JPS6183253A - 室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法 - Google Patents
室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法Info
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- JPS6183253A JPS6183253A JP60186783A JP18678385A JPS6183253A JP S6183253 A JPS6183253 A JP S6183253A JP 60186783 A JP60186783 A JP 60186783A JP 18678385 A JP18678385 A JP 18678385A JP S6183253 A JPS6183253 A JP S6183253A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は改善された貯蔵性及び銅金属に対して低減され
た腐食傾向を示す室温加硫性オルガノポリシロキリン組
成物に関する。特に本発明は炭素−錫結合によって錫に
結合されているオルガノ基をもちかつ錫の残りの原子価
はアリールトリアゾレート基によって渦だされている錫
縮合触媒、たとえばジ(n−ブヂル)錫ビス(ペンシト
リアシレート)を用いる湿分硬化性オルガノポリシロキ
リン組成物に関するものである。
た腐食傾向を示す室温加硫性オルガノポリシロキリン組
成物に関する。特に本発明は炭素−錫結合によって錫に
結合されているオルガノ基をもちかつ錫の残りの原子価
はアリールトリアゾレート基によって渦だされている錫
縮合触媒、たとえばジ(n−ブヂル)錫ビス(ペンシト
リアシレート)を用いる湿分硬化性オルガノポリシロキ
リン組成物に関するものである。
従】この技術
ブラウン(B rown )らの米国特許第3.161
゜614号明細書に示されるごとく、本発明に先立って
、ポリアルコ4ニジ末端ポリシロ4−リン及びモノカル
ボン酸金属塩触媒、たとえばジブデル錫ジラウレートを
用いて安定な室温加硫性(RTV)組成物を製造する試
みがなされている。これらの組成物は満犀に硬化しない
ものであった。ビールス([3eers )は、米国特
許第=1,100.129号明細書に記載のごとく、金
属−酸素−炭素結合によって金属に結合されたオルガノ
基をもつシラノール反応性Δルガノ金属エステルを縮合
触媒どして使用することによって改良された結果を得た
。
゜614号明細書に示されるごとく、本発明に先立って
、ポリアルコ4ニジ末端ポリシロ4−リン及びモノカル
ボン酸金属塩触媒、たとえばジブデル錫ジラウレートを
用いて安定な室温加硫性(RTV)組成物を製造する試
みがなされている。これらの組成物は満犀に硬化しない
ものであった。ビールス([3eers )は、米国特
許第=1,100.129号明細書に記載のごとく、金
属−酸素−炭素結合によって金属に結合されたオルガノ
基をもつシラノール反応性Δルガノ金属エステルを縮合
触媒どして使用することによって改良された結果を得た
。
経験にJ、れば、錫−酸素−炭素結合によって錫に結合
されたオルガノ基を有するシラノール反応14オルガノ
錫化合物をRTV縮合触媒として使用する場合には、j
qられる湿分硬化性組成物はしばしば不安定である。
されたオルガノ基を有するシラノール反応14オルガノ
錫化合物をRTV縮合触媒として使用する場合には、j
qられる湿分硬化性組成物はしばしば不安定である。
以下本明細出において使用する場合、本発明の一液性ポ
リアル]キシ末端オルガノボリシロキザンRTV組成物
に適用する際の用語“′安定な″は人気湿分を排除した
状態で1,1ガ質的に変化することなく保持され得るも
のでありかつ延長された貯蔵期間後に不粘着・14エラ
ストマーに硬化する湿分硬化性混合物を意味するもので
ある。さらに、安定なRTVは大気条件下で新たに混合
されたRTV成分によって示される不粘着時間が同一の
成分の混合物を耐湿↑4かつ湿分を含まない容器中に周
囲条件下で延長された貯蔵期間の間保持された後又は高
温での促進老化に基づく等雨期間の間保持された後に人
気湿分に暴露された場合に示される不粘着時間と実質的
に同一・であるだるうことを意味する。
リアル]キシ末端オルガノボリシロキザンRTV組成物
に適用する際の用語“′安定な″は人気湿分を排除した
状態で1,1ガ質的に変化することなく保持され得るも
のでありかつ延長された貯蔵期間後に不粘着・14エラ
ストマーに硬化する湿分硬化性混合物を意味するもので
ある。さらに、安定なRTVは大気条件下で新たに混合
されたRTV成分によって示される不粘着時間が同一の
成分の混合物を耐湿↑4かつ湿分を含まない容器中に周
囲条件下で延長された貯蔵期間の間保持された後又は高
温での促進老化に基づく等雨期間の間保持された後に人
気湿分に暴露された場合に示される不粘着時間と実質的
に同一・であるだるうことを意味する。
化学的に結合されたヒドロキシ基、水又はメタノールを
除去するためのシラン脱除剤(スカベンジャー)の使用
によってJこりずぐれた効果が達成されることはホワイ
ト(White)らの米国特許第4.395,526号
明細書に記載されている。
除去するためのシラン脱除剤(スカベンジャー)の使用
によってJこりずぐれた効果が達成されることはホワイ
ト(White)らの米国特許第4.395,526号
明細書に記載されている。
しかしながら、これらのシラン脱除剤、たとえばメチル
ツメ1ヘキシ−(N−メチルアセトアミド)シランの製
造はしばしば特別の技術を必要とし、しかも硬化中に望
ましくない副生物を生成し得る。
ツメ1ヘキシ−(N−メチルアセトアミド)シランの製
造はしばしば特別の技術を必要とし、しかも硬化中に望
ましくない副生物を生成し得る。
−液性アル」キシ官能性RTV組成物及びぞの製造法に
使用される脱除剤についての別の改良はジアーク(Dz
iark )の米国特許第4,417,042号明細書
に記載されている。
使用される脱除剤についての別の改良はジアーク(Dz
iark )の米国特許第4,417,042号明細書
に記載されている。
1983年4月1日付で出願されたホワイ1〜(Whi
te)らの米国特許出願第481,524月明細書には
、−液↑(lの安定な湿分硬化性アルコキシ末端オルガ
ノポリシロキザン組成物について痕跡ωの水、メタノー
ル及びシラノール用の有機脱除剤のの使用が示されてい
る。化学的に結合されたヒドロキシ官能基用の別の脱除
