JPS6169633A - 薄板体の立替方法及びその立替装置 - Google Patents
薄板体の立替方法及びその立替装置Info
- Publication number
- JPS6169633A JPS6169633A JP59190871A JP19087184A JPS6169633A JP S6169633 A JPS6169633 A JP S6169633A JP 59190871 A JP59190871 A JP 59190871A JP 19087184 A JP19087184 A JP 19087184A JP S6169633 A JPS6169633 A JP S6169633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin plate
- holder
- pair
- wafers
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、例えば半導体ウニへ等の薄板体の多数枚を
平行配列状態のまま、一方の保持具に立て替える立替方
法及びその立替装置の改良に関するものである。
平行配列状態のまま、一方の保持具に立て替える立替方
法及びその立替装置の改良に関するものである。
従来一般に知られているこの種の方法並びに装置を第1
図ないし第2図で説明する。図において、1(よテフロ
ンの様な合成t14脂で作られた洗浄キャリヤで、互に
対向する両側部]aの内面に(よ夫/Z平行にくし形溝
1bが多数(例えば3716インチのピッチで25箇所
)]屈設され、また、両側部1aは連結棒IEで結合さ
れている。lclよ洗浄キャリヤ1の上下方向を解放す
る解放部、1dは側部laの上面に設けられた係合突起
、1eは同様に側部1aの上面に設けられた係合穴、2
(ゴ半導体ウェハ、3ば上面に多数の円弧溝38が+[
設された皿状の拡散ボートで、拡散炉の1品度1000
℃〜1300℃に#4又得るように石英、シリコン、ン
リコンカーバイド、セラミック等の耐熱性材料で11カ
成されている。4は半導体ウェハ2を把むピンセソ!・
である。
図ないし第2図で説明する。図において、1(よテフロ
ンの様な合成t14脂で作られた洗浄キャリヤで、互に
対向する両側部]aの内面に(よ夫/Z平行にくし形溝
1bが多数(例えば3716インチのピッチで25箇所
)]屈設され、また、両側部1aは連結棒IEで結合さ
れている。lclよ洗浄キャリヤ1の上下方向を解放す
る解放部、1dは側部laの上面に設けられた係合突起
、1eは同様に側部1aの上面に設けられた係合穴、2
(ゴ半導体ウェハ、3ば上面に多数の円弧溝38が+[
設された皿状の拡散ボートで、拡散炉の1品度1000
℃〜1300℃に#4又得るように石英、シリコン、ン
リコンカーバイド、セラミック等の耐熱性材料で11カ
成されている。4は半導体ウェハ2を把むピンセソ!・
である。
上記のように構成されたものにおいて、まず、iZ 7
Pキヤリヤ1のくし形溝1bの夫々に第1図の如くピン
セット4でウェハ2を挿入し、次にウェハ2を挿入した
洗浄キャリヤ1を洗浄装置に配置し、硝酸などの強酸類
てウェハ2の拡散前処理が1度に実施される。一方、不
純物拡散工程においては、拡散炉内でガスをウェハ2に
環流させろために、或いは、ウェハ2の1000℃〜1
300℃の高温状態での加熱履歴を一様にするために、
ウェハ2を上面に立てることが可能な皿状のボー1−3
が用いられている。従って、洗浄キャリヤ1内のウェハ
2は拡散工程へ移行させるためにボート3へ移し替えろ
ことが必要となる。ところで、拡散のためのボート3や
今ウェハ2は周知のように極めて清浄に取り扱うことが
要求されており、手で囲むことは許されないので、その
作業も特別な作業となる。例えば、第1図の洗浄キャリ
ヤ1のくし形1rI¥lb内のウェハ2はピンセット4
にて一枚づつ第2図の拡散用のボート3の円弧溝3aに
立て替えたり、又は、洗浄キャリヤ1の係合突起1dや
係合穴1eて他の工程のウェハ保持具の位置決めし、相
