JPS62111403A - 混成集積回路の抵抗体形成方法 - Google Patents
混成集積回路の抵抗体形成方法Info
- Publication number
- JPS62111403A JPS62111403A JP60251509A JP25150985A JPS62111403A JP S62111403 A JPS62111403 A JP S62111403A JP 60251509 A JP60251509 A JP 60251509A JP 25150985 A JP25150985 A JP 25150985A JP S62111403 A JPS62111403 A JP S62111403A
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- JP
- Japan
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- resistor
- layer
- insulator
- conductor
- hybrid
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
連続する抵抗体に絶縁体を介在せしめた多層構造に形成
することによって、抵抗体を形成する導体間が狭くでき
高密度実装ができる混成集積回路の印刷抵抗体を形成す
る方法。
することによって、抵抗体を形成する導体間が狭くでき
高密度実装ができる混成集積回路の印刷抵抗体を形成す
る方法。
本発明は、混成集積回路の抵抗体形成方法に係り、とく
に導体間に連続する抵抗体に絶縁体を介在せしめて多層
とした混成集積回路の抵抗体形成方法に関する。
に導体間に連続する抵抗体に絶縁体を介在せしめて多層
とした混成集積回路の抵抗体形成方法に関する。
近年、電子機器は全般に小形化の要望が強く、これに伴
なって使用する電子部品も小形化の傾向にあることはい
うまでもない。これら電子部品たとえば基板上の導体間
に印刷形成する抵抗体も同抵抗値で小形化する混成集積
回路の抵抗体形成方法の開発が強く要望されている。
なって使用する電子部品も小形化の傾向にあることはい
うまでもない。これら電子部品たとえば基板上の導体間
に印刷形成する抵抗体も同抵抗値で小形化する混成集積
回路の抵抗体形成方法の開発が強く要望されている。
第3図は、従来の混成集積回路の抵抗体形成方法の側断
面図である。
面図である。
図において、基板1上に形成した導体2間に1層の抵抗
体3を印刷等により形成している。
体3を印刷等により形成している。
上記従来の混成4J積回路の抵抗体形成方法にあっては
、基板上に形成した導体間に抵抗体を1層のみで形成し
ている。このような1ltjの抵抗体で形成すると混成
集積回路を構成するに当たり、抵抗体の占める面積が大
きくなり、混成集積回路の高密度実装を阻害し小形化を
妨げるという問題点があった。
、基板上に形成した導体間に抵抗体を1層のみで形成し
ている。このような1ltjの抵抗体で形成すると混成
集積回路を構成するに当たり、抵抗体の占める面積が大
きくなり、混成集積回路の高密度実装を阻害し小形化を
妨げるという問題点があった。
本発明は、上記の問題点を解決して連続する抵抗体に絶
縁体を介して多層構成にして小形化を図った混成集積回
路の抵抗体形成方法を提供するものである。
縁体を介して多層構成にして小形化を図った混成集積回
路の抵抗体形成方法を提供するものである。
すなわち、基板上に形成した導体間に形成する抵抗体を
絶縁体を介して連続した多層構成としたことによって解
決される。
絶縁体を介して連続した多層構成としたことによって解
決される。
上記混成集積回路の抵抗体形成方法は、抵抗体を重ねな
がら絶縁体を介して多層に形成すれば、2層の場合は抵
抗体面積が172となり、3層にすれば1/3となり、
混成集積回路を小形化できる。
がら絶縁体を介して多層に形成すれば、2層の場合は抵
抗体面積が172となり、3層にすれば1/3となり、
混成集積回路を小形化できる。
第1図は、本発明の厚膜技術の一実施例を説明明する側
断面図で、第3図と同等の部分については同一符号を付
している。
断面図で、第3図と同等の部分については同一符号を付
している。
図において、基板l上に抵抗を形成する所定間隙をおい
て導体21及び導体22を印刷形成する。この間隙部に
導体21側の間隙の一部を残して第1Fi目の抵抗体3
1を印刷し、次に間隙の一部を残した側の第1層目の抵
抗体31の一部を残して他の部分の全面と、導体22の
一部に接するように第1の絶縁体N41を印刷形成する
。そしてこの第1の絶縁体層41の導体22に接してい
る側の一部を残し第2層目の抵抗体32を、第1層目の
抵抗体31に接続しかつ導体21に接続しない形で印刷
形成する。さらに第2層目の抵抗体32の上に第2の絶
縁体層42を、一方が導体21に接し他方が第2層目の
抵抗体32の端部を残して印刷形成し、最後に第3層目
の抵抗体33が第2層目の抵抗体32と導体21に接続
するように印刷形成した構造である。
て導体21及び導体22を印刷形成する。この間隙部に
導体21側の間隙の一部を残して第1Fi目の抵抗体3
1を印刷し、次に間隙の一部を残した側の第1層目の抵
抗体31の一部を残して他の部分の全面と、導体22の
一部に接するように第1の絶縁体N41を印刷形成する
。そしてこの第1の絶縁体層41の導体22に接してい
る側の一部を残し第2層目の抵抗体32を、第1層目の
抵抗体31に接続しかつ導体21に接続しない形で印刷
形成する。さらに第2層目の抵抗体32の上に第2の絶
縁体層42を、一方が導体21に接し他方が第2層目の
抵抗体32の端部を残して印刷形成し、最後に第3層目
の抵抗体33が第2層目の抵抗体32と導体21に接続
するように印刷形成した構造である。
すなわち、簡単にいえば抵抗体3 (31,32,33
)の両端が導体21と導体22に接続し、折り曲げられ
、その間隙に絶縁体4 (41,42)を介在せしめ3
層構造としたものである。
)の両端が導体21と導体22に接続し、折り曲げられ
、その間隙に絶縁体4 (41,42)を介在せしめ3
層構造としたものである。
