JPS6193155A - スルフエニル化アシルヒドラゾン化合物 - Google Patents
スルフエニル化アシルヒドラゾン化合物Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
jl卜膿LL
本発明は、新規なスルフェニル化アシルヒドラゾン、こ
れらの化合物を含有する組成物、および、これらの化合
物および組成物を用いる、生物(living org
aniums)の防除方法に関する。
れらの化合物を含有する組成物、および、これらの化合
物および組成物を用いる、生物(living org
aniums)の防除方法に関する。
本発明の新規なスルフェニル化アシルヒドラゾンは、殺
生物活性を有する化合物であり、生物、特に微生物を防
除するのに適している。
生物活性を有する化合物であり、生物、特に微生物を防
除するのに適している。
発明の概要
本発明の新規なスルフェニル化アシルヒドラゾンは、
式 0
〔式中、
R1は、水素、
シアノ、
直鎖、または分枝鎖を有する低級(Cz−04)アルキ
ル゛(ただし、任意的に、イミダゾリル、トリアゾリル
、または、同種、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素
、または沃素)の1個またはそれ以上で、置換されてい
てもよい)、または フェニル(ただし、任意的ニ、ハロ、ニトロ、シアノ、
低級(C1−04)アルキル、または低級(C!l−C
,)アルコキシの同種または異種の1個またはそれ以上
で置換されていてもよい)であり、 R2は、水素 直鎖、または分枝鎖を有する(C1−C1l)アルキル
(ただし、イミダゾリル、トリ7ゾリル、または、同種
、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素、または沃素)
の1個またはそれ以上で、置換されていてもよい)、 低級(C1−04)アルコキシ、 低級CC1−04)チオアルコキシ、 低級(C2C6)アルケニル(ただし、任意的に、同種
、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素、または沃素)
の1個またはそれ以上で、置換されていてもよい)、 複素II(ただし、任意的に、八a(塩素、弗素、臭素
、または沃素)、またはニトロ、の同種または異種の1
個またはそれ以上で置換されていてもよい)、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、(塩素、弗素、臭
素、または沃素)、低級 (C1−04)アルキル、低級(Cx−04)アルコキ
シ、またはニトロ、の同種または異種の1個またはそれ
以上で置換されていてもよい)、または、 7エナルキル(phenalkyl) (ただし、コノ
アルキル部分は、1〜4個の炭素原子を含有し、7エ二
ル猿は、任意的に1ハに(塩素、弗素、臭素、または沃
素)、シアノ、ニトロ、低級(C1−C4)アルキル、
低級(C1−C4)アルコキシ、または低級(C1−0
4) ハロアルキル、の同種または異種の1個またはそ
れ以上で置換されていてもよい)であり、 2は、低級(C1−04)ハロアルキルであり、および
、人は、フェニル(ただし、任意的に、八〇(塩素、弗
素、臭素、または沃素)、ニトロ、シア・ ノ、ヒドロ
キシ、(C1−Ca)アルキル、(cl−06)ハロア
ルキル、((4−C,)チオアルキル% (Cz−06
)アルコキシ、(C1−06)カルブアルコキシ(ca
rbalkoxy) 、アリルオキシ、(C1−06)
7 ルカノイルオキシ、(C1−C6)アルキルアミ
ノ、CCz−Ce)ジアルキルアミノ、またはベンジル
オキシ、の同種または異種の1個またはそれ以上で置換
されていてもよい)、 チオフェニル(ただし、任意的に、ハロ(塩素、弗素、
臭素、または沃素)、またはニトロ、の同種または異種
の1個またはそれ以上で置換されていてもよい)、− フリル(ただし、任意的に、ハロ(塩素、弗素、臭素、
または沃素)、またはニトロ、の同種または異種の1個
またはそれ以上で置換されていてもよい)、 ピリジル、または、 ナフチルである〕 を有する。
ル゛(ただし、任意的に、イミダゾリル、トリアゾリル
、または、同種、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素
、または沃素)の1個またはそれ以上で、置換されてい
てもよい)、または フェニル(ただし、任意的ニ、ハロ、ニトロ、シアノ、
低級(C1−04)アルキル、または低級(C!l−C
,)アルコキシの同種または異種の1個またはそれ以上
で置換されていてもよい)であり、 R2は、水素 直鎖、または分枝鎖を有する(C1−C1l)アルキル
(ただし、イミダゾリル、トリ7ゾリル、または、同種
、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素、または沃素)
の1個またはそれ以上で、置換されていてもよい)、 低級(C1−04)アルコキシ、 低級CC1−04)チオアルコキシ、 低級(C2C6)アルケニル(ただし、任意的に、同種
、または異種のハロ(塩素、弗素、臭素、または沃素)
の1個またはそれ以上で、置換されていてもよい)、 複素II(ただし、任意的に、八a(塩素、弗素、臭素
、または沃素)、またはニトロ、の同種または異種の1
個またはそれ以上で置換されていてもよい)、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、(塩素、弗素、臭
素、または沃素)、低級 (C1−04)アルキル、低級(Cx−04)アルコキ
シ、またはニトロ、の同種または異種の1個またはそれ
以上で置換されていてもよい)、または、 7エナルキル(phenalkyl) (ただし、コノ
アルキル部分は、1〜4個の炭素原子を含有し、7エ二
ル猿は、任意的に1ハに(塩素、弗素、臭素、または沃
素)、シアノ、ニトロ、低級(C1−C4)アルキル、
低級(C1−C4)アルコキシ、または低級(C1−0
4) ハロアルキル、の同種または異種の1個またはそ
れ以上で置換されていてもよい)であり、 2は、低級(C1−04)ハロアルキルであり、および
、人は、フェニル(ただし、任意的に、八〇(塩素、弗
素、臭素、または沃素)、ニトロ、シア・ ノ、ヒドロ
キシ、(C1−Ca)アルキル、(cl−06)ハロア
ルキル、((4−C,)チオアルキル% (Cz−06
)アルコキシ、(C1−06)カルブアルコキシ(ca
rbalkoxy) 、アリルオキシ、(C1−06)
7 ルカノイルオキシ、(C1−C6)アルキルアミ
ノ、CCz−Ce)ジアルキルアミノ、またはベンジル
オキシ、の同種または異種の1個またはそれ以上で置換
されていてもよい)、 チオフェニル(ただし、任意的に、ハロ(塩素、弗素、
臭素、または沃素)、またはニトロ、の同種または異種
の1個またはそれ以上で置換されていてもよい)、− フリル(ただし、任意的に、ハロ(塩素、弗素、臭素、
または沃素)、またはニトロ、の同種または異種の1個
またはそれ以上で置換されていてもよい)、 ピリジル、または、 ナフチルである〕 を有する。
好ましい態様の詳細な説明
用語1アルキル”Kは、それ自体、または他の置換基の
一部として、炭素原子の起重された数を有する、直鎖ま
たは分枝鎖のアルキル基が包含される。用語1ハロゲン
”には、アルキル部分のモノ、ジ、トリ、テトラ、ペン
タ、またはへキサの置換基(1〜6個のへロrン置換置
)として、塩素、弗素、臭素、および沃素が包含される
。アルキル部分の例には、メチル、エチル、プロピル、
゛、イソプロピル、エチル、イソエチル、aec−エチ
ル、tart−エチル等が包含され、また、より高度の
同族体、例えばペンチル、ヘキシル、ヘゾチル、オクチ
ル等を、それ等の異性体と共に、示す。
一部として、炭素原子の起重された数を有する、直鎖ま
たは分枝鎖のアルキル基が包含される。用語1ハロゲン
”には、アルキル部分のモノ、ジ、トリ、テトラ、ペン
タ、またはへキサの置換基(1〜6個のへロrン置換置
)として、塩素、弗素、臭素、および沃素が包含される
。アルキル部分の例には、メチル、エチル、プロピル、
゛、イソプロピル、エチル、イソエチル、aec−エチ
ル、tart−エチル等が包含され、また、より高度の
同族体、例えばペンチル、ヘキシル、ヘゾチル、オクチ
ル等を、それ等の異性体と共に、示す。
同様に、′アルコキシ”は、メトキシ、エトキシプロポ
キシ、イソブトキシ、エトキシ、5ec−エトキシ、イ
ソブトキシ、tert−ブトキシ等を意味する。1チオ
アルキル”は、−3R基(式中、Rは、前記の如き炭素
原子数を有するアルキル基である)を意味する。1カル
シアルコキシ”(carbalkoxy)は、−CO2
R基(式中、Rは、前記の如き炭素原子数を有するアル
キル基である)を意味スる。“アルカノイルオキシ”は
、−0COR基(式中、Rは、前記の如き炭素原子数を
有するアルキル基である)を意味する。1アルキルアミ
ノ”は、−NHR基(式中、Rは、前記の如き炭素原子
数を有するアルキル基である)を意味する◎そして、′
ジアルキルアミノ”は、−NR*基(式中、RおよびI
は、夫々独立的に、前記の如き炭素数t−有スるアルキ
ル基である)を意味する。
キシ、イソブトキシ、エトキシ、5ec−エトキシ、イ
ソブトキシ、tert−ブトキシ等を意味する。1チオ
アルキル”は、−3R基(式中、Rは、前記の如き炭素
原子数を有するアルキル基である)を意味する。1カル
シアルコキシ”(carbalkoxy)は、−CO2
R基(式中、Rは、前記の如き炭素原子数を有するアル
キル基である)を意味スる。“アルカノイルオキシ”は
、−0COR基(式中、Rは、前記の如き炭素原子数を
有するアルキル基である)を意味する。1アルキルアミ
ノ”は、−NHR基(式中、Rは、前記の如き炭素原子
数を有するアルキル基である)を意味する◎そして、′
ジアルキルアミノ”は、−NR*基(式中、RおよびI
は、夫々独立的に、前記の如き炭素数t−有スるアルキ
ル基である)を意味する。
複素環は、3〜5個の核炭素原子、および窒素、酸素、
および硫黄から選ばれる、1〜3個のへテロ原子を含有
する環を有し、例えば、フリル、チオフェニル、ピリジ
ル、ビロール、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリ
ル、ピラゾリル、ピリミジル等、である。置換フェニル
は、他の置換基で置換された環上に、1個またはそれ以
上の水素原子を有するフェニル環を意味する。
および硫黄から選ばれる、1〜3個のへテロ原子を含有
する環を有し、例えば、フリル、チオフェニル、ピリジ
ル、ビロール、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリ
ル、ピラゾリル、ピリミジル等、である。置換フェニル
は、他の置換基で置換された環上に、1個またはそれ以
上の水素原子を有するフェニル環を意味する。
式Iの範囲内に含まれる典型的化合物には、次の化合物
が包含される: ・4−クロロベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2−ヒドロキシペンヅアルデヒド メトキシカルボニ
ル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラf/ ・4−ヒドロキシベンヅアルデヒP メトキシカルボニ
ル()!Jジクロロタンスルフェニル)ヒドラゾン m4−ジメチルアミノペンヅアルデヒド メトキシカル
ざニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3,5−ジクロロペンヅアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフェニル)′ ヒドラゾン e4−7セトキシベンゾアルデヒド メトキシカルボニ
ル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒぜラゾン ・4−メトキシカルポニルベンヅアルデヒド メトキシ
カルボニル() IJ クロロメタンスルフェニル)ヒ
ドラゾン −2−チオフェンカルボキシアルデヒド メトキシカル
ボニル(トU/CIC’lメタンスルフェニル)ヒドラ
ゾン ・5−ニトロ−2−テオフエンカルポキシアルデヒr
メトキシカルざニル(トリクロαメタ/スルフェニル)
ヒドラゾン ・4−メトキシペンヅアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン 0ベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・3−メトキシベンヅ
アルデヒド メトキシカルがニル(トリクロロメタンス
ルフェニル)ヒドラゾン ・2−メトキシベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−プロモベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2−フルアルデヒ? メトキシカルボニル(トリクロ
ロメタンスルフェニル)ヒTr”5fン・4−プロモベ
ンヅアルデヒド メトキシカルボニル(トリクロロメタ
ンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−シアノベンゾアルデモー メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン @2−プロモペンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン 62−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3−ニトロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン −2,6−シクロロベンヅアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒーラシン −2,4−ジクロロベンゾアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタン・スルフェニル)ヒドラゾン 03.4−ジクロロベンゾアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフエニA/)ヒドラゾン 04−ペンジルオキシベンゾアルデヒド メトキシカル
ざニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2,4−ジメトキシベンゾアルデヒド メトキシカル
ボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−メチルベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3,4.5−トリメトキシベンゾアルデヒドメトキシ
カルボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾ
ン 02−クロロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒト2シン ・3−クロロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン #4−りooベンゾアルデヒド アセチル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・4−クロロベンゾア