互の開口部を合わせてウェハ2を一括に反転させて移し
替えたりしていた。
Pキヤリヤ1のくし形溝1bの夫々に第1図の如くピン
セット4でウェハ2を挿入し、次にウェハ2を挿入した
洗浄キャリヤ1を洗浄装置に配置し、硝酸などの強酸類
てウェハ2の拡散前処理が1度に実施される。一方、不
純物拡散工程においては、拡散炉内でガスをウェハ2に
環流させろために、或いは、ウェハ2の1000℃〜1
300℃の高温状態での加熱履歴を一様にするために、
ウェハ2を上面に立てることが可能な皿状のボー1−3
が用いられている。従って、洗浄キャリヤ1内のウェハ
2は拡散工程へ移行させるためにボート3へ移し替えろ
ことが必要となる。ところで、拡散のためのボート3や
今ウェハ2は周知のように極めて清浄に取り扱うことが
要求されており、手で囲むことは許されないので、その
作業も特別な作業となる。例えば、第1図の洗浄キャリ
ヤ1のくし形1rI¥lb内のウェハ2はピンセット4
にて一枚づつ第2図の拡散用のボート3の円弧溝3aに
立て替えたり、又は、洗浄キャリヤ1の係合突起1dや
係合穴1eて他の工程のウェハ保持具の位置決めし、相
互の開口部を合わせてウェハ2を一括に反転させて移し
替えたりしていた。
従って、ピンセット4を利用して1枚つつウェハ2を人
手で立て替える場合は、作業性が劣り、しかも自動化を
妨げろ要因となるばかりでなく、作業中にウェハ2が破
損したり、ピンセノ1〜4によりウェハ2が汚染される
等の問題点があり、また、洗浄キャリヤ1を他の保持具
と位置合わせして一括に反転させて移し替えろ場合にお
いても、位置合わせや、反転作業により、同様に作業性
が劣り、しかも手作業となりがちであった。
手で立て替える場合は、作業性が劣り、しかも自動化を
妨げろ要因となるばかりでなく、作業中にウェハ2が破
損したり、ピンセノ1〜4によりウェハ2が汚染される
等の問題点があり、また、洗浄キャリヤ1を他の保持具
と位置合わせして一括に反転させて移し替えろ場合にお
いても、位置合わせや、反転作業により、同様に作業性
が劣り、しかも手作業となりがちであった。
そこで、これらの欠点を改善した他の立替方法として実
公昭53−48591号公報に開示されている方法があ
る。これを第3図で説明する。図において、5は洗浄キ
ャリヤ1の解放部lc内を上下し得るウェハ2の押し上
げ具で、上記解放部lc内をスライドする台部5aと、
この台部5aの頂部上面に設けられたホルダ部5bと、
このホルダ部5b上面にウェハ2を載置する保持溝5C
を有している。なお、押し上げ具5の台部5aは石英ガ
ラス、ステンレス鋼、塩化ビニール四指、テフロン(コ
(脂が用いられ、ホルダ部5bは洗浄が容易となるテフ
ロン樹脂、石英ガラス等が用いられ、また、ホルダ部5
bの清浄度を管理できるように台部5aから分離可能に
構成されている。上記のように構成されたものにおいて
は、まず、洗浄キャリヤ1の各クシ形7g1bにウェハ
2をピンセット4で挿入し、洗浄工程へと移る。次に、
拡散工程では、まず、洗浄キャリヤ1の解放部IC内で
押し上げ具5を上方にスライドさせ、押し上げ具5の保
持if& 5 cにウェハ2を係合させ、ホルダ部5b
を洗浄キャリヤ1から取りはずして、例えば拡散炉に挿
入することになる。
公昭53−48591号公報に開示されている方法があ
る。これを第3図で説明する。図において、5は洗浄キ
ャリヤ1の解放部lc内を上下し得るウェハ2の押し上
げ具で、上記解放部lc内をスライドする台部5aと、
この台部5aの頂部上面に設けられたホルダ部5bと、
このホルダ部5b上面にウェハ2を載置する保持溝5C
を有している。なお、押し上げ具5の台部5aは石英ガ
ラス、ステンレス鋼、塩化ビニール四指、テフロン(コ
(脂が用いられ、ホルダ部5bは洗浄が容易となるテフ
ロン樹脂、石英ガラス等が用いられ、また、ホルダ部5
bの清浄度を管理できるように台部5aから分離可能に
構成されている。上記のように構成されたものにおいて
は、まず、洗浄キャリヤ1の各クシ形7g1bにウェハ
2をピンセット4で挿入し、洗浄工程へと移る。次に、
