JPS6168340A - 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ用ガラス母材の製造方法Info
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- JPS6168340A JPS6168340A JP19048084A JP19048084A JPS6168340A JP S6168340 A JPS6168340 A JP S6168340A JP 19048084 A JP19048084 A JP 19048084A JP 19048084 A JP19048084 A JP 19048084A JP S6168340 A JPS6168340 A JP S6168340A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラス原料を加水分解反応してガラス微粒子を
合成することによる光ファイバ用ガラス母材の製造方法
に関し、特に光伝送損失の少ない光ファイバの製造に適
する。
合成することによる光ファイバ用ガラス母材の製造方法
に関し、特に光伝送損失の少ない光ファイバの製造に適
する。
従来光ファイバ用ガラス母材を製造する方法の1つとし
て、axct4等のガラス原料を火炎中に投入し、加水
分解反応によシガヲス微粒子を合成し、該ガラス微粒子
を出発材すなわちマンドレル上かあるいはガラス棒先端
に堆積させて、その後加熱透明化する光ファイバ用母材
の製造方法が広く行われてお夛、火炎としては主に酸水
素炎が用いられてきた。
て、axct4等のガラス原料を火炎中に投入し、加水
分解反応によシガヲス微粒子を合成し、該ガラス微粒子
を出発材すなわちマンドレル上かあるいはガラス棒先端
に堆積させて、その後加熱透明化する光ファイバ用母材
の製造方法が広く行われてお夛、火炎としては主に酸水
素炎が用いられてきた。
ところで近時、酸水素炎にかえて火炎用燃料として炭化
水素系ガスを用いることが検討されている。炭化水素系
ガスは一般に単位体積当シの燃焼熱が水素ガスに比べて
大きい。例えば、メタンガスは212 KCJ&L/n
o 1.アセチレンガスは310Kcat/molの燃
焼熱をもつのに対して水素ガスは68Kca/、/mo
lである。この為、ガラス微粒子を堆積させる際に、被
堆積体となる多孔質ガラス体の表面温度を高くすること
が容易となるので多孔質ガラス体のカサ密度を大きくと
り、割れにくい多孔質ガラス体を、作成し易いという利
点がちる。
水素系ガスを用いることが検討されている。炭化水素系
ガスは一般に単位体積当シの燃焼熱が水素ガスに比べて
大きい。例えば、メタンガスは212 KCJ&L/n
o 1.アセチレンガスは310Kcat/molの燃
焼熱をもつのに対して水素ガスは68Kca/、/mo
lである。この為、ガラス微粒子を堆積させる際に、被
堆積体となる多孔質ガラス体の表面温度を高くすること
が容易となるので多孔質ガラス体のカサ密度を大きくと
り、割れにくい多孔質ガラス体を、作成し易いという利
点がちる。
ところで拡散係数の大きいH3を燃料用ガスとし、多重
管バーナーを用いてガラス微粒子を合成する際には、多
重管バーナーとしては、例えば第4図に示すような簡単
な断面構造(中′心部よυ1〜4層の同心多重管を例示
してちる)を持つものを利用できる。
管バーナーを用いてガラス微粒子を合成する際には、多
重管バーナーとしては、例えば第4図に示すような簡単
な断面構造(中′心部よυ1〜4層の同心多重管を例示
してちる)を持つものを利用できる。
第4図において、1にはガラス原料、2には山、3には
不活性ガス、4には0.ガスを流す部分を示す。3に流
す不活性ガスはバーナー出口近傍での燃焼反厄によりバ
ーナー先端が加熱され消耗することを防ぐ為に必要でお
る。また生成したガラス微粒子流はできるだけ細く集束
されたものにし、ガラス微粒子流が所望の堆積面上に確
実に当シ、効率的にガラス微粒子が堆積させるようにす
ることが望ましい。そのため、ガラス原料流を火炎の中
央部に配置できるよう、ガラス原料をバーナーの中心ボ
ート1に流す。さらに、拡散係数の小さい03を最外M
4に配置し、火炎を集束させることにより、ガラス原料