ルデヒド ベンゾイル(トリクロロメタンスルフェニル
)ヒドラゾン・メチル−(5−ニトロ−2−fエニル)
ケトンメ※トキシカルざニル(トリクロロメタンスル5
フェニル)ヒト、メタン ・4−クロロベンゾアルデヒド クロロアセチル<ト’
)/r2c’メタンスルフェニk)ヒドラゾン・ペンヅ
アルデヒr クロロアセチル(トリクロロメタンスルフ
ェニル)ヒドラゾン ・2−クロロベンゾアルデヒド クロロアセチル(トリ
クロロメタンスルフェニル)ヒ?5fン。
が包含される: ・4−クロロベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2−ヒドロキシペンヅアルデヒド メトキシカルボニ
ル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラf/ ・4−ヒドロキシベンヅアルデヒP メトキシカルボニ
ル()!Jジクロロタンスルフェニル)ヒドラゾン m4−ジメチルアミノペンヅアルデヒド メトキシカル
ざニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3,5−ジクロロペンヅアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフェニル)′ ヒドラゾン e4−7セトキシベンゾアルデヒド メトキシカルボニ
ル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒぜラゾン ・4−メトキシカルポニルベンヅアルデヒド メトキシ
カルボニル() IJ クロロメタンスルフェニル)ヒ
ドラゾン −2−チオフェンカルボキシアルデヒド メトキシカル
ボニル(トU/CIC’lメタンスルフェニル)ヒドラ
ゾン ・5−ニトロ−2−テオフエンカルポキシアルデヒr
メトキシカルざニル(トリクロαメタ/スルフェニル)
ヒドラゾン ・4−メトキシペンヅアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン 0ベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・3−メトキシベンヅ
アルデヒド メトキシカルがニル(トリクロロメタンス
ルフェニル)ヒドラゾン ・2−メトキシベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−プロモベンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2−フルアルデヒ? メトキシカルボニル(トリクロ
ロメタンスルフェニル)ヒTr”5fン・4−プロモベ
ンヅアルデヒド メトキシカルボニル(トリクロロメタ
ンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−シアノベンゾアルデモー メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン @2−プロモペンヅアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン 62−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3−ニトロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−フルオロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン −2,6−シクロロベンヅアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒーラシン −2,4−ジクロロベンゾアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタン・スルフェニル)ヒドラゾン 03.4−ジクロロベンゾアルデヒド メトキシカルボ
ニル(トリクロロメタンスルフエニA/)ヒドラゾン 04−ペンジルオキシベンゾアルデヒド メトキシカル
ざニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・2,4−ジメトキシベンゾアルデヒド メトキシカル
ボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・6−メチルベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・3,4.5−トリメトキシベンゾアルデヒドメトキシ
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ン 02−クロロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒト2シン ・3−クロロベンゾアルデヒド メトキシカルボニル(
トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン #4−りooベンゾアルデヒド アセチル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・4−クロロベンゾア
ルデヒド ベンゾイル(トリクロロメタンスルフェニル
)ヒドラゾン・メチル−(5−ニトロ−2−fエニル)
ケトンメ※トキシカルざニル(トリクロロメタンスル5
フェニル)ヒト、メタン ・4−クロロベンゾアルデヒド クロロアセチル<ト’
)/r2c’メタンスルフェニk)ヒドラゾン・ペンヅ
アルデヒr クロロアセチル(トリクロロメタンスルフ
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クロロメタンスルフェニル)ヒ?5fン。
・α−クロロアセトフェノン メトキシカルがニル(ト
リクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−クロロベンゾアルデヒド ホルミル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・2−クロロベンゾア
ルデヒド ポル。ミル(トリクロロメタンスルフェニル
)ヒドラゾン・4−クロロベンゾアルデヒド エトキシ
カルボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾ
ン 拳2−ククロペン・ジアルデヒド エトキシカルポニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・アセトフェノン メトキシカルボニル(トリクロロメ
タンスルフェニル)ヒーラシン ・4′−クロロアセトフェノン メトキシカルボニル(
) IJジクロロタンスルフェニル)ヒTr”5fン 一4’−クロロプロピオフェノン メトキシカルボニル
() IJ クロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−クロロベンゾフェノン メトキシカルざニル(ト
リクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・ペシfフェノン メトキシカルボニル(トリクロロメ
タンスルフェニル)ヒk” ラf 7本発明のスルフェ
ニル化アシルヒrメタンは、弐 ′ 0 (式中、A、R1およびR2は、式■の定義と同じであ
る)を有するヒドラゾンを、塩基、および溶媒、または
混合溶媒の存在下で、 弐Hal−8−Zl[ (式中、Halは、ハofン、好ましくは塩素であり、
2は、式Iの定義と同じである)を有するスルフェニル
化剤と、反応させることによって造ることができる。
リクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−クロロベンゾアルデヒド ホルミル(トリクロロ
メタンスルフェニル)ヒドラゾン・2−クロロベンゾア
ルデヒド ポル。ミル(トリクロロメタンスルフェニル
)ヒドラゾン・4−クロロベンゾアルデヒド エトキシ
カルボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾ
ン 拳2−ククロペン・ジアルデヒド エトキシカルポニル
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・アセトフェノン メトキシカルボニル(トリクロロメ
タンスルフェニル)ヒーラシン ・4′−クロロアセトフェノン メトキシカルボニル(
) IJジクロロタンスルフェニル)ヒTr”5fン 一4’−クロロプロピオフェノン メトキシカルボニル
() IJ クロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・4−クロロベンゾフェノン メトキシカルざニル(ト
リクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾン ・ペシfフェノン メトキシカルボニル(トリクロロメ
タンスルフェニル)ヒk” ラf 7本発明のスルフェ
ニル化アシルヒrメタンは、弐 ′ 0 (式中、A、R1およびR2は、式■の定義と同じであ
る)を有するヒドラゾンを、塩基、および溶媒、または
混合溶媒の存在下で、 弐Hal−8−Zl[ (式中、Halは、ハofン、好ましくは塩素であり、
2は、式Iの定義と同じである)を有するスルフェニル
化剤と、反応させることによって造ることができる。
前記の反応は、反応体および塩基の約等モル比を使用し
、不活性または実質的に不活性な有機溶媒またはそれ等
の混合溶媒、例えば、トルエン、ベンゼン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド1.ジメチルスルホキシド等の存
在下で実施する。
、不活性または実質的に不活性な有機溶媒またはそれ等
の混合溶媒、例えば、トルエン、ベンゼン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド1.ジメチルスルホキシド等の存
在下で実施する。
好ましくは、式■のスルフェニル化剤の約1.0〜l
λ 約5合モル、および塩基の約1.0〜約1.2モルを、
式■のヒドラゾンの1モル当りに使用する。使用するこ
とができる適当な塩基は、有機性の酸結合性化合物、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、および、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等である。
λ 約5合モル、および塩基の約1.0〜約1.2モルを、
式■のヒドラゾンの1モル当りに使用する。使用するこ
とができる適当な塩基は、有機性の酸結合性化合物、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、および、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等である。
一般に、前記の反応は、約り℃〜約110℃の温度で実
施することができる。好ましくは、温度は、約り0℃〜
約80℃の範囲である。 ゛式Iのスルフェニル化
アシルヒドラゾン生成物は、既知方法により単離するこ
とができる。
施することができる。好ましくは、温度は、約り0℃〜
約80℃の範囲である。 ゛式Iのスルフェニル化
アシルヒドラゾン生成物は、既知方法により単離するこ
とができる。
式Iの化合物を製造するのに用いることができる弐■の
スルフェニル化剤の若干の典型的な例は、トリクロロメ
タンスルフェニル−クロライ?、ジクロロフルオロメタ
ンスルフェニル−クロライド、ペンタクロロエタンスル
フェニル−クロ5イ’t’等である。一般に、これ等の
スルフェニル化剤は市販されており、または、既知方法
で造ることができる。
スルフェニル化剤の若干の典型的な例は、トリクロロメ
タンスルフェニル−クロライ?、ジクロロフルオロメタ
ンスルフェニル−クロライド、ペンタクロロエタンスル
フェニル−クロ5イ’t’等である。一般に、これ等の
スルフェニル化剤は市販されており、または、既知方法
で造ることができる。
式 R1
1■
A−C−=0
(式中、AおよびR1は、式Iの定義と同じである)を
有するカルボニル化合物を、 式 (式中 R2は、式Iの定義と同じである)を有するモ
ノ置換カルがニルヒドラジドと、不活性溶媒または混合
溶媒の存在下、約20°C〜約100’Cの温度で、縮
合することによって造ることができり盟約な不活性溶媒
には、水、アルコール類、酢酸エチル、ジオギサン、ジ
エチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等が包含される。アルコール類およびアルコー
ル類の水溶液は、好ましい溶媒である。式Hの中間化合
物を造るのに使用することができる式■のカルボニル化
合物の例には、4−クロロベンヅアルデヒド、2−メト
キシペンヅアルデヒv12−フルアルデヒド(2−fu
raldehyde ) 、5− ニドO−2−チオ7
エンカーボンアルデヒド、メチル−(5−=)l:1−
2−F−−1−ニル)ケトン、0−りaローアセトフェ
ノン、α−クロロアセトフェノン、α−イばダゾリルー
アセトフエノン、α−トリアゾリルアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、1−す7チル等が包含される。前記反応
に用いることができる、前記の、および、その他のカル
ボニル化合物は1、一般に1市販されており、または、
既知方法で造ることができる。
有するカルボニル化合物を、 式 (式中 R2は、式Iの定義と同じである)を有するモ
ノ置換カルがニルヒドラジドと、不活性溶媒または混合
溶媒の存在下、約20°C〜約100’Cの温度で、縮
合することによって造ることができり盟約な不活性溶媒
には、水、アルコール類、酢酸エチル、ジオギサン、ジ
エチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等が包含される。アルコール類およびアルコー
ル類の水溶液は、好ましい溶媒である。式Hの中間化合
物を造るのに使用することができる式■のカルボニル化
合物の例には、4−クロロベンヅアルデヒド、2−メト
キシペンヅアルデヒv12−フルアルデヒド(2−fu
raldehyde ) 、5− ニドO−2−チオ7
エンカーボンアルデヒド、メチル−(5−=)l:1−
2−F−−1−ニル)ケトン、0−りaローアセトフェ
ノン、α−クロロアセトフェノン、α−イばダゾリルー
アセトフエノン、α−トリアゾリルアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、1−す7チル等が包含される。前記反応
に用いることができる、前記の、および、その他のカル
ボニル化合物は1、一般に1市販されており、または、
既知方法で造ることができる。
式■の中間化合物を造るのに使用することができる式V
のモノ置換カルボニルヒドラジドの例には、メトキシ力
ルポニルヒrラジン、エトキシカルボニルヒドラジン、
クロロアセチルヒドラジン、ベンゾイルヒドラジン、4
−クロロベンゾイルヒドラジン、ホルミルヒドラジン、
2−70酸ヒドラジド、2−チオ7エンカルポン酸ヒr
ラジvトイソニコテン酸ヒドラジド等が包含される。前
記反応に用いることができる、前記の、および、その他
のカルポニルヒVラジドは、一般に、市販されており、
または、既知方法で造ることができる。
のモノ置換カルボニルヒドラジドの例には、メトキシ力
