をあらわす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^3およびR^4は保護基を、Bは保護基を
有することもある塩基残基をあらわし、nは0または正
の整数をあらわす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^1、R^3、R^4、Bおよびnは前記と
同じ意味をあらわす。)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176863A JPS6156193A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 有機スズアルコキシド化合物の製造法 |
| US07/274,619 US4914193A (en) | 1984-06-08 | 1988-11-22 | 5'-O-Triorganostannyl derivatives of deoxynucleosides or deoxynucleotides and their uses |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176863A JPS6156193A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 有機スズアルコキシド化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6156193A true JPS6156193A (ja) | 1986-03-20 |
Family
ID=16021129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59176863A Pending JPS6156193A (ja) | 1984-06-08 | 1984-08-27 | 有機スズアルコキシド化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6156193A (ja) |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP59176863A patent/JPS6156193A/ja active Pending
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