技術は同じく1983年4月1日付で出願されたロック
ハート(l 0Ckhart )の米国特許出願第48
1,529号、同第481,527号、同第481,5
28号及び同第48’1.530号明細書に記載されて
いる。
te)らの米国特許出願第481,524月明細書には
、−液↑(lの安定な湿分硬化性アルコキシ末端オルガ
ノポリシロキザン組成物について痕跡ωの水、メタノー
ル及びシラノール用の有機脱除剤のの使用が示されてい
る。化学的に結合されたヒドロキシ官能基用の別の脱除
技術は同じく1983年4月1日付で出願されたロック
ハート(l 0Ckhart )の米国特許出願第48
1,529号、同第481,527号、同第481,5
28号及び同第48’1.530号明細書に記載されて
いる。
錫縮合触媒を使用して室温加硫↑1オルガノポリシロキ
ザン組成物の安定性を改良するための上述−〇 − した技術は安定な、実質的に酸を含まない硬化性オルガ
ノポリシロキサンを与えることが認められたが、ヒドロ
4−シ官能基用に別個の有機、無機又はオルガノシリコ
ーン脱除剤を必要とするものである。
ザン組成物の安定性を改良するための上述−〇 − した技術は安定な、実質的に酸を含まない硬化性オルガ
ノポリシロキサンを与えることが認められたが、ヒドロ
4−シ官能基用に別個の有機、無機又はオルガノシリコ
ーン脱除剤を必要とするものである。
本発明は、安定でありかつ銅に対して顕著な耐蝕性を示
す室温加硫性組成物を式: %式%(1) (式中、Qは式: をもつトリアゾリル基及び式: をもつイミダゾリル基から選んだ一価の基であり、Rは
C−両次化水素基及び置換C(1−18)−両次化水素
基から選んだ基であり、R1、R2及びR3は水素及び
R基から選んだ同一でも異なってもよい一価の基であり
、Xは炭化水素基及び置換炭化水素基から選んだ二価の
C有機基である)をもつ錫縮合触媒を使用することによ
って提供し得ることを知見して達成されたものである。
す室温加硫性組成物を式: %式%(1) (式中、Qは式: をもつトリアゾリル基及び式: をもつイミダゾリル基から選んだ一価の基であり、Rは
C−両次化水素基及び置換C(1−18)−両次化水素
基から選んだ基であり、R1、R2及びR3は水素及び
R基から選んだ同一でも異なってもよい一価の基であり
、Xは炭化水素基及び置換炭化水素基から選んだ二価の
C有機基である)をもつ錫縮合触媒を使用することによ
って提供し得ることを知見して達成されたものである。
発明の要旨
本発明に従う室温加硫性オルガノポリシロ:1−リン組
成物は、重量基準で、 (A)アル]4ニジ末端Aルガノポリ シ[二Iニド1ノン 100 八L (B)ポリアル」キシシラン 0〜10部、(C)アミ
ン促進剤 0〜5部、 (D>上記式(1)の錫縮合触媒の有効量、及び ([)式: %式% をもつイミダゾール(両式中、X、R2及びR3は前記
の意義を右する)から選んだ配位子形成性物質0〜5部
、 を含有してなるものである。
成物は、重量基準で、 (A)アル]4ニジ末端Aルガノポリ シ[二Iニド1ノン 100 八L (B)ポリアル」キシシラン 0〜10部、(C)アミ
ン促進剤 0〜5部、 (D>上記式(1)の錫縮合触媒の有効量、及び ([)式: %式% をもつイミダゾール(両式中、X、R2及びR3は前記
の意義を右する)から選んだ配位子形成性物質0〜5部
、 を含有してなるものである。
さらに本発明は、重量基準でつぎの成分、(i)アルコ
キシ末端オルガノポリ シロキザン 100部、 (ii>ポリアルコキシシラン 0〜10部、(iii
)アミン促進剤 0〜5部、 (iv)式(1)の錫縮合触媒の有効量、及び(V )
前記定義した。配位子形成性物質0〜5部、 を実質的に無水の条件下で一緒に混合することからなる
室温加硫性Δルカノポリシ[1キリン帽成物の製造法を
提供するものである。
キシ末端オルガノポリ シロキザン 100部、 (ii>ポリアルコキシシラン 0〜10部、(iii
)アミン促進剤 0〜5部、 (iv)式(1)の錫縮合触媒の有効量、及び(V )
前記定義した。配位子形成性物質0〜5部、 を実質的に無水の条件下で一緒に混合することからなる
室温加硫性Δルカノポリシ[1キリン帽成物の製造法を
提供するものである。
dらに本発明は、つぎの工程:
(1)実質的に無水の条件下で、
(a)シラノール末端ポリジオルガノ
シロキ1ノン 100部、
(b)アル」:1ニジシラン 0.1〜10部、(C)
アミン促進剤 0〜5部、 (d)充填剤 0〜700部、及び (e)前記定義した配位子形成性物質 0〜5部、 を混合し、 (2)■稈(1)混合物を平衡化せしめてポリアルコキ
シ末端ボリジオルガノシロキυンを生成させ、でして (3)T稈(2〉の混合物を実質的に無水の条件下で式
(1)の錫縮合触媒の有効量の存在下にさらに撹拌する
、 ■程からなる室温加硫性オルガノポリシロ4−リーン組
成物の製造法を提供する。
アミン促進剤 0〜5部、 (d)充填剤 0〜700部、及び (e)前記定義した配位子形成性物質 0〜5部、 を混合し、 (2)■稈(1)混合物を平衡化せしめてポリアルコキ
シ末端ボリジオルガノシロキυンを生成させ、でして (3)T稈(2〉の混合物を実質的に無水の条件下で式
(1)の錫縮合触媒の有効量の存在下にさらに撹拌する
、 ■程からなる室温加硫性オルガノポリシロ4−リーン組
成物の製造法を提供する。
発明の詳細な説
明
13 一
化性オルガノポリシロキサン組成物の製造に使用し得る
シラノール末端ポリジオルガノシロキリ−ンのあるもの
は、式: (式中、R3はC 一価置換又は非置換炭化水素基
、好ましくはメチル基であるか又は主割合のメチル基と
少割合のフェニル、シアノニブル、トリフルオルプロピ
ル、ビニル、水素及びぞれらの混合物との混合物であり
、nは約5〜約5000の整数である)を有する。
シラノール末端ポリジオルガノシロキリ−ンのあるもの
は、式: (式中、R3はC 一価置換又は非置換炭化水素基
、好ましくはメチル基であるか又は主割合のメチル基と
少割合のフェニル、シアノニブル、トリフルオルプロピ
ル、ビニル、水素及びぞれらの混合物との混合物であり
、nは約5〜約5000の整数である)を有する。
本発明のRTV絹成組放物造に使用し得るボリアルロキ
シ末端オルガノボリシロキサンは式:(式中、R3及び
nは前記の意義を有し、R4は 14 一 C(1−13)炭化水素基及び置換C炭化水素基から選
/シだ一価の基であり、R5はアル4−ル基、アルキル
エーテル基、アル4−ルエステル基、アルキルケトン基
及びアルキルシアノ基から選んだC(1−8)脂肪族布