ルポニルヒrラジン、エトキシカルボニルヒドラジン、
クロロアセチルヒドラジン、ベンゾイルヒドラジン、4
−クロロベンゾイルヒドラジン、ホルミルヒドラジン、
2−70酸ヒドラジド、2−チオ7エンカルポン酸ヒr
ラジvトイソニコテン酸ヒドラジド等が包含される。前
記反応に用いることができる、前記の、および、その他
のカルポニルヒVラジドは、一般に、市販されており、
または、既知方法で造ることができる。
次に示す実施例は、本発明を例示するものであり、もち
ろん、本発明は、これ等に限定されるものではない。第
1表は、前述の方法で造った式1の化合物の態様である
具体例であって、実施例1〜97として示す。第2表は
、第1表に記載した若干の例の化合物の元素分析値、お
よび融点(または沸点範囲)を示す。また、実施例1,
2,3゜5.10,11,12,18,35,47,5
3゜60.62,77、および94の製造例を、第2表
の後に示す。
ろん、本発明は、これ等に限定されるものではない。第
1表は、前述の方法で造った式1の化合物の態様である
具体例であって、実施例1〜97として示す。第2表は
、第1表に記載した若干の例の化合物の元素分析値、お
よび融点(または沸点範囲)を示す。また、実施例1,
2,3゜5.10,11,12,18,35,47,5
3゜60.62,77、および94の製造例を、第2表
の後に示す。
さ口FC’j唖賃 (イ)’Ohの(ト)ローへ(イ)
へ ?/) 哨 (イ) (イ) (イ)
(イ) 哨 哨 (イ) r/) 寸
寸 寸 寸うhQ)Go−へ(イ)寸 のカ
ベの)り 叩 り り < < C< C40唖
唖 ℃第 1 表 92 E −0H206H。
へ ?/) 哨 (イ) (イ) (イ)
(イ) 哨 哨 (イ) r/) 寸
寸 寸 寸うhQ)Go−へ(イ)寸 のカ
ベの)り 叩 り り < < C< C40唖
唖 ℃第 1 表 92 E −0H206H。
93 H(!6H401−2
94 H−o−c(aH3)。
95 H−0H206H5
96H−o−c(aH
(続き)
土
c6’m4cH3−2
c6a4CHs−2
(36H,C1−4
06H,C1−4
0、H,C1−4
0、H,C1−2
の 0% 0 F へ
梢 寸 のF ?+ F
r F Fo 寸 り
’0 1’−の き 口N
へ へ へ へ ヘ
ヘ (イ)さロ V−へ哨寸唖’Oh 哨 寸 寸 寸 寸 −1t 寸 寸
寸”Or% O) Q−C1v−
唖 唖 の の (唖益虫
益虫 益虫 益虫 =屯 益虫u’+
−o r”−(CI O−C:l
q−coco Q) の
co o+o−実施例1 シンの製造 125m、3ツロ、丸底フラスコに櫂形攪拌機を付け、
このフラスコに、4−クロロベンヅアルデヒド−(N′
−メトキシカルボニル)−ヒドラゾン(5,0,9,2
3,53ミリモル)、およびトルエンC6Qts更に乾
燥しないで)を入れた。これに、水酸化ナトリウム(N
aOH)から蒸溜し、または、Na0HKて乾燥したば
かりの、トリエチルアミン(3,47d、 25ミリモ
ル)1−一度に加え1らこの分散液に、室温におい℃、
激しく攪拌しながう、トリクロロメタンスルフェニルク
ロライkP(Cj8CCj3 ) (4−651%
25ミ/l/%ル)を、注入器から滴下した。この反応
は僅かに発熱した。反応混合物を、室温において、1〜
2時間攪拌した。
梢 寸 のF ?+ F
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co o+o−実施例1 シンの製造 125m、3ツロ、丸底フラスコに櫂形攪拌機を付け、
このフラスコに、4−クロロベンヅアルデヒド−(N′
−メトキシカルボニル)−ヒドラゾン(5,0,9,2
3,53ミリモル)、およびトルエンC6Qts更に乾
燥しないで)を入れた。これに、水酸化ナトリウム(N
aOH)から蒸溜し、または、Na0HKて乾燥したば
かりの、トリエチルアミン(3,47d、 25ミリモ
ル)1−一度に加え1らこの分散液に、室温におい℃、
激しく攪拌しながう、トリクロロメタンスルフェニルク
ロライkP(Cj8CCj3 ) (4−651%
25ミ/l/%ル)を、注入器から滴下した。この反応
は僅かに発熱した。反応混合物を、室温において、1〜
2時間攪拌した。
この反応混合物t1酢酸エチル(60m)と水(60+
wj)の混合物中に注入した。次いで、有機層を、59
bNILHOC)5 浴液(50m)、N20 (2X
50d)、および飽和Nacj溶液(50*)で洗った
a MgSO4k用いて乾燥後、濾、過し、濾液を、回
転式蒸発器で濃縮し、次いで減圧下で更に乾燥し、生成
物(7,24#、収率86qlI)t−得た。
wj)の混合物中に注入した。次いで、有機層を、59
bNILHOC)5 浴液(50m)、N20 (2X
50d)、および飽和Nacj溶液(50*)で洗った
a MgSO4k用いて乾燥後、濾、過し、濾液を、回
転式蒸発器で濃縮し、次いで減圧下で更に乾燥し、生成
物(7,24#、収率86qlI)t−得た。
実施例2
造
実施例1の操作に従って、トルエン(20d)中の1,
4−クロロベンヅアルデヒドー(N’−ベンゾイル)−
ヒドラゾン(2,6g、10ミリモル)全、Et3N
(1,21&、12ミリモル)とcjsOcf3(2,
1g、12ミリモル)で処理し、生成物3.311(収
率80チ)を微細な針状で得た。
4−クロロベンヅアルデヒドー(N’−ベンゾイル)−
ヒドラゾン(2,6g、10ミリモル)全、Et3N
(1,21&、12ミリモル)とcjsOcf3(2,
1g、12ミリモル)で処理し、生成物3.311(収
率80チ)を微細な針状で得た。
実施例6
の製造
4−クロロベンヅアルデヒドー「−クロロアセチルヒド
ラゾン(2,8,9,12,12ミリモル)の乾燥トル
エン(25−z)および乾燥DMI’(10*)の分散
液中に、N2雰囲気中、室温にて、ゆっくりと、ピリジ
ン(Im、13ミリモル、NaOHから蒸溜した)、次
いで08CjCj3 (1−4m、13 ミ!Jモ/
l/)を加えた。
ラゾン(2,8,9,12,12ミリモル)の乾燥トル
エン(25−z)および乾燥DMI’(10*)の分散
液中に、N2雰囲気中、室温にて、ゆっくりと、ピリジ
ン(Im、13ミリモル、NaOHから蒸溜した)、次
いで08CjCj3 (1−4m、13 ミ!Jモ/
l/)を加えた。
添加後、反応t、40℃〜50℃に加熱し、60分間行
った。次いで、反応混合物を冷却し、冷却した反応混合
物’ji−,、ltOムc、(50m)で希釈し、N2
0 (2×50−) 、およびシライン(brine
)(50aj)で洗った。有機層を、Na2804で乾
燥した。この乾燥剤を濾過して除去後、溶媒全減圧下で
除き、褐色残留物を得た。これを、シリカゲル音用いた
カラムクロマトグラフィを用い、C庄ちで溶離し・て、
純粋な生成物3.11 fI(収率67qb)を得た。
った。次いで、反応混合物を冷却し、冷却した反応混合
物’ji−,、ltOムc、(50m)で希釈し、N2
0 (2×50−) 、およびシライン(brine
)(50aj)で洗った。有機層を、Na2804で乾
燥した。この乾燥剤を濾過して除去後、溶媒全減圧下で
除き、褐色残留物を得た。これを、シリカゲル音用いた
カラムクロマトグラフィを用い、C庄ちで溶離し・て、
純粋な生成物3.11 fI(収率67qb)を得た。
実施例5
ドラシンの製造
4−ヒドロキシベンヅアルデヒド−(ドーノトキシカル
ボニル)−ヒドラゾン(3g、15.5 ミリモル)の
トルエン(70td % ”0aH2から蒸溜した)分
散液k、N2雰囲気中、室温くて、攪拌しながら、gt
3N ()リエチルアミン) (3,1251131ミ
リモル)の2当量で処理し、次いで、ツレに、トリクロ
ロメタンスルフェニル−クロライド(5,8g、31ミ
リモル)の2当iを、5分間かけて滴下しながら添加し
た。
ボニル)−ヒドラゾン(3g、15.5 ミリモル)の
トルエン(70td % ”0aH2から蒸溜した)分
散液k、N2雰囲気中、室温くて、攪拌しながら、gt
3N ()リエチルアミン) (3,1251131ミ
リモル)の2当量で処理し、次いで、ツレに、トリクロ
ロメタンスルフェニル−クロライド(5,8g、31ミ
リモル)の2当iを、5分間かけて滴下しながら添加し
た。
反応混合物’it、60−70℃において、100分間
加熱し、次いで室温に冷却し、50チ飽和NaC1溶液
(100*)、で冷却した。水性相全1T!、10ムc
(2×100−)で抽出した。この抽出有機層を一諸に
して、N20(2x100t/)、およびプラインで洗
った。この溶液k、’gso4で乾燥し、ロータリ一式
蒸発器で蒸発させ、残留物七穐これi−KtOAc−ヘ
キサン(1:9)で粉砕した。
加熱し、次いで室温に冷却し、50チ飽和NaC1溶液
(100*)、で冷却した。水性相全1T!、10ムc
(2×100−)で抽出した。この抽出有機層を一諸に
して、N20(2x100t/)、およびプラインで洗
った。この溶液k、’gso4で乾燥し、ロータリ一式
蒸発器で蒸発させ、残留物七穐これi−KtOAc−ヘ
キサン(1:9)で粉砕した。
その固体をf!遇し、濾液を乾固まで蒸発させた。
この濾液から得られた固体(4−01) ks mto
Aa−ヘキサン(1:4)から再結晶し、所望生成物(
1,06,9,収率20%)を得た。
Aa−ヘキサン(1:4)から再結晶し、所望生成物(
1,06,9,収率20%)を得た。
実施例10
クロロメタンスルフェニル)とドラシンの製造実施例1
の操作に従って、トルエン(,50,E/)中の4−ク
ロロペンヅアルデヒドーN′〜アセチル−ヒドラゾン(
3,9,15,3ミリモル) ks ”5N(1,56
#、16ミリモル〕、およびIJsOc、!3(2,9
g、16ミ!Jモル)で処理し、所望生成物5.2.9
(収率98チ)t−得た。
の操作に従って、トルエン(,50,E/)中の4−ク
ロロペンヅアルデヒドーN′〜アセチル−ヒドラゾン(
3,9,15,3ミリモル) ks ”5N(1,56
#、16ミリモル〕、およびIJsOc、!3(2,9
g、16ミ!Jモル)で処理し、所望生成物5.2.9
(収率98チ)t−得た。
実施例11
実施例1の操作に従って、2−チオ7エンーカ゛ルポキ
シアルデヒF−(N’−メトキシカルボニル〕−ヒドラ
ゾン(5g、27.2ミリモル)を、Et3N(2,8
3&、28ミリモル)、次いでCiO己3(5,21,
9,28ミリモル)で処理し、結晶性の所望生成物8.
46 g(収率95チ)を得た。
シアルデヒF−(N’−メトキシカルボニル〕−ヒドラ
ゾン(5g、27.2ミリモル)を、Et3N(2,8
3&、28ミリモル)、次いでCiO己3(5,21,
9,28ミリモル)で処理し、結晶性の所望生成物8.
46 g(収率95チ)を得た。
実施例12
ルフェニル)ヒドラゾンの製造
5−ニトロ−2−チオフェンカルボキシアルデヒド−(
N′−ノドキシカルボニル)ヒドラゾン(2g、8.7
3ミリモル)のトルエン(30m)およびDMF’ (
’l m、) / NaOHにて乾燥)の分散液中に、
N2雰囲気中、室温にて、攪拌しながら、止t3N (
0,91Is 9ミリモル)を加え、次いで′cis
ccz3(1,67411% 、 9ミリモル)Tt、
ゆっくり加えた。癒加後、反応混合物を、室温に″c:
2′、時間攪拌し、60℃にて1時間加熱した。この反
応混合物を冷却し、冷却された反応混合物f、EtQA
c(100d)で希釈し、次いで、HaO(50y)、
5%NaHOO3(50m )、HzO(50m)、お
よび飽和NaC1で洗った。有機層ts MgSO4で
乾燥し、乾固まで蒸発させた。残留物”fSOH3C,
tで粉砕し、掘遇し、未反応の原料物質を除いた。濾液
kaML、KtOAQ −ヘ?r’!j7 (1: 1
)から再結晶し、・黄色針状物として生成物1.8.
V(収率60qb)を得た。
N′−ノドキシカルボニル)ヒドラゾン(2g、8.7
3ミリモル)のトルエン(30m)およびDMF’ (
’l m、) / NaOHにて乾燥)の分散液中に、
N2雰囲気中、室温にて、攪拌しながら、止t3N (
0,91Is 9ミリモル)を加え、次いで′cis
ccz3(1,67411% 、 9ミリモル)Tt、
ゆっくり加えた。癒加後、反応混合物を、室温に″c:
2′、時間攪拌し、60℃にて1時間加熱した。この反
応混合物を冷却し、冷却された反応混合物f、EtQA
c(100d)で希釈し、次いで、HaO(50y)、
5%NaHOO3(50m )、HzO(50m)、お
よび飽和NaC1で洗った。有機層ts MgSO4で
乾燥し、乾固まで蒸発させた。残留物”fSOH3C,
tで粉砕し、掘遇し、未反応の原料物質を除いた。濾液
kaML、KtOAQ −ヘ?r’!j7 (1: 1
)から再結晶し、・黄色針状物として生成物1.8.
V(収率60qb)を得た。
実施例18
キシカルボニル(トリクロロメタンスルフェニル)ヒド
ラゾンの製造 実施例1の操作に従って、2−フルアルデヒげ−ヒドラ
ゾン(4g、26.8ミリモル)を、B1:3N(2,
26g、25ミリモル)、およびCl5CCj3(4,
6El、25ミ!7モル)で処理し、粗生成物7.18
9 (収率95チ)を得た。
ラゾンの製造 実施例1の操作に従って、2−フルアルデヒげ−ヒドラ
ゾン(4g、26.8ミリモル)を、B1:3N(2,
26g、25ミリモル)、およびCl5CCj3(4,
6El、25ミ!7モル)で処理し、粗生成物7.18
9 (収率95チ)を得た。
実施例35
二二ノ)ヒドラゾンの製造
実施例1の操作に従って1.メチル−(5−ニトロ−2
−チェニル)ケトン メトキシカルボニルヒドラゾン(
1,5g、6.17ミリモル)を、It 3N(1ゴ、
7ミリモル)、およびczsccJ3(0,71,9,
6,5ミIJモル)で処理し、粗残留物を得た。
−チェニル)ケトン メトキシカルボニルヒドラゾン(
1,5g、6.17ミリモル)を、It 3N(1ゴ、
7ミリモル)、およびczsccJ3(0,71,9,
6,5ミIJモル)で処理し、粗残留物を得た。
これを、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィを
用い、C8,で溶離して、純粋生成物(0,8,IF、
収率36チ)を得た。
用い、C8,で溶離して、純粋生成物(0,8,IF、
収率36チ)を得た。
実施例47
4−メチルベンヅアルデヒド ホルミル(トリクロロメ
タンスルフ、エニル)ヒドラゾンの製造4−メチルベン
ヅアルデヒド @酸ヒドメタン(5,0#ffl 3
0.86ミリモル)とトリクロロタンスルフェニルクロ
ライド(6,31&、33.95ミリモル)の混合物の
乾燥トルエン液(50ml)中に、機械的な攪拌をしな
がら、トリエチルアミン(3,43,9,56,95ミ
リモル)tlゆっくり添那しに0この反応混合物を、室
温において、1時間追加して攪拌した。次いで、この反
応混合物を、酢酸エチル(100mj)で希釈し、水お
よび飽和NaCj4il液で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を、回転式蒸発器で濃
繕し、希黄色残留物ケ得た。ヘキサンを用いて再結晶し
、純粋生成物(5,98,9,収率62.2 % )を
得た。
タンスルフ、エニル)ヒドラゾンの製造4−メチルベン
ヅアルデヒド @酸ヒドメタン(5,0#ffl 3
0.86ミリモル)とトリクロロタンスルフェニルクロ
ライド(6,31&、33.95ミリモル)の混合物の
乾燥トルエン液(50ml)中に、機械的な攪拌をしな
がら、トリエチルアミン(3,43,9,56,95ミ