第2図は、本発明の薄膜技術の一実施例を説明する側断
面図で、第1図と同等の部分については同一符号を付し
ている。
面図で、第1図と同等の部分については同一符号を付し
ている。
図において、基板1上に形成する導体2及び抵抗体3等
を除く部分及び第1層目の抵抗体31と31′間に所定
の間隔をおいて、図示しない絶縁体を印刷・乾燥しスパ
ッタ・蒸着により形成する。次ぎに第1層目の抵抗体3
1’の端部及び抵抗体31’以外のほぼ全面に絶縁体を
印刷・乾燥したのち、第1の絶縁体層41をスパッタ・
蒸着する。次ぎに印刷した絶縁体を超音波洗浄等により
除去したのち、第2層目の抵抗体32及び導体部に図示
しない絶縁体を印刷・乾燥後第2層目の抵抗体32を第
1層目の抵抗体31′に接続せしめてスパッタ・蒸着す
る。
を除く部分及び第1層目の抵抗体31と31′間に所定
の間隔をおいて、図示しない絶縁体を印刷・乾燥しスパ
ッタ・蒸着により形成する。次ぎに第1層目の抵抗体3
1’の端部及び抵抗体31’以外のほぼ全面に絶縁体を
印刷・乾燥したのち、第1の絶縁体層41をスパッタ・
蒸着する。次ぎに印刷した絶縁体を超音波洗浄等により
除去したのち、第2層目の抵抗体32及び導体部に図示
しない絶縁体を印刷・乾燥後第2層目の抵抗体32を第
1層目の抵抗体31′に接続せしめてスパッタ・蒸着す
る。
同様の方法で第2層目の抵抗体32上の端部を残して第
2の絶縁体層42をスパッタ・蒸着したるのち、第3層
目の抵抗体33を第1層目の抵抗体31と第2層目の抵
抗体32に接続するようにスパッタ・蒸着する。次ぎに
印刷した絶縁体を除去し、導体部以外のほぼ全面に絶縁
体を印刷乾燥し、中間層5及び導体2を蒸着終了後、印
刷した絶縁体を除去した構造である。
2の絶縁体層42をスパッタ・蒸着したるのち、第3層
目の抵抗体33を第1層目の抵抗体31と第2層目の抵
抗体32に接続するようにスパッタ・蒸着する。次ぎに
印刷した絶縁体を除去し、導体部以外のほぼ全面に絶縁
体を印刷乾燥し、中間層5及び導体2を蒸着終了後、印
刷した絶縁体を除去した構造である。
そして、多層抵抗体(厚膜、薄膜を含む)の抵抗値の調
整はサンドブラストあるいはレーザによるトリミングに
より行なうが、サンドブラストの場合は第3層目の抵抗
体を全層トリミングを行ない、レーザトリミングは、パ
ワー調整することにより最上層のみ途中まで、あるいは
最下層までトリミングすることが選択できる。
整はサンドブラストあるいはレーザによるトリミングに
より行なうが、サンドブラストの場合は第3層目の抵抗
体を全層トリミングを行ない、レーザトリミングは、パ
ワー調整することにより最上層のみ途中まで、あるいは
最下層までトリミングすることが選択できる。
なお、本実施例では抵抗体3を3層構造について説明し
たが、3層に限らず2層以上複数層にも適用が可能であ
る。
たが、3層に限らず2層以上複数層にも適用が可能であ
る。
[発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明によれば抵抗体
を多層構成とすることにより、小形化でき高密度実装に
極めて有効である。
を多層構成とすることにより、小形化でき高密度実装に
極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の厚膜技術の一実施例を説明する側断
面図、 第2図は、本発明の薄膜技術の一実施例を説明する側断
面図、 第3図は、従来の混成集積回路の抵抗体形成方法の側断
面図である。 図において、1は基板、2.21.22は導体、3は抵
抗体、4は絶縁体、5は中間層、31.31’は第1層
目の抵抗体、32は第2層目の抵抗体、33は第3層目
の抵抗体、41は第1の絶縁体層、42は第し)ミ3ン
シaffq式%1ミ召〜εU論7q−p−才ぞ黛イクJ
第2図 wS3図
面図、 第2図は、本発明の薄膜技術の一実施例を説明する側断
面図、 第3図は、従来の混成集積回路の抵抗体形成方法の側断
面図である。 図において、1は基板、2.21.22は導体、3は抵
抗体、4は絶縁体、5は中間層、31.31’は第1層
目の抵抗体、32は第2層目の抵抗体、33は第3層目
の抵抗体、41は第1の絶縁体層、42は第し)ミ3ン
シaffq式%1ミ召〜εU論7q−p−才ぞ黛イクJ
第2図 wS3図
Claims (1)
- 基板(1)上に形成した導体(2)間に形成する抵抗体
(3)を絶縁体(4)を介して連続した多層構成とした
ことを特徴とする混成集積回路の抵抗体形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251509A JPS62111403A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 混成集積回路の抵抗体形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251509A JPS62111403A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 混成集積回路の抵抗体形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62111403A true JPS62111403A (ja) | 1987-05-22 |
Family
ID=17223867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60251509A Pending JPS62111403A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 混成集積回路の抵抗体形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62111403A (ja) |
-
1985
- 1985-11-08 JP JP60251509A patent/JPS62111403A/ja active Pending
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