Ijl基又はC(7−13)アラルキル基であり、aは
O又は1に等しい整数である)をもつ。
シ末端オルガノボリシロキサンは式:(式中、R3及び
nは前記の意義を有し、R4は 14 一 C(1−13)炭化水素基及び置換C炭化水素基から選
/シだ一価の基であり、R5はアル4−ル基、アルキル
エーテル基、アル4−ルエステル基、アルキルケトン基
及びアルキルシアノ基から選んだC(1−8)脂肪族布
Ijl基又はC(7−13)アラルキル基であり、aは
O又は1に等しい整数である)をもつ。
本発明のRTV絹成組放物:
%式%(4
(式中、R4、R5及びaは前記の意義を有する)をも
つ架橋用ポリアルコキシシランを含有し得る。
つ架橋用ポリアルコキシシランを含有し得る。
式(1)のRに包含される基は、たとえばフェニル、ト
リル、クールフェニル、ナフチル基のようなC(6−1
3)アリール基及びハロゲン化アリール基、C(1−1
8)脂肪族基、脂環族基及びそれらのハ[1ゲン化誘導
体基、たとえばシクロヘキシル基、シクロブチル基、メ
チル、エチル、プロピル、クロルプロピル、ブチル、ペ
ンデル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビニル、アリ
ル及び1〜リフルオルプロピル阜のようなアルキル及び
アルケニル基である。R1及びR2基に包含される基は
たとえば水素、メチル、エチル、プロピル及びぞれらの
)捏合物であり、R3及びRAMはR基から選んだ一価
の基であり、R5基に包含される基はたとえばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル基のようなC(1
−8)アルキル基、ベンジル、フェニルエチル基のよう
なCアラルキル基、2−メトキシエチル基のJ、うなア
ルキルエーテル基、2−アセトキシ]ニチル基のような
アルキルスチル基、1−ブタン−3−オンイル基のJ、
うなアルキルケトン基、2−シアノエチル基のにうなア
ルキルシアノ基である。
リル、クールフェニル、ナフチル基のようなC(6−1
3)アリール基及びハロゲン化アリール基、C(1−1
8)脂肪族基、脂環族基及びそれらのハ[1ゲン化誘導
体基、たとえばシクロヘキシル基、シクロブチル基、メ
チル、エチル、プロピル、クロルプロピル、ブチル、ペ
ンデル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビニル、アリ
ル及び1〜リフルオルプロピル阜のようなアルキル及び
アルケニル基である。R1及びR2基に包含される基は
たとえば水素、メチル、エチル、プロピル及びぞれらの
)捏合物であり、R3及びRAMはR基から選んだ一価
の基であり、R5基に包含される基はたとえばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル基のようなC(1
−8)アルキル基、ベンジル、フェニルエチル基のよう
なCアラルキル基、2−メトキシエチル基のJ、うなア
ルキルエーテル基、2−アセトキシ]ニチル基のような
アルキルスチル基、1−ブタン−3−オンイル基のJ、
うなアルキルケトン基、2−シアノエチル基のにうなア
ルキルシアノ基である。
式(1)に包含される錫縮合触媒の若干の例はつぎのご
ときものである。
ときものである。
ジ−n−ブチル錫ビス(ベンゾ1〜リアゾール)ジ−n
−ブチル錫ビス(トリルトリアゾール)ジ−n−71ク
チル錫ビス(ベンゾ1〜リアゾール)ジーnーヘキシル
錫ビス(2−メチルイミダゾール) 16 一 式(4)の架橋用ポリアルコキシシランに包含される若
干の例は、メチルトリメトキシシラン、メブルトリニ「
トキシシラン、エヂル1〜リメl〜キシシラン、テ]〜
ラエl〜キシシラン、ビニル1〜リメトキシシラン等で
ある。
−ブチル錫ビス(トリルトリアゾール)ジ−n−71ク
チル錫ビス(ベンゾ1〜リアゾール)ジーnーヘキシル
錫ビス(2−メチルイミダゾール) 16 一 式(4)の架橋用ポリアルコキシシランに包含される若
干の例は、メチルトリメトキシシラン、メブルトリニ「
トキシシラン、エヂル1〜リメl〜キシシラン、テ]〜
ラエl〜キシシラン、ビニル1〜リメトキシシラン等で
ある。
本発明の実施に使用し得るアミン硬化促進剤としては、
たとえば式: %式%(5) (式中、R5は前記の意義を右し、Zは式:のグアニジ
ン基であり、R8は二価のC (2−8)アルキレン基
であり、R6及びR7は水素及びc (i−a)アルキ
ル基から選ばれる基であり、qは1〜3に等しい整数で
ある)をもつシリル置換グアニジンがあげられる。さら
に式: %式% (式中、R6及びR7は前記の意義を有し、R9はc
(i−a)アルキル基である)をもつアルキル置換グア
ニジンも使用し得る。式(5)の範囲内に含まれるシリ
ル置換グアニジンのあるものはタカゴ(Takaoo
>の米国特許第4,180.6=’12号及び同第4,
248.993号明細書に示されている。
たとえば式: %式%(5) (式中、R5は前記の意義を右し、Zは式:のグアニジ
ン基であり、R8は二価のC (2−8)アルキレン基
であり、R6及びR7は水素及びc (i−a)アルキ
ル基から選ばれる基であり、qは1〜3に等しい整数で
ある)をもつシリル置換グアニジンがあげられる。さら
に式: %式% (式中、R6及びR7は前記の意義を有し、R9はc
(i−a)アルキル基である)をもつアルキル置換グア
ニジンも使用し得る。式(5)の範囲内に含まれるシリ
ル置換グアニジンのあるものはタカゴ(Takaoo
>の米国特許第4,180.6=’12号及び同第4,
248.993号明細書に示されている。
上述した置換グアニジン類のはかに、種々のアミン、た
とえばジ−n−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ジ−n−1クチルアミン、ヘキサメトキシメチルメ
ラミン、及びシリル化アミン、たとえばλーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン及びメチルジメトキシ−ジーn
−へキシルアミノシランを架橋剤及び硬化促進剤の両者
として使用し得る。第1級アミン、第2級アミン、シリ
ル化第2級アミンが好ましく、第2級アミン及びシリル
化第2級アミンが特に好ましい。アルキルジアルコキシ
−n−ジアルキルアミノシランのJ、うなシリル化第2
級アミン及びアルキルシアル]キシアルキルグアニジル
シランのJ:うなグアニジンは硬化促進剤として特に有
用である。
