JPS6162849A - 自動多機能分析装置の濃度線分析方式 - Google Patents
自動多機能分析装置の濃度線分析方式Info
- Publication number
- JPS6162849A JPS6162849A JP59148927A JP14892784A JPS6162849A JP S6162849 A JPS6162849 A JP S6162849A JP 59148927 A JP59148927 A JP 59148927A JP 14892784 A JP14892784 A JP 14892784A JP S6162849 A JPS6162849 A JP S6162849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concentration
- map image
- line
- analysis
- automatic multifunctional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子線照射によって試料から発／４−Ｊる各
種の量子信号を検出してその量子（８月から元素の濃度
を計算し、濃度のカラー・マツプ像を出力するとともに
、指定された帯状領域のラインプロファイルを出力する
自動多機能分析装置の濃度線分析方式に関するものであ
る。
種の量子信号を検出してその量子（８月から元素の濃度
を計算し、濃度のカラー・マツプ像を出力するとともに
、指定された帯状領域のラインプロファイルを出力する
自動多機能分析装置の濃度線分析方式に関するものであ
る。
第１図は自動多機能分析装置のシステム構成を示す図で
あり、１は電子銃、２は収束レンズ、３は走査コイル、
４は対物レンズ、５は反射電子検出器、６は試料、７は
試料ステージ、Ｂ ＆；Ｉ： Ｘ線分光器、９は走査電
源、１０は映像ディジタイリ′、ＩＩはＸ線計測装置、
１２８；Ｉステージ・１−ライム、１３ないし１６はイ
ンターフェイス、１７４ココンピユータ、１８はカラー
・グラフインク・ディスプレイ、１９はＸＹグラフイン
ク・プロッタ、２０はコンソール・プリンタ、２１はハ
ードディスク、２２は磁気テープをそれぞれ示している
。
あり、１は電子銃、２は収束レンズ、３は走査コイル、
４は対物レンズ、５は反射電子検出器、６は試料、７は
試料ステージ、Ｂ ＆；Ｉ： Ｘ線分光器、９は走査電
源、１０は映像ディジタイリ′、ＩＩはＸ線計測装置、
１２８；Ｉステージ・１−ライム、１３ないし１６はイ
ンターフェイス、１７４ココンピユータ、１８はカラー
・グラフインク・ディスプレイ、１９はＸＹグラフイン
ク・プロッタ、２０はコンソール・プリンタ、２１はハ
ードディスク、２２は磁気テープをそれぞれ示している
。
自動多機能分析装置（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｍ
ｕｌｔｉ Ａｎａｌｙｚｅｒ； ＣＭ Ａ装置）は、電
子ｋｆＡ照射によって試料 、から発生ずる各種の量
子信号（特性Ｘ線、反射電子、二次電子等）を検出し、
試料表面の二次元的組成分布に対応させた情報収集と処
理を行い、解析結果をカラー・ディスプレイ等に出力す
るものであり、そのソステム構成を示したのが第１図で
ある。
ｕｌｔｉ Ａｎａｌｙｚｅｒ； ＣＭ Ａ装置）は、電
子ｋｆＡ照射によって試料 、から発生ずる各種の量
子信号（特性Ｘ線、反射電子、二次電子等）を検出し、
試料表面の二次元的組成分布に対応させた情報収集と処
理を行い、解析結果をカラー・ディスプレイ等に出力す
るものであり、そのソステム構成を示したのが第１図で
ある。
第１図において、走査電源９により走査コイル３をドラ
イブすると、極めて細い電子線束をＴＶ走査のように試
料表面で二次元走査する微小領域分析を行っごとができ
、ステージ・ドライバ１２によりステージ７をドライブ
すると、電子線を固定し試料そのものをｘｙ駆動走査す
る広領域分析を行うごとができる。電子線照射によって
試料から発ノＬする特１２１Ｘ線はＸ線分光器８により
検出され、反射電子は反射電子検出器５により検出され
る。
イブすると、極めて細い電子線束をＴＶ走査のように試
料表面で二次元走査する微小領域分析を行っごとができ
、ステージ・ドライバ１２によりステージ７をドライブ
すると、電子線を固定し試料そのものをｘｙ駆動走査す
る広領域分析を行うごとができる。電子線照射によって
試料から発ノＬする特１２１Ｘ線はＸ線分光器８により
検出され、反射電子は反射電子検出器５により検出され
る。
検出された各元素の画素毎の生データは、Ｘ線計測装置
１１、インターフェイス１５を通して、又は映像ディジ
タイザ１０、インターフェイス１４を通して試料面に対
応する整列されたフォーマットでハードディスク２１に
収録される。コンビ１−夕１７は、主メモリを有し制御