の集束度を高める効果を与えている。拡散係数の大きい
五愈を用いる場合には、−このような簡単な構造のバー
ナーを用いても十分H1が不活性ガス中を拡散し0.と
すみやかに反応するわけである。
不活性ガス、4には0.ガスを流す部分を示す。3に流
す不活性ガスはバーナー出口近傍での燃焼反厄によりバ
ーナー先端が加熱され消耗することを防ぐ為に必要でお
る。また生成したガラス微粒子流はできるだけ細く集束
されたものにし、ガラス微粒子流が所望の堆積面上に確
実に当シ、効率的にガラス微粒子が堆積させるようにす
ることが望ましい。そのため、ガラス原料流を火炎の中
央部に配置できるよう、ガラス原料をバーナーの中心ボ
ート1に流す。さらに、拡散係数の小さい03を最外M
4に配置し、火炎を集束させることにより、ガラス原料
の集束度を高める効果を与えている。拡散係数の大きい
五愈を用いる場合には、−このような簡単な構造のバー
ナーを用いても十分H1が不活性ガス中を拡散し0.と
すみやかに反応するわけである。
しかしながら、第4図に示したような単純な構造のバー
ナーにおいて、’12の代りに分子量が大きく拡散係数
の小さい炭化水素ガスを燃料用ガスとして用いる際には
以下のような不具合が生じる。
ナーにおいて、’12の代りに分子量が大きく拡散係数
の小さい炭化水素ガスを燃料用ガスとして用いる際には
以下のような不具合が生じる。
すなわち、第4図に示した酸水素炎用の4重管バーナー
の水素ガス用ボート2に炭化水素ガスを流すと、よシ外
側のボート4から噴出させる酸素ガスとの反応が進まず
、バーナー先端から長く、炭素を含む火炎が形成される
。この様な火炎を用いて、ガラス微粒子を堆積させると
、多孔質ガラス体に炭素微粒子が混入し、伝送特性を劣
化させる。
の水素ガス用ボート2に炭化水素ガスを流すと、よシ外
側のボート4から噴出させる酸素ガスとの反応が進まず
、バーナー先端から長く、炭素を含む火炎が形成される
。この様な火炎を用いて、ガラス微粒子を堆積させると
、多孔質ガラス体に炭素微粒子が混入し、伝送特性を劣
化させる。
かかる炭素混入を避けるために、バーナーから多孔質ガ
ラス体までの間隔を大きくとり、酸素ガスとの混合を進
める方法があるが、この方法では多孔質ガラス体をバー
ナーから遠ざけるに従い、火炎の先端部のみで多孔質ガ
ラス体を加熱することになシ、堆積領域の温度を高く維
持することができない。このため、通常4重管バーナ一
様のガスの流し方では、カサ密度を高くすることで割れ
にくい多孔質ガラス体を作成することが難かしく、炭素
混入がなく、かつ、安定な多孔質ガラス体を得ることは
困難であった。
ラス体までの間隔を大きくとり、酸素ガスとの混合を進
める方法があるが、この方法では多孔質ガラス体をバー
ナーから遠ざけるに従い、火炎の先端部のみで多孔質ガ
ラス体を加熱することになシ、堆積領域の温度を高く維
持することができない。このため、通常4重管バーナ一
様のガスの流し方では、カサ密度を高くすることで割れ
にくい多孔質ガラス体を作成することが難かしく、炭素
混入がなく、かつ、安定な多孔質ガラス体を得ることは
困難であった。
本発明は、上記の知見に鑑み、その問題点を解消すべ〈
従来法に改良を加え、炭化水素ガスを燃料ガスとして用
いる方式において、炭素微粒子の析出を抑えかつ高いカ
サ密度を有して割れにくい多孔質ガラス体を合成し、ひ
いては伝送損失の優れた光ファイバを安定に製造する方
法を提供することを目的としてなされたものである。
従来法に改良を加え、炭化水素ガスを燃料ガスとして用
いる方式において、炭素微粒子の析出を抑えかつ高いカ
サ密度を有して割れにくい多孔質ガラス体を合成し、ひ
いては伝送損失の優れた光ファイバを安定に製造する方
法を提供することを目的としてなされたものである。
上記の目的を達成する手段として、本発明は多重管バー
ナを用いて火炎を形成し1.該火炎中にガラス合成用原
料を導入して、ガラス微粉体を合成し、出発材上に堆積
させた後、該堆積体を加熱透明化する工程を含む光ファ
イバ用ガラス母材の製造方法において、該火炎用燃料と
して炭化水素系ガスを用い、多重管から流すガス配置と
して、該炭化水素ガスの゛両隣りにシールガスを配置し
、かつ、さらにその両隣りに酸素ガスを配置せしめるこ