とえばジ−n−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ジ−n−1クチルアミン、ヘキサメトキシメチルメ
ラミン、及びシリル化アミン、たとえばλーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン及びメチルジメトキシ−ジーn
−へキシルアミノシランを架橋剤及び硬化促進剤の両者
として使用し得る。第1級アミン、第2級アミン、シリ
ル化第2級アミンが好ましく、第2級アミン及びシリル
化第2級アミンが特に好ましい。アルキルジアルコキシ
−n−ジアルキルアミノシランのJ、うなシリル化第2
級アミン及びアルキルシアル]キシアルキルグアニジル
シランのJ:うなグアニジンは硬化促進剤として特に有
用である。
上述したアミン促進剤に加えて、前記に規定したごとき
有効量で使用する際、本発明のRTV組成物の速やかな
硬化を達成することが認められたある種の立体障害ジア
ミンの使用も本発明の実施に包含される。これらの窒素
含有塩基はたとえばジーt−ブチルエヂレンジアミン(
DI3L:DA)、1.5−ジアザビシフl] [4,
3,O]ノン−5−エン(DBN>、及び1,8−ジア
ザビシクロ[5,=1.0]ウンデク−7−エン(DB
U)を包含する。
有効量で使用する際、本発明のRTV組成物の速やかな
硬化を達成することが認められたある種の立体障害ジア
ミンの使用も本発明の実施に包含される。これらの窒素
含有塩基はたとえばジーt−ブチルエヂレンジアミン(
DI3L:DA)、1.5−ジアザビシフl] [4,
3,O]ノン−5−エン(DBN>、及び1,8−ジア
ザビシクロ[5,=1.0]ウンデク−7−エン(DB
U)を包含する。
式(2)のシラノール末端ポリジオルガノシロキリンは
周知であり、約25℃で測定して好ましくは約100〜
約400,000センチボイスの範囲、J、り好ましく
は約1,000〜約250゜OOOセンヂポイズの範囲
の粘度を有ヅる。これらのシラノール末端ポリジAルガ
ノシ[ト[サン液体はより高分子量のオルガノポリシロ
キサン、たとえばジメチルポリシ[1キザンを鉱酸又は
塩基触媒の存在下で処理して重合体の粘度を所望の範囲
一 19 = に調整することによって製造することができる。
周知であり、約25℃で測定して好ましくは約100〜
約400,000センチボイスの範囲、J、り好ましく
は約1,000〜約250゜OOOセンヂポイズの範囲
の粘度を有ヅる。これらのシラノール末端ポリジAルガ
ノシ[ト[サン液体はより高分子量のオルガノポリシロ
キサン、たとえばジメチルポリシ[1キザンを鉱酸又は
塩基触媒の存在下で処理して重合体の粘度を所望の範囲
一 19 = に調整することによって製造することができる。
式(2)のシラノール末端ポリジオルガノシロキサンの
製造に使用されるhハるより高分子量のオルガノポリシ
ロキサンの′fA造法もまた周知である。
製造に使用されるhハるより高分子量のオルガノポリシ
ロキサンの′fA造法もまた周知である。
たとえば、ジメチルジクロルシラン、シフ■ニルジクロ
ルシラン、メチルビニルジクロルシラン又はそれらの混
合物の加水分解によって低分子量加水分解物を製造し得
る。その後の平衡化処理にJ、ってより高分子量のAル
ガノボリシロキ4ノンを提供し得る。Aクタメチルシク
ロテトラシロキリ′ン、オクタフェニルシクロテトラシ
ロ4−サン又はこれらの混合物のようなシク■ボリシロ
キ1ノーンの平衡化もまたJ、り高分子量の重合体を与
えるであろう。
ルシラン、メチルビニルジクロルシラン又はそれらの混
合物の加水分解によって低分子量加水分解物を製造し得
る。その後の平衡化処理にJ、ってより高分子量のAル
ガノボリシロキ4ノンを提供し得る。Aクタメチルシク
ロテトラシロキリ′ン、オクタフェニルシクロテトラシ
ロ4−サン又はこれらの混合物のようなシク■ボリシロ
キ1ノーンの平衡化もまたJ、り高分子量の重合体を与
えるであろう。
好ましくは、hハる重合体は使用前にたとえばブート(
Boot)の米国持着第3.153,007号明細書に
よって示されるごとき標準的方法にJ:って平衡化触媒
を除去する。
Boot)の米国持着第3.153,007号明細書に
よって示されるごとき標準的方法にJ:って平衡化触媒
を除去する。
1200センチボイス以下の粘度をもつシラノール末端
オルガノポリシロキサンは化学的に結合されたジオルガ
ノシロキシ単位から本質的に構成されるオルガノポリシ
ロキサンを加圧下で水蒸気処理することによって製造す
ることができる。シラノール末端ポリジオルガノシロキ
サンの製造に使用し得るぞの他の方法は特にワリック(
Warrick)の米国特許第2,607,792号明
細書及び英国特許第835,790@明細出に記載され
ている。
オルガノポリシロキサンは化学的に結合されたジオルガ
ノシロキシ単位から本質的に構成されるオルガノポリシ
ロキサンを加圧下で水蒸気処理することによって製造す
ることができる。シラノール末端ポリジオルガノシロキ
サンの製造に使用し得るぞの他の方法は特にワリック(
Warrick)の米国特許第2,607,792号明
細書及び英国特許第835,790@明細出に記載され
ている。
本発明のRl−V組成物の硬化を促進するためには、シ
ラノール末端又はアルコキシ末端ポリジオルガノシロキ
ザン100部当り0.1〜10部の式(1)の錫縮合触
媒、好ましくは該ポリジオルガノシロ=1−1ノン10
0部当り0.1〜1.0部の錫縮合触媒を使用すること
ができる。
ラノール末端又はアルコキシ末端ポリジオルガノシロキ
ザン100部当り0.1〜10部の式(1)の錫縮合触
媒、好ましくは該ポリジオルガノシロ=1−1ノン10
0部当り0.1〜1.0部の錫縮合触媒を使用すること
ができる。
種々の充填剤、顔料、接着促進剤等、たとえば二酸化チ
タン、珪酸ジルコニウム、シリカエーロゾール、酸化鉄
、珪藻土、ヒユームドシリカ、カーボンブラック、沈降
シリカ、ガラス繊維、ポリ塩化ビニル、石英粉末、炭酸
カルシウム、β−シアンエチル1〜リメトキシシラン等
をシラノール−又はアル」キシー末端オルガノボリシロ
キザン中に配合し得る。充填剤の使用量は意図する用途
に応じて広範囲に変動し得ることは明らかである。
タン、珪酸ジルコニウム、シリカエーロゾール、酸化鉄
、珪藻土、ヒユームドシリカ、カーボンブラック、沈降
シリカ、ガラス繊維、ポリ塩化ビニル、石英粉末、炭酸
カルシウム、β−シアンエチル1〜リメトキシシラン等
をシラノール−又はアル」キシー末端オルガノボリシロ
キザン中に配合し得る。充填剤の使用量は意図する用途
に応じて広範囲に変動し得ることは明らかである。
