JPS6163922A - 磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ！　発明のず〒昆 技術分野 未発１１は、磁気記録媒体、特に金属−■すの磁気記録
媒体と磁気記録方法に関する。

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用笠の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、全屈薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。

このような金属＃Ｉ模型の媒体の磁性層としては、特性
−ヒ、基体法線に対し所定の傾斜角にてノＡ着を行う、
いわゆる斜めｊＮ　Ｒ１１：によって形成したＣｏ系、
Ｃｏ−Ｎｉ系等からなる）ｒＬ着膜や、電気メッキ、無
電解メッキ、スパッタリング、真空１〜着、イオンシレ
ーティング等の方法による強磁性ト！［膜を設けた磁気
記録媒体が好適である。

こ−のような媒体は、スペーシングロスによる特性低下
が大きいので、その表面をできるだけ１１滑化する必要
がある。

しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が人きくなり
、ヘッドタッチ、走行面で支障がでる。

ところで、金属ＮＭ　ｌ’２型の媒体では、磁性層が０
．０５〜０．５終ｍと非常にうすいため、媒体の表面性
は）、（板の表面性に依存する。

このため、基板表面に比較的なだらかな、いわゆるしわ
状、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（特
開昭５３−１１６１１５号等）。

また、特開昭５８−８８２２７号、同５８−１００２２
１号には、基体表面に微粒子を配設して、光学顕微鏡で
５０〜４００倍でｌｌｌ１！！でき、しかも触針式表面
粗さ測定！Ａ７１で実測できる高さの凹凸を設ける旨が
提案されている。

しかし、これらでも、走行摩擦、耐久走行性、走行安定
性等の物性や、電ｍ変換特性の点で未だ不十分である。

一方、特公昭３９−２５２４８号等には、強磁性金屈薄
１１Ｑ層表面に、有機物ｆｌ？Ｉ滑剤からなるトップコ
ート層を設け、走行摩擦を低減する旨が提案されている
。

しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤のヘッ
ドへの付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上人きな問
題となる。

すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着。

へ−／　ト’　ＩＪづまりを解消し、かつ電磁変換特性
の面でも不都合の生じない技術は未だ実現していない。

ＴＩ　　発明の目的 本発明の目的は、金属Ｆ！膜型の磁気記録媒体と、それ
を用いた磁気記録方法において、特に低温での摩擦、耐
久走行性、走行安定性等の物性を改良し、しかも、物性
面で支障のない範囲で走行中に研府効果（クリーニング
効果）をもたせることにより、ヘッド付着や目づまりを
解消し、かつ電磁変換特性の面でも何ら不都合が生じな
いようにすることにある。

このような１！的は、ド記の本発明によって達成される
。

すなわち、：ｊｒＪｌの発明は。

１１Ｔとう性基板の一面上に、平均粒径５０〜１０００
人の微粒子を配設し、この上に強磁性薄膜層とトップコ
ート層とが形成されている磁気記録媒体において、 磁気ヘッドの暦動方向にて０．４〜４ＪＬｍの周期とな
るように前記微粒子を疎密に配設し。

しかも配設された微粒子の密な部分が線状体ないしその
集合体をなすことを特徴とする磁気記録媒体であり、 また、第２の発明は。

可とう性基板の一面上に、ｆ均ａ径５０〜１０００人の
微粒子を配設し、この上に強磁性薄膜層とトップコート
層とが形成されており。

他方の面にバックコート層が形成されている磁気記録媒
体において、 磁気ヘッドの摺動方向にて０．４〜２μｍの周期となる
ように前記ｍ粒子を疎密に配設し、しかも配設された微
粒子の密な部分が線状体ないしその集合体をなすことを
特徴とする磁気記録媒体である。

■　発明の具体的構成 以ド１本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明における磁性層は１強磁性金属Ｂ膜よりなる金ｇ
、薄１１！２型のものである。

強磁性金属薄膜としては、鉄、コバルト、ニッケルその
他の強磁性金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ。

Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃ
Ｇ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ。

Ｃｏ−Ｇｄ、　Ｃｏ−５ｍ、　Ｃｏ−ＰＬ、　Ｎｉ　−
Ｃｕ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ１．Ｍｎ−５ｂ、Ｍ
ｎ−Ａｎ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ　−Ｎｉ−Ｃｒｊの
ような耐性合金を挙げることができる。

従来、強磁性粉末としては１例えば、γ−Ｆｅ２０３　
、Ｃｏ含有７−ＦＩ１１２０３、Ｆｅ３Ｏ４，Ｃｏ含右
Ｆｅ３０４　、ＣｒＯ２等がよく使用されていたが、こ
れら強磁性粉末の保持力および最大残留磁束密度等の磁
気特性は、高感度高密度記録用としては不十分であり、
約ｌ終ｍ以下の記録波長の短い信号や、トラック１１１
の狭い磁気記録にはあまり適していない。

未発明において、特に好ましい磁性層としての強磁性金
属薄膜層は、Ｃｏを主成分とし、これに０を含み、さら
に必要に応じＮｉ１３よび／またはＣｒが含有される組
成を有する。

すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよ＜、ＣｏとＮｉからなってもよい、　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ／Ｎｉの重♀比は、１．５以上であるこ
とが好ましい。

さらに１強磁性金ｍｌＪ膜層中には、Ｃｒが含有されて
いてもよい。

Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向にし、さらに膜強度も向」−する。

このような場合、Ｃｒ／ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎ
ｉ）の’Ｔ％　’　：１’＋比は０．００１〜０．１．
より好ましくは０．００５〜０．０５であることが好ま
しい。

さらに１強磁性金属６Ｍ膜中にはＯが含有されるもので
ある。

強磁性金属Ｎ！脱膜中モ均酸素量は、原子比、特にＯ／
（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５以下、よ
り好ましくは０．０５〜０．５であることが好ましい。

この場合１強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している。

すなわち２表面部、特に表面から５０〜５００人、より
好ましくは５０〜２００人の厚さの範囲には、オージェ
分光分析により、酸化物を示すピークが認められるもの
である。　そして、この酸化物層の酸素含有量は、原子
比で０．５〜１０程瓜である。

なお、このような強磁性金属薄膜中には。

さらに他の微量成分１特に遷移元Ｊ　、例えばＦｅ、Ｍ
ｎ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ。

Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれてい
てもよい。

このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様において
、上記したＣｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。

この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、０．０５〜０．
５８Ｌｍ、好ましくは、０．０７〜０・３棒ｍとされる
。

そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は。

１５体の主面の法線に対して、１０〜７０’″の範囲に
て傾斜していることが好ましい。

なお、酸素は１表面部の柱状の結晶粒の表面に＋ｉｉｊ
記のとおり化合物の形で存在するものである。

また１強磁性金属＋＋１１Ｆ２肝のｍ素の漕度勾配の何
如には特に制限はない。

また、結晶粒の短径は、５０〜５００人程度の長さをも
つことが好ましい。

また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属薄膜層を介在させて
もよい。

このような強磁性金属薄膜層を形成する基板は、非磁性
のものでありさえすれば特に制限はないが、ポリエステ
ル、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポ
リエチレンナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリ
スチルがあるが、特にポリエステル、ポリイミド等の樹
脂製のものであることが好ましい。

このように構成される本発明の磁気記録媒体の基体上に
は、微粒子が配設され、媒体の表面には、微細な突起が
存在することになる。

配設される挙才々子は、５０〜１０００人、より＆Ｉま
しくは８０〜５００人のＦ均粒径を有するものである。

すなわち、媒体表面の突起は、微粒子径に対応し、光学
１１１１鑑鏡でＩｌｌ察でき、かつ触針型表面粗さ計で
測定できるものではなく、走査型電子顕微鏡にてａ察で
きる程度のものである。

＋ｉ均粒径が１ｏｏｏ人をこえ、光学顕微鏡にて＋Ｂｌ
察できるものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安
定性の低下をもたらす、　ｆ均粒径は、さらに好ましく
は５００λ以下、特に３００人である。

また、５０人未満となると、物性の向上、走行性の改良
の実効がない。

このような微粒子は、磁気ヘッドの摺動方向において、
０．４〜２牌膳の周期となるようにＯｉ密に配設される
。

この場合、周期とは、最も布な部分または最も疎な部分
から次の最も密な部分または最も疎な部分までの平均距
離をいい、電子顕全鏡にて観察できるものである。

そして、このような疎密周期がないもの、あるいはこの
ような範囲外の疎密周期をもつものでは、自己クリーニ
ング作用をもたず、特に低１易でのヘッド目づまり、ヘ
ンＦ付７ｆがきわめて大きくなってしまう。

このような場合、配置１νされた微粒子の疎な部分の密
度０個／ｌ１ｍ２）は、密な部分の密度（個／譚、ｚ　
）の０．０１〜０．６、より好ましくは０．０３〜０．
５であることが好ましい。

この比が０６より大となると疎花効果がなくなり、ヘッ
ドへの当たりが一様となるため、疎密のないものと同じ
ようにヘッドへの密着性がよすごて低温多湿下でヘッド
１１づまり、ヘッド付着が増大する。

また、０．０１末膚では、疎密効果の作用がなくなり、
ヘッドへの自己クリーニング作用が減り、目づまり、走
行ストップを発生しゃすい。

このような場合、疎な部分および密な部分の密度は、最
も疎および密な部分の０．５易ｍ２〜ｌ　ｍｓ２程度の
面請にて、電子顕微鏡視野下にて算出すればよい。

なお、このような＠布状！きは、少なくともヘッド１ｍ
動方向（テープではテープ長手方向）に存在すればよい
。

すなわち、ヘッド摺動方向と直角な方向には、存在して
も存在しなくてもよいが、ｎ常は存在させない、　通常
は、一方向のみに疎密状ｙＥ、が存在する。

また、上記の範囲の周期は、ヘッド摺動方向に実現すれ
ばよいものであって、疎密の゛連続方向は必ずしもヘッ
ド摺動方向と一致していなくともよい。

さらに１本発明においては、配設された微粒子の密な部
分は、線状体ないしその集合体をなす。

この場合、線状体は通常　１合体をなし、集合体が密部
を形成する。

そして、線状体は、一般に、長さ０．５−ｍ〜８ｍｍ、
より好ましくは２〜８ｍｍ、巾０．０５〜２ｋｍ、より
好ましくは０．１−１．５４ｍをなすことが好ましい。

また、線状体は、直線ないし波線状をなすことが好まし
い、　波線状をなす場合、長さ方向に対する波線の！Ｉ
ｌｌは０．１〜２μｍ程度が好ましい。

さらに、各線状体は、０．１〜４Ｂｍ程度の間隙をもっ
て集合していることが好ましい。

さらに好ましいのは０４〜２μｍである。

また、各線状体は、全く無秩序に配列してもよいが、１
いにへｙＦ’１１！ｆｆ効方向に対し、上方向ほぼ平行
が、はぼ直角に配向していることが好ましい。

このように、線状体ないしその集合体として密部を形成
することによって、疎密状態が再現性よく製造でき、ま
た製造が容易である他、自己クリー二／グ効果はより良
好となり、そのため、低温多湿ドでの、特にヘッド付着
やヘッド目づまりがより一層誠少する。

なお、各線状体が、ヘッド摺動方向に対し、はぼ直角に
配向している場合の方がさらに好ましい。

これは、テープの走行方向に対し直角方向に配向してい
るため１周期的にヘッドに当たり、へｙＦへの自己クリ
ーニング作用が強調され。

ヘッドの付着物を防１卜するためと思われる。

このような場合、微粒子の平均配設密度は、ｌＯＳ個／
−句２以七、より好ましくは２ＸｔＯａ〜１０９個／ｒ
ａ■２であることが好ましい、？Ｆ、度が１０５個／ｍ
ｓ２．より好ましくは２ＸＩＯ”個／層■２未満となる
と、ノイズが増大し、スチル特性が低下し、ヘッドの目
づまりが多発する等物性の低下をきたし、実用に耐えな
い。

また、１０９個／−ｍ２をこえると、物性上の効果が少
なくなってしまう。

なお、平均配設重度は、通常０．５易ｍ２〜ｌ−■２程
度の視野下、２点以上の平均値とする。

また、このような微粒子配設にともなう媒体表面に形成
される突起の高さは２０〜５００人、４￥に５０〜３０
０人程；艶とされる。

このような疎密状態にて微粒子を配設するには、以ドの
ようにすればよい。

（１）可とう性ｌ、（板製造［程において、）ふ板を所
定の抗張力で引っ張り処理等の特殊な処理をすることに
より、０．２〜１０．層程度の間隔で変形させる。　た
とえば、波状に変形させることができる。