とを特徴とする光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提
供するものである。
ナを用いて火炎を形成し1.該火炎中にガラス合成用原
料を導入して、ガラス微粉体を合成し、出発材上に堆積
させた後、該堆積体を加熱透明化する工程を含む光ファ
イバ用ガラス母材の製造方法において、該火炎用燃料と
して炭化水素系ガスを用い、多重管から流すガス配置と
して、該炭化水素ガスの゛両隣りにシールガスを配置し
、かつ、さらにその両隣りに酸素ガスを配置せしめるこ
とを特徴とする光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提
供するものである。
本発明の特に好ましい実施態様としては、上記シールガ
スとしてアルゴンガス、窒素ガスまたはヘリウムガスを
含むガスを用いる上記の方法が挙げられ、またさらなる
好ましい実施態様としては該炭化水素系ガスとして、メ
タンガスまたはアセチレンガスを主成分とするガスを用
いる上記の方法が挙げられる。
スとしてアルゴンガス、窒素ガスまたはヘリウムガスを
含むガスを用いる上記の方法が挙げられ、またさらなる
好ましい実施態様としては該炭化水素系ガスとして、メ
タンガスまたはアセチレンガスを主成分とするガスを用
いる上記の方法が挙げられる。
本発明は基本的には、ガラス原料の加水分解反応に供す
る火炎の燃料を炭化水素系ガスとした時に、その燃料を
酸素ガスが挾み込むように、多重管バーナのボートのガ
ス配置を施こして、堆積中の多孔質ガラス体と炭化水素
系ガスの流れの間に酸素ガスを挿入し、不完全燃焼によ
シ生成した炭素微粒子がこの酸素ガス流中で完全に燃焼
し、多好質ガラス体に到達しないようにする多重管バー
ナのボートのガス配置を特徴とする方法である。
る火炎の燃料を炭化水素系ガスとした時に、その燃料を
酸素ガスが挾み込むように、多重管バーナのボートのガ
ス配置を施こして、堆積中の多孔質ガラス体と炭化水素
系ガスの流れの間に酸素ガスを挿入し、不完全燃焼によ
シ生成した炭素微粒子がこの酸素ガス流中で完全に燃焼
し、多好質ガラス体に到達しないようにする多重管バー
ナのボートのガス配置を特徴とする方法である。
本発明の方法においては、多重管の中心ボートはガラス
原料用で、キャリアガスとしては例えばアルゴンガス、
ヘリウムガス、窒素ガス。
原料用で、キャリアガスとしては例えばアルゴンガス、
ヘリウムガス、窒素ガス。
酸素ガス等あるいはこれらの混合ガスを用いる。
また、必要に応じ水素ガスあるいはキャリアガスとして
挙げたガスを原料ボートから流してもよい、ガラス原料
ボートは必ずしも1ボートに限らず必要に応じ、例えば
原料組成を変えて複数のボートから流してもよい、ガラ
ス原料ボートの外側には、火炎用ガスボートを配置する
。
挙げたガスを原料ボートから流してもよい、ガラス原料
ボートは必ずしも1ボートに限らず必要に応じ、例えば
原料組成を変えて複数のボートから流してもよい、ガラ
ス原料ボートの外側には、火炎用ガスボートを配置する
。
火炎用ガスポートは、内側から外側へと酸素ガス、シー
ルガスe 炭化水素系カス、 シール−tj、x、。
ルガスe 炭化水素系カス、 シール−tj、x、。
酸素ガスの順に構成され、シールガスとしては、アルゴ
ンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスや窒素ガスあるい
はこれらの混合ガスが用いられる。また必要に応じて更
に上記の順にガスボートを追加してもよい。
ンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスや窒素ガスあるい
はこれらの混合ガスが用いられる。また必要に応じて更
に上記の順にガスボートを追加してもよい。
本発明に用いる炭化水素系ガスとしては例えばメタン、
エタン、プロパン、ブタン、エチレン、アセチレン等が
挙げられる。
エタン、プロパン、ブタン、エチレン、アセチレン等が
挙げられる。
第1図は本発明の最も簡単な実施態様例を示すもので、
同心円筒の6重管バーナーを用いる場合を説明する図で
ある。中心ボート5は上記の如くガラス原料、キャリア