たとえば、ある種のシーラン1〜としての用途において
は、本発明の硬化性組成物は充填剤を配合せずに使用し
得る。たとえば結合剤の製造用に本発明の硬化性組成物
を使用する場合のごとき仙の用途においては、重量基準
でAルガノポリシロキサン100部当り700部程度又
はそれ以上の充填剤を使用し得る。hハる用途において
は、充填剤は主割合の増量剤、たとえば好ましくは約1
〜10ミクロンの範囲の平均粒度をもつ石英粉末、ポリ
塩化ビニル又はぞれらの混合物から構成され得る。
は、本発明の硬化性組成物は充填剤を配合せずに使用し
得る。たとえば結合剤の製造用に本発明の硬化性組成物
を使用する場合のごとき仙の用途においては、重量基準
でAルガノポリシロキサン100部当り700部程度又
はそれ以上の充填剤を使用し得る。hハる用途において
は、充填剤は主割合の増量剤、たとえば好ましくは約1
〜10ミクロンの範囲の平均粒度をもつ石英粉末、ポリ
塩化ビニル又はぞれらの混合物から構成され得る。
本発明の組成物はまた建築用シーラント及びコーキング
用コンパウンドとしても使用し得る。したがって、充填
剤の正確な使用量は本発明のAルガノポリシロキザン組
成物の意図する用途、使用される充填剤の型(すなわち
充填剤の密度及びその粒度)のような因子によって決ま
るであろう。
用コンパウンドとしても使用し得る。したがって、充填
剤の正確な使用量は本発明のAルガノポリシロキザン組
成物の意図する用途、使用される充填剤の型(すなわち
充填剤の密度及びその粒度)のような因子によって決ま
るであろう。
好ましくは、シラノール−末端オルガノポリシロキリン
100部当り、約35部までの補強用充填剤、たとえば
ヒユームドシリカ充填剤を含有しjqる10〜300部
の割合の充填剤が使用される。
100部当り、約35部までの補強用充填剤、たとえば
ヒユームドシリカ充填剤を含有しjqる10〜300部
の割合の充填剤が使用される。
本発明の実施に際し、室温加硫性組成物【;1錫縮合触
媒及びアル−1キシ末端ポリジAルガノシ[=1キリン
から構成し得る混合物を撹拌、たとえば湿分不在の条(
’I下で撹拌することによって!A造し1qる。
媒及びアル−1キシ末端ポリジAルガノシ[=1キリン
から構成し得る混合物を撹拌、たとえば湿分不在の条(
’I下で撹拌することによって!A造し1qる。
架橋用ポリアルニコキシシラン及びアミン促進剤は随意
に使用することができる。
に使用することができる。
アルコ:1−シ末端ポリジオルガノシ[1キ]ノンの代
りにシラノール末端ポリジAルガノシロキリンを使用覆
る場合には、充填剤、たとえばヒユームドシリカ、シラ
ノール末端ポリシフ1−/し刀ノシD 4−リン及び架
橋用ポリアルコキシシランの混合は錫縮合触媒の不在下
で行なうことか好ましい。錫縮合触媒はjqられる混合
物を室温で約2/1時間撹拌した後に導入することが右
利である。
りにシラノール末端ポリジAルガノシロキリンを使用覆
る場合には、充填剤、たとえばヒユームドシリカ、シラ
ノール末端ポリシフ1−/し刀ノシD 4−リン及び架
橋用ポリアルコキシシランの混合は錫縮合触媒の不在下
で行なうことか好ましい。錫縮合触媒はjqられる混合
物を室温で約2/1時間撹拌した後に導入することが右
利である。
本発明のR]−\1組成物の製)告に関して以下水明細
書において使用覆る用品“′湿分を含まない条11″及
び″実質的に無水の条イ?V′はドライボックス、すな
わち真空にして空気を除去し、ぞの後乾燥不活性ガス、
たとえば窒素で買換した密閉容器中での混合を意味する
。温度IJ、混合の度合、充填剤の型及び量に応じて約
O′C〜約180℃の範囲で変動し得る。
書において使用覆る用品“′湿分を含まない条11″及
び″実質的に無水の条イ?V′はドライボックス、すな
わち真空にして空気を除去し、ぞの後乾燥不活性ガス、
たとえば窒素で買換した密閉容器中での混合を意味する
。温度IJ、混合の度合、充填剤の型及び量に応じて約
O′C〜約180℃の範囲で変動し得る。
本発明のRTV組成物の製造のための好ましい一方法は
シラノール末端ボリジΔルガノシ[二1キリン又はアル
コキシ末端ポリジオルガノシロキリ−ン、充填剤及び有
効量の錫縮合触媒の混合物を実質的に無水の条件下で撹
拌することである。この混合物に架橋用シラン又はぞれ
と他の成分、たとえば硬化促進剤及び顔料どの混合物を
添加することができる。
シラノール末端ボリジΔルガノシ[二1キリン又はアル
コキシ末端ポリジオルガノシロキリ−ン、充填剤及び有
効量の錫縮合触媒の混合物を実質的に無水の条件下で撹
拌することである。この混合物に架橋用シラン又はぞれ
と他の成分、たとえば硬化促進剤及び顔料どの混合物を
添加することができる。
当業者に本発明をにり容易に実施し得るようにするため
に以下に実施例を示すが、これらは甲なる例証のための
ものであって、何等本発明を限定するものではない。実
施例中、すべての部に11重用部である。
に以下に実施例を示すが、これらは甲なる例証のための
ものであって、何等本発明を限定するものではない。実
施例中、すべての部に11重用部である。
実施例1
塩化メチレン2Oril中のジブデル錫ジメ1〜キシド
2g及びベンズトリアゾール1.62(]の混合物を1
5分間撹拌した。ついで得られる溶液から反応揮発分を
真空下で除去して白色非結晶+41固体3.05gを1
qた。この製造法及び固体生成物のNMRスペク1〜ル
に基づいてジブチル錫ビス(ベンズトリアゾール)が9
6%の収率で得られた。
2g及びベンズトリアゾール1.62(]の混合物を1
5分間撹拌した。ついで得られる溶液から反応揮発分を
真空下で除去して白色非結晶+41固体3.05gを1
qた。この製造法及び固体生成物のNMRスペク1〜ル
に基づいてジブチル錫ビス(ベンズトリアゾール)が9
6%の収率で得られた。
ベンズトリアゾールの代りにトリルトリアゾールを用い
たことを除いて、上記と同一の方法を反復した。得られ
るジブチル錫ビス(トリルトリアゾール)211体を上
記と同じ方法で回収しかつ同定した。
たことを除いて、上記と同一の方法を反復した。得られ
るジブチル錫ビス(トリルトリアゾール)211体を上
記と同じ方法で回収しかつ同定した。
25°Cr30.000センチボイスの粘度を:bつメ
チルツメ1〜キシシロキシ末端ポリジメヂルシロキ4ノ
ン100部、ジブプルアミン0.3部、25℃で100
センヂポイズの粘度をもつ1〜リメヂルシロキシ末端ポ
リジメヂルシキロザン30部、ヒユームドシリカ17部
及びβ−シアノエヂル1〜リメトキシシラン1.1部を
実質的に無水の条件下で十分に混合することによって基