この変形は変形力と変形方向により、ｖｋに微粒子塗布
により所定の疎密周期をうろことができるように選択す
る。

そして、変形は、ＲＭ　Ｓ　（Ａで０．０１〜０．１糾
■程度とする。

このような変形基板Ｅ１．：微粒子を塗設すれＩｆ　、
通常微粒子は四部に密に配設される。

（２）　Ｈｒとう性基板の表面は可とう性基板の表面よ
り荒れているので、所定の荒れを持ったものを選択して
、この基板の裏面を磁性層形成面として用いる。　荒れ
はＲＭＳ値で０．０３〜０．２絡Ｉ程度とする。

そして、ＷＩ粒子塗設により、凹部に密な部分ができる
。

（３）　１１ｒとう性ノ、（板を急徴に乾燥させ、乾燥
温度を制御することにより所定の変形をうる。

変形量は上記と同程度とする。

（４）ぬれの悪いポリマー等を■［とう性基板上に塗布
し、所定の凹凸をうる。

（５）ぬれの悪いポリマー等を可とう性基板上に塗布し
、さらにその上にぬれの良いポリマー等を多層に塗布す
ることにより所定の凹凸をうる。

このようにして、所定の線状の凸部を有するＩｌｌとう
性基板上に、さらに、微粒子の下塗り層を配設すればよ
い、　全粒子径は５０〜ｔｏｏｏ人、特に８０〜５００
人とすればよく、これにより、微粒子と対応した微細突
起が形成される。

用いる微粒子としては１通常、コロイド粒子として知ら
れているものであって１例えば、５ｉＯｚ（コロイダル
シリカ）、Ａ愛２０３（アルミナゾル）、Ｃｒ２Ｏ３，
Ｙ２Ｏ３゜ＣｅＯ２、ＭｇＯ１Ｔ＋０２．５ｎ０２．５
　１）２　０５　　、　　ＺｎＯ，Ｆｅ２　０３　　。

Ｆｅ３Ｏ４，ジルコニア、ＺｒＳｉＯ４、ＣｄＯ、Ｎ　
　ｉｏ、　ＣａＷＯｓ　　、　ＣａＣＯ３。

ＢａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、ＢａＴｉＯ３。

Ｔｉ（チタンブラック）、Ａｕ、、Ａｇ、Ｃｕ。

Ｎｉ、Ｆｅ、各種ヒドロシルや、樹ＩＦ微粒子等が使用
可能である。　この場合、特に無機物質を用いるのが好
ましい。

これらの微粒子顔料は１例えば５ｉ０２の場合。

１）無水珪酸のａ璧粒子コロイド溶液（スノーテ、クス
、水系、メタノールシリカツル、ロイ化学） ２）精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造されるＭＵ微
粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、ｌ
−１本７エロジル株式会社） などが挙げられる。

また、ｉｒＩ記ｌ）の超微粒子コロイド溶液、および２
）と同様の気相法で製Ｗされる超微粒子状の酸化アルミ
ニウム、ならびに酸化チタンおよび前述微粒子顔料が使
用され得る。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板トに塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを９
！布、乾燥してもよい。

また、これら微粒子にもとづく微細突起にｔ畳してゆる
やかな突起を設けることもできる。

公お　Ｊ、Ｕルと強ｒＧ性金１．ルｊす■り層との間に
は。

必・及にＩ４１．じ　各種１４層を介７量させることも
できる。

微粒子を配設するだめのド４層には／ヘイングー分が含
有することが好ましい。

また、前記のとおり、微粒子配設前にノ、（板に凹凸を
つけるためのド塗層を形成する場合もある。

このような場合、特に　放射線に感応する二重結合を１
分Ｆ中に少なくとも２個イ１する化合物がド塗り層に含
有され、放射線照射により下塗り層に架橋構造が形成さ
れている場合が好ましい。

放射繰り心性の二重結合を２個以上イｆしているから、
放射線！に（射によって、その化合物自体から若しくは
併用した鵡ｎｆ　Ｗ！性化合物等から生じるＩＥ雛生成
物のうち、Ｆに＆ｊｌラジカルが開始種となって」、２
化合物の二重結合に作用し。

いわ°ゆるラジカル東金反応を引起こして複雑な、１１
４目状の三次元素ＨＪＭ　造が形成される。　この架橋
構造によってド塗り層の耐溶剤性が向１；し、粘ｒ１性
が低ドする上に、架Ｍ５構造中に併用したハ１−１塑性
樹脂等が包含された状態で硬化するために層間粘着等の
問題が生じない、　　しかもこの場合、下塗り後に直ち
に放射線照射で架橋を導入できるから、巻取り状の層間
粘着や熱による変形を一切防１１−できる。

このような化合物としては、二重結合数が２以１１、望
ましくは３以」二の反応性アクリルオリゴマー又はオリ
ゴ７クリレートが望ましい。

このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例えば
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとしては
、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリメタク
リレート類（ここで「ポリＪとはジアクリレート以上を
指す、）かある。

多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレンオキサイド、ポリブチレフオキサイド、ポ
リシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイド
、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、ポ
リオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキサ
７７オール、キノリレンンオール、ジー（β−ヒトロキ
／エトキン）ヘンセノ、グリセリン。

ジグリセリ／、ネオペ／サルキリコール、トリメチロー
ルプロパン、トリメチロールプロパン　ペ／タエリスリ
トール、ジペ／タエリスリトール、ソルビタン、ソルビ
トール、ブタンジオール、ブタントリオール、２−ブテ
ン−１゜４−ジオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−
プロパツノ十−ル、２−ブチン−１，４−ジ十−ル、３
−クロル−１，２−プロパノジオール　１．４−７クロ
ヘキサ７ノメタノール、３−ノグロヘキセ／−１，１−
ノメタノール、デカリ／ノオール、２．３−ジブニム−
２−ブチ７−１．４−ジオール、２．２−ジエチル−１
，３プロパンジオール　１，５−ジヒドロキノー１．２
．３．４−テトラヒドロナフタレ／、２，５−ジメチル
−２，５−ヘキサンジオール　２．２−ジメチル−１，
３−プロパノジオール、２．２−ジフェニル−１，３−
プロパノジオール、ドデカンジオール、メゾエリスリト
ール、２−エチル−１，３−ヘキサノン　。

オール、２−エチル−２−（ヒドロキシメチル）−１，
３−プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−１，
３−プロパンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジ
オール、３−へ羊センー２．５−ジオール、ヒドロキシ
ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール
、２−メチル−１，４−ブタンジオール、シーメチル−
２，４−ペノタ／ノオール、ノナノン′オール、オクタ
ンジオール、ペノタンジオール、ｌ−フェニル−１，２
−二７タンノオール、プロパノジオール、２．２，４．
４−テトラメチル−１，３−ンクロブタ７ノオール。

２．３．５．６−チトラメチルーＰ−キシレノ−α、α
′−フォール。１．１．，４．４−テトラフェニル−１
，４−ブタノジオール、１゜１．４．４−テトラフェニ
ル−２−ブチン−１，４−ジオール、１．２．６−）リ
ヒドロキ７ヘキサ７．１．１′　−ピー２−ナフトール
。

７ヒトロキノナフタレ／、１．１′　−メチレンノー２
−ナフトール、１，２．４−へ７ゼ／トリオール、ビフ
ェノール。２．２’−ビス（４−ヒドロキンフェニル）
ブタン、１．１−ヒス（４−ヒドロキンフェニル）ノク
ロヘキサン、ヒス（ヒドロキンフェニル）メタン、カテ
コール、４−クロルレゾルンノール、３．４−ジヒＩ・
ロキノハイトロシンナミックアノント、ハイドロキノン
、ヒトロキ／ヘン・／ルアルコール、メチルハイドロキ
ノン、メチル−２，４，６−ドリヒトロキシヘンンエー
ト、フロログルシ・ノール、ヒロ力ロール、シンツレ／
ノール、グルコース　α−（１−アミノエチル）−Ｐ−
ヒドロキノへ／ジルアルコール、２−アミノ−２−エチ
ル−１，３−プロパツノオール、２−アミノ−２−メチ
ル−１，３−プロパノジオール。

３−７ミノー１．２−プロパツノオール、Ｎ−（３−ア
ミノプロピル）−ジェタノールアミン、Ｎ、Ｎ′−ビス
−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ／、２，２−ヒス
（ヒドロキシメチル）、２．２’、２”−二トリロトリ
エタノール、２．２−ヒス（ヒドロキノメチル）プロピ
オニツクアンント、１．３−ビス（ヒドロキンメチル）
ウレア、１．２−ビス（４−ピリシル）−１，２−エタ
ンジオール、Ｎ−ｎ−ブチル／エタノールアミノ、ンエ
タノールアミノ、Ｎ−エチルジェタノールアミン１３−
メルカプ）−１，２−プロパンジオール、′１３−ピペ
リ／ノー１．２−プロパノジオール、２−（２−ビリジ
ル）−１，３−プロパンジオール、トリエタノールアミ
ン、α−（１−７ミノエチル）−ｐ−ヒドロキンベンジ
ルアルコール、３−アミノ−４−ヒドロキンフェニル、
スルホンなとがある。

これらのアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステ
ル類のうち好ましいものは、その人「の容易さから、エ
チレン／メタクリレート１エチレングリコールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ７クリレート
　グリセリントリアクリレート、ジグリセリ／ジメタク
リレート、１゜３−プロパ／ジオールアクリレート、１
．２゜４　−　７リ　　ノ　　ト　　リ　　オ　−　ル
　　ト　　リ　　メ　　タ　り　　リ　　し　−　　ト
　、１．４−７クロヘキサンジオールノアクリレート　
１．５−ベンタンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート。

エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパノの
トリアクリル酎エステル等である。

またアクリル系化合物として使用１１ｆ能なアクリルア
ミド類及びメタクリルアミド類としては、メチレンヒス
アクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほが
、エチレノジアミ７　ジアミノプロパン、ジアミノブタ
ン、ペンタメチレンジアミ７、ヘキサメチレン、ビス（
２−アミノプロピル）アミン、ノエチレントリアミンジ
アミノ、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジア
ミン、異種原子により中断されたポリアミン、環を有す
るポリアミン〔例えばフェニレンンアミ／、キノリレン
ジアミン、β−（４−７ミノフエニル）エチルアミン、
ジアミノヘンンイックアシー、ト、ジアミノミルエン、
ジアミノアントラキノ／、ノアミノフルオレンなと〕の
ポリアクリルアミド及びポリアクリルアミドがある。

また、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルア
ミド）エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ヒス（β−メタク
リロキノエチル）アクリルアニド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なったイ１加モ合性不飽和結合を２つ
以上有する化合物も下塗り層用のアクリル系化合物とし
て好適である。

更に、アクリル系化合物として使用１１丁能なものとし
て、トリメチロールプロパノモノアクリレートとヘキサ
ンジオールとアジピン酸との反１心によって（１；られ
る各挿千合度のポリエステル強屯合体がある。　この場
合、トリメチロールプロパ／モノアクリレートに換えて
、べ７タエリスリトール等の脂肪族ポリオールのジアク
リレートや、脂環式ジグリノジルエーテルのシアグリレ
ー）Ｔを使用してよい、　　またヘキサン７オールに換
えて、エチレングリコール、プロピレングリコール、１
．３−プロパノジオール、１．４−ブタ７ノオール、１
．５−ペンタ／ンオール、ネオペンチルグリコール、ジ
エチレングリコール、ンブロピレノグリコール、２．２
．４−１リメチル−１，３−ぺ７タンン十−ル、１．４
−’／クロヘキサンジメタツール、ビスフェノールＡの
エチレノオキッド付加物及びプロビレ／オキノド付加物
、水素化ビスフェ／　−ＪＬ／　Ａ　Ｏ’）エチレンオ
キノド付加物及ヒフロピレンオキント付加物、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテ±
ラメチレングリコール等を使用してよい、　　トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロＩくノ、グリセリノ
、ペノタエリスリトール等のトリ及びテトラオールを少
ら１併用してよい、　史にアジピン酸に換えて、テレフ
タル酸、イソフタル耐、オルソフタル酸、１．５−ナフ
タル酸等の刀香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安、８．香
耐、Ｐ−（ヒトロキンエトキ／）安、ｅ、香酸等の）１
香族オキシカルボン酸；コハク酸、アゼライ７酸、セパ
ンン酎、ドデカンジカルボン醇等の脂肪族ジカルボン酸
等を使用してよい、　この場合、刀香族カルボン酸と脂
肪族カルボン酸とを併用するときには、それらのモル比
は５０１５０−１ｏｏ１０であり、刀香族カルボン酸の
少なくとも３０モル％がテレフタル酸であることが望ま
しい、　　トリメリント酸、トリメ／／耐、ピロメリッ
ト酸等のトリ及びテトラカルボ／酸を少１ｉ）併用して
よい、　なおアジピン酸等の酸成分はトリレンジイソシ
アネート等の芳香ｈシ又は１旧肋旌のジイソシアネート
と置換えてポリウレタンとしてもよい、　また上記アク
リレートとポリオールとの割合は、モル比で、アクリレ
ートがモノアクリレートの場合は８０／２０−１０／９
０．７クリレートがジアクリレートの場合は４０／６０
〜５／９５であるのが望ましい。