ガスあるいは必要に応じ水素ガスを流す。第2ボート6
及びE6ボート10には酸素ガスを、第3ボート7及び
第5ボート9にはシールガスを、そして第4ボート8に
は炭化水素系ガスを流す、つまり第2ボート以下は酸素
ガス、シールガス、炭化水素系ガス、シールガス、酸素
ガスの順である。
同心円筒の6重管バーナーを用いる場合を説明する図で
ある。中心ボート5は上記の如くガラス原料、キャリア
ガスあるいは必要に応じ水素ガスを流す。第2ボート6
及びE6ボート10には酸素ガスを、第3ボート7及び
第5ボート9にはシールガスを、そして第4ボート8に
は炭化水素系ガスを流す、つまり第2ボート以下は酸素
ガス、シールガス、炭化水素系ガス、シールガス、酸素
ガスの順である。
本発明において使用する多重管バーナは同心円筒形に限
らず、テーパ形状を持つもの、また、矩形、あるいは非
軸対称であって良く、ガラス原料ボートを囲むように火
炎構成用ガスのボートが配置されているものであればよ
い。
らず、テーパ形状を持つもの、また、矩形、あるいは非
軸対称であって良く、ガラス原料ボートを囲むように火
炎構成用ガスのボートが配置されているものであればよ
い。
本発明方法による製造工程は、本発明が本質的に炭化水
素系ガスを燃焼ガスとして用いて、ガラス微粒子を堆積
させる工程のガスの流し方に特徴を有するものであるの
で、堆積工程以後ファイバとするまでの工程はいかなる
方法によってもよい。
素系ガスを燃焼ガスとして用いて、ガラス微粒子を堆積
させる工程のガスの流し方に特徴を有するものであるの
で、堆積工程以後ファイバとするまでの工程はいかなる
方法によってもよい。
以下実施例および比較例をあげて本発明の詳細な説明す
る。
る。
実施例1
M1図に示す6重管バーナを用いて、第2ポートから酸
素ガス5々9.第3ボートからアルゴンガス4t/分、
第4ボートからメタンガスを主成分とする天然ガスs
t/分、第5ボートから窒素ガスS t/分、第6ボー
トから酸素ガス10t/分、をそれぞれ流して火炎を形
成し、中心ボートからアルゴンガスをキャリアガスとし
て16砂流して、4塩化ケイ素α36t/分を投入した
。
素ガス5々9.第3ボートからアルゴンガス4t/分、
第4ボートからメタンガスを主成分とする天然ガスs
t/分、第5ボートから窒素ガスS t/分、第6ボー
トから酸素ガス10t/分、をそれぞれ流して火炎を形
成し、中心ボートからアルゴンガスをキャリアガスとし
て16砂流して、4塩化ケイ素α36t/分を投入した
。
火炎の根本をガラス棒で探って、炭素微粒子の付着が認
められないことを確認した。
められないことを確認した。
出発材は、外径&5鱈の純シリカガラス棒を口伝させ、
火炎をこの上で往復させて、ガラス微粒子を堆積させた
。多孔質ガラス体のカサ密度の径方向の変動を抑えるた
めに、キャリアガスは、該多孔質ガラス体の外径に応じ
て、徐々にα4 t/分 まで下げた。多孔質ガラス体
の外径が80IIII+になるまで堆積を行なったが、
炭素微粒子の混入は認められなかった。該出発材と該多
孔質ガラス体の複合構造体をヘリウムガス5t/分、塩
素ガスQ、05t/分、6フツ化硫黄ガス11.2t/
分、の雰囲気中、温度1300℃、下降速度5露/分の
条件にて脱水及び弗素のドーピングを行った。次に、ヘ
リウムガス10t/分の雰囲気中、温116so℃、下
降速度37mInの条件にて透明ガラス化を行った。更
に、該透明ガラス体を延伸して、外径?flとし、第1
回目と同条件で外径が70mmとなるまでガラス微粒子
を堆積させた後、脱水及び弗素のドーピングと透明ガラ
ス化を、上と同じ条件で行った。
火炎をこの上で往復させて、ガラス微粒子を堆積させた
。多孔質ガラス体のカサ密度の径方向の変動を抑えるた
めに、キャリアガスは、該多孔質ガラス体の外径に応じ
て、徐々にα4 t/分 まで下げた。多孔質ガラス体
の外径が80IIII+になるまで堆積を行なったが、
炭素微粒子の混入は認められなかった。該出発材と該多
孔質ガラス体の複合構造体をヘリウムガス5t/分、塩
素ガスQ、05t/分、6フツ化硫黄ガス11.2t/
分、の雰囲気中、温度1300℃、下降速度5露/分の
条件にて脱水及び弗素のドーピングを行った。次に、ヘ
リウムガス10t/分の雰囲気中、温116so℃、下