本のRTVメチルポリシ[1キ]ノン組成物を製造した
。
チルツメ1〜キシシロキシ末端ポリジメヂルシロキ4ノ
ン100部、ジブプルアミン0.3部、25℃で100
センヂポイズの粘度をもつ1〜リメヂルシロキシ末端ポ
リジメヂルシキロザン30部、ヒユームドシリカ17部
及びβ−シアノエヂル1〜リメトキシシラン1.1部を
実質的に無水の条件下で十分に混合することによって基
本のRTVメチルポリシ[1キ]ノン組成物を製造した
。
上記の基本のRTVメチルポリシ[1キリン混合物10
0部、ジブチル錫ビス(ベンズ1〜リアゾール)0.3
部、ベンズ1〜リアゾール0.13部及びメチルトリメ
1〜キシシラン0.6フ部を実質的に無水の条件下で混
合することによって第一〇RTV組成物を製造した。第
二のRTV組成物は上記基本の重合体混合物100部、
ジブチル錫ビス(トリルトリアゾール>0.33部、ト
リル1〜リアゾール0.13部及びメチルトリメ1〜キ
シシラン0.67部を実質的に無水の条11下で混合す
ることによって製造した。第三のRTV組成物は−に記
と同一の基本の重合体混合物100部と、ジブチル錫ビ
ス(ベンズトリアゾール)とベンズ1〜リアゾールの混
合物の代りにジブチル錫(ジエJルマロネ−1〜)の0
.35部を用いて製造した。
0部、ジブチル錫ビス(ベンズ1〜リアゾール)0.3
部、ベンズ1〜リアゾール0.13部及びメチルトリメ
1〜キシシラン0.6フ部を実質的に無水の条件下で混
合することによって第一〇RTV組成物を製造した。第
二のRTV組成物は上記基本の重合体混合物100部、
ジブチル錫ビス(トリルトリアゾール>0.33部、ト
リル1〜リアゾール0.13部及びメチルトリメ1〜キ
シシラン0.67部を実質的に無水の条11下で混合す
ることによって製造した。第三のRTV組成物は−に記
と同一の基本の重合体混合物100部と、ジブチル錫ビ
ス(ベンズトリアゾール)とベンズ1〜リアゾールの混
合物の代りにジブチル錫(ジエJルマロネ−1〜)の0
.35部を用いて製造した。
上記三種のRTV絹成組放物れぞれセム1(Semco
)ミキサー中で10分間混合した。人気湿分に暴露する
と、これらの組成物は20分間で非粘着状態に硬化した
。未硬化のこれらの組成物を100℃に24時間加熱し
、ついで人気湿分に暴露することによって硬化μしめた
場合にも硬化時間に変化は認められなかった。さらに、
これらのRTV!l1fl成物の各々約5gを清浄な銅
金属の約5゜IX5.1CTIl(2X2インチ)の試
片の表面に施した。ついで、これらの各RT V組成物
を7日間硬化Iしめた。ついで、これらの試片を相対湿
度95%の雰囲気に約−7°C(20’F)で28日間
暴露した。施したR T V組成物の一部を銅表面から
とり除き、ついで銅表面の腐蝕状態を肉眼で観察した。
)ミキサー中で10分間混合した。人気湿分に暴露する
と、これらの組成物は20分間で非粘着状態に硬化した
。未硬化のこれらの組成物を100℃に24時間加熱し
、ついで人気湿分に暴露することによって硬化μしめた
場合にも硬化時間に変化は認められなかった。さらに、
これらのRTV!l1fl成物の各々約5gを清浄な銅
金属の約5゜IX5.1CTIl(2X2インチ)の試
片の表面に施した。ついで、これらの各RT V組成物
を7日間硬化Iしめた。ついで、これらの試片を相対湿
度95%の雰囲気に約−7°C(20’F)で28日間
暴露した。施したR T V組成物の一部を銅表面から
とり除き、ついで銅表面の腐蝕状態を肉眼で観察した。
ジブチル錫ビス(ベンズトリアゾール)及びジブチル錫
ビス(トリル1〜リアゾール)を用いたRTV組成物と
接触していた銅表面には腐食は82ぬられなかった。し
かしながら、ジブチル錫(ジエチルマロネート)含有R
TV組放物と接触していた銅表面は明らかな腐食を示し
た。銅に対する接触腐蝕は商業的に使用されているRT
V絹成組放物験した場合にも認められた。腐蝕の形跡は
銅表面上に青色の膜が存在すること及びこの銅と接触し
ていたR王V組成物の表面上に青色が存在することによ
って示される。
ビス(トリル1〜リアゾール)を用いたRTV組成物と
接触していた銅表面には腐食は82ぬられなかった。し
かしながら、ジブチル錫(ジエチルマロネート)含有R
TV組放物と接触していた銅表面は明らかな腐食を示し
た。銅に対する接触腐蝕は商業的に使用されているRT
V絹成組放物験した場合にも認められた。腐蝕の形跡は
銅表面上に青色の膜が存在すること及びこの銅と接触し
ていたR王V組成物の表面上に青色が存在することによ
って示される。
上記実施例は本発明の方法の実施に使用し得るきわめて
多数の実施態様及びんへる方法によって製造されるRT
V絹成組放物ちの二、三の代表例を示したものであるが
、本発明は式(1)によって示されるきわめて広範囲の
錫縮合触媒の使用及び上記実施例に先立つ一般的説明中
に示したRTV組成物中のオルガノポリシロキリン重合
体、アルコキシシラン及びその他の成分の使用を包含す
るものであることを理解すべきである。
多数の実施態様及びんへる方法によって製造されるRT
V絹成組放物ちの二、三の代表例を示したものであるが
、本発明は式(1)によって示されるきわめて広範囲の
錫縮合触媒の使用及び上記実施例に先立つ一般的説明中
に示したRTV組成物中のオルガノポリシロキリン重合
体、アルコキシシラン及びその他の成分の使用を包含す
るものであることを理解すべきである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、重量基準で、つぎの成分: (A)アルコキシ末端オルガノポリ シロキサン100部、 (B)ポアルコキシシラン0〜10部、 (C)アミン促進剤0〜5部、及び (D)式: (R)_2S_n(Q)_2 (式中、Qは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつトリアゾリル基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつイミダゾリル基から選んだ一価の基であり、Rは
C_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基及び置換C
_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基から選んだ基
であり、R^1、R^2及びR^3は水素及びR基から
選んだ同一でも異なってもよい一価の基であり、Xは炭
化水素基及び置換炭化水素基から選んだ二価のC_(_
1_−_5_0_)有機基である)の錫縮合触媒の有効