リモル)tlゆっくり添那しに0この反応混合物を、室
温において、1時間追加して攪拌した。次いで、この反
応混合物を、酢酸エチル(100mj)で希釈し、水お
よび飽和NaCj4il液で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾過後、濾液を、回転式蒸発器で濃
繕し、希黄色残留物ケ得た。ヘキサンを用いて再結晶し
、純粋生成物(5,98,9,収率62.2 % )を
得た。
実施例53
シンの製造
実施例47の操作に従って、4−)!jフルオロメチル
ベベンアルデヒドー蟻酸ヒドラゾン(5,0,9,23
,1ミリモル)、およびトリクロロメタンスルフェニル
クロライド(4,74,9,25,46ミリモル)の乾
燥トルエン(50d)it−、)リエチルアミン(2,
57,!ii’、25.46ミリモル)で処理し、純粋
生成物5.19 (収率60.3 To )”を得た。
ベベンアルデヒドー蟻酸ヒドラゾン(5,0,9,23
,1ミリモル)、およびトリクロロメタンスルフェニル
クロライド(4,74,9,25,46ミリモル)の乾
燥トルエン(50d)it−、)リエチルアミン(2,
57,!ii’、25.46ミリモル)で処理し、純粋
生成物5.19 (収率60.3 To )”を得た。
実施例60
(トリクロロメタンスルフェニル)ヒドラゾンの製造
実施例47の操作に従って、2.4−ジクロロベンレア
ルデヒドーヒドラゾン(5,0,9,25,04ミリモ
ル)のトルエン(−50ml)液を1 トリクロロメタ
ンスルフェニルクロライl’(5,14#。
ルデヒドーヒドラゾン(5,0,9,25,04ミリモ
ル)のトルエン(−50ml)液を1 トリクロロメタ
ンスルフェニルクロライl’(5,14#。
27.65ミリモル)、およびピリジン(2,18g、
27.65ミリモル)で処理し、生成物3.99(収率
46.2 % ) t−得た。
27.65ミリモル)で処理し、生成物3.99(収率
46.2 % ) t−得た。
実施例62
3−プロモベンヅアルデヒドーホルミル(トリクロロメ
タンスルフェニル)とドラf7f)製造実施例47の操
作に従って、4−プロモベンヅアルデヒドー蟻酸ヒドラ
ゾン(5,0、li+、 22.03ミリモル)のトル
エン(50y)it−t )リクロロメタンスルフェ
ニルクロライド(4,9211,26,43ミリモル)
、およびピリジン(2,09g、26.43 ミリモル
)で処理し、殆んど純粋な生成物5.Oll(収率60
.6チ)を得た。
タンスルフェニル)とドラf7f)製造実施例47の操
作に従って、4−プロモベンヅアルデヒドー蟻酸ヒドラ
ゾン(5,0、li+、 22.03ミリモル)のトル
エン(50y)it−t )リクロロメタンスルフェ
ニルクロライド(4,9211,26,43ミリモル)
、およびピリジン(2,09g、26.43 ミリモル
)で処理し、殆んど純粋な生成物5.Oll(収率60
.6チ)を得た。
実施例77 ・
シンの製造
実施例1の操作に従って、4−メチルベンヅアルデヒド
ーメトキシカルボニルーヒドラゾン(3,0,9,15
,63ミリモル)の乾燥トルエン(50d)を、トリエ
チルアミン(C89,9゜18.75ミリモル)、およ
びトリクロロメタンスルフェニルクロライド(3,49
g、18.75ミリモル)で処理し、純粋生成物3.0
9 (収率56.2チ)を得た。
ーメトキシカルボニルーヒドラゾン(3,0,9,15
,63ミリモル)の乾燥トルエン(50d)を、トリエ
チルアミン(C89,9゜18.75ミリモル)、およ
びトリクロロメタンスルフェニルクロライド(3,49
g、18.75ミリモル)で処理し、純粋生成物3.0
9 (収率56.2チ)を得た。
実施例94
4−クロロベンヅアルデヒド 5−プトキシカルサニル
()!j/ロロメタンスルフェニル)ヒドラゾンの製造 4−クロロベンヅアルデヒド t−ブトキシカルボニル
ヒドラゾン(5,0,9,19,6°5ミリモル)、お
よびトリエチルアミン(2,38g、23.58ミリモ
ル)の混合物の乾燥トルエン(50y)中に、窒素雰囲
気、室温下で、攪拌しながら、トリクロロメタンスルフ
ェニルクロライド(4,39#。
()!j/ロロメタンスルフェニル)ヒドラゾンの製造 4−クロロベンヅアルデヒド t−ブトキシカルボニル
ヒドラゾン(5,0,9,19,6°5ミリモル)、お
よびトリエチルアミン(2,38g、23.58ミリモ
ル)の混合物の乾燥トルエン(50y)中に、窒素雰囲
気、室温下で、攪拌しながら、トリクロロメタンスルフ
ェニルクロライド(4,39#。
23.58ミリモル)を、滴加しながら加えた。添加後
、反応混合物を、室温下で、1.5時間追加して攪拌し
た。次いで、反応混合物を、酢酸エチルで希釈し、水お
よび飽和NaC1溶液で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥剤を濾過後、濾液t1回転式蒸発器で濃縮し
、残留物を得た。これを1へキサンを用いて再結晶し、
純粋な生成物3.0 & (収率31.8%)1−得た
。
、反応混合物を、室温下で、1.5時間追加して攪拌し
た。次いで、反応混合物を、酢酸エチルで希釈し、水お
よび飽和NaC1溶液で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥剤を濾過後、濾液t1回転式蒸発器で濃縮し
、残留物を得た。これを1へキサンを用いて再結晶し、
純粋な生成物3.0 & (収率31.8%)1−得た
。
本発明の新規なスルフェニル化アシルヒドラゾンは、殺
生物活性を示し、生物、特に微生物を防除するのに適し
ている。
生物活性を示し、生物、特に微生物を防除するのに適し
ている。
主として、活性の見地から、殺生物剤として好ましいス
ルフェニル化アシルヒドラゾンは、式I。
ルフェニル化アシルヒドラゾンは、式I。
(式中、
R1は、水素、メチル、またはクロロメチルであり、
R2は、水素、メトキシ、またはエトキシであり、
Aは、塩素、弗素、臭素、ニトロ、トリフルオロメチル
、メチル、メトキシ、またはカルボメトキシ、またはブ
ロモチオフェニル、の同゛種、または異檻の1個、2個
、または3個で置換されたフェニルであり、 2は、トリクロロメチルである、) を有する化合物である。
、メチル、メトキシ、またはカルボメトキシ、またはブ
ロモチオフェニル、の同゛種、または異檻の1個、2個
、または3個で置換されたフェニルであり、 2は、トリクロロメチルである、) を有する化合物である。
抗細菌活性、および殺菌活性は、aerial’
Dilution Te5t (Broth TLte
r Te5t)で評価した。
Dilution Te5t (Broth TLte
r Te5t)で評価した。
この試験では、試験用化合物の種々な希釈度のものを含
む液体培地の一系列’e 、500 ppmk最初Kl
j:2つに分けた。希釈度に従って、225μノ(マイ
クロリッター)?:含む液体培地チューブに、1dに付
、試験用微生物の約1 ×10’コロニ一生成性単位を
含有する接種剤の25μノヲ筬柚した。
む液体培地の一系列’e 、500 ppmk最初Kl
j:2つに分けた。希釈度に従って、225μノ(マイ
クロリッター)?:含む液体培地チューブに、1dに付
、試験用微生物の約1 ×10’コロニ一生成性単位を
含有する接種剤の25μノヲ筬柚した。
次いで、これらの管を製置し、微生物の生長を観察した
。その結果を第3表(最も近い整数に仕上げた)に示す
。この第3表の数値は、試験用化合物が、微生物の完全
防除を示す部/100万部(ppm)において表わした
最小d度である。この試験では、次の菌(fungi)
および細菌(bacteria)全使用した@ 妬弄清苦 a coli (100L)) 1’a’aucLomonaa aeruginosa
(PSAE))−F−Pmへへへへiへ凶へへ 1’、 r%、 I’−、h h h +−,、hのの
ののの−山第6表( 88>500 − − 90 >500 − − 91 >500 − − 93 >500 − − 94 >500 − − 95 >500 − − 96 >500 − − 97 >500 − − ■: ppmにおける最小防除濃度とし。
。その結果を第3表(最も近い整数に仕上げた)に示す
。この第3表の数値は、試験用化合物が、微生物の完全
防除を示す部/100万部(ppm)において表わした
最小d度である。この試験では、次の菌(fungi)
および細菌(bacteria)全使用した@ 妬弄清苦 a coli (100L)) 1’a’aucLomonaa aeruginosa
(PSAE))−F−Pmへへへへiへ凶へへ 1’、 r%、 I’−、h h h +−,、hのの
ののの−山第6表( 88>500 − − 90 >500 − − 91 >500 − − 93 >500 − − 94 >500 − − 95 >500 − − 96 >500 − − 97 >500 − − ■: ppmにおける最小防除濃度とし。
■;報告データはなかった。
続き)
殺細菌効果
Boon PSA]1ili PSFL
5AUR−−>500 − 一 −>500 − >500 >500 >500 >500− −
>5[]0 − − − >500 − − − >500 − 〜 − >SOO− −−>500 − − − >500 − − − >SOO− −−>500 − >500 >500 >500 250=示した
。
5AUR−−>500 − 一 −>500 − >500 >500 >500 >500− −
>5[]0 − − − >500 − − − >500 − 〜 − >SOO− −−>500 − − − >500 − − − >SOO− −−>500 − >500 >500 >500 250=示した
。
本発明のスルフェニル化アシルヒドラゾンは、種々の植
物病原性菌に対して活性を示す。
物病原性菌に対して活性を示す。
主として、活性の見地から、殺菌剤として好ましいスル
フェニル化アシルヒドラゾンは、式11(式中、 R1は、水素であり、 R2は、水素、メトキシ、またはクロロ、フェニルであ
り、 Aは、塩素、弗素、臭素、シアノ、ニトロ、カルボメト
キシ、またはアセトキシ、の同種、または異種の1個、
2個、または6個で置換されたフェニルであり、 2は、トリクロロメチルである) を有する化合物である。
フェニル化アシルヒドラゾンは、式11(式中、 R1は、水素であり、 R2は、水素、メトキシ、またはクロロ、フェニルであ
り、 Aは、塩素、弗素、臭素、シアノ、ニトロ、カルボメト
キシ、またはアセトキシ、の同種、または異種の1個、
2個、または6個で置換されたフェニルであり、 2は、トリクロロメチルである) を有する化合物である。
ト試験用植物(鉢植え試験用植物)に、評価の対象であ
る化合物の分散液を、約150ガロン/ニーカーの搬送
容量で、移動ベルト上の投与系列で、植物から流れ落ち
るまで噴霧した。I!J霧された植物を乾燥した。次い
で、適当に乾燥した植物に、菌の胞子を接種し、疫病が
発育するまで製置した。
る化合物の分散液を、約150ガロン/ニーカーの搬送
容量で、移動ベルト上の投与系列で、植物から流れ落ち
るまで噴霧した。I!J霧された植物を乾燥した。次い
で、適当に乾燥した植物に、菌の胞子を接種し、疫病が
発育するまで製置した。
次いで、植物を視覚によって検定し、疫病防除率(チ)
(胞子を接種された対照と比較して)t−調べた。
(胞子を接種された対照と比較して)t−調べた。
次の試験方法全1本発明の化合物の殺菌活性全評価する
のに使用した。
のに使用した。
実施例ム
方法1ニ
アロ間経った小麦植物(var 、 ”Wanser”
) f 、化学薬剤を適用する24時間前に、均一な
植物の高さにし、かつ均一な接filK−容易にするた
めに、高さ約2.5インチに苅りこんだ。/JN変の茎
のサビ病菌を、温室条件下で、14日間、小麦の苗木(
var 、 @Wana’erつ上で培養した。次いで
、小麦の茎のサビ病菌の胞子分散液を、菌に感染した葉
を取り、それ七、水と界面活性剤から成る液に入れ、激
しく振って造った。この胞子分散液を、チーズクロス(
cb、eeaecloth) f通して濾過し、葉の破
壊屑等を除き、血球計算器(hamacytomete
r)上の大きな区画につき6〜5個の胞子があるように
調節した。小麦植物に、小麦の茎のサビ病菌胞子分散液
を、デビルビス噴霧器(DeV:1bisa atom
izer)を用い、5 psiの空気圧で、分散液が流
れ落ちるまで噴霧して、接種した。接種後、その植物を
、約68’Fの湿気環境下に置いた。タイマー全周いて
、連続して暗所に12時間、500フートキヤンドル(
foot cand’lθ)の強さの光線下で最小3〜
4時間になるようにした。部屋の温度は、851を越え
ないようにした。光線下放置の終りに、植物を温室環境
中に置いた。その植物を、化学薬剤で処理して比較する
前に、2週間、温室条件下で生長させた。小麦の茎のす
♂病の特徴は、小麦の葉および茎の不規則な形状の胞子
粛郡(sori)中゛ の赤練瓦色の胞子群である。
) f 、化学薬剤を適用する24時間前に、均一な
植物の高さにし、かつ均一な接filK−容易にするた
めに、高さ約2.5インチに苅りこんだ。/JN変の茎
のサビ病菌を、温室条件下で、14日間、小麦の苗木(
var 、 @Wana’erつ上で培養した。次いで
、小麦の茎のサビ病菌の胞子分散液を、菌に感染した葉
を取り、それ七、水と界面活性剤から成る液に入れ、激
しく振って造った。この胞子分散液を、チーズクロス(
cb、eeaecloth) f通して濾過し、葉の破
壊屑等を除き、血球計算器(hamacytomete
r)上の大きな区画につき6〜5個の胞子があるように
調節した。小麦植物に、小麦の茎のサビ病菌胞子分散液
を、デビルビス噴霧器(DeV:1bisa atom
izer)を用い、5 psiの空気圧で、分散液が流
れ落ちるまで噴霧して、接種した。接種後、その植物を
、約68’Fの湿気環境下に置いた。タイマー全周いて
、連続して暗所に12時間、500フートキヤンドル(
foot cand’lθ)の強さの光線下で最小3〜
4時間になるようにした。部屋の温度は、851を越え
ないようにした。光線下放置の終りに、植物を温室環境
中に置いた。その植物を、化学薬剤で処理して比較する
前に、2週間、温室条件下で生長させた。小麦の茎のす
♂病の特徴は、小麦の葉および茎の不規則な形状の胞子
粛郡(sori)中゛ の赤練瓦色の胞子群である。
方法2:
方法1の操作と実質的に同じ操作を行った。ただし、小
麦植物の苗木(var、 ”Tyler”)を用い、こ
の小麦植物全1真空ポンプ、またはサビ病菌収集器を用
いて感染した植物から胞子t−取り、それ會、油1dに
、胞子の4’f’を含む一度になるように噴霧用油に添
加して造った胞子分散液で接種した。
麦植物の苗木(var、 ”Tyler”)を用い、こ
の小麦植物全1真空ポンプ、またはサビ病菌収集器を用
いて感染した植物から胞子t−取り、それ會、油1dに
、胞子の4’f’を含む一度になるように噴霧用油に添
加して造った胞子分散液で接種した。
次いで、この接種剤を1ゼラチンカプセル中に分取し、
減圧ポンプを適用した。植物は、約20分間乾燥させ、
次いで湿気環境下に置いた。
減圧ポンプを適用した。植物は、約20分間乾燥させ、
次いで湿気環境下に置いた。
実施例B
小麦の5どんこ病(Wheat Powdery Mi
ldew(lryaiphe graminis F、
sp、 tritici) ]@Pennoll’の小
麦苗木(7−14日間経ったもの)t−1化学薬剤を適
用する前に苅りこみ、均一な植物の高さ、および均一な