これらの放射線感応性化合物は、Ａ体的には、〔軟性及
び接着性向。１．のためにポリウレタン、ポリエステル
、ゴＬ、系（例えばＡＢ）等の熱可・ワ１性樹脂と況合
されて使用されてよい、　このＱ　１１（塑性樹脂はア
クリル変性（三七結合が４人）されていてもよいし、そ
うでなくてもよい、　また、」記数射線感応性化合物の
うち、ｆ、ｎ　性水Ｊ基（例えば、−ＯＨ，−ＣＯＯＨ
。

−ＮＨ２）を有するものは、官能ノ、（のある悲Ｉｆｆ
・γ！１性樹１１Ｈ例工ｌｆ、末端＜−０ＣＮ、−ＯＨ
”ｐを右するポリウレタン×は末端に−ＯＨを有するポ
リエステル又はアクリロニトリル−ブタジェノ系ポリマ
ーと反応させ、この反応生成物を使用してよい、　この
反応生成物は磁性塗料中にそのま一添加するが、或いは
１−記反応前に両成分を磁性Ｑ本１に添加してから塗布
し、１：、記反応とラジカル手合反応とを同時に行なう
ことができる。

ト塗り層で使用する放射線感応性化合物は、１述のアク
リル系化合物、または上記反応生成物であってよいが、
いずれの場合もアクリ７１／　＋？−、ｒｒｒ、＆’ｉ
合１　個”＋　ｉＪ　（ｒ）分子　早ハ２００〜２０．
０００であるのが望ましい、　即　ち　、分（、：、！
が２００未満であると、架橋反応の進行が速くなりすぎ
て硬くて脆い塗膜となり、接！１等の面で問題がある。

　また１分子帽が２０、ＱＯＯを越えると、三次元網目
構ツを充分に成長させ惰くなる。

ド４り層にＩＫ（射する１−建の放射線としては電ｒ−
線、中性子線、γ線等の電離性放射線を使用し、そ〕照
射早はｌ　−１０Ｍ　ｒ　ａ　ｄがよく、１〜７　Ｍ　
ｒ　ａ　ｄがより望ましく、またその！に！射エネルギ
ー（加速電圧）は１００ｋｖ以トとするのがよい、　こ
の照射４）は上述のラジカル反応を引起こすに（分なも
のである。

このド塗り層に対する放射線の照射処理は、Ｑ　／ｉｆ
・乾燥後に巻取る以前に行なうのが望ましいか１巻取り
後に行なってもよい。

さらに、珪体的には、 ト塗り層が、１分子中に（メタ）アクリロイル）５を２
情景り右し、（メタ）アクリロイル基１個当りの分子が
２００以上であるオリゴマーもしくはポリで−の１種も
しくは２種以ヒ、さらに必要に応してＨ剤もしくは九屯
合開始剤を含イ１する放射線硬化性ＮＰ料を用い、放射
線照射により形成されてなることが好ましい。

このため、ラジカル屯合により、三次元網目構、きを右
する塗膜を形成し、磁性層の塗布時に、Ｎ剤による膨張
を起こすことなく、磁性層の−ｆＬｍ性を保Ｊｙできる
。

また１分子−）が２００以１−であるオリゴマーもしく
はポリマーの・種もしくは′、杼以に有するので、架橋
硬化反応時に大きな体積収縮がなで、基板のカールがな
く、１法安定性がよく。

接着性がよい、　乾燥硬化時のノｈ発飛散もない。

化合物の例としては、 ■　インシアネート基と反応性を有する基を有する（メ
タ）アクリルエステルＱ！ｊ１体とポリイソシアネート
化合物との反応／Ｅａ物２モル以１と、分子中に２個以
上の水Ｉ＋＃基を有する化合物１モルとの反応生成物あ
るいはこれ等３者の反応性を変えて得られた反応生成物
。

例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイドを
付加した二官能性のポリエーテル（アテ力ホリエーテル
Ｐ−１０００旭電化ン１．、Ｗ）１モルにトルエンジイ
ソシアネート２モルを反応させ、その１＆２モルの２−
ヒドロキシエチルメタクリレートを反応させ得た分子末
端にアクリル系二屯結合を２個有する樹脂、フレポリマ
ー、オリゴマーもしくはテロマーを挙げることができる
。

ここで、使用される水酸基を１個以上含右する化合物と
しては、７デカポリエーテルＰ−７００，７デカポリエ
ーテルＰ−１０００，７デカポリエーテルＧ−１５００
（以１旭電化社製）、ポリメグ１０００．ポリメグ６５
０（以１−クオーカー・コーラ社製）等の多官能性ポリ
エーテル類；ニトロセルローズ、アセチルセルローズ、
エチルセルローズの様なｍ　Ｍ　未誘導体：ヒニライ）
ＶＡＧＨ（米国ユニオンカーバイド社製）の様な水酸ノ
、（を有する一部ケン化された塩化ビニル−酢酸ビニル
共刊合体：ポリビニルアルコール：ボリビニルホルマー
ル：ポリビニルプチラール；ポリカプロラクトンＰＣＰ
−０２００，ポリカプロラクトンＰｃＰ−０２４０、ポ
リカプロラクトンｐｃｐ−０３００（以しチッソ社製）
等の多官能性ポリエステルポリオール類；フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、コハク酸、セ
パチン醜のような飽和多塩ノ＾酸とエチレングリコール
、ジエチレングリコール、１．４−ブタンジオール、ｌ
、３−ブタンジオール、１．２−７’ロビレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、１．６−へ＋ｔノングリ
コール。オペンチルグリコール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリットのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂；水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタ
クリルエステルを少なくとも一種以上・不合成分として
含むアクリル系重合体を挙げることができる。

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、２．４−）ルエンジイソ／アネー）、２．６−）
ルエンジインシアＡ−）、１．４−＄シレンジイソシア
ネート、ｍ−フェニレ７ジイソ／アネート、ｐ−フェニ
レ７ノイソンアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、インオロンジイソシアネートやデスモジュールし、
デスモジュールＩＬ（西ドイツ　バイエル社製）等があ
る。

インシアネート基と反応する基および放射線硬化性不飽
和三七結合を有する単夛体としては、アクリル酸あるい
はメタクリル酸の２−ヒドロキノエチルエステル、２−
ヒドロキンプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチル
エステルＴ水酸基を４１するエステル類ニアクリルアマ
イド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルア
マイド等のインシアネートノ、（と反ｊ４１．する活？
１木、もを持ちかつアクリル系−子結合を含右する単ｊ
一体、更に、アリルアルコール、マレイン酸多価アルコ
ールエステル化合物、不飽和三七結合を右する長２ＣＪ
　１ｌｌｉ肋酸のモノあるいはジグリセリド等イソンア
ネートノ、（と反応する活性水素をＩｖちかつ放射線硬
化性を有する不飽和三七結合を含有する中１５体も含ま
れる。

１１　　分−ｒ中にエポキシ基を２個以上含む化合物１
分子−と　エボキシノ、（と反応する基および主１線硬
化性不飽和三七結合を右する巾φ体２分エリりとの反応
物１例えば、クリシジルメタクリルレートをラジカル千
金させて得たエボキン基を含ず（する熱１１ｆ塑性樹脂
にアクリル酸を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基
、ビの開環反応により、分子−中にアクリル系二手結合
をベンタクトさせた樹脂、プレポリマーもしくはオリゴ
マーを挙げることができる。

ここで分子−中にエポキシ樹脂を２ｍ以り含む化合物と
しては、グリノンルアクリレート、グリシジルメタクリ
レートの如きエポキシノ、（を含むアクリルエステルあ
るいはメタクリルエステルのホモポリマーあるいは他の
用台性モノマーとの共用合体；エヒコート８２８゜エビ
：Ｉ−）ｆＯＱｌ、エヒコー臼００７゜エピコート１０
０９（以！；シェル化学社製）等その他種々のタイプの
エポキシ樹脂等がある。

エポキシス（と反応する）＾および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリ
ル酸等のカルボキシルノ＆を含有するアクリル糸車１を
体、メチルアミノエチル７クリレート、メチルアミノメ
タクリレート等の′：ｊＳ１級もしくは第２級アミン基
をイ１するアクリル単量体等が使用できる。

■　分子中にカルボキシルノ＾を１個以上含む化合物１
分子とカルボキシルｌ、（と反応する基お゛よび放射線
硬化性不飽和二重結合を有する単ｒｌｉ体１分エリにと
の反Ｉ心物１例えばメタクリル酸を溶液手合させて得た
カルボキシル基を含右するＱ　ｕ丁・塑性樹脂にグリシ
ジルメタクリレートを反応させ、第１Ｔ項と同様にカル
ボキシル路とエポキシ基の開環反応により分子中にアク
リル系−子結合を導入させた樹脂、プレポリマー　オリ
ゴマーを挙げることができる。

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
１分子鎖中または分子末端に力ルポキシルノ、（を含む
ポリエステル類ニアクリル酸、メタクリル酸１％水マレ
イ／酸、フマル酸等のランカル屯合性を持ち、かつカル
ボキシルＪ、Ｃをイｊする単量体のホモポリマーあるい
は他の重合性モノマーとの〕（Ｉｒｒ合体等である。

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはグリンジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等がある。

必・変に応じ、非反応性溶剤が使用される。

溶剤としては特に剥離はないが、バインダーの溶解性お
よび相浴性等を考慮して適宜選択される。　例えば、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘギサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酩酊エ
チル、１Ｉｉｌ酸ブチル等のエステル類、メタノール、
エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアルコ
ール類、トルエン、キンレン、エチルベンゼン等の芳香
族炭化水素類。

イソプロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等
のエーテル類、テトラヒドロフラノ、フルフラール等の
フラン類等を巾−溶剤またはこれらの混合溶剤として用
いられる。

（全１１１１ニオイテ、１６　Ｆ１層Ｇ７）　形＋Ａ、
ハ；ｔ　’；−＋　；Ｋ　Ｉｒ　。

スバ、タリノグ、イオ／ブレーティ／グ、上気イノキ　
儒屯吊゛メンキ等を用いることもできるか　いわゆる斜
め１Ａ着法によって形成されることが好ましい。

この場合、ノ、（体法線に対する、）Ｎ着物質の入射（
６のｈ４小値は、２０°以上とすることが好ましい。

入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下する
。

なお　基７？雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム　！
’！；　９′、−等の不活性雰囲気に、酸素カスを含む
雰囲気とし、　　ｌ　Ｏ’−１０”　Ｐ　ａＪ’Ｉ！度
の圧力とし、また、）入着距離、２Ｊ、（体搬送方向、
キャノやマスクの構ご、配；＋Ｔ等は公知の条件と同様
にす机ばよい。

そして　耐２番、雰囲気での）入着により１表面に７計
屈酸化物の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形
成される＃稟ガス分圧は、実験から容易に求めることか
でさる。

な、ｔ−；　　表面に金１．・ル醇化物の被設を形成す
るには　３種酸化処理が１１能である。

１丙川できる酸化処理としてはト記のようなものがある
。

ｌ）乾式処理 ａ、エネルキー紋ｒ処理 特願昭５８−７６６４０号に記載したように、ノ入ノ１
の後１す１に、イオンカンや中性ガンにより＃素をエネ
ルギー粒子として磁性層にさしむけるもの。

ｂ　グロー処理 ０２　、Ｎ２０，０２　＋Ｈ２ｏ１とＡｒ。

Ｎ２”９の不活性ガスとを用い、これをグローノ々’、
１？　してプラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性
膜表面をさらすもの。

Ｃ８酸化性ガス オンン　加熱水ノＮ気等の酸化性ガスを吹５つけるもの
。

ｄ　加熱処理 加熱によって酸化を行うもの、　加熱温度は６０−１５
０　”ｃＪＩ＋！＋＝。

２）湿式処理 ａ　陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ酸処理 ク用ム。酊用処理　Ｉラブンカ／耐用処理。

す／耐！其処理等を用いる。

ｄ　Ｍ止剤処理 Ｈ２Ｏ２笠を用いる。

このような磁＋＋１層１．には、１疋のイ１機物上ップ
コート層が設けられる。

未発１１１１のトップコート層は、酸化防１１−剤を含
有するものである含有することが好ましい。

本発明で用いられる酸化防１１剤は金属の酸化を防１１
−するものであれば　いずれのものでも良い。

本発明で用いられる酸化防１１削としては、ｄ’、ｉｌ
の酸化防１Ｆ剤が用いられ、これらは、ｌ）フェノール
系酸化防１ト剤 ２）アミン系酸化防１Ｆ剤。

３）リン系醇化防１Ｆ剤。

４）硫にり系酸化防１ト剤。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防１Ｆ剤、 ６）キノノ系酸化防１１−作１゜ ７）需機酸１隻磯ｍ系酸化防ｌ］−剤のように構造的に
、ｕ　Ｗｌ＋される。