拡散工程では、まず、洗浄キャリヤ1の解放部IC内で
押し上げ具5を上方にスライドさせ、押し上げ具5の保
持if& 5 cにウェハ2を係合させ、ホルダ部5b
を洗浄キャリヤ1から取りはずして、例えば拡散炉に挿
入することになる。
ところが、ホルダ部5bはウェハ2の下部を支えろもの
であり、ウェハ2を保持溝5Cに係合させろ場合、ホル
ダ部5bが洗浄キャリヤ1を解放部IC内をスライドす
るものであるから、その幅寸法はおのずから小となる。
であり、ウェハ2を保持溝5Cに係合させろ場合、ホル
ダ部5bが洗浄キャリヤ1を解放部IC内をスライドす
るものであるから、その幅寸法はおのずから小となる。
この結果、ボート上のウェハが振動等で倒れる等の欠点
があるばかりでな(、洗浄キャリヤのくし形溝1bと同
長の保持?lつを有ずろボートが必要となり、ボートの
長さを自由に選択てきないという欠点も有していた。
があるばかりでな(、洗浄キャリヤのくし形溝1bと同
長の保持?lつを有ずろボートが必要となり、ボートの
長さを自由に選択てきないという欠点も有していた。
この発明は、かかる欠点を改善する目的でなされたもの
で、一方の保持具の主面上に整列して載置された多数枚
の薄板体を上記他方の保持共の主面上に一括して立替す
る際に、上記一方の保持具に載置された上記薄板体の配
列と同一ピンチの上記薄板体保持溝を有する一対の支持
部を、上記一方の保持共の両側に一且位置させ、その後
、上記一対の支持部を上方に持ち上げることにより、上
記薄板体保持溝に上記薄板体を係合させてすくい上げ、
次に上記他方の保持具の両側に上記一対の支持部が位置
するように上記一対の支持部を下降させろと共に、上記
各薄板体を上記他方の保持具の各薄板体保持i1+¥に
係合させることにより、上記薄板体を上記他方の保持共
に立替えることにより、また、主面上に多数の第1の薄
板体保持i1°1¥が整列されtコ保持具の幅よりも大
なる間隔て対向し、多数の薄板体の両側下部に係合し得
る一対の係合部、及びこの一対の係合部の夫々の一端を
結合する把持部を備えろことにより、薄板体を安定に且
つ迅速に立替えてきる薄板体の立替方法並びにその立替
装置を提供するもである。
で、一方の保持具の主面上に整列して載置された多数枚
の薄板体を上記他方の保持共の主面上に一括して立替す
る際に、上記一方の保持具に載置された上記薄板体の配
列と同一ピンチの上記薄板体保持溝を有する一対の支持
部を、上記一方の保持共の両側に一且位置させ、その後
、上記一対の支持部を上方に持ち上げることにより、上
記薄板体保持溝に上記薄板体を係合させてすくい上げ、
次に上記他方の保持具の両側に上記一対の支持部が位置
するように上記一対の支持部を下降させろと共に、上記
各薄板体を上記他方の保持具の各薄板体保持i1+¥に
係合させることにより、上記薄板体を上記他方の保持共
に立替えることにより、また、主面上に多数の第1の薄
板体保持i1°1¥が整列されtコ保持具の幅よりも大
なる間隔て対向し、多数の薄板体の両側下部に係合し得
る一対の係合部、及びこの一対の係合部の夫々の一端を
結合する把持部を備えろことにより、薄板体を安定に且
つ迅速に立替えてきる薄板体の立替方法並びにその立替
装置を提供するもである。
以下、この発明の一実施例を第4図ないし第5図で説明
する。6は断面円弧状に形成され、互に間隔Wて対向し
、テフロンIf1411i9、石英ガラス等の酸類て洗
浄し易い材料からなる一対の支持部6aを有した立替具
、6bは一対の支持部6aに夫々形成され、ウェハ2の
中央部から雨下側を保持する保持溝て、配列ピンチは押
し上げ具5の保持具5aのピッチと同一ピンチに形成さ
れている。6Cは一対の支持部6aを一定間隔W及び一
定角度で固定する把持部て、一対の支持部6aがテフロ
ンt”(1lfffて作られた場合はステンレス錆で構
成され、石英ガラスで作られた場合は石英ガラスをその
まま延長されて構成され、ウェハ2に対し発塵や汚染を
波及しない材料とされている。7はウェハ2を支持する
複数のウェハ保持部7aを有した例えば石英ガラス、多