接種が容易になるようにした。次いで、小麦のうどんこ
病菌ヲ、65〜75”Fに調節された温度の部屋で、小
麦の苗木上で培養した。
ldew(lryaiphe graminis F、
sp、 tritici) ]@Pennoll’の小
麦苗木(7−14日間経ったもの)t−1化学薬剤を適
用する前に苅りこみ、均一な植物の高さ、および均一な
接種が容易になるようにした。次いで、小麦のうどんこ
病菌ヲ、65〜75”Fに調節された温度の部屋で、小
麦の苗木上で培養した。
うどんこ病の胞子t、苗木の培養植物から振盪した。接
種された苗木を、前記の調節された温度の部屋に保持し
、少し溢概した。疫病防除上、接種後、7〜10日間経
ってから評価した。
種された苗木を、前記の調節された温度の部屋に保持し
、少し溢概した。疫病防除上、接種後、7〜10日間経
ってから評価した。
実施例0
recondita) F、ap、tritici )
方法1: 小麦の葉のサビ病菌全1小麦の苗゛木(−var。
方法1: 小麦の葉のサビ病菌全1小麦の苗゛木(−var。
“Pennoll”〕上で、温室条件下で、10日間、
培養した。試験用化学薬剤を用いて処理した小麦植物(
vzr 、 ”Pennoll″)(7日間経った)に
、小麦の葉のサビ病菌の胞子分散液を、手動の植物用噴
霧器(mieter) k用いて、試験用植物から流れ
落ちるまで噴秘した。接種後、この植物を、温室条件下
(851以下の室内温度全有する湿気環境)に置いた。
培養した。試験用化学薬剤を用いて処理した小麦植物(
vzr 、 ”Pennoll″)(7日間経った)に
、小麦の葉のサビ病菌の胞子分散液を、手動の植物用噴
霧器(mieter) k用いて、試験用植物から流れ
落ちるまで噴秘した。接種後、この植物を、温室条件下
(851以下の室内温度全有する湿気環境)に置いた。
次いで、この植物會、8〜10日間生育させ、その後、
試験用化学薬剤を処理した比較を行った。IJs麦の葉
のサビ病の特徴は、小麦の苗木の葉上の不規則な形状の
胞子−郡中の橙色胞子群である。
試験用化学薬剤を処理した比較を行った。IJs麦の葉
のサビ病の特徴は、小麦の苗木の葉上の不規則な形状の
胞子−郡中の橙色胞子群である。
方法2:
実施例への方法2の操作と実質的に同じ操作を行った。
ただし、接種後、植物は、小麦の葉のサビ病の方法1に
述べた如(取扱った。
述べた如(取扱った。
実施例D
キュウリのベト病(Cucumber Downy M
ildev(P’5eudopsronospora
cubenais) :]キュウリ(var、 ”Ma
rketer”)の苗木上、その使用前に、65〜75
1にて、3週間中程度の光中で生育させた。
ildev(P’5eudopsronospora
cubenais) :]キュウリ(var、 ”Ma
rketer”)の苗木上、その使用前に、65〜75
1にて、3週間中程度の光中で生育させた。
ユウリ苗木上で、65−75”Pにて、7日間、中程度
の光中(ただし、光期および晴朗への期間を交互にした
)で、培養した。次いで、それに、1クオートジヤー(
1quart jar )中で、脱イオン水を加え、葉
を振盪することによって、胞子全採取した。その分散液
?、チーズクロスを通して濾過し、植物の破壊屑等を除
き、崩球計算器を使用して、約20.000/yの濃度
に調節した。
の光中(ただし、光期および晴朗への期間を交互にした
)で、培養した。次いで、それに、1クオートジヤー(
1quart jar )中で、脱イオン水を加え、葉
を振盪することによって、胞子全採取した。その分散液
?、チーズクロスを通して濾過し、植物の破壊屑等を除
き、崩球計算器を使用して、約20.000/yの濃度
に調節した。
キュウリ植物を、デビルビス噴霧器を用い、東上に/h
滴が観察されるまで、葉の下側に前記分散液を噴¥iす
ることによって接種した。接種された葉’t 、70
’Pにおいて24時間、ミストチェンバ中(mist
chamber) K温室した。次いで、ミスト(mi
st)下で、65〜75ffに調節された室内に6〜7
日間@置装た。
滴が観察されるまで、葉の下側に前記分散液を噴¥iす
ることによって接種した。接種された葉’t 、70
’Pにおいて24時間、ミストチェンバ中(mist
chamber) K温室した。次いで、ミスト(mi
st)下で、65〜75ffに調節された室内に6〜7
日間@置装た。
化学薬剤を処理した比較は、接種7日後に行い、感染し
た葉表面のチを評価した。疫病の症状は、上葉の表面が
黄変し、かつ低葉の表面が灰色の胞子形成区域全示す。
た葉表面のチを評価した。疫病の症状は、上葉の表面が
黄変し、かつ低葉の表面が灰色の胞子形成区域全示す。
実施例E
ンチのものに、化学薬剤の適用の4〜5日前に、水溶性
肥料を施肥し、急速な多汁の成長を促進させ、かつ良好
な症状の表出をせしめるようにした。
肥料を施肥し、急速な多汁の成長を促進させ、かつ良好
な症状の表出をせしめるようにした。
胞子形成全しているトマト植物(var、 ”Plxl
eつから葉會集め、それらt−iフォートジャー中に人
へそれに、約100dの水を添jaシ、ジャーに再びふ
たをして、それを強く振盪し、その液体金1チーズクロ
スの1層全通して亀遇し、1(J、000〜20.00
0胞子/dの分散液に調節することによって、胞子分散
液を造った。この胞子分散液を1デビルビス噴霧器を用
い、空気圧8〜10 pa土にて、葉の下部表面に、微
細少滴が形成されるまで噴精した。次いで、接極された
苗木に、6会’F−62″F+にて40〜45時間、湿
気環境中に置き、次いで70−F〜75’F’の温室中
に置いた。化合物を処理した比較をヱ、接t!a〜6日
後に行った。トマト葉枯れ病の症状は、太ぎく褐色にな
った水に濡れたような斑点全示す。ひどく感染した植物
は、健康な葉の組kAを有せず、かつ植物の大部分また
は全部全白色の胞子養が覆ってしまう。
eつから葉會集め、それらt−iフォートジャー中に人
へそれに、約100dの水を添jaシ、ジャーに再びふ
たをして、それを強く振盪し、その液体金1チーズクロ
スの1層全通して亀遇し、1(J、000〜20.00
0胞子/dの分散液に調節することによって、胞子分散
液を造った。この胞子分散液を1デビルビス噴霧器を用
い、空気圧8〜10 pa土にて、葉の下部表面に、微
細少滴が形成されるまで噴精した。次いで、接極された
苗木に、6会’F−62″F+にて40〜45時間、湿
気環境中に置き、次いで70−F〜75’F’の温室中
に置いた。化合物を処理した比較をヱ、接t!a〜6日
後に行った。トマト葉枯れ病の症状は、太ぎく褐色にな
った水に濡れたような斑点全示す。ひどく感染した植物
は、健康な葉の組kAを有せず、かつ植物の大部分また
は全部全白色の胞子養が覆ってしまう。
実施例F
saaaki) ]
方法1:
米の苗木の10−14日間経ったものt、化学薬剤の処
理24時間前に、苅りこみ、4〜5インチの均一の高さ
になるようにした。
理24時間前に、苅りこみ、4〜5インチの均一の高さ
になるようにした。
Pe1licularia fiユamentosa
l?’、sp、aasaki を、500s+7
容の広ロエルレンマイヤーフラスコ中の、粉砕した米の
種子/じゃがいものブドウ糖の液体培地(100J9/
30m)の混合物を、オートクレーブ滅菌処理したもの
で培養した。10日後、この培養物をブレンダーに通し
、均一な接種剤にした。この接種剤の茶さじ約1杯分を
、各ポット(3″直径)の土壌表面上の米の苗木間に散
布した。
l?’、sp、aasaki を、500s+7
容の広ロエルレンマイヤーフラスコ中の、粉砕した米の
種子/じゃがいものブドウ糖の液体培地(100J9/
30m)の混合物を、オートクレーブ滅菌処理したもの
で培養した。10日後、この培養物をブレンダーに通し
、均一な接種剤にした。この接種剤の茶さじ約1杯分を
、各ポット(3″直径)の土壌表面上の米の苗木間に散
布した。
接種された苗木t1湿気のあるキャビネット(85〜9
5″F’)中で、2〜5日間温置装置。化学薬剤を処理
した比較は、キャビネットから苗木tsした後、直ちに
行った。病状は、土壌表面から苗木の茎上に拡って生長
した白色の柔毛質かつウェブ様の菌糸生長体とし1表わ
れる。
5″F’)中で、2〜5日間温置装置。化学薬剤を処理
した比較は、キャビネットから苗木tsした後、直ちに
行った。病状は、土壌表面から苗木の茎上に拡って生長
した白色の柔毛質かつウェブ様の菌糸生長体とし1表わ
れる。
方法2:
木の変種“M〜201″の苗木を、未殺菌の土壌の2−
インチポット中で、20〜30℃の温室中で、14日間
生育させた。化学薬剤を適用する前に、はさみを用いて
植物を苅りこみ、4〜5インチの高さKした・ 接ゆ剤を、次の操作ケ用い、培養物音m盪して造った: 150WIのじゃがいもブドウ糖の液体培地を含む50
0d広ロフラスコ七オートクレーブで殺菌処理し、それ
f、 Rh1zoctonia aolani Kuh
nの多片の菌糸体、または単一の引掻物で接極した。こ
のフラスコを、22℃の電気式振黛器(1500rpm
)上に、14−16時間の光周期(phot。
インチポット中で、20〜30℃の温室中で、14日間
生育させた。化学薬剤を適用する前に、はさみを用いて
植物を苅りこみ、4〜5インチの高さKした・ 接ゆ剤を、次の操作ケ用い、培養物音m盪して造った: 150WIのじゃがいもブドウ糖の液体培地を含む50
0d広ロフラスコ七オートクレーブで殺菌処理し、それ
f、 Rh1zoctonia aolani Kuh
nの多片の菌糸体、または単一の引掻物で接極した。こ
のフラスコを、22℃の電気式振黛器(1500rpm
)上に、14−16時間の光周期(phot。
periocl )で、6日装置いた。脱イオン水10
0v。
0v。
米粉20!i(添加物なし)、および菌糸体23g(湿
重量)を含むスラリーを、適当な容蓋のブレングー中で
造り、4ゴ/ボツトで2インチポット全部種した。約1
分間で混合物はブレンドした。
重量)を含むスラリーを、適当な容蓋のブレングー中で
造り、4ゴ/ボツトで2インチポット全部種した。約1
分間で混合物はブレンドした。
スラリーt、4II7/ポクト(10aj/3インチポ
ット)疋おいて、特大の開口部′に有するピペットを使
用し、2インチポットに分配した。接種剤を分配しなが
ら、ポット會、全土壌表面上にスラリーの均質な分布k
MWするように傾げるべきである。接極の間には、スラ
!J ks中速度の攪拌板r用いて攪拌し、分散状態
に保持するようにする。
ット)疋おいて、特大の開口部′に有するピペットを使
用し、2インチポットに分配した。接種剤を分配しなが
ら、ポット會、全土壌表面上にスラリーの均質な分布k
MWするように傾げるべきである。接極の間には、スラ
!J ks中速度の攪拌板r用いて攪拌し、分散状態
に保持するようにする。
植物は、湿気のあるキャビネット中に、28℃で約43
時間に置き、次いで、湿気のあるキャビネット中に、2
5℃で53時間(両ケースの光同期は16時間)保持し
た。菌糸生長の高さを、接種した対照植物と比較して観
察した。
時間に置き、次いで、湿気のあるキャビネット中に、2
5℃で53時間(両ケースの光同期は16時間)保持し
た。菌糸生長の高さを、接種した対照植物と比較して観
察した。
実施例G
キュウリ萌木(van、 ” Marketer ’
)は、処理に使用したときは、14日間生育のものであ
り′fc、、。
)は、処理に使用したときは、14日間生育のものであ
り′fc、、。
Celletrichum lagenariumを、
ベトリープレート中の青豆寒天CGBA )上で、暗い
条件下で、7日前培養した。C1BAを何するベトリー
プレートに、接種用の針を用い、媒体上に接種剤を拡げ
ることによって接種した。胞子を、GBAを有するベト
リープレートに脱イオン水を加えることにより、ベトリ
ープレートから採取した。寒天表面を、ラバーポリスマ
ン、またはそれと類似の物を用いて、かき落した。胞子
分散液を、チーズクロスを通して蓮過し、園糸、および
寒天の破片等を除き、仄いで、1〜2 X 105胞子
/−の凝度にal1節した。
ベトリープレート中の青豆寒天CGBA )上で、暗い
条件下で、7日前培養した。C1BAを何するベトリー
プレートに、接種用の針を用い、媒体上に接種剤を拡げ
ることによって接種した。胞子を、GBAを有するベト
リープレートに脱イオン水を加えることにより、ベトリ
ープレートから採取した。寒天表面を、ラバーポリスマ
ン、またはそれと類似の物を用いて、かき落した。胞子
分散液を、チーズクロスを通して蓮過し、園糸、および
寒天の破片等を除き、仄いで、1〜2 X 105胞子
/−の凝度にal1節した。
化学薬剤で処理したキュウlJ[物に、接種剤を、その
葉(′¥Iに下1jlll)に噴霧し、接種剤の均一な
膜が植物上にamされるまで接種した。胞子を接種され
た麺物を、湿気環境下、70°〜75?で72時間温湿
した。次いで、これらを、湿気環境下から取りだして乾
燥し、温室条件下に置いた。
葉(′¥Iに下1jlll)に噴霧し、接種剤の均一な
膜が植物上にamされるまで接種した。胞子を接種され
た麺物を、湿気環境下、70°〜75?で72時間温湿
した。次いで、これらを、湿気環境下から取りだして乾
燥し、温室条件下に置いた。
化学系剤で処理した比較は、接410〜14日後に行っ
た。典型的な炭痕病の症状は、葉全体に小斑点があり、
それが黄色または水で濡れたような小区域から始まり、
急速に大さくなり、広範囲の潰瘍状になってゆ(ことで
ある。
た。典型的な炭痕病の症状は、葉全体に小斑点があり、
それが黄色または水で濡れたような小区域から始まり、
急速に大さくなり、広範囲の潰瘍状になってゆ(ことで
ある。
実施例H
大麦植物(var、 ’ Pennrad ” )を、
化学的な処理の24時間前に、約6インチの、高さに苅
りこんだ。この操作により、均一の高さの植物を供し、
かつ化学架剤に処理され7’Ci物に急速な接種をする
ことができる。大麦植物に、接種剤を、手動式噴霧器を
用い、fll!′$lJの葉の全部に接種剤を噴霧して
接種剤の小滴が東上に鋭祭されるまで、接種した。接a
[された植物を、湿気環境下、75°〜751で24時
間@装し、次いで、70°〜75−Fの温室中に移した
。化合物で処理した比較は、接種6〜7日後に行った。
化学的な処理の24時間前に、約6インチの、高さに苅
りこんだ。この操作により、均一の高さの植物を供し、
かつ化学架剤に処理され7’Ci物に急速な接種をする
ことができる。大麦植物に、接種剤を、手動式噴霧器を
用い、fll!′$lJの葉の全部に接種剤を噴霧して
接種剤の小滴が東上に鋭祭されるまで、接種した。接a
[された植物を、湿気環境下、75°〜751で24時
間@装し、次いで、70°〜75−Fの温室中に移した
。化合物で処理した比較は、接種6〜7日後に行った。
典型的な大麦の病斑のでる病気の症状は、最初に、不規
則なしみこんだような水の湿れたような部分として表わ
れ、それが植物の組織・機能を損傷したような潰瘍状に
なってゆくことである。
則なしみこんだような水の湿れたような部分として表わ
れ、それが植物の組織・機能を損傷したような潰瘍状に
なってゆくことである。
実施ガニ
o、ryzae ) ]
方法1:
米植物(var、 ’ Ca1rose ” )を、化
学的な処理の24時間前に、約5インチの高さになるよ
うに苅りこんだ。この操作により、均一の高さの植物を
供し、かつ化学的に処理された植物に急速な接種をする
ことができる。米植物に、接種剤を、手動式噴霧器を用
い、植物の葉および茎に接種剤を噴霧して接種剤の小?