）記、各種酊化防１ト剤の共体例を挙げると、 ｌ）フェノール系酸化防１１・剤としては、２．６−ジ
ー第三ブチル−ｐ−ブレソール。

２．６−ジー第三ブチル−フェノール ２．４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フェノール、ブ
チルヒドロキシアニソール、２．２′−メチレンヒス（
４−メチル−６−第三ブチル２工二ノール’）、４．４
′　−ブチリデンヒス（３−メチル−６−第ゴブチルフ
ェノール）。

４．４′−チオビス（３−メチル−６＝第三ブチルフエ
ノール）、テトラキス〔メチレン−３（３，５−ンー第
三ブチルー４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート〕
　メタン、１，１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ジブチルヒ
トフキ／トルエン　没食子酸プロピル、グアヤクロｈ、
ノルンヒトログアヤレチン酸笠がある。

放Ｑｔ　ｉＱ　Ｉ＋化型としては、モノグリコールサリ
チレート、２．５−シ第三ブナルハイトロキノン、２．
４−ンヒトロキシヘ／ソフェノン。

２．４．５−）リヒトロキンプチロフェ７ノ。

ハイドロキノン等のメタクリレート、アクリレートタイ
プが挙げられる。

２）アミ／系酸化防１Ｆ剤としては、フェニル−β−ナ
フチルアミン、α−ナフチルアミン１Ｎ、Ｎ′−ノー第
ニブチルーＰ−フェニレンジアミ／、フェノチアソン、
Ｎ、Ｎ’　−ジフェニル−ρ−フェニレ７ノアミ／の他
、アルカノールアミン、リノ脂質等が挙げられる。

アミ／系においても、放射線硬化型として、ツメチルア
ミノエチルメタクリレート、アクリレート等の放射線硬
化可能のものがある。

３）リノ系酸化防；ト剤としては、 放射線硬化型あるいは放射線硬化型でないものが用いら
れ、リン酸エステル部分のＲとしてはアルキル基、アル
キルフェニル基、その他酸化エチレン、酸化プロピレン
を含有し、そのＲとしてＣが１〜２６が好ましく、さら
に好ましいのは１〜２２である。

リン酸エステルとしては、モノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。

また、リン酸エステルは、ＮＨ４タイプのものおよびメ
タクリレートタイプ、アクリレートタイプのものも含ま
れる。

１５体的にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデ
シルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウ
リルトリチオホスファイトτの亜リン酸エステルや、ヘ
キサメチルホスホリ、りｉ・リアミド、ブチルホスフェ
ート、セチルホスフェート、ブトキンエチルホスフェー
ト、２−エチルへキノルホスフェート、β−クロロエチ
ルホスフェート、ブトキシエチルホスフェートジエチル
アミン塩　ジ（２−エチルヘキノル）ホスフェート、エ
チレ／クリコールアノノドホスフェート、（２−ヒドロ
キシエチル）メダクリレー；・・ホスフェート　ブチル
ヒドロキンメタクリレート・ホスフェート、カブリルヒ
ト口キ７メタクリレート・ホスファイト　ニリスチルヒ
トロキンメタクリレート祷ホスフェート、スデアリルヒ
トロキンメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロ
キシメタクリレート・ホスフェート　ブチルフェニルヒ
トロキ・／メタクリレート・ホスフェート、アミルフェ
ニルヒドロキノメタクリレート・ホスフェート、ノニル
フェニルヒトウキ／メタクリレート・ホスフェート、お
よびこれらのアクリレートタイプ、フェニルホスフェー
ト、そノ他のアルコール、およびノニルフェニル等の７
エニルホスフエート、バナジウム系重性リン酸エステル
等のリン酸エステルが挙げられる。

４）硫め系酸化防ＩＦ、剤としては。

ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオノプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジプロビオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート　２−メルカプトへノンイ
ミグソール、ジラウリルサルファイドの他、４．４′　
−チオ−ビス（３−メチル−６−第三ブチル−フェノー
ル）、２．２′−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブ
チル−フェノール）等のメタクリレート、アクリレート
等の放射線硬化型が挙げられる。

また、これらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し
ていてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防１１別とし
ては。

ソルヒトール、グリセリン、プロピレングリコール、ア
ジピノ酸、クエン酸、アスコルビン酎等が挙げられ、こ
れらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノノ系酸化防１ト剤としては。

ヒドロキノ／、トコフェロール等カフ）　Ｑ　、　これ
らの中で放射線硬化型であってもよい。

７）隻は酸、慣機塩系酸化防ＩＥ剤としては、リン酸が
その代表例として挙げられる。

上記酸化性１１−Ｈの中でも１強磁性薄膜への裏型１転
写を抑えうるという点から１分子中にアクリル系二重結
合を右する放射１ａ硬化型のもの。

例えばモノグリコールサリチレートメタクリレート（ア
クリレート）、４−第三ブチルカテコールメタクリレー
ト（アクリレート）、ジメチル７ミノエチルメタクリレ
ート（アクリレート）、エチルヒドロキシメタクリレー
ト（７クリレート）ホスフェート、セチルヒドロキシホ
スフェートメタクリレート（アクリレート）。

ステアリルメタクリレート　（アクリレート）ホスフェ
ート、およびＬ記のもののフェニルタイプのもの、２．
２′チオ−ビス（４−メチル−６−第五ブチルーフェノ
ール）メタクリレート（アクリレート）等が好ましい。

リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特公昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。

放射１硬化型防１１剤では、強磁性薄膜へのオンライン
硬化ができるため、熟硬化蒔の巻きしまりによる裏型転
写による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がな
い。

強磁性ｆ１校上のトップコートは、後述のように１００
Å以下が好適であり、これ以上厚くすると電時の低下を
生じる。　また、あまり厚すぎるとトップコート層が削
れる。　このようなことは本発明においてはじめてｒ１
明したことである。　そして、放射１硬化型酸化防１ト
剤の使用により、ドロップアウトの防１ト、ロール状に
巻かれたときの内外系の個所による出力差の減少といっ
た特性上の効果の他、オンライン上での！ＩＪ　必がＢ
（能といった処理、Ｅの効果をもあげうるものである。

さらに、トップコート層には潤滑剤が含有されることが
好ましい。

本発明で用いられる潤滑剤としては、従来この種の磁気
記録媒体に用いられる潤滑剤として、シリコンオイル、
フッ素オイル、脂肪酸。

脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィ７、界面活
性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／または
脂肪酸エステルを用いるのがηｆましい。

脂１カ酸としては、カプリル酸、カプリン酸。

ラウリ／酸、ニリスチン酎、パルＳチン肩、ステアリン
附、ベヘン酸、オレイン耐、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等のｉによ数１２以上の脂
肪酸（ＲＣＯＯＨ。

ＲはＩＲ素数１１以」―のアルキルＪｇ）Ａ１？が使用
される。

１１ｆＩｌｌ＃酸エステルとしては、１に素数１２〜１
６個の−１１！基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価の
アルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数１７（２
１以上の一１１１基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計し
て、炭素数が２１〜２３個よりなる一価のアルコールと
からなる脂肪酸エステル等が使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。

アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フン
７Ｆ、とじては屯解Ｉ７Ｉ′ｌ換、テロメリゼーション
、オリゴメリゼーンヨン亨によってＩ７られるものが使
用される。

ａＦ１滑Ｎ１の中では、放射線硬化型のものも使用して
好都合である。

これらは強磁性ｆ％膜への裏型転写を抑えるため、ドロ
ップアウトの防１１．ロール状に巻かれたと、きの内外
径の個所よる出力差の減少の他、オンライン１−での製
造が可ず赴である等の利点を持つ。

ノ々射線硬化Ｍ’ｌ　ｆｉＦＩｍ剤としては、δ１性を
示す分子鎖とアクリル系二手結合とを分子中に右する化
合物５例えばアクリル酸エステル、メタクリル酎エステ
ル、ビニル酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、
ビニルアルコールエステル　メチルビニルアルコールエ
ステル、アリルアルコールエステル、グリセライド等が
ある。

これらのＩｌ￥Ｉ滑剤を構造式で表すと、（Ｈ２＝ＣＨ
−ＣＨ２Ｃ０ＯＲ。

ＣＨ２＝　ＣＨＣＯＮ　ＨＣＨ２０ＣＯＲ■ Ｃ８２０ＣＯＲ ＲＣＯＯＣＨ−ＣＨ２、 ＲｃｏｏｃＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２１がある。

ここで、Ｒは直鎖または分校状の飽和もしくは不飽和炭
化水、Ｌ基で、）ン素数は７以上、好ましくは１２以］
二２３以下であり、これらは７７未置換体とすることも
できる。

フッ５ぢｔ検体としては。

ＣｎＦ　　　−１ＣｎＦ２ｒｌ＋１（ＣＨ２）、−２ｎ
＋１ Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋Ｉｓ　０２　　Ｎ　ＣＨ２ＣＨ２−１
ＣｎＦｎＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−。

（、ｉ２．、Ｑ＋１）Ｉ（）＋２　Ｃ″２−等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の々「ましい具体例としては
、ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステ
アリルアルコールのメタクリレート　（アクリレート）
、グリセリンのメタクリレート　（アクリレート）、グ
リコールのメタクリレート　（アクリレート）、シリコ
ーンのメタグリレート　（アクリレート）等が挙げられ
る。

弾磁性薄１１９表面に、トップコート層を設ける方法と
しては、ｉｆＩ記添油添加剤剤で昂釈して。

弾磁性金属薄膜りに薄く塗４１シたり、添加剤を大気中
、不活性ガス中、あるいは真空中で気化せしめて、その
ノ入気を強磁性金属表面に当てるなどの［段があり、こ
れらを＾川することができる。

２ｂ　ｚ　＋ｎ＋のト・プコート層には　ポリマー等の
（１磯）・イ・リーテを含むことかできる。トップ′コ
ート屓・で用いるポリマーとしては従来、磁気記録媒体
用に利用されている執１１・ｑ！性、熱硬化性または反
ｊ心型樹脂や、これらの混合物が使用されるか　ｆ’）
られる塗膜強度等の４ｉから硬化望、特に放り＃線７便
化ηノの樹脂が＆ｆましい。

鵡１ｊ丁塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以ト、（
均分子；龜が１００００〜２０００００、＋会席が約２
００〜２０００稈ＩＷのもので、例えば重化ヒニルー耐
酸ヒニルＪ１、重合体（カルボ・・醇導人のものも含む
）１１！化ヒニル一酢酸ビニルーヒニルアルコールＪｔ
ｍ合体’：カルボン酸４人のものも含む）　、　Ｉｌｌ
化ヒニルー１１Ｊ化ヒニリデ７ノ（１七合体、Ｉ４４化
ヒニルー７クリロニトリルｊ（１毛合体、アクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル」（、重合体、アクリル耐エ
ステル＝鳩化ヒニリデンへ毛合体、アクリル酸エステル
−スチレン共重合体、メタクリル酊エステルーアクリロ
ニトリル」（・π合体、メタクリル酸エステル−塩化ヒ
ニリデ７　ｊｌ；、　、７（合体、メタクリル市エステ
ルースチレンｉ’、７＋合体、ウレタンエラストマー。

ナイロノーノリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリ７
ミＮ樹１１ｔｔ、ポリフッ化ヒニル、塩化ヒニリデンー
アクリロニトリルＪ％　Ｔ＜合体、ブタン二／−７クリ
ロニトリルノ（重合体、ポリアミド＋Ｈ１１旨、ポリヒ
′ニルブチラール 体（セルロースアセテート　セルロースグイアセテート
　セルロールトリアセテート、セルロースプロピオネー
ト、ニトロセルロースＴ）スチｔ／ノーブタジェン共千
合体、ポリエステルＴＨ　ｌｌｈ　　クロロヒニルエー
テルーアクリル耐エステルノ（重合体，アミノ樹脂，各
種の合成コム系のｆｈ　ｉｉｌ塑性樹脂およびこれらの
混合物が使用される。

？８硬化性樹脂または反応型樹脂としては，塗／Ｕ液の
状態では２０００００以丁の分子ＪＩシであり，塗布、
乾燥後に加熱することにより，縮合，付加等の反応によ
り分子ｒｉ）は声限大のものとなる．　また、これらの
樹脂のなかで１樹脂かへ分解するまでの間に軟化または
溶融しないものが奸ましい。