結晶シリコン、ンリコンカーバイト等よりなる拡散ボー
トてウェハ保持部7aの幅寸法は一対の支持部6aの間
隔Wよりも若干小さい寸法となっている。7bは複数の
ウェハ保持部7aを支える一対のレール部、7Cは上記
一対のレール部7bよりも高い位置で上記複数のウェハ
保持部7aを上記一対のレール部7bに固定する複数の
一対の支柱で、上記立替具6の一対の支持部6aの双方
がウェハ保持部7aの平方に挿入できろ様になされてい
る。7dはウェハ保持部7aに形成された表敬の円弧溝
て立替具6のウェハ保持部2と係合するように、上記一
対の支持部6aの保持11I¥6bと同ピンチに構成さ
れろ。
する。6は断面円弧状に形成され、互に間隔Wて対向し
、テフロンIf1411i9、石英ガラス等の酸類て洗
浄し易い材料からなる一対の支持部6aを有した立替具
、6bは一対の支持部6aに夫々形成され、ウェハ2の
中央部から雨下側を保持する保持溝て、配列ピンチは押
し上げ具5の保持具5aのピッチと同一ピンチに形成さ
れている。6Cは一対の支持部6aを一定間隔W及び一
定角度で固定する把持部て、一対の支持部6aがテフロ
ンt”(1lfffて作られた場合はステンレス錆で構
成され、石英ガラスで作られた場合は石英ガラスをその
まま延長されて構成され、ウェハ2に対し発塵や汚染を
波及しない材料とされている。7はウェハ2を支持する
複数のウェハ保持部7aを有した例えば石英ガラス、多
結晶シリコン、ンリコンカーバイト等よりなる拡散ボー
トてウェハ保持部7aの幅寸法は一対の支持部6aの間
隔Wよりも若干小さい寸法となっている。7bは複数の
ウェハ保持部7aを支える一対のレール部、7Cは上記
一対のレール部7bよりも高い位置で上記複数のウェハ
保持部7aを上記一対のレール部7bに固定する複数の
一対の支柱で、上記立替具6の一対の支持部6aの双方
がウェハ保持部7aの平方に挿入できろ様になされてい
る。7dはウェハ保持部7aに形成された表敬の円弧溝
て立替具6のウェハ保持部2と係合するように、上記一
対の支持部6aの保持11I¥6bと同ピンチに構成さ
れろ。
上記のように植成されたものにおいては、まず、第4図
のように押し上げ具5のホルダ部5bには、その保持溝
5Cにウェハ2が配列されているうここて、立替具6の
一対の支持部6aをホルダ部5bの両側に挿入し、上方
に持ら上げる乙とにより、ホルダ部5bのウェハ2が保
持溝6bに立て替えられる。次に、ウェハ2をウェハ保
持部7aの円弧溝7dに合わせて立替具6の一対の支持
部6aを拡散ボート7の上方から下方にウェハ保持部7
aの両側まで挿入することにより、ウェハ保持部7aの
円弧溝7dにウェハ2が一括して係合される。ここで、
一対の支持部6aをウェハ保持部7aよりも更に下降さ
せ、立替具6を引き扱くことにより、立替具6のウェハ
2は拡散ボート7に立替えられることになる。その後、
拡散ボート7は拡散炉に入れられ、所定の熱拡散、熱酸
化等の処理が実行される。
のように押し上げ具5のホルダ部5bには、その保持溝
5Cにウェハ2が配列されているうここて、立替具6の
一対の支持部6aをホルダ部5bの両側に挿入し、上方
に持ら上げる乙とにより、ホルダ部5bのウェハ2が保
持溝6bに立て替えられる。次に、ウェハ2をウェハ保
持部7aの円弧溝7dに合わせて立替具6の一対の支持
部6aを拡散ボート7の上方から下方にウェハ保持部7
aの両側まで挿入することにより、ウェハ保持部7aの
円弧溝7dにウェハ2が一括して係合される。ここで、
一対の支持部6aをウェハ保持部7aよりも更に下降さ
せ、立替具6を引き扱くことにより、立替具6のウェハ
2は拡散ボート7に立替えられることになる。その後、
拡散ボート7は拡散炉に入れられ、所定の熱拡散、熱酸
化等の処理が実行される。
さて、拡散炉から出された拡散ボート7は上述のウェハ
2の立替え動作とは逆の動作により、洗浄キャリヤ1に
立替丸られ、久の工程が実行される。
2の立替え動作とは逆の動作により、洗浄キャリヤ1に
立替丸られ、久の工程が実行される。
ところで、上記説明では、洗浄キャリヤ1内を押し上げ