丙が葉上に威@されるまで、接種した。接種され7’C
[物を、湿気環境下(75゜〜85″F)で48時間温
湿し、次いで、@至に移した。化合物で処理した比較は
、接種7〜8日後に行った。米の枯れる病気の、植物の
組織・機能の損傷症状は、全部の葉の上に褐色のa筋状
の斑点が現出することである。典型的な前記損傷症状は
、1〜2cInの長さの、大きな潰瘍状の灰色の中心部
分と褐色の縁部分を何する、エリデテイカル(elip
tical )なものである。
学的な処理の24時間前に、約5インチの高さになるよ
うに苅りこんだ。この操作により、均一の高さの植物を
供し、かつ化学的に処理された植物に急速な接種をする
ことができる。米植物に、接種剤を、手動式噴霧器を用
い、植物の葉および茎に接種剤を噴霧して接種剤の小?
丙が葉上に威@されるまで、接種した。接種され7’C
[物を、湿気環境下(75゜〜85″F)で48時間温
湿し、次いで、@至に移した。化合物で処理した比較は
、接種7〜8日後に行った。米の枯れる病気の、植物の
組織・機能の損傷症状は、全部の葉の上に褐色のa筋状
の斑点が現出することである。典型的な前記損傷症状は
、1〜2cInの長さの、大きな潰瘍状の灰色の中心部
分と褐色の縁部分を何する、エリデテイカル(elip
tical )なものである。
方法2:
米ノKtii ’ M −201’ ノm木ヲ、2 D
〜30Dの温室中で、未殺菌の土壌を有する2インチ
ポット中で、14日間生育させた。使用前は、米頌物の
苅りこみをしなかった。
〜30Dの温室中で、未殺菌の土壌を有する2インチ
ポット中で、14日間生育させた。使用前は、米頌物の
苅りこみをしなかった。
接種剤を、オートミール球入(y−バー ベビイ
オ − ト ミ −A/ (Gerber bab
y oatmeal 5 0 g %バクト(
bacto−)寒天202.バクト(bacto )グ
ドク楯10I〕上にて、生体外で、造った。植物を、P
iricularia oryzaeの繭糸プラグ(m
yce−1ial plug ) (7−14日間生長
させたもの)を用いて接種した。暗色鎖酸の外端は、ト
ランスファー(t、ransfer )にツ用した。接
種され客層物を一一足の蛍光灯の光の下に室温で保持し
た。
オ − ト ミ −A/ (Gerber bab
y oatmeal 5 0 g %バクト(
bacto−)寒天202.バクト(bacto )グ
ドク楯10I〕上にて、生体外で、造った。植物を、P
iricularia oryzaeの繭糸プラグ(m
yce−1ial plug ) (7−14日間生長
させたもの)を用いて接種した。暗色鎖酸の外端は、ト
ランスファー(t、ransfer )にツ用した。接
種され客層物を一一足の蛍光灯の光の下に室温で保持し
た。
10〜14日間生胃させfr−P、 oryzaeの板
状にtつたものを、オレイン酸ナトリウム0.25.9
、ゼラチン211脱イオン水10DOゴを富む溶液に浸
した。この板状になったものを、ラバーポリスマンな用
いてこずり洛し、笛の分生子(conidia)を離し
、チーズクロスの2層を通して濾過し、胞子分散液を、
血球計算器を用いて、25.000〜30.000肥子
/ゴの濃度に調節した。
状にtつたものを、オレイン酸ナトリウム0.25.9
、ゼラチン211脱イオン水10DOゴを富む溶液に浸
した。この板状になったものを、ラバーポリスマンな用
いてこずり洛し、笛の分生子(conidia)を離し
、チーズクロスの2層を通して濾過し、胞子分散液を、
血球計算器を用いて、25.000〜30.000肥子
/ゴの濃度に調節した。
この胞子分散液を、手動式噴霧器を用い、米植物の対に
なった列の反対側に噴霧した。この場合、接種剤が、各
ポット(約501117150ボツト)の反対側の土壌
から、米の葉の先趨まで均一に分布するように、元方に
接種剤を1IjHJすべきである。
なった列の反対側に噴霧した。この場合、接種剤が、各
ポット(約501117150ボツト)の反対側の土壌
から、米の葉の先趨まで均一に分布するように、元方に
接種剤を1IjHJすべきである。
なお、分散液の分散状態を保持するために、液がLIj
jg器を通過後は、そのuR霧器(son−of−a−
gun)を振盪する。
jg器を通過後は、そのuR霧器(son−of−a−
gun)を振盪する。
接種された植物を、直ちに、湿気のあるキャビネット中
で、25℃で約66時間置き、久4でそれらを温室に移
した。植物は、地下潅概し、2時間以上水中に置かなか
った。
で、25℃で約66時間置き、久4でそれらを温室に移
した。植物は、地下潅概し、2時間以上水中に置かなか
った。
IIi室条件下に約76時間置いた後、甑物を威祭し、
化合物を処理し几比較を行った。
化合物を処理し几比較を行った。
実施例J
fabae ) ]
やがいもデーウ砧寒天上で、室温、かつ暗部で、14日
間培養した。このペトリーデレートヲ、水とりんごジュ
ース(容址で2=1)の混合物で浸し、面の分生子を、
液体中の培養物表面からこすり落した。水:アセトン:
メタノール(2: 1” :1)の混合彪媒に俗解、し
た試験用化合物の液を、m極式オーバーヘッド噴霧器を
用9て、6週間生育させfc Vicia faba
(English broad bean )に、液
が訛れ落ちるまで噴4し、欠いで植物を乾燥した。化合
物で処理され、かつ接種されfc値物を、70’F’ミ
ストチエンバー中で、弱い尤の下で6日間保持した。疫
病は、植物について、躯物の組織・機能の鎖部の故を数
えて評価した。
間培養した。このペトリーデレートヲ、水とりんごジュ
ース(容址で2=1)の混合物で浸し、面の分生子を、
液体中の培養物表面からこすり落した。水:アセトン:
メタノール(2: 1” :1)の混合彪媒に俗解、し
た試験用化合物の液を、m極式オーバーヘッド噴霧器を
用9て、6週間生育させfc Vicia faba
(English broad bean )に、液
が訛れ落ちるまで噴4し、欠いで植物を乾燥した。化合
物で処理され、かつ接種されfc値物を、70’F’ミ
ストチエンバー中で、弱い尤の下で6日間保持した。疫
病は、植物について、躯物の組織・機能の鎖部の故を数
えて評価した。
1以上の試験方法を述べ′fc場会は、第2の方法(方
E2)を、1100ppにおいて第4表に記載した評価
のために用いた。
E2)を、1100ppにおいて第4表に記載した評価
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さくト)口0口■へささ口u’t+”−一噂トも さ
の へ G さ さ さ 0 ■ へ さ α さ
0 つ 0 ロ −() Q) ’Oの 0000
の 00へ 寸さL>(ト)きべべの■hの O℃寸寸寸■0ロ罰00ロロjり 0のつ(嘘さhl’s サク寸さ 0000ONつへ00寸0寸寸0 り h 寸のh 寸Nへhへ■ 000000口00000コ00 0ロOOクロ0000口0000 寸 寸へ一哨り罰0の − 〇℃0%O口nOのlj”l Ln O’n l’h
O0梢CON へ(イ)l’b h h (イ)さ−
0000C1(OO00000Ln 0 ”寸つ′
(ト) 膿 寸 つ寸℃ 11111111111111’ ?り℃hのさC1−(’J(イ)寸り(への−v−v−
−v−−(’Jへ+NC’Jへへへヘヘロ ク ロ り I き 0 0 CI C) C:) 膿 の
Q ()0 0 0さ 0 り h
ト −罰 罰1コロロ0ロロ0000000 + 00000コ0つ00ロコ0 ・a) + 00 CI O00C’ Oコロ000(r>’j
’) l’% Ln[F]い 0+ 000 CI O
Ox 04 Ln 0000膿1f1h へhnの 11111111111’ 、、、、l、l、lj’101j’30C) Ll”l
Ln CI C)L:P、u”l rNu″lu”
lh+”−u”j・ ・ ・ 1+1 “ ・ま0品
目0目示00■11日1,1111 11+1’ −11つつ0フ0000冨1111111
1目ロコ00コ0ロク ト+1“1“・よ℃呂畳ミ℃コ0口 + + + + ’ + + 1 14
”l0c)()00 宏80む−U) 0 C) OOOOOOOO” OOコロ0コ0000
0 C1000000コ00コロff v−−一= f
f−一” −一4 ” ” ” 4 F+宅2さなpま
まミミ疋ミ8;甜田ヌ℃ 蕩 p〆\ ^の 一般に、微生物の防除は、微生物を防除するのに有効な
址で、スルフェニル化アシルヒドラゾンを微生物と接触
させることによる本発明によって達成することができる
。本発明の技術分野における任意の既知の方法は、防除
すべき微生物と本発明の化合物との所望の接触を達成す
るよつな仕方で、本発明の化合物を散布するのに使用で
きる。
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址で、スルフェニル化アシルヒドラゾンを微生物と接触
させることによる本発明によって達成することができる
。本発明の技術分野における任意の既知の方法は、防除
すべき微生物と本発明の化合物との所望の接触を達成す
るよつな仕方で、本発明の化合物を散布するのに使用で
きる。
噴霧方法および燻蒸方法等は、そのような技術の典型的
なものである。
なものである。
本発明の化合物は、殺細菌剤および殺繭剤またたそれら
を組合せた剤として、任意の場所、例えば紙パルプの製
造および那工の工程、冷却用塔、重合体の水分散液、水
性ペイント、種子処理等、で容易に利用することができ
る。また、本発明の化合物およびそれらを含有する組成
物は、例えは、繊維または革用の防腐剤、木材用防腐剤
、化粧用防腐剤、石鹸用硝部剤、衛生用材、例えは洗濯
用5鑵および界面活性剤として、および金属の作業用コ
ンパラン−、例えは乳化性切削油、の防腐剤−@科用防
腐剤、繊維の紡糸仕上用殺生物剤等、として作用させる
ことができる。
を組合せた剤として、任意の場所、例えば紙パルプの製
造および那工の工程、冷却用塔、重合体の水分散液、水
性ペイント、種子処理等、で容易に利用することができ
る。また、本発明の化合物およびそれらを含有する組成
物は、例えは、繊維または革用の防腐剤、木材用防腐剤
、化粧用防腐剤、石鹸用硝部剤、衛生用材、例えは洗濯
用5鑵および界面活性剤として、および金属の作業用コ
ンパラン−、例えは乳化性切削油、の防腐剤−@科用防
腐剤、繊維の紡糸仕上用殺生物剤等、として作用させる
ことができる。
一般に、微生物によって汚染される場所は、その場所に
、スルフェニル化アシルヒドラゾンの微生物を防除する
のに有効な綾を散布する本発明によって保護することが
できる。用語°汚染(cont−amination
) ”は、微生物による攻撃、それはその場所の化学的
または物理的の崩壊または分裂、有毒作用なしにその場
所内の微生物の瑠頑、咎へ辱く微生物による攻撃を意味
する。もちろん、必要とするスルフェニル化アシルヒげ
メタンの正確な址は、防除されるべき微生物のための媒
体、使用されるスルフェニル化アシルヒドラゾン、また
はスルフェニル化アシルヒげメタンを含有する組成物、
その他の因子によって変化する。典型的には、スルフェ
ニル化アシルヒドラゾンが、0.1〜10.000部/
i、DOO,000(ppm )、または組成物の重量
を基準として約9′B−価まで組込まれたとき、優秀な
防除が得られる。好ましくは、0.5〜2,500 p
pmの範囲である。
、スルフェニル化アシルヒドラゾンの微生物を防除する
のに有効な綾を散布する本発明によって保護することが
できる。用語°汚染(cont−amination
) ”は、微生物による攻撃、それはその場所の化学的
または物理的の崩壊または分裂、有毒作用なしにその場
所内の微生物の瑠頑、咎へ辱く微生物による攻撃を意味
する。もちろん、必要とするスルフェニル化アシルヒげ
メタンの正確な址は、防除されるべき微生物のための媒
体、使用されるスルフェニル化アシルヒドラゾン、また
はスルフェニル化アシルヒげメタンを含有する組成物、
その他の因子によって変化する。典型的には、スルフェ
ニル化アシルヒドラゾンが、0.1〜10.000部/
i、DOO,000(ppm )、または組成物の重量
を基準として約9′B−価まで組込まれたとき、優秀な
防除が得られる。好ましくは、0.5〜2,500 p
pmの範囲である。
本特許出願の明細曹に記載された用語”防除。
は、任意の生物または微生物の存在または生長に対して
逆の影響を与える手段の効果として解釈されるべきであ
る。この効果は、完全な殺生作用、絶滅、生長の阻止、
迎制、数の減少、またはそれらの組合せ、等から成って
いる。
逆の影響を与える手段の効果として解釈されるべきであ
る。この効果は、完全な殺生作用、絶滅、生長の阻止、
迎制、数の減少、またはそれらの組合せ、等から成って
いる。
本発明のスルフェニル化アシルヒドラゾンは、農業用殺
菌剤として特に何月である。特に、これらの殺菌剤は、
殺蕗用組成物として配合したとき何幼である。通常、こ
のような組成物は、農耕上許容される担体と、活性剤と
してのスルフェニル化アシルヒドラゾンまたは複数のス
ルフェニル化アシルヒドラゾンとの混合物、から成って
いる。
菌剤として特に何月である。特に、これらの殺菌剤は、
殺蕗用組成物として配合したとき何幼である。通常、こ
のような組成物は、農耕上許容される担体と、活性剤と
してのスルフェニル化アシルヒドラゾンまたは複数のス
ルフェニル化アシルヒドラゾンとの混合物、から成って
いる。
必要または所望により、界面活性剤または他の亦加剤を
重加し、均質な配合混合物にすることができる。用語“
農耕上許容される担体1は、その担体に組込まれる化学
物質を、#を注剤としての効果を吾・することなしに、
溶解し、分配し、拡散するのに利用され、かつ土壌、装
置、および農業上の作物のような環境に永久的な頂害を
与えない〜任意の物質な;flit:する。
重加し、均質な配合混合物にすることができる。用語“
農耕上許容される担体1は、その担体に組込まれる化学
物質を、#を注剤としての効果を吾・することなしに、
溶解し、分配し、拡散するのに利用され、かつ土壌、装
置、および農業上の作物のような環境に永久的な頂害を
与えない〜任意の物質な;flit:する。
農業殺菌剤としての使用のためには、本発明の化合物は
、通常、その化合物を次の薄布に適するヒげメタンを、
湿潤性粉末、乳濁濃厚物、散布剤(dusts )%粒
状配合物、エアロゾル、または流動性乳濁性濃厚物とし
て配合することができる。そのような配合物においては
、スルフェニル化アシルヒげメタンを、液体または固体
の担体で増量させたり、また所望により、適当な界面活
性剤を入れることもできる。
、通常、その化合物を次の薄布に適するヒげメタンを、
湿潤性粉末、乳濁濃厚物、散布剤(dusts )%粒
状配合物、エアロゾル、または流動性乳濁性濃厚物とし
て配合することができる。そのような配合物においては
、スルフェニル化アシルヒげメタンを、液体または固体
の担体で増量させたり、また所望により、適当な界面活
性剤を入れることもできる。
本発明の化合物は、水と混和性の液体、例えばジメチル
ホルムアミド、ゾメチルスルホキ/ド、アセトン、芳香
族系炭化水素等に、溶解させることができる。このよう
な浴液は、水で容易にpm址させることができる。
ホルムアミド、ゾメチルスルホキ/ド、アセトン、芳香
族系炭化水素等に、溶解させることができる。このよう
な浴液は、水で容易にpm址させることができる。
本発明のスルフェニル化アシルヒげメタンは、@細な粉
床の固体の担体、例えはクレー、無機珪酸塩、炭rR塩
、およびシリカ上に付けたり、f、fcは混合したりす
ることができる。また、有機の担体を使用することもで
きる。欣布剤用虚厚物は、通常、その中にスルフェニル
化アシルヒドラゾンを、1F720CI2〜約80%(
電址)の範囲に存在させて造られる。最終的に用いると
きは、これらの謎厚物に、通常、固体を追加して、F1
1%〜約20%の活性成分含量になるように増量する。
床の固体の担体、例えはクレー、無機珪酸塩、炭rR塩
、およびシリカ上に付けたり、f、fcは混合したりす
ることができる。また、有機の担体を使用することもで
きる。欣布剤用虚厚物は、通常、その中にスルフェニル
化アシルヒドラゾンを、1F720CI2〜約80%(
電址)の範囲に存在させて造られる。最終的に用いると
きは、これらの謎厚物に、通常、固体を追加して、F1
1%〜約20%の活性成分含量になるように増量する。
湿潤性粉末配合物は、本発明の化合物を、乳化剤、湿潤
剤、分散剤、ま友は展層剤、およびそれらの混合物の1
櫨またはそれ以上である界面活性剤と共に、微細な粉末
の固体の担体中に入れることによって造ることができる