降速度37mInの条件にて透明ガラス化を行った。更
に、該透明ガラス体を延伸して、外径?flとし、第1
回目と同条件で外径が70mmとなるまでガラス微粒子
を堆積させた後、脱水及び弗素のドーピングと透明ガラ
ス化を、上と同じ条件で行った。
以上の工程によシ、第2図に示すような屈折率構造をも
つ光ファイバ中間体が得られた。この光ファイバ中間体
の比屈折率差11は0.3 X。
つ光ファイバ中間体が得られた。この光ファイバ中間体
の比屈折率差11は0.3 X。
コア径12とクラツド径13の比は9倍であった。
これに更にジャケット用石英ガラス管を被せた後、線引
して第3図に示すような屈折率構造のファイバ外径14
が125μm、クラツド径15が65pm、コア径16
が7pm、の光ファイバが得られた。この光ファイバの
伝送特性は波長1.3pm において損失14B/に@
以下で、シングルモードファイバとして良好なものでお
った。
して第3図に示すような屈折率構造のファイバ外径14
が125μm、クラツド径15が65pm、コア径16
が7pm、の光ファイバが得られた。この光ファイバの
伝送特性は波長1.3pm において損失14B/に@
以下で、シングルモードファイバとして良好なものでお
った。
比較例1
第4図に示した様な4重管バーナーを用いて、中心ボー
ト1からは4塩化ケイ素をα36t/分おヨヒキャリャ
ガスとしてアルゴンガxを1617分、第2ボート2か
らはメタンが主成分の天然ガスを2.1t/分、第5ポ
ート3からはアルゴンガスを1.3々扮、第4ボート4
からは酸素ガスを15t/分、それぞれ流して、外径6
−の純シリカガラス棒上に火炎を往復させて、ガラス微
粒子を堆積させたとζろ、外径が20.になった頃から
多孔質ガラス化が灰色みを帯び、炭素微粒子混入が認め
られた。
ト1からは4塩化ケイ素をα36t/分おヨヒキャリャ
ガスとしてアルゴンガxを1617分、第2ボート2か
らはメタンが主成分の天然ガスを2.1t/分、第5ポ
ート3からはアルゴンガスを1.3々扮、第4ボート4
からは酸素ガスを15t/分、それぞれ流して、外径6
−の純シリカガラス棒上に火炎を往復させて、ガラス微
粒子を堆積させたとζろ、外径が20.になった頃から
多孔質ガラス化が灰色みを帯び、炭素微粒子混入が認め
られた。
上の方法でキャリアガスを酸素IIL6t/分とし、他
は同条件で行ったとζろ、外径50−になった頃から炭
素微粒子混入が認められた。
は同条件で行ったとζろ、外径50−になった頃から炭
素微粒子混入が認められた。
更に酸素キャリアのtま、バーナを5αだけ遠ざけて多
孔質ガラス体の外径が70鱈になるまで火炎の炭素を含
有する部分が多孔質ガラス体に到達しないようにしたと
ころ、外径5〇−に成長したところで多孔質ガラス体は
破裂した。
孔質ガラス体の外径が70鱈になるまで火炎の炭素を含
有する部分が多孔質ガラス体に到達しないようにしたと
ころ、外径5〇−に成長したところで多孔質ガラス体は
破裂した。
このガラス体のカサ密度を測定したところ、α21/d
以下であった。
以下であった。
実施例2
第1図に示す6重管バーナを用いて、第2ないし第6ボ
ートに酸素ガス7t/分、アルゴンガス317分、アセ
チレンガス7L/分、窒素ガス2、217分、酸素ガス
12t/分をこの順に流して火炎を形成し、中心ポート
から酸素ガス17々勿とともに4塩化ケイ素蒸気α42
t/分を投入した。このように形成した火炎を回転する
外径8mφの純シリカガラス棒上で往復させて、ガラス
微粒子を堆積させた。このようにして、外径?O■の多
孔質ガラスとガラス棒の複合構造体を得たが、炭素微粒
子の混入は認められなかった。
ートに酸素ガス7t/分、アルゴンガス317分、アセ
チレンガス7L/分、窒素ガス2、217分、酸素ガス
12t/分をこの順に流して火炎を形成し、中心ポート
から酸素ガス17々勿とともに4塩化ケイ素蒸気α42
t/分を投入した。このように形成した火炎を回転する
外径8mφの純シリカガラス棒上で往復させて、ガラス
微粒子を堆積させた。このようにして、外径?O■の多
孔質ガラスとガラス棒の複合構造体を得たが、炭素微粒
子の混入は認められなかった。
該複合構造体をヘリウムガス5t/分、塩素ガスα05