具5とを同一長さにしたもので説明したが、押し上げ具
5の長手方向の長さを洗浄キャリヤ1の長さよりも小さ
く (例えば1/2)しておれば、拡散ボート7に立て
替えられるウェハ2の枚数は半分となるから全体として
幅の狭い拡散ボー)・7が形成され、小口径の拡散炉に
投入ずろことがてき、押し上げ具5による立て替え枚数
の制御が可能となる。
具5とを同一長さにしたもので説明したが、押し上げ具
5の長手方向の長さを洗浄キャリヤ1の長さよりも小さ
く (例えば1/2)しておれば、拡散ボート7に立て
替えられるウェハ2の枚数は半分となるから全体として
幅の狭い拡散ボー)・7が形成され、小口径の拡散炉に
投入ずろことがてき、押し上げ具5による立て替え枚数
の制御が可能となる。
同様に、別の手段としては、立¥jf具6の一対の支持
部6aの長さを洗浄キャリヤの例えば半分の長さにすれ
ば、上記同様にすくい上げろ枚数、即ち立て替え枚数を
制御できる。
部6aの長さを洗浄キャリヤの例えば半分の長さにすれ
ば、上記同様にすくい上げろ枚数、即ち立て替え枚数を
制御できる。
なお、また、上記説明では、半導体ウェハ2の立て替え
手段について説明したが、他の薄板体、例えば水晶板、
ガラス板、サファイヤ板、セラミック板等の立替えにも
充分に利用てきろことはδ゛うまでもない。
手段について説明したが、他の薄板体、例えば水晶板、
ガラス板、サファイヤ板、セラミック板等の立替えにも
充分に利用てきろことはδ゛うまでもない。
以上のようにこの発明は1方の保持具の主面上に整列し
て載置された多数枚の薄板体を上記他方の保持具の主面
上に一括して立替する際に、上記一方の保持具に載置さ
れた上記薄板体の配列と同一ピンチの上記薄板体保持溝
を有する一対の支持部を、上記一方の保持具の両側に一
且位置させ、その後、上記一対の支持部を上方に持ち上
げることにより、上記薄板体、保持溝に上記薄板体を係
合させてすくい上げ、次に上記他方の保持工1の両O1
1に上記一対の支持部が位置するように上記一対の支持
部を下降させろと共に、上記各薄板体を上記他方の保持
具の各薄板体保持溝に係合させることにより、上記薄板
体を他方の保持具に立替えろようにしたので、また、主
面上に表敬の第1の薄板体保持溝が整列された保持共の
幅よりも大なる間隔で対向し、表敬の薄板体の両側下部
に係合しス1)ろ一対の係合部、及びこの一対の係合部
の夫、+7の一端を結合ずろ把持部を備えたのて、ピー
、七ノ)・を介さずに表敬の薄板体を一括して立て替丈
ろことがてきるばかりてな(、立替時等にJjいて多数
の薄凹体の倒れを防出てさ、安定に且つ迅速に立て睦左
作業を実行できる効果があるっ 4 、 la triの簡単な説明 第1図は従来のウェハの立て替え方法を示す斜視図、第
2図は同様に拡散ボートへの立て替え方法を示す斜視図
、第3図はウェハを洗浄キャリヤより押し出す従来の過
程を示す?′)視図、第4図はこの発明の一実施例を示
す側部の断面図、第5図(まウェハを立替具より拡散ボ
ートに立て替えるこの発明の過程を示す斜視図である。
て載置された多数枚の薄板体を上記他方の保持具の主面
上に一括して立替する際に、上記一方の保持具に載置さ
れた上記薄板体の配列と同一ピンチの上記薄板体保持溝
を有する一対の支持部を、上記一方の保持具の両側に一
且位置させ、その後、上記一対の支持部を上方に持ち上
げることにより、上記薄板体、保持溝に上記薄板体を係
合させてすくい上げ、次に上記他方の保持工1の両O1
1に上記一対の支持部が位置するように上記一対の支持
部を下降させろと共に、上記各薄板体を上記他方の保持
具の各薄板体保持溝に係合させることにより、上記薄板
体を他方の保持具に立替えろようにしたので、また、主
面上に表敬の第1の薄板体保持溝が整列された保持共の
幅よりも大なる間隔で対向し、表敬の薄板体の両側下部
に係合しス1)ろ一対の係合部、及びこの一対の係合部
の夫、+7の一端を結合ずろ把持部を備えたのて、ピー
、七ノ)・を介さずに表敬の薄板体を一括して立て替丈
ろことがてきるばかりてな(、立替時等にJjいて多数