。通常、スルフェニル化アシルヒドラゾンは、約10%
〜f180チ(直t)の範囲で存在させ、界面活性剤は
、約0.5%〜F710チ(菫りで存在させる。通常(
便用される乳化剤および湿潤剤には、アルキルフェノー
ルのポリオキシエチル化誘導体、脂肪アルコール、BW
EBflt、およびアルキルアミン、アルキルアンンス
ルホネイト、およびシアルキルスルホチクシネイト等が
包含される。展層剤には、グリセロール マンニタンラ
ウレイト、および無水7タル酸で変性されたポリグリセ
ロールとオレイン酸の#置物等の物質が包含される。分
散剤には、無水マレイン酸とジイソブチレンのようなオ
レフィンとの共重合体、リグニンスルホン殴ナトリウム
、およびホルムアルデヒーナフタレンスルホン戚す)
IJウム等の物質が包含される。
剤、分散剤、ま友は展層剤、およびそれらの混合物の1
櫨またはそれ以上である界面活性剤と共に、微細な粉末
の固体の担体中に入れることによって造ることができる
。通常、スルフェニル化アシルヒドラゾンは、約10%
〜f180チ(直t)の範囲で存在させ、界面活性剤は
、約0.5%〜F710チ(菫りで存在させる。通常(
便用される乳化剤および湿潤剤には、アルキルフェノー
ルのポリオキシエチル化誘導体、脂肪アルコール、BW
EBflt、およびアルキルアミン、アルキルアンンス
ルホネイト、およびシアルキルスルホチクシネイト等が
包含される。展層剤には、グリセロール マンニタンラ
ウレイト、および無水7タル酸で変性されたポリグリセ
ロールとオレイン酸の#置物等の物質が包含される。分
散剤には、無水マレイン酸とジイソブチレンのようなオ
レフィンとの共重合体、リグニンスルホン殴ナトリウム
、およびホルムアルデヒーナフタレンスルホン戚す)
IJウム等の物質が包含される。
固体の配置換を製造するための便利な方法の1つは、ス
ルフェニル化アシルヒドメタン毎物を、揮発性m媒、例
えはアセトン、を用いて、固体の担体上に陸産させるこ
とである。この方法においては、また、助剤、例えは活
性剤、接着剤、殖物用栄誉剤、相刺剤、および徨々な界
面活性剤、を添側することもできる。
ルフェニル化アシルヒドメタン毎物を、揮発性m媒、例
えはアセトン、を用いて、固体の担体上に陸産させるこ
とである。この方法においては、また、助剤、例えは活
性剤、接着剤、殖物用栄誉剤、相刺剤、および徨々な界
面活性剤、を添側することもできる。
乳化注曖厚配合物は、本発明のスルフェニル化アシルヒ
ドラゾンを、農耕上計容される有機俗媒に浴解し、そし
て浴媒に可鹸な乳化剤を茄えることによって製造するこ
とができる。適当な浴媒は、通常、水と混和性であり、
炭化水素、塩素化炭化水素、ケトン、エステル、アルコ
ール、および仔機浴媒として使えるアミド類である。混
合!媒として用いるのが普通である。乳化剤として何月
な界面活性剤は、乳化性濃厚物の約0.5%〜約10%
(重t)であり、アニオン性、カテオ/性、まタハノニ
オン性のいずれでもよい。アニオン性界面活性剤には、
アルコールのテルフエイトまたはスルホネイト、アルキ
ルアレンスルホネイト、スルホチクシネイト等が包含さ
れる。カチオン注界面活性剤には、脂肪酸のアルキルア
ミン塩、および脂肪酸アルキルの4級化物等が包含され
る。ノニオン性乳化剤には、アルキルフェノール、11
fEBアルコール、メルカプタン、および脂肪酸のアル
キレンオキサイr付加物が包含される。活性成分ノIl
k度ハ、約10% 〜約80%(Kit)、好ましくは
FJ25%〜1F750Ls(重fr ) テアル。
ドラゾンを、農耕上計容される有機俗媒に浴解し、そし
て浴媒に可鹸な乳化剤を茄えることによって製造するこ
とができる。適当な浴媒は、通常、水と混和性であり、
炭化水素、塩素化炭化水素、ケトン、エステル、アルコ
ール、および仔機浴媒として使えるアミド類である。混
合!媒として用いるのが普通である。乳化剤として何月
な界面活性剤は、乳化性濃厚物の約0.5%〜約10%
(重t)であり、アニオン性、カテオ/性、まタハノニ
オン性のいずれでもよい。アニオン性界面活性剤には、
アルコールのテルフエイトまたはスルホネイト、アルキ
ルアレンスルホネイト、スルホチクシネイト等が包含さ
れる。カチオン注界面活性剤には、脂肪酸のアルキルア
ミン塩、および脂肪酸アルキルの4級化物等が包含され
る。ノニオン性乳化剤には、アルキルフェノール、11
fEBアルコール、メルカプタン、および脂肪酸のアル
キレンオキサイr付加物が包含される。活性成分ノIl
k度ハ、約10% 〜約80%(Kit)、好ましくは
FJ25%〜1F750Ls(重fr ) テアル。
植物病原性厘の防除剤としての使用には、本発明の化合
物は、当業界に周知の技術によって、所望の殺生物活性
を現出するのに充分な有効量を用いるべきである6通常
、このためには、員耕上に許容される担体に組込んだと
き、保護されるべき場所に、有効量でスルフェニル化ア
クルヒげメタンを用いることができるようにする。しか
しながら、ある櫨の場合には、担体の実質蓋の便用なし
に、保護されるべき場合に、本発明の化合物を直接用い
ることが望ましくかつ有利であることもある。特に、こ
れは、スルフェニル化アシルヒーラシンの物性により、
′低容t1で用いることが知られているものに用いると
き、また、本発明の化合物を液体形感で用^るか、また
は該化合物が高沸点溶媒に実質的に可溶であるとき、に
胃効な方法である。
物は、当業界に周知の技術によって、所望の殺生物活性
を現出するのに充分な有効量を用いるべきである6通常
、このためには、員耕上に許容される担体に組込んだと
き、保護されるべき場所に、有効量でスルフェニル化ア
クルヒげメタンを用いることができるようにする。しか
しながら、ある櫨の場合には、担体の実質蓋の便用なし
に、保護されるべき場合に、本発明の化合物を直接用い
ることが望ましくかつ有利であることもある。特に、こ
れは、スルフェニル化アシルヒーラシンの物性により、
′低容t1で用いることが知られているものに用いると
き、また、本発明の化合物を液体形感で用^るか、また
は該化合物が高沸点溶媒に実質的に可溶であるとき、に
胃効な方法である。
もちろん、適用率は、適用の目的、スルフェニル化アシ
ルヒドラゾンの利用、植物の分裂の頻度咎、に依存する
。
ルヒドラゾンの利用、植物の分裂の頻度咎、に依存する
。
農業用殺細函剤および殺菌剤としての使用のためには、
稀釈しfc噴霧、すなわち噴霧剤として、100ガロン
につキ活性スルフェニル化アクルヒドラゾン成分の約0
.05〜f120ボンげの凝度で用いることかできる。
稀釈しfc噴霧、すなわち噴霧剤として、100ガロン
につキ活性スルフェニル化アクルヒドラゾン成分の約0
.05〜f120ボンげの凝度で用いることかできる。
これらは、通常、約0.1〜FJ10ポンド、/100
ガロン、好ましくは約0.125〜約5ボンド/100
ガロンで用いる。より謎^噴霧では、活性成分は、約2
〜12のファクターまで増加させることができる。希釈
した噴霧では、通常、流出が起るまで植物に適用する。
ガロン、好ましくは約0.125〜約5ボンド/100
ガロンで用いる。より謎^噴霧では、活性成分は、約2
〜12のファクターまで増加させることができる。希釈
した噴霧では、通常、流出が起るまで植物に適用する。
−万、よりtl#いまたは低容址の@霧には、噴霧剤を
ミストとして用いる。
ミストとして用いる。
本発明の化合物は、殺生物剤として利用でき、なお、特
許請求の範囲に記載された本発明の思想および範囲から
逸脱することなしに、本発明の変化および変動がなされ
うろことは容易に理解されよう。
許請求の範囲に記載された本発明の思想および範囲から
逸脱することなしに、本発明の変化および変動がなされ
うろことは容易に理解されよう。
Claims (46)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中、 R^1は、水素、 シアノ、 直鎖、または分枝鎖を有する低級(C_1−C_4)ア
ルキル(ただし、任意的に、イミダゾ リル、トリアゾリル、または、同種、 または異種のハロ、の1個またはそれ 以上で置換されていてもよい)、または、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、 トロ、シアノ、低級(C_1−C_4)アルキル、また
は低級(C_1−C_4)アルコキシの同種または異種
の1個またはそれ以 上で置換されていてもよい)であり、 R^2は、水素、 直鎖、または分枝鎖を有する(C_1−C_1_1)ア
ルキル(ただし、イミダゾリル、トリ アゾリル、または、同種、または異種 のハロの1個またはそれ以上で置換さ れていてもよい)、 低級(C_1−C_4)アルコキシ、 低級(C_1−C_4)チオアルコキシ、 低級(C_2−C_6)アルケニル(ただし、任意的に
、同種、または異種のハロの1 個またはそれ以上で、置換されていて もよい)、 複素環(ただし、任意的に、ハロ、また はニトロ、の同種または異種の1個ま たはそれ以上で置換されていてもよい)、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、低 級(C_1−C_4)アルキル、低級(C_1−C_4
)アルコキシ、またはニトロ、の同種ま たは異種の1個またはそれ以上で置換 されていてもよい)、または、 フェナルキル(phenalkyl)(ただし、このア
ルキル部分は、1〜4個の炭素 原子を含有し、フェニル環は、任意的 に、ハロ(塩素、弗素、臭素または 沃素、シアノ、ニトロ、低級(C_1−C_4)アルキ
ル、低級(C_1−C_4)アルコキシ、または低級(
C_1−C_4)ハロアルキル、の同種または異種の1
個またはそれ以 上で置換されていてもよい)であり、 Zは、低級(C_1−C_4)ハロアルキルであり、お
よび、 Aは、フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニトロ、シ
アノ、ヒドロキシ、(C_1−C_6)アルキル、(C
_1−C_6)ハロアルキル、(C_1−C_6)チオ
アルキル、(C_1−C_6)アルコキシ、(C_1−
C_6)カルブアルコキシ(carbalkoxy)、
アリルオキシ、(C_1−C_6)アルカノイルオキシ
、(C_1−C_6)アルキルアミノ、(C_1−C_
6)ジアルキルアミノ、またはベンジルオキ シ、の同種または異種の1個またはそ れ以上で置換されていてもよい)、 チオフェニル(ただし、任意的に、ハロ、 またはニトロ、の同種または異種の1 個またはそれ以上で置換されていても よい)、 フリル(ただし、任意的にハロ、または ニトロ、の同種または異種の1個また はそれ以上で置換されていてもよい)、 ピリジル、または ナフチルである〕 を有する化合物。 - (2)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素、メチル、またはクロロメチルであり、
R^2は、水素、低級(C_1−C_4)アルキル、低
級(C_1−C_4)ハロアルキル、低級(C_1−C
_4)アルコキシ、またはフェニル(た だし、任意的に、ハロ、低級(C_1−C_4)アルキ
ル、または低級(C_1−C_4)アルコキシ、の同種
または異種の1個、2 個または3個で置換されていてもよい) であり、 Zは、低級(C_1−C_4)ハロアルキルであり、A
は、フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニトロ、シア
ノ、トリフルオロメチル、 低級(C_1−C_6)アルキル、低級(C_1−C_
6)アルコキシ、低級(C_1−C_6)カルブアルコ
キシ、または低級(C_1−C_6)アルカノイルオキ
シ、の同種または異 種の1個、2個、または3個で置換さ れていてもよい)、または チオフェニル(ただし、任意的に、ニト ロ、またはハロで置換されていてもよ い)、またはフルルである〕 を有する、上記第1項記載の化合物。 - (3)式 I において 〔式中 R^1は、水素、またはメチルであり、 R^2は、水素、低級(C_1−C_4)アルコキシ、
またはハロフェニルであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、フェニル(ただし、任意的に、クロロ、フルオロ
、ブロモ、ニトロ、シアノ、 トリフルオロメチル、低級(C_1−C_4)アルキル
、低級(C_1−C_4)アルコキシ、低級(C_1−
C_4)カルブアルコキシ、または低級(C_1−C_
4)アルカノイルオキシ、の同種または異種の1個、2
個、 または3個で置換されていてもよい) チオフェニル(ただし、任意的に、ニト ロ、またはハロで置換されていてもよ い)、または フリルである〕 を有する、上記第2項記載の化合物。 - (4)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−カルボメトキシフェニルである〕を有する、
上記第3項記載の化合物。 - (5)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−メトキシフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (6)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−フルオロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (7)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−ニトロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (8)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,6−ジクロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (9)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−クロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (10)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−クロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (11)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−クロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (12)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、パラ−トリルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (13)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−クロロ−6−フルオロフェニルである〕を有
する、上記第3項記載の化合物。 - (14)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,6−ジクロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (15)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−トリフルオロメチルフェニルである〕を有す
る、上記第3項記載の化合物。 - (16)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−ブロモフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (17)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−クロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (18)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−フルオロエニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (19)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,4−ジクロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (20)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−ブロモフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (21)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,6−ジフルオロフェニルである〕を有する、