具体的には、例えばフェノール樹脂，エボキノ樹脂、ポ
リウレタン軟化型樹１１Ｍ　、尿ＡＪＪ４脂、メラミノ
樹脂、アルキッド樹脂、７リコノ樹１１ｔ−１　　アク
リル系反Ｉ５樹脂、エポキンーポリアミＩ・樹１１Ｈ　
　ニトロセルロースメラミノ樹脂，高分（、　；ｌ−ポ
リエステル樹脂とイソンアネートプレポリマーの混合物
，メタクリル酸１！共玉合体とジイソノアネートプレポ
リマーの混合物．ポリエステルポリオールとポリイソノ
アネートの混合物　原潜ホルムアルデヒド樹脂　低分子
量グリコール／．”’ｊ分子／オール／トリフェニルメ
タ／トリイソノアネートの混合物，ポリアミノ樹脂およ
びこれらの混合物である。

特にｂ（ましいものは　を銭．ｗ　、Ｅ樹脂（硝化綿Ｔ
）、＋ｊ４化ヒニルー配酎ビ耐ルーヒニルアルコールバ
千合体，ウレタンのＭ１合せからなる熱硬化性樹脂（硬
化剤使用）、あるいはｌｌ化ビニル−ｌｌｉ′Ｉ醇ヒニ
ルーヒニルアルコール共屯合体（カルボッ酸導入のもの
も含む）　またはアク　　。

１１ル変性用化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
Ｊ（重合体（カルボン酊導人のものも含も゛）およびウ
レタンアクリレートからなる放射線硬化系樹脂からなる
ものであり，放射線硬化−？・樹脂については前記の好
ましい組合わせの外に　ラジカル重合性をイ１する不飽
和丁ー屯結合を・１、すアクリル酸，メタクリル酸，あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合，ンアリルフタレートのようなアリル系二重も一合
、プレイ、７Ｍ，マレイ／酸．Ｊ　４体等の不飽↓１１
結合等の、放射線１慰射による架橋あるいは重合乾燥す
るノルをハ１１）塑性樹Ｉ旧の分子中に含イ１または４
人した樹脂等を用いることができる。

その他，使用ｏＴ　ｔｆｆ５な／ヘインター成分として
は，巾早体としてアクリル酸，メタクリル醜アクリルア
ミド等がある．　　７千結合のあるへイ〉′ダーとして
は．種々のポリエステル、ポリ十−ル，ポリウレタン等
をアクリル二重結合を（Ｉ干る化合物で変性することも
できる．　さらに　Ｍ−ａ　’こ１りして多（曲アルコ
ールと多（曲カルボ７・酸を配合することによって種）
／の分子　ｊ、ｉのものもできる。　放射線シ２・応樹
脂としてＬ記のものはその一部であり、これらは混合し
て用いることもできる。

未発’ｊｌ　）　ノブコート層で用いられる放射線硬化
型上ノで−　放射線１便化型オリゴブーおよび放射線硬
化型ポリマーとしては、イオン化エネルギーに感ニ、シ
　　ラジカル重合性を示す不飽和−子結合をイＩオアク
リル醜、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合
物のようなアクリ１し糸二ＩＴＸ結合　／アリルフタレ
ートのようなアリル系−子結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不幻和−干結合等の放射繰り射による架橋
あるいは千合乾炸するＪ５を分−ｆ中に含有または導入
したモノマー　オリゴブーおよびポリマー等を挙げるこ
とができる。

放射線硬化型上ツマ−としては　分子１１１２０００未
満の化合物が　オリゴマーとしては分子ｊ、）　２００
０〜１００００のものが用いられこれらはスチレン、エ
チルアクリレート、エトレフグリコール／アクリレート
　エチレングリコールジメタクリレート、ソエチレノグ
リコールノアクリレート、ノエチレノグリコールメ／Ｉ
／７リレート、ｌ、６−へ午サングリコールジアクリレ
ート、１．６−ヘキサンゲリコールジメタクリレート等
も挙げられるが、特に奸ましいものとしては、Ｎ〜ルビ
ニルピロリドンべ／タエリスリトールテトラアクリレー
ト　（メタクリレ−Ｉ・）　　ペンタエリスリトールア
クリレート　（メタクリレート）、トリメチロールプロ
パ７トリ７クリレート（メタクリレート）、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート（メタクリレート）　多官
能オリゴエステルアクリレート（アロニ、クスＭ−７１
００，Ｍ−５４００゜５５００．５７００等、東炬合成
）、ウレタンエラス！・マーにツボラン４０４０）のア
クリルσ性体、あるいはこれらのものに０００Ｈ等の官
能ノ、−が導入されたもの、フェノールエチレ／オキノ
トイ・１加物の７クリレート（メタクリレート）　　ド
記一般式で示されるペンタエリスリトール縮合環にアク
リル基（メタクリル基）またはε−カプロラクト７＝ア
クリルノ、ｌｉのついた化合物 １）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｈ２）コーＣＣＨ２０
Ｈ（特殊アクリレ−）Ａ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＨ２）３−ＣＣＩ（２
０Ｈ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨ０Ｃ（ＯＣ３Ｈｓ）ｎ−ＣＣ
Ｈ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレ−）Ｆ） 式中　ｍ＝１．ａ＝２、ｂ＝４（７）化合物（以ト　特
殊ぺ／タエリスリトール縮合物Ａという） ｍ＝１．ａ　＝３．ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール１１合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６．
ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ぺ／タエリスリトール棉合
物Ｃという）、ｍ＝２．ａ＝６．ｂ＝０の化合物（以下
、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）。

および下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げられる。

８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣ０Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、　　　　Ｘ：多価アルコールＹ、多用
、！Ｉｌ＃（特殊アクリレートＫ）また、放射線硬化型
オリゴマーとしては、下記一般式で示される多官能オリ
ゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアク
リル変性体　あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能
」、（か導入されたもの等が挙げられる。

０（中Ｒ１，Ｒ２：フルキル、ｎ　：２ｈこれらの七ツ
マ−、オリゴマー、ポリマーの少なくとも１種の有機バ
インダーを用いることにより、トップコート層が補強さ
れ、塗膜の破１ｔｌｉ強ＩＷが、Ｆがり、塗膜の強化が
なされ、トップコート削れが少なく　かつ高温多湿下で
の走行＋１１が安定となる。　そこで　ドロップアウト
の少ない、ヘッド付着、トップコート削れが少なく、Ｗ
控の変化も安定した磁気記録媒体が得られる。　また　
放射線砂化型バインダーを用いると、トップコート層の
製造」−１連続処理がｕ１能であり、オノラインで処理
できるので、省エネセキ−。コストの低減に役つつ。

ｌ・ツブコート層のＪｌ／みとしては５〜８００人かｈ
ｌましい、　あまりＨすざると′・シ特の低下を生した
り、ケズレを生じる。　　また、あまり薄すぎると目づ
まりが発生する。　強磁性薄膜の場合は４５０人以ドが
好ましい、トップコートなしの強磁性１１１咬の表面粗
１片は１００人以ドが好ましいため、この１−にトップ
コート層を形成する場合、あまり厚すぎるとケズレを生
じることかわかった、　あまり少なすさるとトップコー
ト層の吸着が弱すぎ、１］づまりを発生することが予想
される。

特に好ましい範囲としては５〜４５０人であり、中でも
１Ｏ−１００人がさらに好ましい。

未発Ｉｙ１において、バックコート層があれば走行性が
さらに安定し、好ましい。

未発明の八、クコート層は１％機顔料、有機パイングー
およびＦＭｆｆ’を剤を含有するものからなることが好
ましい。

％機顔料としては、ｌ）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、また、２）無機充填剤としてＳ　ｉ０
２　、ＴｉＯ２、Ａｉ２０３、Ｃｒ２０３．ＳｉＣ，Ｃ
ａｂ、ＣａＣＯ３，酸化亜鉛、ゲーサイト、αＦｅ２Ｏ
３，タルク、カオリン　ＣａＳＯ４，窒化硼素、フッ他
意１！１、二硫化モリブデン、Ｚｎ５ｉｐがあり、中で
もＣａＣＯ３やカオリｙ、Ｚ　ｎ　Ｏ、ゲーサイト、Ｚ
ｎＳやカーボンが使用される。

このような無機顔料の使用Ｉ、ｌはりに関しては／丸ス
ノグー１００Ｊ？部に対して２０〜２００’Ｔｊ　ｊｌ
ｊ　ｌ’Ｘｌｌ　＋　また２）に関しては１０〜３００
ｆｆｉ量部が適当であり、無機顔料があまり多くなると
。

Ｑ　１１Ｑがもろくなり、かえってドロップアウトが多
くなるという欠点がある。

＋ｌマ１滑剤としては（分散剤をも含めて）、従来この
Ｈバックコート層に用いられる種類のものはいずれも用
いることができるが、カプリル醇、カプリン酸、ラウリ
ン醜、ミルスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベ
ヘン酸、オレイノ耐、エライジン酸、リノール酸、リル
ン耐ステアロール酸等の炭素数１２以−ヒの脂肪酸（Ｒ
ＣＯＯＨ，Ｒは炭素数１１以上のアルキルＪ、ｔｉ）；
　　前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ。

Ｎａ、に等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ。

Ｃａ、Ｂａ￥）からなる金属石階；　レシチン等が使用
される。

この他に炭素数１２以上の高級アルコール、およびこれ
らの硫酸エステル、界面活性剤。

チタンカップリング剤、シランカップリング剤等も使用
１１ｆ能である。　これらの潤滑剤（分散剤）はバイン
ダーｌｏ　ｏ　＠　７４部に対して１〜２０利場部の範
囲で添加される。

潤滑剤としては、上記の他にシリコンオイル、グラファ
イト、二酸化モリブデン、二硫化タングステ／、炭素数
１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と＆７！ｆｉ３〜１２個
の一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数
１７個以上の一１！！基性脂肪酸とこの脂肪酸の炭素数
と合計して、炭５行数が２１〜２３個よりなる一価のア
ルコールとからなる脂肪酸エステル等が使用される。

これらの潤滑剤はバインダー１００重埴部に対して０２
〜２０　毛’＋；部の範囲で添加される。

また、その他の添加１’ｌｌｌとしては、この種のバッ
クコートに用いるものは何でも用いることができるが１
例えば、帯電防ＩＬ剤としてサポニ／などの入熱界面活
性剤：　アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリ
シドール系などのノニオン界面活性剤；　高級アルキル
アミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジンその他の
〜Ｊｔ、’　環１１．ホスホニルまたはスルホニル類な
どのカチオン界面活性剤：　カルボン酸、スルホン酸、
リン酸、硫酸エステル基、リン酸エステルノ、（等の酸
性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノス
ルホン酸類、アミンアルコールの硫酸またはリン酸エス
テル類等の両性活性剤などが使用される。

本発明のバックコート層で用いられる有機パイングーは
、従来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱
硬化性または反応型樹脂やこれらの混合物が使用される
が、得られる１１１９強度等の点から硬化型、特に放射
線硬化型の樹脂が好ましい。

ハｕｆ　＋ワ！性樹脂としては軟化温度が１５０℃以ド
、平均分子にが１００００〜２０００００゜千金度が約
２００〜２０００程度のもので、例えば塩化ビニール−
酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
　、　１１！化ビニル−酊酸ビニルービニルアルコール
Ｊ（重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニ
ール−塩化ビニリデンノ（重合体、塩化ビニール−アク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−７クリロ
ニトリル共東合体、アクリル酸エステル−１１１化ビニ
リデンノ（七合体、アクリル酸エステルースチレン共重
合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共巾合
体、メタクリル酸エステル−ｊ！１化ビニルデン共改合
体、メタクリル酸エステル−スチレン共用合体、ウレタ
ンエラストマー、ナイロン−シリコン７ｓ　ｍ　ｔｉ、
ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル
　１１化ビニリデン−７クリロニトリル共重合体　ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニールブチラール、セルロース誘導体（セルロー
スアセテート、セルロースダイアセテート、セルロース
トリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセ
ルロース等）、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエ
ステル樹脂１グロロビニルエーテルーアクリル酸エステ
ルＪ（重合体、アミン樹１１ｉｉ、各種の合成ゴム系の
熱ｕ（４？！性樹脂およびこれらのＪｌ！合物が使用さ
れる。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗／１１　Ｍ
の状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾
煙後に加熱することにより、縮合、付加等の反応により
分子量が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂の
なかで、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶
融しないものが好ましい。

具体的には１例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹１指、メラミン樹１偕、
アルキッドｖＡＷ１．　　シリコン樹脂、アクリル樹脂
、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニ
トロセルロースメラミン樹脂、高分子埴ポリエステル樹
脂とインンアネートプレボリマーの混合物、メタクリル
酸塩〕ｌｉ　Ｔ（合体とジイソシアネートプレポリブー
の混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネー
トの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子？グリ
コール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイ
ソシアネートのｉ合物、ポリアミン樹脂、およびこれら
の混合物である。