プログラムを実行することにより、インターフェイス１
３ないし１６を通して上述の如き電子線径と照射位置、
Ｘ線の分光検出と計測、試料の駆動、量子信号情報の数
値化等の制御を行い、さらにはハードディスク２１に収
録された生データの解析、結果の出力等の処理を行う。
１１、インターフェイス１５を通して、又は映像ディジ
タイザ１０、インターフェイス１４を通して試料面に対
応する整列されたフォーマットでハードディスク２１に
収録される。コンビ１−夕１７は、主メモリを有し制御
プログラムを実行することにより、インターフェイス１
３ないし１６を通して上述の如き電子線径と照射位置、
Ｘ線の分光検出と計測、試料の駆動、量子信号情報の数
値化等の制御を行い、さらにはハードディスク２１に収
録された生データの解析、結果の出力等の処理を行う。
なお、データ格納手段としては、ハードディスク２１の
他、コンピュータ１７の主メモリや磁気テープ（ＭＴ）
２２等があり、適宜これらの手段が利用される。また、
カラー・グラフィック・ディスプレイ１８に表示するデ
ータの格納手段として、図示しないが、フレーム・メモ
リが用いられることもある。
他、コンピュータ１７の主メモリや磁気テープ（ＭＴ）
２２等があり、適宜これらの手段が利用される。また、
カラー・グラフィック・ディスプレイ１８に表示するデ
ータの格納手段として、図示しないが、フレーム・メモ
リが用いられることもある。
ハードディスク２１に収録された生データは、そのまま
白黒により表示出力しても、その表示出力の内容からは
種々の分析を行うことが難しいため、従来は、生データ
をもとに元素の濃度計算を行い、元素の濃度をレベル分
りし各々のレベルに対応した色でマツプ像を、カラー・
グラフィック・ディスプレイＩｌｌやＸＹグラフィック
・プロッタ１９を使って出力４−るごとが考えられてい
る。
白黒により表示出力しても、その表示出力の内容からは
種々の分析を行うことが難しいため、従来は、生データ
をもとに元素の濃度計算を行い、元素の濃度をレベル分
りし各々のレベルに対応した色でマツプ像を、カラー・
グラフィック・ディスプレイＩｌｌやＸＹグラフィック
・プロッタ１９を使って出力４−るごとが考えられてい
る。
例えば、圧延鋼材の品質評価を行う場合におけろうイン
分析に、Ｌる偏析の定量評価法として、従来Ｇ１１、鋼
の表面若しくは中心部等の切断面より小１、リルを用い
′Ｃ−ブノ向に多数点にわたり鋼箔片を切り出し７化学
分析する連続ドリル採取による化学分析法と、自動多機
能分析装置により出力された−１−述の如きマツプ像上
のＸ方向若しくはＹ方向で濃度のラインプロファイルを
出力する１ラインプ１１フアイル法とが採用されている
。
分析に、Ｌる偏析の定量評価法として、従来Ｇ１１、鋼
の表面若しくは中心部等の切断面より小１、リルを用い
′Ｃ−ブノ向に多数点にわたり鋼箔片を切り出し７化学
分析する連続ドリル採取による化学分析法と、自動多機
能分析装置により出力された−１−述の如きマツプ像上
のＸ方向若しくはＹ方向で濃度のラインプロファイルを
出力する１ラインプ１１フアイル法とが採用されている
。
上述の如き圧延鋼材において、Ｃ，Ｍ、 、Ｐ、Ｓ等の
濃度偏析しやすい元素は圧延によってその分布状態が圧
延方向に薄く引き延ばされており、ミクロ的にらぎれ゛
ζ不連続になってしまう場合が多い。かかる圧延鋼材に
対する偏析の定量評価を行う場合、１−述した前者の連
続１リル採取による化学分析法では、数ｍｍ以下の偏析
の解析は不可能であり、検査面（分析面積のｍ位）が数
ｍｍ単位となり、大まかな偏析調査となるため、その結
果が不連続、不正確になりやすく、さらには、試料を破
壊してしまう （破壊検査）という問題がある。
濃度偏析しやすい元素は圧延によってその分布状態が圧
延方向に薄く引き延ばされており、ミクロ的にらぎれ゛
ζ不連続になってしまう場合が多い。かかる圧延鋼材に
対する偏析の定量評価を行う場合、１−述した前者の連
続１リル採取による化学分析法では、数ｍｍ以下の偏析
の解析は不可能であり、検査面（分析面積のｍ位）が数
ｍｍ単位となり、大まかな偏析調査となるため、その結
果が不連続、不正確になりやすく、さらには、試料を破
壊してしまう （破壊検査）という問題がある。
他方、１ラインプロフアイル法は、１ラインでは分析面
積の単位が小さすぎる場合がある。特に圧延鋼材の場合
には鋼の品質との対応において、そのライン分析位置に
よっては分析値の代表性に問題がある。本発明は、上述
の問題点の解決を図ったものであり、分析値の代表性を
損なうことなく、迅速上つ効率的にマクロ的な鋼の品質
評価を行い得る自動多機能分析装置の濃度線分析方式を
提供することを目的とするものである。
積の単位が小さすぎる場合がある。特に圧延鋼材の場合
には鋼の品質との対応において、そのライン分析位置に
よっては分析値の代表性に問題がある。本発明は、上述
の問題点の解決を図ったものであり、分析値の代表性を