上記第3項記載の化合物。 - (22)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、5−ブロモ−2−チオフェニルである〕を有する
、上記第3項記載の化合物。 - (23)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−メトキシフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (24)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−メトキシフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (25)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−メトキシフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (26)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,4−ジメチルベンジルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (27)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2,5−ジメチルベンジルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (28)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−ブロモフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (29)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、2−ブロモフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (30)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−フルオロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (31)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、メトキシであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−シアノフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (32)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、3−ニトロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (33)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−カルボメトキシフェニルである〕を有する、
上記第3項記載の化合物。 - (34)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、水素であり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−アセトキシフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (35)式 I において、 〔式中、 R^1は、水素であり、 R^2は、2−クロロフェニルであり、 Zは、トリクロロメチルであり、 Aは、4−クロロフェニルである〕 を有する、上記第3項記載の化合物。
- (36)特許請求の範囲第1項の化合物、および農耕上
許容される担体を含有する、殺細菌性または殺菌性組成
物。 - (37)特許請求の範囲第2項の化合物、および農耕上
許容される担体を含有する、殺細菌性または殺菌性組成
物。 - (38)特許請求の範囲第3項の化合物、および農耕上
許容された担体を含有する、殺細菌性または殺菌性組成
物。 - (39)特許請求の範囲第1項の化合物の殺細菌用また
は殺菌用有効量を、細菌または菌、または、細菌または
菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接用い
ることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (40)特許請求の範囲第2項の化合物の殺細菌用また
は殺菌用の有効量を、細菌または菌、または、細菌また
は菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接用
いることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (41)特許請求の範囲第3項の化合物の殺細菌用また
は殺菌用の有効量を、細菌または菌、または、細菌また
は菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接用
いることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (42)特許請求の範囲第36項の組成物の殺細菌用ま
たは殺菌用の有効量を、細菌または菌、または、細菌ま
たは菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接
用いることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (43)特許請求の範囲第37項の組成物の殺細菌用ま
たは殺菌用の有効量を、細菌または菌、または、細菌ま
たは菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接
用いることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (44)特許請求の範囲第38項の組成物の殺細菌用ま
たは殺菌用の有効量を、細菌または菌、または、細菌ま
たは菌の攻撃から開放され保護されるべき場所に、直接
用いることから成る、細菌または菌の防除方法。 - (45)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中、 R^1は、水素、 シアノ、 直鎖、または分枝鎖を有する低級(C_1−C_4) アルキル(ただし、任意的に、イミダゾ リル、トリアクリル、または、同種、 または異種のハロの1個またはそれ以 上で、置換されていてもよい)、また は、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニ トロ、シアノ、低級(C_1−C_4)アルキル、また
は低級(C_1−C_4)アルコキシ、の同種または異
種の1個または それ以上で置換されていてもよい)で あり、 R^2は、水素、 直鎖、または分枝鎖を有する(C_1−C_1_1)ア
ルキル(ただし、イミダゾリル、トリ アゾリル、または、同種、または異種 のハロの1個またはそれ以上で置換さ れていてもよい)、 低級(C_1−C_4)アルコキシ、 低級(C_1−C_4)チオアルコキシ、 低級(C_2−C_6)アルケニル(ただし、任意的に
、同種、または異種のハロの 1個またはそれ以上で、置換されてい てもよい)、 複素環(ただし、任意的に、ハロ、また はニトロ、の同種または異種の1個ま たはそれ以上で置換されていてもよい)、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、低 級(C_1−C_4)アルキル、低級(C_1−C_4
)アルコキシ、またはニトロ、の同 種または異種の1個またはそれ以上で 置換されていてもよい)、または、 フェナルキル(phenalkyl)(ただし、このア
ルキル部分は、1〜4個の炭素 原子を含有し、フェニル環は、任意的 に、ハロ、シアノ、ニトロ、低級(C_1−C_4 )
アルキル、低級(C_1−C_4)アルコキシ、または
低級(C_1−C_4)ハロアルキル、の同種または異
種の1個ま たはそれ以上で置換されていてもよい) であり、 Zは、低級(C_1−C_4)ハロアルキルであり、お
よび、 Aは、フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニトロ、シ
アノ、ヒドロキシ、(C_1−C_6)アルキル、(C
_1−C_6)ハロアルキル、(C_1−C_6)チオ
アルキル、(C_1−C_6)アルコキシ、(C_1−
C_6)カルブアルコキシ(carbalkoxy)、
アリルオキシ、(C_1−C_6)アルカノイルオキシ
、(C_1−C_6)アルキルアミノ、(C_1−C_
6)ジアルキルアミノ、またはベンジルオキシ、 の同種または異種の1個またはそれ以上 で置換されていてもよい)、 チオフェニル(ただし、任意的に、ハロ、 またはニトロ、の同種または異種の1個 またはそれ以上で置換されていてもよい)、フリル(た
だし、任意的に、ハロ、または ニトロ、の同種または異種の1個または それ以上で置換されていてもよい)、 ピリジル、または、 ナフチルである〕 を有する化合物の製造方法において、 (イ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼IV を有するカルボニルと、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼V を有するカルボニルヒドラジドとを、実質的に等モル量
において、不活性溶媒または混合溶媒の存在において、
約20℃〜約100℃の温度において、反応させて、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼III を有するヒドラゾン中間体を生成させ、 (ロ)次いで、前記工程(イ)で得られたヒドラゾン中
間体と、 式 Hal−S−ZIII を有するスルフェニル化剤とを、実質的に等モル量にお
いて、不活性溶媒または混合溶媒中において、塩基の存
在において、約0℃〜約110℃の存在において、反応
させて、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I を有するスルフェニル化アシルヒドラゾンを生成させ、
これを単離するか、または、式 I において、R^1、
R^2、A、およびZが、上記に定義した如くであり、
かつHalがハロゲンである他の化合物に転換させるこ
とから成る、上記式 I の化合物の製造方法。 - (46)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 〔式中、 R^1は、水素、 シアノ、 直鎖、または分枝鎖を有する低級(C_1−C_4)ア
ルキル(ただし、任意的に、イミダゾ リル、トリアゾリル、または、同種、 または異種の、ハロ、の1個またはそれ 以上で、置換されていてもよい)、ま たは、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニ、 トロ、シアノ、低級(C_1−C_4)アルキル、また
は低級(C_1−C_4)アルコキシ、の同種または異
種の1個または それ以上で置換されていてもよい)で あり、 R^2は、水素、 直鎖、または分枝鎖を有する(C_1−C_1_1)ア
ルキル(ただし、イミダゾリル、トリ アゾリル、または、同種、または異種 のハロの1個またはそれ以上で置換さ れていてもよい)、 低級(C_1−C_4)アルコキシ、 低級(C_1−C_4)チオアルコキシ、 低級(C_2−C_6)アルケニル(ただし、任意的に
、同種、または異種のハロの 1個またはそれ以上で、置換されてい てもよい)、 複素環(ただし、任意的に、ハロ、また はニトロ、の同種または異種の1個ま たはそれ以上で置換されていてもよい)、 フェニル(ただし、任意的に、ハロ、低 級(C_1−C_4)アルキル、低級(C_1−C_4
)アルコキシ、またはニトロ、の同種ま たは異種の1個またはそれ以上で置換 されていてもよい)、または、 フェナルキル(phinalkyl)(ただし、このア
ルキル部分は、1〜4個の炭素 原子を含有し、フェニル環は、任意的 に、ハロ、シアノ、ニトロ、低級(C_1−C_4)ア
ルキル、低級(C_1−C_4)アルコキシ、または低
級(C_1−C_4)ハロアルキル、の同種または異種
の1個ま たはそれ以上で置換されていてもよい) であり、 Zは、低級(C_1−C_4)ハロアルキルであり、お
よび、 Aは、フェニル(ただし、任意的に、ハロ、ニトロ、シ
アノ、ヒドロキシ、(C_1−C_6)アルキル、(C
_1−C_6)ハロアルキル、(C_1−C_6)チオ
アルキル、(C_1−C_6)アルコキシ、(C_1−
C_6)カルブアルコキシ(carbalkoxy)、
アリルオキシ、(C_1−C_6)アルカノイルオキシ
、(C_1−C_6)アルキルアミノ、(C_1−C_
6)ジアルキルアミノ、またはベンジルオキシ、 の同種または異種の1個またはそれ以上 で置換されていてもよい)、 チオフェニル(ただし、任意的に、ハロ、 またはニトロ、の同種または異種の1個 またはそれ以上で置換されていてもよい)、フリル(た
だし、任意的に、ハロ、または ニトロ、の同種または異種の1個または それ以上で置換換されていてもよい)、 ピリジル、または、 ナフチルである〕 を有する化合物の製造方法において、 (イ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するヒドラゾンと、 式 Hal−S−Z■ を有するスルフェニル化剤とを、実質的に等モル量にお
いて、不活性溶媒または混合溶媒中において、塩基の存
在において、約0℃〜約110℃の存在において、反応
させて、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I を有するスルフェニル化アシルヒドラゾンを生成させ、
これを単離するか、または、式 I において、R^1、
R^2、A、およびZが、上記に定義した如くであり、
かつHalがハロゲンである他の化合物に転換させるこ
とから成る、上記式 I の化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US64161384A | 1984-08-17 | 1984-08-17 | |
| US641613 | 1984-08-17 | ||
| US756160 | 1985-07-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6193155A true JPS6193155A (ja) | 1986-05-12 |
Family
ID=24573111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60180376A Pending JPS6193155A (ja) | 1984-08-17 | 1985-08-16 | スルフエニル化アシルヒドラゾン化合物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6193155A (ja) |
| ZA (1) | ZA856147B (ja) |
-
1985
- 1985-08-14 ZA ZA856147A patent/ZA856147B/xx unknown
- 1985-08-16 JP JP60180376A patent/JPS6193155A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA856147B (en) | 1986-09-24 |
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