t/’分、67フ化硫黄ガスα2t/分の雰囲気中、温
度1300℃、下降速度3帽勢の条件にて脱水及び弗素
のドーピングを行った。次にヘリウムガス10t/分の
雰囲気中、温度1650℃。
t/’分、67フ化硫黄ガスα2t/分の雰囲気中、温
度1300℃、下降速度3帽勢の条件にて脱水及び弗素
のドーピングを行った。次にヘリウムガス10t/分の
雰囲気中、温度1650℃。
下降速度5岬傍の条件にて透明ガラス化させた。
更に該透明ガラス体を外径10■に延伸し、第1回目と
同条件で外径が40mとなるまで堆積を行った上、第1
回目と同じ条件で脱水及び弗素ドーピングと透明ガラス
化を行った。
同条件で外径が40mとなるまで堆積を行った上、第1
回目と同じ条件で脱水及び弗素ドーピングと透明ガラス
化を行った。
以上の工程によシ得られた光ファイバ中間体は屈折率構
造が第2図に示すような、比屈折率差11がα3X、コ
ア径12とクラツド径13の比が10倍のものであった
。これに更に、ジャケット用石英ガラス管を被せた後、
線引して、第5図に示すような屈折率構造の、ファイバ
外径14が125μm、クラツド径15が70μm。
造が第2図に示すような、比屈折率差11がα3X、コ
ア径12とクラツド径13の比が10倍のものであった
。これに更に、ジャケット用石英ガラス管を被せた後、
線引して、第5図に示すような屈折率構造の、ファイバ
外径14が125μm、クラツド径15が70μm。
コア径16が7μm、の光ファイバが得られた。
この光ファイバの伝送特性は波長t3μm において損
失1dB/&jl以下で、シングルモードファイバとし
て良好なものであった。
失1dB/&jl以下で、シングルモードファイバとし
て良好なものであった。
比較例2
第4図に示した様な4重管の中心ボート1から酸素ガス
のみ[lL7々扮、第2ボート2ないし第4ボート4か
らはアセチレンガスIO1/分、アルゴンガスt2L/
分、酸素ガス17t/分をこの順に夫々流して、火炎を
形成させた。この火炎内の炭素微粒子の付着の様子をみ
るために、石英棒を火炎中に挿入し観察したととる、多
孔質ガラス体が外径約50mに成長した時点よシ以後に
触れると予想される火炎部位で炭素微粒子の顕しい付着
がみられた。
のみ[lL7々扮、第2ボート2ないし第4ボート4か
らはアセチレンガスIO1/分、アルゴンガスt2L/
分、酸素ガス17t/分をこの順に夫々流して、火炎を
形成させた。この火炎内の炭素微粒子の付着の様子をみ
るために、石英棒を火炎中に挿入し観察したととる、多
孔質ガラス体が外径約50mに成長した時点よシ以後に
触れると予想される火炎部位で炭素微粒子の顕しい付着
がみられた。
更に、中心ボート1と第4ボート4の酸素ガス流量を夫
々t5t/分、191/分とすることで炭素微粒子の生
成を抑制し、バーナを2cmだけ遠ざけた後、5ICt
4 を中心ボート1からIIL42L/分を上記酸素と
ともに投入し、外径61IIIの石英棒を回転させ、火
炎をこの上で往復させて堆積を行ったところ、外径が7
0鱈に成長した時点よシ、ガラス多孔質体の表面に炭素
微粒子が認められ、外径80mで亀裂が発生した。この
ガラス多孔質体を解体して内部を観察したところ、外径
約40−以上の部分で炭素微粒子の混入が認められた。
々t5t/分、191/分とすることで炭素微粒子の生
成を抑制し、バーナを2cmだけ遠ざけた後、5ICt
4 を中心ボート1からIIL42L/分を上記酸素と
ともに投入し、外径61IIIの石英棒を回転させ、火
炎をこの上で往復させて堆積を行ったところ、外径が7
0鱈に成長した時点よシ、ガラス多孔質体の表面に炭素
微粒子が認められ、外径80mで亀裂が発生した。この
ガラス多孔質体を解体して内部を観察したところ、外径
約40−以上の部分で炭素微粒子の混入が認められた。
以上の説明および実施例からも明らかな如く本発明方法
は、ガラス原料を炭化水素系ガスを燃料とする火炎中に
投入して、火炎加水分解してガラス微粒子を合成し、ガ
ラス母材を作成する方法において、多孔質ガラス体の嵩
密度を大きくとれ、割れにくい多孔質ガラス体を作成で
きるという長所はそのまま有し、かつ従来法の欠点であ
った多孔質ガラス体への炭素微粒子混入はないので、安