損なうことなく、迅速上つ効率的にマクロ的な鋼の品質
評価を行い得る自動多機能分析装置の濃度線分析方式を
提供することを目的とするものである。
そのために本発明の自動多機能分析装置の濃度線分析方
式は、電子線照射によって試料から発生する各種の量子
信号を検出し、試料表面の二次元的組成分布に対応させ
た情報収集と処理を行い、解析結果をカラー・ディスプ
レイ等に出力する自動多機能分析装置において、検出し
た量子信号より元素の濃度５１算を行う濃度計算手段、
元素の濃度をレベル分ＬＪし各々のレベルに対応した色
でマツプ像を出力するマツプ像出力手段、マツプ像上の
指定された帯状領域につき平均濃度を８１算する平均濃
度８１算手段、及び該計算された平均濃度をラインプロ
ファイル出力する線分析出力手段を具偏し、出力された
マツプ像上のＸ方向若しくはＹ方向で任意の帯状領域が
指定された場合には、当該帯状領域の平均濃度をライン
プロファイル出力するように構成したことを特徴とする
ものである。
式は、電子線照射によって試料から発生する各種の量子
信号を検出し、試料表面の二次元的組成分布に対応させ
た情報収集と処理を行い、解析結果をカラー・ディスプ
レイ等に出力する自動多機能分析装置において、検出し
た量子信号より元素の濃度５１算を行う濃度計算手段、
元素の濃度をレベル分ＬＪし各々のレベルに対応した色
でマツプ像を出力するマツプ像出力手段、マツプ像上の
指定された帯状領域につき平均濃度を８１算する平均濃
度８１算手段、及び該計算された平均濃度をラインプロ
ファイル出力する線分析出力手段を具偏し、出力された
マツプ像上のＸ方向若しくはＹ方向で任意の帯状領域が
指定された場合には、当該帯状領域の平均濃度をライン
プロファイル出力するように構成したことを特徴とする
ものである。
第２図はカラー・グラフインク・ディスプレイ画面上で
の帯状領域の指定態様を示す図である。
の帯状領域の指定態様を示す図である。
本発明の自動多機能分析装置の濃度線分析方式では、従
来と同様に濃度計算手段により検出された量子信号から
元素の濃度計算が行われ、その計算された元素の濃度が
マツプ像出力手段によりレベル分番ノされ各々のレベル
に対応した色でマツプ像として出力される。このマツプ
像に対してオペレータが例えば第２図図示の如くカーソ
ルＸいに２を使った操作によりＸ方向で任意の帯状領域
を指定すると、平均濃度計算手段によりその指定された
帯状領域の各Ｙ方向の位置に対応してＸ方向の平均濃度
の計算が行われ、そしてその平均？農度が線分析出力手
段によりラインプロファイル出力される。これらの出力
手段としては、カラー・グラフインク・ディスプレイや
ＸＹグラフインク・プロッタ等がある。
来と同様に濃度計算手段により検出された量子信号から
元素の濃度計算が行われ、その計算された元素の濃度が
マツプ像出力手段によりレベル分番ノされ各々のレベル
に対応した色でマツプ像として出力される。このマツプ
像に対してオペレータが例えば第２図図示の如くカーソ
ルＸいに２を使った操作によりＸ方向で任意の帯状領域
を指定すると、平均濃度計算手段によりその指定された
帯状領域の各Ｙ方向の位置に対応してＸ方向の平均濃度
の計算が行われ、そしてその平均？農度が線分析出力手
段によりラインプロファイル出力される。これらの出力
手段としては、カラー・グラフインク・ディスプレイや
ＸＹグラフインク・プロッタ等がある。
以下、実施例を図面を参照しつつ説明する。
第３図はマツプ像とともにライン１１」ファイルを出力
するシステムの本発明の１実施例構成を示す図、第４図
は帯状領域の平均濃度計算を説明する図、第５図はマツ
プ像とラインプロファイルの表示出力例を示す図である
。
するシステムの本発明の１実施例構成を示す図、第４図
は帯状領域の平均濃度計算を説明する図、第５図はマツ
プ像とラインプロファイルの表示出力例を示す図である
。
第３図において、３】は濃度計算部、３２１Ｊレベル分
は処理部、３３は色分は処理部、３４と３６ば表示制御
部、３５は平均濃度計算部をそれぞれ示している。
は処理部、３３は色分は処理部、３４と３６ば表示制御
部、３５は平均濃度計算部をそれぞれ示している。
濃度計算部３１は、面走査して第１図図示のハードディ
スク２１等に収録された特性Ｘ線や反射電子等の生デー
タについて、従来行っていたと同様にそれぞれの点にお
ける元素の重量濃度（％）を計算するものである。レベ
ル分は処理部３２は、濃度計算部３１で計算された元素
の重量濃度について、例えば最大最小濃度間をｎ等分し
平均濃度を中心に任意の％区分にレベル分は処理を行う
ものである。
スク２１等に収録された特性Ｘ線や反射電子等の生デー
タについて、従来行っていたと同様にそれぞれの点にお
ける元素の重量濃度（％）を計算するものである。レベ
ル分は処理部３２は、濃度計算部３１で計算された元素
の重量濃度について、例えば最大最小濃度間をｎ等分し