特に好ましいものは。

ＨＡＭ１票樹脂（硝化綿等）、塩化ビニル−酢酸ビニル
ービニルアルコールノ（手合体、ウレタンのＭｌみ合わ
せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、 あるいは塩化ビニルー酢酸ヒニルービニルアルコール共
東合体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリ
ル変性４ｇ！化ビニルー酢酸ビニル−ビニルアクコール
Ｊ％　Ｑｊ重合体カルボン酸導入のものも含む）および
ウレタンアクリレートからなる放射線硬化系樹脂からな
るものである。

放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合わ
せのほかに、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を
示すアクリル酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、 ジアリルフタレートのような７リル系二重結合。

イレイン醜、ヤレイン酸誘導体等の不飽和結合子の、放
射錬り射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂
の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることがで
きる。

その他、使用ａ１店なバインダー成分としては、巾情体
としてアクリル醜、メタクリル醜。

アクリルアミド簿がある。

二重結合のあるバインダーとしては５種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二屯結合を
有する化合物で変性することもできる。　さらに必要に
応じて、多価アルコールと多価カルボン酸を配合するこ
とによって１種々の分子量のものもできる。

放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり、こ
れらは程合して用いることもできる。

ざらにｈｆましいのは、 （Ａ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個
以上有する、分子：許５０００〜１０００００のプラス
チック状化合物１（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽
和二重結合を１個以上有するが、または放射線硬化性を
有しない、分子場３０００〜１０００００のゴム状化合
物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有する１分子埴２００〜３０００の化合物を。

（Ａ、）２０〜７０東￥％、 （Ｂ）２０−８０ｒｒｒ、ｒｊ％。

（Ｃ）１０〜４０　Ｉｒｒ７ｒ％の割合で用いた組み合
わせである。

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく、バックコート層から磁
性層への！Ｉ機充填剤粉末の移転がないためドロップア
ウトの少ない、かつロール状に巻き取った形での硬化の
際の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性をイＩす
る磁気記録媒体が得られる。

本発明の磁気記録媒体の製造において、有機／丸イング
ーが熱硬化型では、製造過程において、バックコート層
の潤滑剤が磁性Ｂ膜に裏型転写し、前述のような不安定
な走行による出力タウンが発生し１画像が出なくなると
が、あるいは、庁擦レベルが未だ大きく不十分であり、
裏型転写により強心性Ｆ［が取れたり、あるいは破壊さ
れるという現象が生じ、好ましくない。

そのため、トップコートを最初に行うことが考えられる
が、操作上、傷つきゃすく不都合なことが多い。

さらに、ハ硬化型の場合、硬化時の巻さしまりによるバ
ックコート面の″Ａ型転移のため、熱硬化中のジャノボ
ロールの内側、外側での電磁変換特性の差が問題となる
。

これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製ｌツ１−１
ｉ！１！続硬化が回前であり、硬化時間も短（、上記の
裏型転写がないので、ドロップアウトが防１１−でさ　
その１放射線硬化およびトップコート処理がオンライン
七で処理できるので、省エネルギ一対策、製造時の人口
の減少にも役１＞ち　コストの低減にもつながる。

特性面では？ｊ！硬化時の巻きしまりによるドロップア
ウトの外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の
圧力のちがいにより、磁気テープの長さ方向の距離によ
る出力差が生じることもなくなる。

前記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）からなる放射線硬化型
樹脂パイ７ターにおいて、（Ａ）だけでは柔軟性がなく
もろく　　（Ｂ）だけではり１性の欠けたものであり、
（Ａ）、（Ｂ）を組合わせることにより破壊エネルギー
大となるが、１ぬ性エネルギーを大とするには制限があ
り、また（Ａ）、（Ｂ）だけでは硬度が低いためか。

品温多湿下で粘着性が生じ、静摩擦が高くなった。

これに対し、（Ａ）、（Ｂ）さらに（Ｃ）を、組合わせ
ることにより、架橋性が増大し、へイ／ダーの引っ張り
強度大、破断エネルギー、ｌ１ｆｉ性エネルギーが大と
なり、バックコート削れもなく、硬化度が高い強靭な塗
膜となる。

そのため、５０℃、８０％５日間の高温保存下においた
ところ、粘着を生ぜず、ｙｌ控係数も低く１画像ひずみ
を生じなかった。

これは（Ｃ）を加えることによりバックコート咬の架橋
性が増し、硬化度が増したためである。

（Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を加えることにより、（
Ａ）、（Ｂ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成
分が低倍′Ｆ−にの方まで使えるようになった。　これ
は（Ａ）成分よりなるプラスチック状のものを、（Ｃ）
成分を導入することによりｕ（Ｑｊ性を向−ヒさせた硬
化度の向上となるため、結分性にとんだ脆性エネルギー
の火なる塗膜となったものである。

未発ｉ」の放射線硬化型樹脂バインダーにおいて、（Ａ
）の分１’　Ｆｌ：　５０００未満、（Ｂ）の分子−Ｆ
Ｉ！−３５００未満では塗膜が固くなってバックコート
削れが激しく、電磁変換特性も低下し。

また（Ｂ）の分子♀１０００００を超えると分散不良の
ため゛電磁変換特性が低下するとともに　（Ｂ）が放射
線硬化性の場合にはその特性が低下して強度低下を生じ
る。

（Ｃ）については、分子−♀が３０００を超えると、！
ｌｌ！橘性が低下し、塗膜の強度が低下する。

（Ａ）は１００００〜ａｏｏｏｏ、（Ｂ）は３０００〜
８００００．　　（Ｃ）は２００〜２５００が好ましい
分子帛篩囲で、（Ｂ）は放射線硬化性のものが、架橋性
を上げ、塗膜強度が大となるので好ましい。

（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の配合比率は、（Ａ）が２０〜
７０屯１．）％、好まくは３０〜７９干量％、ＣＢ）が
２０〜８０哨星％、好ましくは２０〜６０哨星％、（Ｃ
）がｉｏ〜４０屯♀％、好ましくは１０〜３０哨星％で
ある。

未発１］の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物の分ト呈は
１次のような測定方法による数平均分子？によっている
・ ※ＧＰＣによるバインダーのｔ均分子ｊ、）　Ｑ定Ｇ　
　Ｐ　　Ｃ（Ｇｅｔ　　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　　Ｃｈ
ｌｏｓａｔｏｇｒａｐｈｔ）　　とは試料中の分子を移
動相中のその大きさに基すいて分離する方法で１分子ふ
るいの役をする多孔質ガルをカラムに充填し、液体クロ
マトグラフィーを行う方法である。

（・均分子Ｆａを算出するには、標準試料として分子量
既知のポリスチレンを使い、その溶出時間から検？線を
作成する。

これにより、ポリスチレン換算のモ均分子ヤを計算する
。

Ｉｊ、えられた高分子場物質中に１分子％　Ｍ　ｉであ
る分子−がＮｉ個あったとすると、 で表わせる。

未発明の（Ａ）、（Ｂ）、（ｃ）の化合物における不飽
和″：、１１ｒ結合は、１分子当り（Ａ）は２以ｌ：、
＆Ｆましくは５以１１、（Ｂ）は１以上、好ましくは５
以」二、（Ｃ）は１以上、ｋｆましくは３以上である。

未発１月で用いる（Ａ）のプラスチック状化合物は、放
射線によりラジカルを発生し、架橋構６１を生じるよう
な、不飽和二重結合を分子鎖中に２個ｕ　、１−含むも
のなのであり、これはまた熱１１ｒ・′ｒ！１性樹１１
’！’１を放射線感応変性することによっても得ること
ができる。

放射線硬化性樹脂の具体例としては　ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二ＩＴＩ：結合、ジアクリルフタレートのようなアリル
系二改結合、プレイ／酸、マレイン酸誘導体等の不飽和
結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基
を、熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂で
あり、その他放射線［！！！射により架橋重合する不飽
和二重結合を有する化合物で、分子ネ１が５ｏｏｏ〜ｔ
ｏｏｏｏｏのもの、好ましくは１００００〜ａｏｏｏｏ
のものであれば用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱ＶＩ
′ｒ塑性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のよ
うな不飽和ポリエステル樹脂がある。

分子−鎖中に放射線硬化性不苧和三七結合を含有するポ
リエステル化合物、例えば下記（２）の多＋１Ｊ　Ｊ＾
酸と多価アルコールのエステル結合からなる飽和ポリエ
ステル樹脂で、多塩基酸の一部をプレイン酸とした放射
線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル
樹脂を挙げることができる。

１１ｔ　ＱＪ　Ｍ硬化性イＺ飽和ポリエステル樹脂は、
多用ノ、（酸成分１種以上と、多価アルコール成分１程
以Ｊ−に、マレイノ酸、フマル酸等を加え、常法すなわ
ち触媒の存在ドで、１８０〜２００ＩＱ　、　霧；　、
↓、′、１メ囲気ト、脱水あるいは脱アルコール反応の
後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０５〜ｌｍｌＨｇの
減圧下、ｈ合反応により（）ることができる。

マレイノ酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、＆Ｆましく
は１０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は１次のようなものを挙げることかでさる。

（１）塩化ビニール系共用合体 ９４化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコールＪ
（ＩＴｒ合体、塩化ビニールービニールアルコールノ（
ＩＴｒ合体、塩化ビニール−ビニールアルコール−プロ
ピオン酸ビニールＪｌ−ｉｎ合体、塩化ヒニールー酢酸
ヒニールーマレイン酸共虫合体、ｎ！化ヒビニール酢酸
ビニール−末端０Ｈ（Ｉｌｌ鎖アルキルノふ共重合体、
たとえばＵＣＣ社製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、
ＶＥＲＲ，ＶＹＥＳ　、ＶＭＣＡ　、ＶＡＧＨ’Ｗが挙
げラレ、コのものにｖｋ述の手法により、アクリル系二
用結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を４
人して、放射線感応変性を行う。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、インフタル酸、テレフタル酸、コハク耐、ア
ジピン酸、七へシン酸、のような飽和多１１１ノ＾酸と
、エチレングリコール、ジエチレ／グリコール、グリセ
リン、トリメチロールプロパン、１．２７’ロピレング
リコール、１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコ
ール、１．４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール
、ペンタエリスリフト、ソルビトール、グリセリン、ネ
オペンチルグリコール、ｌ、４シクロヘキサンンメタノ
ールのような多価アルコールとのエステル結合により得
られる飽和ポリエステル樹脂、またはこれらのポリエス
テル樹脂をＳ　Ｏ−）−Ｎ　ａ等で変性した樹脂（例え
ばパイロ７５３Ｓ）が例として挙げられ、これらも同様
にして放射線感応変性を行う。

（３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の）％　、７１
合体で、これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の
手法により放射線感応変性を行う。

（４）エポキン系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとニブクロルヒドリン、メチルエピクロルヒトリノ
の反を心によるエポキシ樹脂　例えばシェル化学製（エ
ピコート１５２．’１５４．８２８．１００１．１Ｏ０
４，１００７）、ダウケミカルｔＡ（ＤＥＮ４３１．Ｄ
ＥＲ７３２、ＤＥＲ５１１，ＤＥＲ３３１）、　大日未
インキ社９Ａ（エピクロン４００，８００）、さらに１
記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フ、　／　
＊　シ８４１Ｆｔ　（Ｐ　Ｋ　ＨＡ　、　Ｐ　Ｋ　ＨＣ
。

ＰＫＨＨ）、臭；ｉ化ビスフェノールＡとエビクロルヒ
トリノのノ（重合体、火１１未イノキ化学工ズ袈（エピ
クロン１４５，１５２，１５３．１１２０）等がある。

これら樹１指中に含まれるエポキンノ＾を利用して　放
射線感応変性を行う。

（５）ｆｆｌ＃１ＪＡＡ４体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
。

樹脂中の水酸基を利用して後述の方法によりＪ々引線感
応変性を行う、　　　。

その他、放射ｍｌ感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官濠ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルポロリドン樹脂および誘導体（ＰＶ
Ｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステル、およびメタクリエステル
を千金成分として、少なくとも１種含むアクリル系樹脂
等も有効である。

未定１拶１で用いる（Ｂ）の品分−ｆ−化合物は、！＾
Ｉ＋「・芋性エラストラーもしくはプレポリマー　また
はこれらを放’Ｊｔ　ｔＱ　４応変性したものであり。

後場の場合は、より効果的である。

以トにエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐１〒耗性、およびＪ＆体フィル
ム、４！ＡえばＰＥＴフィルムへのＪａ　Ｒ性カ良いも
で特に有効である。

ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
２　、４−　）ルエノジイソシアネート、　　２　、６
−　トルエンノイソンアネート、１゜３−キルンンイソ
ノア不一ト、１．４−キンレンジイソンアネー）、１．
５−ナフタレンジイソノア２−ト、ｍ−フェニレノジイ
ソ／７ネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニル
メタンジイソシ７ネー）、４．４−’；フェこルメタン
ジイソノアネーｈ、３．３′　−ジメチルヒフェニレ／
／イソンアＡ−ト、ａ、ａ’−ヒフェニレノノイソ／ア
ネート、ヘキサメチレンンイソンアネート　　イソ２才
ロノノイソノアネート、ジンクロヘキノルメタンジイン
ンアネート　デスモノニールＬ、デスモ／ニールＮ等の
各種多価インシアネートと。

ｉ９状飽和ポリエステル（エチレノグリコール、ジエチ
レノグリコール、グリセリノ、トリノチロールプロパン
、１．４−ブタンジオール　１．６−ヘキナノジオール
、ペンタエリスリント、ソルビトール、ネオペンチルグ
リコール、１，４−シクロヘキサノジメチノールのよう
な多（曲アルコールと、フタル酸、イソフタル酸　テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セパンン酸のような
飽和多塩基酸との縮重合によるもの）。

線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エス
テル、ヒドロキノ含右含有クリル酸エステル等の各種ポ
リエステル類の縮合物よりなるポリウレタンエラストブ
ー　プレポリマーが有効である。

これらのウレタンエラストマーの末端のインシネート基
または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系二
重結合を右する重量体とを反Ｉ心させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。

（２）アク１１　Ｏニトリル−ブタノエン共東合エラス
トブー ７ノクレ７ベトロケミ力ル社製ポリＢＤリタイッドシジ
ンとして南限されている末端水ｍ基のあるアクリロニト
リルブタジェン共東合体プレポリマー、あるいはロ木ゼ
オン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェノ中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
、架橋および重合させるエラストマー成分として適する
。

（３）ポリブタンエンエラストマー ンノクレ７ペトロケミカル社製ポリＢＤリタインドレジ
ンＲ−１５’″ｒの低分子♀末端水酸基を右するプレポ
リマーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。

Ｒ−１５プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なっているため１分Ｆ末端にアクリル系不悠和三七結合
を付加することにより放射線感応を高めることが可能で
あり、パインターとしてさらにイｆ利となる。

また、ポリブタジェンの；化物、　Ｌ１本合成ゴｔ、製
ＣＢＲ−Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合わせにより　
すぐれた性質を有している。

その他、熱可塑性エラストブーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、Ｉｕ化ゴム、アクリルゴＬｔ　、　　インプレンゴム
、およびその環化物（Ｆ３本合成、ゴム％ＣｌＲ７０１
）があり、エポキシ変＋′１ゴＬ１、内部’ｆ塑化飽和
線状ポリエステル（東１工紡バイロン＃３００）等のエ
ラストマーも下記に６へる放射線感１８変性処理を施す
ことにより有効に和１）１１できる。

７を発【！１で用いられる（Ｃ）放射線硬化性不飽和二
面結合を右する化合物としては。

スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート　エチレングリコールジメタクリレート、
ンエチレノグリコールアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート　１．６−ヘキサングリコールジ
アクリレート、■、６−ヘキサ／グリコールジメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
多官能オリゴエステルアクリレート（アロニ１クスＭ−
７１００．東炬合Ｉ＆）、ウレタンエラストマーにシボ
ラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれらのも
のにｃ。

ＯＨ等の官能ノＮが導入されたもの等が挙げられる。

高分子には、放射線１り射により崩壊するものと分子間
に架橋を起こすものが知られている。

分子間に東橘を起すものとしては、ピリエチレノ、ポリ
プロピレノ、ポリスチレン、ポリアクリル酎エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ１１！化ヒニル、ポリエステ
ル、ポリビニルピロリトノゴム、ポリビニルアルコール
、ポリアクリル／がある。

、−のような架橋型ポリマーであれば、上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、　ｒｉ
ｉ＋記変性体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架
橋用バックコート樹脂として使用可能である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない声溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂をバックコート川として用いること
ができる。

未発１１の放射線硬化性樹脂組成物の、特に好才しい組
合わせとしては。

（Ａ）の化合物が−・部ケ／化した１１４化ビニール−
耐酸ビニール」（千金体、カルボン酸が導入された１１
！化ビニール−酢酸ビニール共重合体。

フェノキシ樹脂にポリイソシアネート化合物を反応させ
て（１られたイソシアネート基を有する化合物に、イソ
シアネートノ１（どの反応性を有する官壱基をもつアク
リル化合物、あるいはメタクリル化合物を反応させてな
る化合物であり、 （Ｂ）の化合物がポリオールにインシアネート化合物を
反応させて得られた。インシアネート化合物またはポリ
オール（ポリウレタンエラストで−）に１反応性を有す
る官衡基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化合
物を反応させてなる化合物であり、 （Ｃ）が多官を七（メタ）クリレートモノマー。

オリゴエステルアクリレート、または（Ｂ）の低分子、
−：化合物というものである。

本発明のバックコート層に用いる有機バインダー、ト１
ブコート層あるいはバックコート層に含まれる１１１滑
剤、酸化防ＩＬ剤が放射線硬化型のものが好ましい。

この場合、その架橋に使用する活性エネルギー線として
は、放射線加速器を線源とした電ｒ線、Ｃｏ６０をｉＱ
源としたγ−線、Ｓ　ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線
発生機を線源としたＸｌ、あるいは紫外線が使用される
。

特に闇討線源としては、吸収線量の制御、製Ｗ１−稈ラ
インへの・り入、゛毛浮放射線の遮断等の見地から、放
射線加熱器により放射線を使用する方法が有利である。

トップコート層を硬化する際に使用する放射ｖａ特性と
しては、ｆ１過力の面から加速電圧１００−７５０にＶ
、好ましくは１５０〜３００ＫＶの放射線加速器を用い
、吸収線量を０．５〜２０メカラツトになるように照射
するのが好都合である。

未発１１１の放射線硬化に際しては、米国エナージーサ
イエンスントにて製造されている低線量タイプの放射線
加速器（エレクトロカーテンシステＬｉ”９がテープコ
ーティング加エラインへの・９人、加速器内部の２次Ｘ
線の遮断等に極めて右和１である。

また、従来より放射線加速材として広く活用されている
ことろのファンデグラフ型加速２（を使用してもよい。

また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコ
ート層に照射することがｆｆ１Ｗであり、空気中で放射
線を照射することは、バインダー成分の架橋に際し、放
射線照射による生じた０３等の影！でポリマー中に生じ
たラジカルがイｉ利に架橋反応に働くことを阻害するの
で、極めて不利である。

したがって、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、特に酸稟濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ、Ｃ
Ｏ２等の不活性ガス雰囲気に保つことが東要となる。

本発明のトップコート、バックコートには。

光重合増感剤を加えることにより、紫外線硬化を行うこ
ともできる。

光重合増感剤としては、従来公知のものでよく５例えば
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−グロデオー艷シベンン
イン等のヘンゾイノ系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスンアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アントラキノン、フエナントラキノン等のキノ類、ベ
ンジルジスルフィド、テトラメチルチカラムモノスルフ
イド等のスルフィド類等を挙げることができる。

光重合増感剤は、樹脂固形分に対し、０．１〜１０屯六
％の範囲が望ましい。

他方、用いる磁気ヘッドは１種々のものが使用できる。

この場合、／ａ気ヘッドとしては、少なくもギャップ部
端面を金属磁性体で構成したものであることが好適であ
る。

この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強心性体から形成することもできる。

第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面にｌ〜５μｍ程度の
厚さの全屈強磁゛性体３１゜３２をスパッタリング等に
より被着し、ガラス質等のギャップ４を介してコア半休
２１．２２をつきあわせて磁気へラド１を構成した例が
示される。

これによりきわめて良好な電磁変換特性かえられ、しか
も走行が良好となり、ヘッド付着やヘッド目づまりも良
好となる。

そして、その形状、構逍等は公知のものであってもよい
。

用いる金属強磁性体としては１種々のものがＴｌｆ能で
あり、非品Ｉ！１磁性金属、センダスト。

ハードパーマロイ、パーマロイ等のＦｉｔ！Ｊ、Ｍｌは
いずれも使用可能である。

ただ、これらのうちで、ヘー、ド目づまりないし付着が
特に少なく　、Ｔｉ、磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを
主成分とする非晶質磁性合金である。

このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９０ａ
ｔ％で、カラス化元素として、Ｚｒ。

Ｎ　ｂ　、　Ｔ　ａ　、　Ｈｆ　、　Ｊｆｉ土類元しＳ
ｉ、Ｂ。

Ｐ、Ｃ，ＡＭ等、特にＺｒおよび／またはＮｂを５〜２
０ａＬ％含有するものが好適である。

あるいは、Ｃｏ６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
てＳｉおよび／またはＢ１１５〜３５ａｔ％含有するも
のも好適である。　この場合。

さらに１Ｏａｔ％以ドのＦｅ、２５ａＬ％以ドのＮｉ、
ｌｉｌ計２０ａＬ％以下のＣｒ、Ｔｉ、Ｒｕ。

Ｗ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｍ　ｎ　５の１種以
上が含有されていてもよい。

これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。

ギャップ長ａは１通常０．１−０．５共■。

特に０．１−０．４経騰、またトラック幅は、通常、１
０〜５０μＩ、特に１０〜２０μｍと干る。

このような磁気ヘッドをＩｎいて、前記した媒体に対し
て記録再生を行うには、いわゆるＶＨ５方式、ベータ方
式、８■ビデオ方式、ＵＭＬ格方式等公知のビデオ縁由
ンステムに従えばよい。

Ｖ　全すＩの具体的実に例 以［にに発明の旦体的実施例を示す。

２Ｉ、：）ＴｈｌＮｌ 実質的に微粒すを含まない厚さｌｌμｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム上に、表１に小される＋　ｉ′
Ｊ粒子径をイイするコロイダルシリカを塗７ｉｊ　（０
、００３％溶液、エポキシアクリレート／ポリ力プロラ
クタン＝１／１．溶液ＭＥＫ／トルエン＝ｌ／１）ｌ、
た。

この場合、コロイダルシリカ微粒子の′ｌＥ部は、線状
体の集合体とした。　このような布部の形成は、ポリエ
ステルベースフィルムを長手方向に引張し、そのポリエ
ステルベースフィルＬ・の製造工程中でミミズ状および
波状等の変形智清り程を経る１ｔにより得た。

なお、線状体は長さ約１〜８−園、巾約０９ｌ−１，５
μｍ、振１１１約０．５〜Ｉｍ−であった。

また、線状体は、ヘッドと直角方向に配向させた。

表１に疎密度を示す。

次いで、これらの各サンプルを用い、下記の層を設層し
た。

（１）磁性層の形成 １１土」Ｉ」 １、記ノ、（板を円筒」、冷却キャンの周面に′８１わ
せて移動させ、０２＋Ａｒ（容積比１：ｌ）を毎分８０
０ｃｃの速さでｌ庇し、真空度を１．０ＸｌＯ−４↑ｏ
ｒｒとしたチ＋　７　ｔ＜−内で。

Ｃｏ８０．Ｎｉ２Ｏよりなる合金を溶融し。

入射１’／ｌ　９０°〜３０°の部分のみ斜めノＮ着Ｌ
　　　　咬、Ｉ’７０　　　、　　１　５　９Ｌ　ｍ　
　の　Ｃｏ−Ｎｉ　　−ＯｆＭｌｌ’２を形成した。

また、・−１−スと反対側の表面は、はぼ酸化物のみに
覆われていた。

Ｈｃ　＝　１０００　０ｅ。

ｌ・マ中のモ均酸漏♀は、ＣｏとＮ１に対する原ｒ比 で４０％であった。

彊Ｊ！ＬＪＩＪＡｕえノ ｊ、記基板を円筒状冷却キャンの周面に沿わせて移動さ
せ、真空度を５　、　ＯＸ　Ｉ　Ｏ”８Ｔｏｒｒとした
チャンパル内で、　　ａ　　ｔｙ、　　ｌの場合と同様
にノ入着した。ｌｌＩ２厚は、Ｑ、１５μｍで実質的に
Ｃｏ−Ｎｉよりなる。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。

Ｈｃ＝９００　０ｅ、　　１２中の平均酸累早は、Ｃｏ
とＮｉに対する原子比で４５％であった。

池」Ｕｌ」」え」 耐上による酸化１程を省略した以外は、惣糺止庄Ｉ」と
同様に、上記熱板を円筒状冷却キャンの周面に沿わせて
移動させ、真空度を５　、　ｏｘ　ｌ　Ｏ’Ｔｏｒｒと
したチャフ　／＜−内で、九ａＬＩ　Ｉｌの場合と同様
にへ着した。　膜厚は、０．１５μｍで実質的にＣｏ−
Ｎｉよりなるものであった。