量、 を含有してなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成
物。 2、錫縮合触媒かジブチル錫ビス(ベンズトリアゾレー
ト)である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3、ポリアルコキシシランがメチルトリメトキシシラン
である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 4、アルコキシ末端オルガノポリシロキサンがメチルジ
メトキシシロキシ末端ポリジメチルシロキサンである特
許請求の範囲第1項記載の組成物。 5、錫縮合触媒がジブブル錫ビス(イミダゾール)であ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。 6、重量基準で、つぎの成分: (i)アルコキシ末端オルガノポリ シロキサン100部、 (ii)ポリアルコキシシラン0〜10部、(iii)
アミン促進剤0〜5部、及び (iv)式: (R)_2S_n(Q)_2 (式中、Qは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつトリアゾリル基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつイミダゾリル基から選んだ一価の基であり、Rは
C_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基及び置換C
_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基から選んだ基
であり、R^1、R^2及びR^3は水素及びR基から
選んだ同一でも異なつてもよい一価の基であり、Xは炭
化水素基及び置換炭化水素基から選んだ二価のC_(_
1_−_5_0_)有機基である)の錫縮合触媒の有効
量、 を実質的に無水の条件下で混合することからなる室温加
硫性オルガノポリシロキサン組成物の製造法。 7、つぎの工程: (1)実質的に無水の条件下で (a)シラノール末端ポリジオルガノ シロキサン100部、 (b)アルコキシシラン0.1〜10部、 (c)アミン促進剤0〜5部、及び (d)充填剤0〜700部、 を混合し、 (2)工程(1)の混合物を平衡化せしめてポリアルコ
キシ末端ポリジオルガノシロキサンを生成させ、そして (3)工程(2)の混合物を実質的に無水の条件下で式
: (R)_2S_n(Q)_2 (式中、Qは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつトリアゾリル基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ をもつイミダゾリル基から選んだ一価の基であり、Rは
C_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基及び置換C
_(_1_−_1_8_)一価炭化水素基から選んだ基
であり、R^1、R^2及びR^3は水素及びR基から
選んだ同一でも異なってもよい一価の基であり、Xは炭
化水素基及び置換炭化水素基から選んだ二価のC_(_
1_−_5_0_)有機基である)の錫縮合触媒の有効
量の存在下でさらに撹拌する、 工程からなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物
の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/644,893 US4554338A (en) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | Room temperature vulcanizable organopolysiloxane compositions and method for making |
| US644893 | 1996-05-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183253A true JPS6183253A (ja) | 1986-04-26 |
| JPH0323106B2 JPH0323106B2 (ja) | 1991-03-28 |
Family
ID=24586779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60186783A Granted JPS6183253A (ja) | 1984-08-27 | 1985-08-27 | 室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4554338A (ja) |
| JP (1) | JPS6183253A (ja) |
| CA (1) | CA1242836A (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6130459A (en) | 1998-03-10 | 2000-10-10 | Oryx Technology Corporation | Over-voltage protection device for integrated circuits |
| US6235832B1 (en) * | 1998-12-21 | 2001-05-22 | Dow Corning Corporation | RTV silicone compositions with rapid development of green strength |
| US6180552B1 (en) * | 1999-04-07 | 2001-01-30 | Equistar Chemicals, L.P. | Transition metal complexes containing neutral, multidentate azacyclic ligands |
| US6373719B1 (en) | 2000-04-13 | 2002-04-16 | Surgx Corporation | Over-voltage protection for electronic circuits |
| US20050192387A1 (en) * | 2004-03-01 | 2005-09-01 | Williams David A. | RTV silicone composition offering rapid bond strength |