平均濃度を中心に任意の％区分にレベル分は処理を行う
ものである。
色分は処理部３３は、レベル分は処理部３２でレベル分
げされた各％区分に対応して表示の色分は処理を行うも
のであり、表示制御部３４は、その色分けに従ってマツ
プ像を第１図図示のカラー・グラフインク・ディスプレ
イ１８に表示する処理を行うものである。なお、レベル
分けの％区分や表示の色分は等は分析の都度その目的に
合わせて適宜指定される。
げされた各％区分に対応して表示の色分は処理を行うも
のであり、表示制御部３４は、その色分けに従ってマツ
プ像を第１図図示のカラー・グラフインク・ディスプレ
イ１８に表示する処理を行うものである。なお、レベル
分けの％区分や表示の色分は等は分析の都度その目的に
合わせて適宜指定される。
平均濃度計算部３５は、カラー・グラフインク・ディス
プレイ１８に表示されたマツプ像上にカーソル等により
帯状領域が指定れた場合、その帯状領域の平均濃度を計
算するものであり、表示制御部３６は、平均濃度計算部
３５で計算された平均濃度をラインプロファイル表示す
るものである。第４図［ａ１図示の如くカーソルＬ、Ｘ
ｚにより帯状領域が指定れた場合、平均濃度計算は、ｙ
＋＋ Ｖ２＋ ・・・・・・について濃度の平均計算が
行われる。即ち、ラインプロファイル表示する関数をＴ
ｘとすると、ＩＸ ＝ｙ＋（ｘ＋ ＋ｘＪ 十・・・
−）十Ｖ ｚ（Ｘ ｔ ＩＸ ｊ →−・・・・・
・）十・・・・・・十ｙア（ｘｌ＋ｘ； ＋・・・・・
・）■Ｘ−ＩＸ／ｙ１１ により平均濃度が求められる。そして関数ＩＸが第４図
（ｂｌ Ｅ示の如く表示される。
プレイ１８に表示されたマツプ像上にカーソル等により
帯状領域が指定れた場合、その帯状領域の平均濃度を計
算するものであり、表示制御部３６は、平均濃度計算部
３５で計算された平均濃度をラインプロファイル表示す
るものである。第４図［ａ１図示の如くカーソルＬ、Ｘ
ｚにより帯状領域が指定れた場合、平均濃度計算は、ｙ
＋＋ Ｖ２＋ ・・・・・・について濃度の平均計算が
行われる。即ち、ラインプロファイル表示する関数をＴ
ｘとすると、ＩＸ ＝ｙ＋（ｘ＋ ＋ｘＪ 十・・・
−）十Ｖ ｚ（Ｘ ｔ ＩＸ ｊ →−・・・・・
・）十・・・・・・十ｙア（ｘｌ＋ｘ； ＋・・・・・
・）■Ｘ−ＩＸ／ｙ１１ により平均濃度が求められる。そして関数ＩＸが第４図
（ｂｌ Ｅ示の如く表示される。
成る鋼材のＣ（炭素）のマツプ像とその平均濃度線分析
の例を示したのが第５図である。第５図においてマツプ
像はモノクロにより表わされているが実際には黒の部分
が濃度の％区分に応して幾つかの色により区分されて表
示されているため、マツプ像によっても偏析状態が色識
別で明瞭に観察できる。このマツプ像上中央やや右より
にカーソル×１、×２を表示して帯状領域を指定するこ
とによって得られたものが、マツプ像右側に示したライ
ンプロファイルである。
の例を示したのが第５図である。第５図においてマツプ
像はモノクロにより表わされているが実際には黒の部分
が濃度の％区分に応して幾つかの色により区分されて表
示されているため、マツプ像によっても偏析状態が色識
別で明瞭に観察できる。このマツプ像上中央やや右より
にカーソル×１、×２を表示して帯状領域を指定するこ
とによって得られたものが、マツプ像右側に示したライ
ンプロファイルである。
なお、以上に説明した如きマツプ像とラインプロファイ
ルの表示を行うに当たって、それぞれを別のディスプレ
イを使って表示しても、１個のカラー・グラフィック・
ディスプレイだ番ノによりその画面を分割して同時に表
示するようにしてもよい。ま人二、マツブイ象とライン
ツブ「１ファイルとは、表示するだし１でなく、ＸＹグ
ラフインク・プロッタを使って印刷出力することも勿論
可能であることは云うまでもない。さらにマツプ像を色
分６月１ｉ力する場合、等高線図の線を色分けして出力
してもよい。
ルの表示を行うに当たって、それぞれを別のディスプレ
イを使って表示しても、１個のカラー・グラフィック・
ディスプレイだ番ノによりその画面を分割して同時に表
示するようにしてもよい。ま人二、マツブイ象とライン
ツブ「１ファイルとは、表示するだし１でなく、ＸＹグ
ラフインク・プロッタを使って印刷出力することも勿論
可能であることは云うまでもない。さらにマツプ像を色
分６月１ｉ力する場合、等高線図の線を色分けして出力
してもよい。
第６図は従来のライン分析例と本発明によるライン分析
例とを対比して示した図である。第６図［ａ）において
圧延方向をＡとし、圧延方向に薄く引き延ばされた成分
偏析があるものとすると、連続トリル採取ＩＮこよる分
析例は第６図（ｂｌ、１ラインプＩ：」ファイルＣによ
る分析例は第６（Ｃ）、本発明の帯状領域指定りによる
分析例は第６図（ｄ＋のようになる。これらの例を見る
と明らかなように、第６図（１））では、成分偏析が一