の薄凹体の倒れを防出てさ、安定に且つ迅速に立て睦左
作業を実行できる効果があるっ 4 、 la triの簡単な説明 第1図は従来のウェハの立て替え方法を示す斜視図、第
2図は同様に拡散ボートへの立て替え方法を示す斜視図
、第3図はウェハを洗浄キャリヤより押し出す従来の過
程を示す?′)視図、第4図はこの発明の一実施例を示
す側部の断面図、第5図(まウェハを立替具より拡散ボ
ートに立て替えるこの発明の過程を示す斜視図である。
尚、各図中同一符号は同一、若しくは相当部分を示す。
1(よ洗浄キャリヤ、2ばウェハ、5は押し上げ具、6
は立替具、6aは一対の支持部、6bは保持溝、6Cは
把持部、7は拡散ボートである。
は立替具、6aは一対の支持部、6bは保持溝、6Cは
把持部、7は拡散ボートである。
Claims (2)
- (1)一方の保持具の主面上に整列して載置された多数
枚の薄板体を他方の保持具の主面上に一括して立替する
際に、上記一方の保持具に載置された上記薄板体の配列
と同一ピッチの上記薄板体保持溝を有する一対の支持部
を、上記一方の保持具の両側に一且位置させ、その後、
上記一対の支持部を上方に持ち上げることにより、上記
薄板体保持溝に上記薄板体を係合させてすくい上げ、次
に上記他方の保持具の両側に上記一対の支持部が位置す
るように上記一対の支持部を下降させると共に、上記各
薄板体を上記他方の保持具の各薄板体保持溝に係合させ
ることにより、上記薄板体を上記他方の保持具に立替え
ることからなる薄板体の立替方法。 - (2)主面上に多数の第1の薄板体保持溝が整列された
保持具の幅よりも大なる間隔で対向し、多数の薄板体の
両側下部に係合し得る一対の係合部、及びこの一対の係
合部の夫々の一端を結合する把持部を備えた薄板体の立
替装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190871A JPS6169633A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 薄板体の立替方法及びその立替装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190871A JPS6169633A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 薄板体の立替方法及びその立替装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6169633A true JPS6169633A (ja) | 1986-04-10 |
Family
ID=16265140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59190871A Pending JPS6169633A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 薄板体の立替方法及びその立替装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6169633A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008224094A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Osaka Gas Co Ltd | 自然混合式のガスバーナ |
| CN109454640A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-12 | 惠科股份有限公司 | 一种缩短交换片时长的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5759346A (en) * | 1980-09-29 | 1982-04-09 | Nec Kyushu Ltd | Auxiliary holder for semiconductor substrate |