| US20070244249A1 (en) * | 2006-04-06 | 2007-10-18 | General Electric Company | Two-part translucent silicone rubber-forming composition |
| US7649071B2 (en) * | 2006-09-01 | 2010-01-19 | Momentive Performance Materials Inc. | Branched polysiloxane composition |
| US7560167B2 (en) * | 2006-09-01 | 2009-07-14 | Momentive Performance Materials Inc. | Composition containing anti-misting component |
| US20080276836A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | Momentive Performance Materials Inc. | Composition containing anti-misting component of reduced molecular weight and viscosity |
| US20080281055A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | Momentive Performance Materials Inc. | Branched polysiloxane of reduced molecular weight and viscosity |
| US8501856B2 (en) * | 2007-07-13 | 2013-08-06 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable silicon-containing compositions possessing high translucency |
| FR2925496A1 (fr) * | 2007-12-20 | 2009-06-26 | Bluestar Silicones France Soc | Composes a structure guanidine et leurs utilisations comme catalyseurs de polycondensation d'organopolysiloxanes. |
| US8138297B2 (en) | 2009-02-09 | 2012-03-20 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture-curable silylated polymer possessing improved storage stability |
| CN103288766A (zh) * | 2012-03-01 | 2013-09-11 | 中国科学院海洋研究所 | 一种三氮唑类化合物及其制备方法和应用 |
| US9617373B2 (en) * | 2015-02-13 | 2017-04-11 | LCY Chemical Corp. | Curable resin composition, article, and method for fabricating the same |
| US10035911B2 (en) | 2016-05-19 | 2018-07-31 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable, dual cure, one part silicone composition |
| US11760900B2 (en) * | 2021-10-27 | 2023-09-19 | Momentive Performance Materials Inc. | Condensation curable composition |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4483973A (en) * | 1982-02-17 | 1984-11-20 | General Electric Company | Adhesion promoters for one-component RTV silicone compositions |
| US4483972A (en) * | 1983-02-01 | 1984-11-20 | General Electric Company | Integrated cross-linkers and amine functional siloxane scavengers for RTV silicone rubber compositions |
| US4489199A (en) * | 1983-08-08 | 1984-12-18 | General Electric Company | Room temperature vulcanizable organopolysiloxane compositions |
| US4489191A (en) * | 1983-08-31 | 1984-12-18 | General Electric Company | Silane scavengers for hydroxy radicals containing silicon-hydrogen bonds |
-
1984
- 1984-08-27 US US06/644,893 patent/US4554338A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-06-20 CA CA000484609A patent/CA1242836A/en not_active Expired
- 1985-08-27 JP JP60186783A patent/JPS6183253A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1242836A (en) | 1988-10-04 |
| JPH0323106B2 (ja) | 1991-03-28 |
| US4554338A (en) | 1985-11-19 |
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