様でなくてもそれが現れにくい。また第６（ｃ）では、
そのラインがたまたま成分偏析の間隙を通っている場合
と丁度成分偏析の真中を通っている場合とにおおきな差
が見られ、正確な評価が難しい。しかし第６１”Ｊｆｄ
＋では、成分偏析の程度等を平均化された状態で把握す
ることができ、より正確に品質の評価を行うことができ
る。
例とを対比して示した図である。第６図［ａ）において
圧延方向をＡとし、圧延方向に薄く引き延ばされた成分
偏析があるものとすると、連続トリル採取ＩＮこよる分
析例は第６図（ｂｌ、１ラインプＩ：」ファイルＣによ
る分析例は第６（Ｃ）、本発明の帯状領域指定りによる
分析例は第６図（ｄ＋のようになる。これらの例を見る
と明らかなように、第６図（１））では、成分偏析が一
様でなくてもそれが現れにくい。また第６（ｃ）では、
そのラインがたまたま成分偏析の間隙を通っている場合
と丁度成分偏析の真中を通っている場合とにおおきな差
が見られ、正確な評価が難しい。しかし第６１”Ｊｆｄ
＋では、成分偏析の程度等を平均化された状態で把握す
ることができ、より正確に品質の評価を行うことができ
る。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、先に
述べた連続ドリル採取による化学分析法に比べると、試
料を破壊することもなく （非破壊）数μ〜数ｍｍ迄の
任意の分析面積単位で偏析の解析が可能となる。また、
１ラインプロフアイル法より検査面積を増加させたこと
により、分析値は平均化（単純化）され、分析値の代表
性を損なわずに迅速且つ効率的に、ミクロ的な鋼の品質
評価を行うことができる。
述べた連続ドリル採取による化学分析法に比べると、試
料を破壊することもなく （非破壊）数μ〜数ｍｍ迄の
任意の分析面積単位で偏析の解析が可能となる。また、
１ラインプロフアイル法より検査面積を増加させたこと
により、分析値は平均化（単純化）され、分析値の代表
性を損なわずに迅速且つ効率的に、ミクロ的な鋼の品質
評価を行うことができる。
第１図は自動多機能分析装置のシステム構成を示す図、
第２図ばカラー・グラフィック・ディス１１７４画面１
−での帯状領域の指定態様を示す図、第３し１はマツプ
像とともにラインプロファイルを出力するシステＪ、の
本発明の１実施例構成を示す図、第４図は帯状領域の平
均濃度言１算を説明する図、第５図し１マツプ像とライ
ンプロファイルの表示出力例を示す図、第６図は従来の
ライン分析例と本発明によるフィン分析例とを対比して
示した図ごある。 １・・・電子銃、２・・・収束レンズ、３・・・走査コ
イル、４・・・対物］・ンヌ、５・・・反射電子検出器
、６・・・試料、７・・・試ネ１ステーソ、８・・・Ｘ
線分光器、９・・・走査電源、Ｈｌ・・・映像ディジタ
イザ、１１・・・Ｘ線計測装置、１２・・・ステージ・
トライバ、１３ないし１６・・・インターフ丁、イス、
１７・・・″１ンピュータ、１８・・・カラー・グラソ
イツク・ディスプレイ、１９・・・ＸＹグラフィック・
ゾロツタ、２０・・く１ンソール・プリンタ、２１・・
・バーｌディスク、２２・・・磁気テープ、３１・・・
濃度計算部、３２・・・Ｉ・ヘル分ＬＪ処理部、３３・
・・色分は処理部、３４と３６・・・表示制御＋’３ｉ
、３５・・・平均濃度計算部。
第２図ばカラー・グラフィック・ディス１１７４画面１
−での帯状領域の指定態様を示す図、第３し１はマツプ
像とともにラインプロファイルを出力するシステＪ、の
本発明の１実施例構成を示す図、第４図は帯状領域の平
均濃度言１算を説明する図、第５図し１マツプ像とライ
ンプロファイルの表示出力例を示す図、第６図は従来の
ライン分析例と本発明によるフィン分析例とを対比して
示した図ごある。 １・・・電子銃、２・・・収束レンズ、３・・・走査コ
イル、４・・・対物］・ンヌ、５・・・反射電子検出器
、６・・・試料、７・・・試ネ１ステーソ、８・・・Ｘ
線分光器、９・・・走査電源、Ｈｌ・・・映像ディジタ
イザ、１１・・・Ｘ線計測装置、１２・・・ステージ・
トライバ、１３ないし１６・・・インターフ丁、イス、
１７・・・″１ンピュータ、１８・・・カラー・グラソ
イツク・ディスプレイ、１９・・・ＸＹグラフィック・
ゾロツタ、２０・・く１ンソール・プリンタ、２１・・
・バーｌディスク、２２・・・磁気テープ、３１・・・
濃度計算部、３２・・・Ｉ・ヘル分ＬＪ処理部、３３・
・・色分は処理部、３４と３６・・・表示制御＋’３ｉ
、３５・・・平均濃度計算部。
Claims (1)
- 電子線照射によって試料から発生する各種の量子信号を
検出し、試料表面の二次元的組成分布に対応させた情報
収集と処理を行い、解析結果をカラー・ディスプレイ等
に出力する自動多機能分析装置において、検出した量子
信号より元素の濃度計算を行う濃度計算手段、元素の濃
度をレベル分けし各々のレベルに対応した色でマップ像
を出力するマップ像出力手段、マップ像上の指定された