Ｈｃ　＝　９５０　０ｅ。

（２）パンクコート層の形成 ハ・・クコート層ｌ　（熱硬化型）　　　　　屯ｔｌシ
部耐化亜鉛　　　　　　８０ｐｔｎ　　　　２００１１
ｔ！化剤　コロネートし　　　　　　　　２０潤滑剤　
ステアリン酎変性シリコーン　　４ステアリン酸ブチル
　　　　　　２ 蛸化線　　　　　　　　　　　　　　　　４０塩化ヒニ
ル一酢酸ヒニルーヒニルアルコールバ重合体（ＪＬＩ水
化学製、エスレックＡ）３０ポリウレタンエラヌトマー
　　　　　　３０（Ｂ、Ｆグツトリンチント製１エンセ
１５７０ｄこ合溶剤（ＭＩＢＫ／ｌルエノ）２５０重！
、１部の４９合物を良く混合溶解させる。

この塗ｔ１を１５μｍのポリエステルフィルム１−に塗
４＋　１．　　赤外線ランプまたは熱風により溶剤を転
帰させた後、表面ｆ層化処理後。

８０℃に保持したオーブン中ロールを４８時Ｂ：ｌ　ｆ
、’ｔ１．　＋、’ｒ　Ｌ　　インンアネートによる架
橋反応をｌｈ’　ｊｊさせた。

・・クコート層２　　　　　　　　　　　、Ｔｆ：＋シ
部力−ポ／ブラック　３０牌ｍ　　　　　５０（Ａ）ア
クリル変性塩ビー醇ビーヒニルフルコールノ（重合体 分子ＦＨ’ｒ　４５．０００　　　　５０（Ｂ）アクリ
ル変性ポリウレタノエラスト分子：Ｉ）５．０００　　
　　　５０ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　５ｄこ合溶
剤（ＭＩＢＫ／ｌルエン＝ｌ／ｌ）１−記混合物をボー
ルミル中５時間分散させ、耐性面が形成されているポリ
エステルフィルムの裏面に乾燥ＰＩＬｕ−ｒｎになるよ
うに’Ｔ、　！Ｉｉ　Ｌ、エレクトロカーテンタイプ電
子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、電極１１
ｉ　ｊＱ　ｌ　Ｏｍ　Ａ、吸収ＳＱｐ　５　Ｗｒａｄ、
　Ｎ　２ガス中で゛電子線をバックコート層に照射した
。

ハ・クコートに３　　　　　　　　　屯埴部硫化亜鉛　
　５０μｍ　　　　　　　　３０カーボンブランク　２
５　μｍ　　　　　２５アクリル変性塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコールＪｊＨ＋’［ｉ合体（分子ｈ
）３刀）アクリル変性ポリウレタンエラストマー分＋！
、）　２０　、０００　　　　４０多官能アクリレート 分子ｒ、）２０　、０００　　　　　２０オレイ／酸　
　　　　　　　　　　　　　４ミリスチ７酸変性ノリコ
ー７　　　　２４１合溶剤（ＭＩＢＫ／トルエノ）　　
２５０これらをノー、クコート層２と同様に処理、製造
した。

パンクコート、１４　　　　　　　　　　屯に部ＣａＣ
Ｏ３８０ｇ＋ｎ　　　　　　　２５アタリルｕ　ｆｆ　
Ｉｎヒー酢ヒービニルアルコール共屯合体　　分−ｆ　
！ｉ！　３０　、　ＯＯ０３０アクリル変性ポリウレタ
ン工ラストマー分子量５０．０００　３０ アクリル変性フェノキシ樹脂 分子Ｑ　３５　、０００　２０ 多官能アクリレート 分子最５００　　　　２０ ステアリ／酸　　　　　　　　　　　　　４フツ素（電
解置換法）０．５ 溶剤（ＭＥＫ／）ルエン＝１／１）３００これらを上記
と同様に処理、製造した。

（３）トップコート層の形成 ○トップコート組成 トップコートＭ１−１１ＴＩらｊ、？ｌ。

２．６ノ第三ブチルＰ−クレンール ペンタエリスリトールテトラクリレート分子Ｒ３５２０
、６ ミリスチン酸変性シリコーン　　　０．５オレイン酎変
性シリコ−７０，５ ミリスチ耐酎ブチル　　　　　　　ＯＩＭＥＫ　　　　
　　　　　　　　　　　１００Ｉ　・プコート、　　２
　　　　　　　　千１，１　、（侶モ７ノグリコールサ
リチレートアクリレート０．５ ぺ／タエリスリトールテトテアクリレート０．２ Ｎ−ヒニルピロリト７　分（＋、：　１１１０．３ ミリスチ／耐０．３ フイ　タ　り　リ　ル　醇　変　性　ミ　リ　ス　チ　
ン　Ｍ　　　　　　　１　　　、　　　ＯＭＥＫ／　　
ト　１し　エ　〕　　（１／　ｌ　）　　　　　　　　
　　１　ｏ　。

ト　　ン　ブ　コ　−　ト　組　　′　３　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　−π　へ：、　　Ｄジメ
チルアミノエチルメタクリレート ０．５ ステアリン酸　　　　　　　　　　　０．１Ｍ　Ｅ　Ｋ
　／　トルエｙ　（１／　１　）　　　　１００ト・ブ
コートＭ″４嘲°１［“ｉ′早部メダアクリロイルエチ
ルホスフェート ０．７ ステアリン酸　　　　　　　　　　　Ｏｌステアリン酸
変性ソリコーン　　　０．１１１レエノ１００ １　・プコート組１ＪＳｌＩｒ帽部 ステアリルアルコールメタクリレートホスフェート０．
２ スビラノク変性体 分子　：、：　ｌ　０　、０００ アクリル変性ポリウレタン　　　）０．１エラストマー
　　分１’　：、；　：１００多官能アクリレ一ト分子
　：、：　３００アクリル酸変性ステアリンＭ　　　　
Ｏ，２ＭＥＫ／トルエン（１／ｌ）　　　　　１００［
相］　ト　・ノ　ブ　コ　−　ト　　・　の　′−１ｉ
こＬ−一イシＪＪ：ニー３＝４ニー］二り二一」しく１
ツブコ一ト層１．２はトップコートＭ１１＆１．２をそ
のまま塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ１．［、：極゛：
ｊｉ流６ｍＡ、３　Ｎｒａｄ、Ｎ２カス中で１り射を行
なった。　膜厚がそれぞれ６０人であった。

トップコート層３．４はトップコート層ｌ。

２と同様の条件で設けた。　膜厚３．０．４０人であっ
た・ トップコート層５については、トップコート組成５を塗
ｌｌｊ　Ｌ、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極・ｂ：ｊ／＋
ｊ　１０　ｒｎ　Ａ　、　　５　Ｍｒａｄ、　　Ｎ２カ
ス中で照射を行なった　　ｌ”厚が２０人であった。　
更にその１にフン素（電解置換法）０．２を４　Ｘ　１
０−３７ａｒｔの条件の雰囲気中で吸着させた。　膜厚
は３０人であった。

これら弾磁性体Ｆａｌｌりおよびトップコート膜を用い
て表１に小される媒体をＭ１１＆した。

１ν性を下記に示す。

なお　用いた磁気へ、トは、第１図に示されるものであ
り、ギヤ、プ長０．２５ルｍ、トラ・りしく２０用ｍの
ものである。　この場合。

コア下体２１．２２はフェライト製、キャップ端血は、
スパツタリングにより形成した３μｍ１’ＩのＣｏＯ，
８，ＮｉＯ，１，ＺｒＯ，１（原ｆ比）であり、キャッ
プ材はカラスとした。

また、化１鮫川として、フェライト製磁気ヘッドを用い
た。

なお、１−ｌ１性の州１方法について　以ドに記す。

ｌ　突起観察 ＳＥＭ（走査型電子５１１微鏡）およびＴＥＭ（透過型
電子顕微鏡）を使用、　加速電圧０．５Ｋ　〜２０Ｋｅ
Ｖ　（倍率１万一１０万倍）でｌＯＯ弘ｍｌの視野で１
０げヱを数え、１００鉢ｍ２当りになおす。

２　心性面側摩擦ｎ一定 磁気テープがノリングー側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリ／グーを９０“回転
したときの張力変化を読みどって摩擦測定をする。

３、ヘント付Ｉｉ、ｌｌづまり ＶＨ５（７）ＶＴＲデー／　％を用イ、ｏ”ｃ：ニテ２
０回走行１寺の１１付着を計測した。　計Ａ１１は出力
チャートから求めた。

４　トップコート削れ ０°Ｃにて２０回走行後のトップコート削れを４０倍の
光学顕微鏡にて観察し、下記の７Ｊｉ準で１；を価した
。

■・・・損傷なし ０・・・走行面にや＼キス右り Δ・・・走行面に計容出来るキズ Ｘ・・・仝休にキスないし１１ＩｆＩｓ。

表２に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。

実施例２ 線状体について、ヘッドに対する線状体の配向方向が平
行方向、直角方向両方向の場合について検討した。

実施例１のサンプルＮ００３と同様の場合について、ヘ
ッドに直角方向（Ｎ　ｏ　、　３）および平行方向に配
向したものを比較した。

表　　　　　　３ ５°０８０％の条件下で走行（１０回）へラド　　トン
プコート　　目づまり 付　　看　　　　削　　　　　　　れ このように直角方向に配向したものはヘッドへのクリー
ニング作用効果が強調されるためが、低温多湿下で目づ
まりがなく良好なものであった。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。 １・・・磁気ヘッド ２１．２２・・・コア半休 ３１．３２・・・全屈強磁性体 ４・・・ギャップ

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基板の一面上に、平均粒径 ５０〜１０００Åの微粒子を配設し、この上に強磁性薄
   膜層とトップコート層とが形成されている磁気記録媒体
   において、 磁気ヘッドの摺動方向にて０．４〜４μｍの周期となる
   ように前記微粒子を疎密に配設し、しかも配設された微
   粒子の密な部分が線状体ないしその集合体をなすことを
   特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）微粒子の平均配設密度が、１０＾５個／ｍｍ＾２
   以上である特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体
   。
3. （３）配設された微粒子の疎な部分の密度 が、密な部分の密度の０．０１〜０．６である特許請求
   の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録媒体。
4. （４）配設された微粒子の密な部分が線状体の集合体を
   なし、各線状体が、ヘッド摺動方向とほぼ平行か、ある
   いはそれとほぼ直角な方向に配向している特許請求の範
   囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の磁気記録媒体
   。
5. （５）配設された微粒子の密な部分が線状体の集合体を
   なし、各線状体が、ヘッド摺動方向とほぼ直角な方向に
   配向している特許請求の範囲第４項に記載の磁気記録媒
   体。
6. （６）線状体が、長さ０．５μｍ〜８ｍｍ、巾０．００
   ５〜２μｍで、直線ないし波線状をなす特許請求の範囲
   第４項または第５項に記載の磁気記録媒体。
7. （７）強磁性薄膜層が、Ｃｏを主成分とし、さらにＯを
   含む特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記
   載の磁気記録媒体。
8. （８）トップコート層が、酸化防止剤を含有する特許請
   求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の磁気記
   録媒体。
9. （９）トップコート層が、潤滑剤を含有する特許請求の
   範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の磁気記録媒
   体。
10. （１０）酸化防止剤および／または潤滑剤が放射線硬化
    型のものである特許請求の範囲第１項ないし第９項のい
    ずれかに記載の磁気記録媒体。
11. （１１）トップコート層が、さらに放射線硬化型化合物
    を含むものである特許請求の範囲第１項ないし第１０項
    のいずれかに記載の磁気記録媒体。
12. （１２）トップコート層の厚さが、１０〜 １００Åである特許請求の範囲第１項ないし第１１項の
    いずれかに記載の磁気記録媒体。
13. （１３）可とう性基板の一面上に、平均粒径５０〜１０
    ００Åの微粒子を配設し、この上に強磁性薄膜層とトッ
    プコート層とが形成されており、他方の面にバックコー
    ト層が形成されている磁気記録媒体において、 磁気ヘッドの摺動方向にて０．４〜２μｍの周期となる
    ように前記微粒子を疎密に配設し、しかも配設された微
    粒子の密な部分が線状体ないしその集合体をなすことを
    特徴とする磁気記録媒体。
14. （１４）バックコート層が、無機顔料と、有機バインダ
    ーと、潤滑剤とを含有する特許請求の範囲第１３項に記
    載の磁気記録媒体。
15. （１５）有機バインダーおよび／または潤滑剤が放射線
    硬化型のものである特許請求の範囲第１４項に記載の磁
    気記録媒体。