-
1984
- 1984-09-10 JP JP59190871A patent/JPS6169633A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5759346A (en) * | 1980-09-29 | 1982-04-09 | Nec Kyushu Ltd | Auxiliary holder for semiconductor substrate |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008224094A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Osaka Gas Co Ltd | 自然混合式のガスバーナ |
| CN109454640A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-12 | 惠科股份有限公司 | 一种缩短交换片时长的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3245246B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| TW561503B (en) | Retainer for use in heat treatment of substrate, substrate heat treatment equipment, and method of manufacturing the retainer | |
| KR100530407B1 (ko) | 반도체 제조 장치 | |
| JPH0342821A (ja) | 半導体ウエハの熱処理方法およびそのためのウエハハンガーならびに半導体ウエハ | |
| JPH09167793A (ja) | 半導体ウエハ支持装置、半導体ウエハ支持方法およびそれに用いられるウエハ弾性支持体の製造方法 | |
| KR100285081B1 (ko) | 웨이퍼보트 회전장치 | |
| EP0600516A1 (en) | Diffusion furnace boat assembly and wafer support | |
| JPH061436A (ja) | ウェーハ移送装置 | |
| JPS5936417B2 (ja) | 半導体基板への高周波誘導加熱による拡散装置 | |
| JP2003142407A (ja) | 薄膜成長装置用のリフトピン、その形成方法およびリフトピン頭部 | |
| JP3388668B2 (ja) | 熱処理用ボ−ト及び縦型熱処理装置 | |
| JPS5890735A (ja) | 薄板体の移しかえ方法 | |
| JP3157738B2 (ja) | ウエハ移載装置および移載方法 | |
| WO2004112113A1 (ja) | 半導体ウエーハの熱処理方法及び熱処理用縦型ボート | |
| US6814808B1 (en) | Carrier for semiconductor wafers | |
| JPS5832266Y2 (ja) | 薄板体の立替具 | |
| JPH1070171A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JPS5832265Y2 (ja) | 薄板体の整列具 | |
| JPS5918856B2 (ja) | ウエハの取り扱い方法 | |
| JPS6020510A (ja) | 不純物拡散方法 | |
| JPS6233437A (ja) | 半導体ウエハの整列装置 | |
| JP2003282683A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH01308043A (ja) | 半導体ウエハのボート立替装置 | |
| JPH0249714Y2 (ja) | ||
| JPS6379341A (ja) | ウエハ−移載装置 |