帯状領域につき平均濃度を計算する平均濃度計算手段、
及び該計算された平均濃度をラインプロファイル出力す
る線分析出力手段を具備し、出力されたマップ像上のＸ
方向若しくはＹ方向で任意の帯状領域が指定された場合
には、当該帯状領域の平均濃度をラインプロファイル出
力するように構成したことを特徴とする自動多機能分析
装置の濃度線分析方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59148927A JPH0721466B2 (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 自動多機能分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59148927A JPH0721466B2 (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 自動多機能分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6162849A true JPS6162849A (ja) | 1986-03-31 |
| JPH0721466B2 JPH0721466B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=15463772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59148927A Expired - Fee Related JPH0721466B2 (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 自動多機能分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721466B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63259950A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | Jeol Ltd | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
| JPS63259949A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | Jeol Ltd | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
| FR2937736A1 (fr) * | 2008-10-27 | 2010-04-30 | Snecma | Comptage d'inclusions sur alliages par analyse d'images |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3950619B2 (ja) * | 2000-08-21 | 2007-08-01 | 日本電子株式会社 | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119289A (en) * | 1974-11-29 | 1976-10-19 | Agency Of Ind Science & Technol | Method of determining the heterogenous sample of micro-particles |
| JPS567044A (en) * | 1979-06-29 | 1981-01-24 | Nippon Steel Corp | Steel sample analyzer using electron beam |
-
1984
- 1984-07-18 JP JP59148927A patent/JPH0721466B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119289A (en) * | 1974-11-29 | 1976-10-19 | Agency Of Ind Science & Technol | Method of determining the heterogenous sample of micro-particles |
| JPS567044A (en) * | 1979-06-29 | 1981-01-24 | Nippon Steel Corp | Steel sample analyzer using electron beam |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63259950A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | Jeol Ltd | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