定して多孔質ガラス体を製造でき、得られる光ファイバ
ー用母材および光ファイバーは伝送損失特性に優れ、又
製造途中の割れもないので、経済上も優れた方法である
。
は、ガラス原料を炭化水素系ガスを燃料とする火炎中に
投入して、火炎加水分解してガラス微粒子を合成し、ガ
ラス母材を作成する方法において、多孔質ガラス体の嵩
密度を大きくとれ、割れにくい多孔質ガラス体を作成で
きるという長所はそのまま有し、かつ従来法の欠点であ
った多孔質ガラス体への炭素微粒子混入はないので、安
定して多孔質ガラス体を製造でき、得られる光ファイバ
ー用母材および光ファイバーは伝送損失特性に優れ、又
製造途中の割れもないので、経済上も優れた方法である
。
また本発明方法は簡単な構造のバーナーで実施できると
いう長所も有する。
いう長所も有する。
第1図は本発明の実地態様例にて用いる6重管バーナー
の断面図、 第2図は本発明の実施例により作成された光ファイバ中
間体の屈折率分布を承1猪危、田、第5図は第2図の光
ファイバ中間体より作成された光ファイバの屈折率分布
1rririaa、i、第4図は従来方法(比較例)に
て用いられる4重管バーナーの断面図である。
の断面図、 第2図は本発明の実施例により作成された光ファイバ中
間体の屈折率分布を承1猪危、田、第5図は第2図の光
ファイバ中間体より作成された光ファイバの屈折率分布
1rririaa、i、第4図は従来方法(比較例)に
て用いられる4重管バーナーの断面図である。
Claims (3)
- (1)多重管バーナを用いて火炎を形成し、該火炎中に
ガラス合成用原料を導入してガラス微粉体を合成し、出
発材上に堆積させた後、該堆積体を加熱透明化する工程
を含む光ファイバ用ガラス母材の製造方法において、該
火炎用燃料として炭化水素系ガスを用い、多重管から流
すガス配置として、該炭化水素系ガスの両隣りにシール
ガスを配置し、かつ、さらにその両隣りに酸素ガスを配
置せしめることを特徴とする光ファイバ用ガラス母材の
製造方法。 - (2)該シールガスとして、アルゴンガス、窒素ガスま
たはヘリウムガスを含むガスを用いる特許請求の範囲第
(1)項記載の光ファイバ用ガラス母材の製造方法。 - (3)該炭化水素系ガスとして、メタンガスまたはアセ
チレンガスを主成分とするガスを用いる特許請求の範囲
第(1)項記載の光ファイバ用ガラス母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19048084A JPS6168340A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19048084A JPS6168340A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168340A true JPS6168340A (ja) | 1986-04-08 |
| JPH0559053B2 JPH0559053B2 (ja) | 1993-08-30 |
Family
ID=16258804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19048084A Granted JPS6168340A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168340A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558661A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-09 | Fujikura Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| DE102006061931B3 (de) * | 2006-12-21 | 2008-04-17 | Institut für Physikalische Hochtechnologie e.V. | Verfahren zur Herstellung von Quarzglas mit geringem OH-Gehalt |
| US10618833B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a synthetic quartz glass grain |
| US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
| US10730780B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-08-04 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
| US11299417B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-04-12 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal |
| US11339076B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-05-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| US11492282B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven |
| US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
-
1984
- 1984-09-13 JP JP19048084A patent/JPS6168340A/ja active Granted
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558661A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-09 | Fujikura Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| DE102006061931B3 (de) * | 2006-12-21 | 2008-04-17 | Institut für Physikalische Hochtechnologie e.V. | Verfahren zur Herstellung von Quarzglas mit geringem OH-Gehalt |
| US10618833B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a synthetic quartz glass grain |
| US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
| US10730780B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-08-04 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
| US11299417B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-04-12 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal |
| US11339076B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-05-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| US11492282B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven |
| US11708290B2 (en) | 2015-12-18 | 2023-07-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0559053B2 (ja) | 1993-08-30 |
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