| JPS63259949A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | Jeol Ltd | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
| FR2937736A1 (fr) * | 2008-10-27 | 2010-04-30 | Snecma | Comptage d'inclusions sur alliages par analyse d'images |
| WO2010049640A1 (fr) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Snecma | Comptage d'inclusions sur alliages par analyse d'images |
| US8347745B2 (en) | 2008-10-27 | 2013-01-08 | Snecma | Counting inclusions in alloys by image analysis |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0721466B2 (ja) | 1995-03-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6769402B2 (ja) | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム | |
| US20050078790A1 (en) | X-ray crystal orientation measuring method and X-ray crystal orientation measuring apparatus | |
| JPH0886762A (ja) | 試料に含まれる物質の同定方法および分布測定方法 | |
| JP2009250867A (ja) | エネルギー分散型ｘ線分光器を備えるｘ線分析装置 | |
| JP6795010B2 (ja) | Ｘ線分析方法及びｘ線分析装置 | |
| JPS6162849A (ja) | 自動多機能分析装置の濃度線分析方式 | |
| AU2013201865B2 (en) | Method and system for visualizing effects of corrosion | |
| US6879719B1 (en) | Method for measurement of full-two dimensional submicron shapes | |
| JPS6162850A (ja) | 自動多機能分析装置の濃度分析処理方式 | |
| JP2006118941A (ja) | 面分析データを表示する電子プローブｘ線分析装置 | |
| JP2002323463A (ja) | 電子線分析装置 | |
| JP3036444B2 (ja) | 収束電子線回折図形を用いた格子歪み評価方法および評価装置 | |
| JP3950619B2 (ja) | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 | |
| JP3634955B2 (ja) | 電子プローブマイクロアナライザ | |
| JP2000046768A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP3745075B2 (ja) | 膜厚測定装置 | |
| JPH0785064B2 (ja) | 元素濃度分布測定方法 | |
| JPS642214B2 (ja) | ||
| JPH03246862A (ja) | 電子顕微鏡等のｘ線分析装置 | |
| JPH08220073A (ja) | 渦電流探傷装置の欠陥寸法評価装置 | |
| US20090121131A1 (en) | Method of determination of resolution of scanning electron microscope | |
| JP2832987B2 (ja) | 測定結果のカラー表示方法 | |
| JP3052167B2 (ja) | 異物分析方法 | |
| JPH0646557B2 (ja) | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 | |
| JPH0153416B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |