JPS62124501A - 光学式デイスク基板の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、レーザー光線の反射または透過により、記
録された信号の読み出しを行う光学式情報記録用ディス
ク（以下、「光学式ディスク」と称する）基板の製法に
関する。

〔背景技術〕

光学式ディスクには、基板樹脂としてメタクリル樹脂を
用いたビデオディスク、ポリカーボネート樹脂を用いた
コンパクトディスクがそれぞれ市販されている。これら
の光学式ディスクは、情報を凹凸のビットとして基板に
刻んだ再生専用型である。さらに進んだ光学式ディスク
として、トラッキング用の案内溝（以下、「グループ」
と称する）の上に形成された記録材料の光反射率あるい
は光透過率をレーザー光の照射により変化させることに
より情報の記録再生を行うＤＲＡＷ型、および、記録／
再生・消去の繰り返しが可能なＥ・ＤＲＡＷ型がある。

このＤＲＡＷ型、Ｅ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの場合
には、情報記録を行う際に記録材料の結晶−非結晶転移
、あるいは、磁化方向の反転等を行わすため、レーザー
光の照射により記録材料を短時間ではあるが数百°Ｃ以
上に加熱する必要がある。

したがって、このような高温状態になる記録材料に隣接
する光学式ディスク基板としては、高温状態においても
グループが熱変形しない（ここでいう熱変形は、通常の
荷重下での熱変形ではないので、このような熱変形を以
下「熱ダレ」と称する）ような高度な耐熱性が要求され
る。

従来、再生専用型光学式ディスクの基板材料として第１
の要件である光学特性に優れたメタクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂が用いられているが、
このような熱可塑性樹脂を用いて、Ｅ−ＤＲＡＷ型光学
式ディスクの基板を得ると、記録および消去時にその高
温のため樹脂が軟化しグループが変形してしまうという
欠点がある。それゆえ、このような熱可塑性樹脂を、記
録／再生・消去が繰り返し行われ、その信頼性が要求さ
れるＥ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの基板材料として用
いることができない。

〔発明の目的〕

この発明は、このような現状に鑑みて、記録および消去
時におけるレーザー光の照射による熱のためにグループ
が熱ダレを起こすことのない高度な耐熱性（このような
耐熱性を以下「耐熱ブレ性」と称する）を有し、メタク
リル樹脂、ポリカーボネート樹脂と同等の光学的性質を
持つ光学式ディスク基板を得ることができる光学式ディ
スク基板の製法を提供するものである。

〔発明の開示〕

このような目的を達成するために、発明者らは繰り返し
行う記録および消去時の熱に耐え、グループの熱ダレが
生じない光学式ディスク基板の材料について種々検討し
た結果、従来のメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂
等の熱可塑性樹脂に、架橋結合を起こすようなモノマを
均一に混合し、成形を行う際に同時に架橋結合を起こさ
せると、熱可塑性樹脂の持つ光学的均質さを失うことな
く耐熱ダレ性が改善されることを見い出し、ここに、こ
の発明を完成した。

したがって、この発明は、光学的に透明な熱可塑性樹脂
と、ラジカル反応基およびエポキシ基のうち少なくとも
一方を分子あたり２個以上有する架橋性モノマが混合さ
れている樹脂組成物を、前記架橋性モノマの三次元架橋
を起こさせつつ成形する光学式ディスク基板の製法を要
旨としている以下に、この発明の詳細な説明する。

光学的に透明な熱可塑性樹脂としては、特に限定するも
のではないが、光学式ディスクとして要求される低複屈
性、低吸水性、高耐熱性、透明性の観点から、ポリカー
ボネート、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート
、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、および、これ
らビニルポリマを主成分とする共重合体からなる群の中
から選ばれた少なくとも１種が適当である。

架橋性モノマとしては、たとえば、■エステル（メタ）
アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウ
レタン（メタ）アクリレート類。

エーテル（メタ）アクリレート類、アルキド（メタ）ア
クリレート類などの（メタ）アクリル酸類、■トリアリ
ルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリア
リルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタ
レートなどの多官能モノマ、■多官能エポキシ類などが
挙げられ、それぞれ単独で用いられたり、または、２種
以上が併用されたりするが、特にこれらに限定される訳
ではない。

このほか、樹脂組成物には、普通、開始剤（ラジカル開
始剤）および硬化触媒のいずれか一方または両方が用い
られる。開始剤、硬化触媒としては、ジクミルパーオキ
サイド＋　ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ
ーｔｅｒ　ｔ−ブチルパーオキサイド、２・５−ジメチ
ル−２・５−ジー（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキ
シン−３，２・５−ジメチル−２・５−ジー（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシ）ヘキサン、α・α′−ビス（ｔｅ
ｒ　ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼ
ン〔１・４（または１・３）−ビス（ｔ−ブチルパーオ
キシイソプロピルベンゼンともいうコなどの過酸化物、
ビスタミル（日本油脂（株）製）などがあげられ、それ
ぞれ単独で用いられたり、または、２種以上が併用され
たりするがこれらに限定されない。

前記のような原材料を配合して樹脂組成物とする。原材
料の配合割合は、特に限定されないが、熱可塑性樹脂６
０〜９５重量部、架橋性モノマを５〜４０重量部、ラジ
カル開始剤および／または硬化触媒を０．１〜３重量部
用いるようにするのがよい。たとえば、熱可塑性樹脂と
架橋性モノマの合計１００重量％中に、熱可塑性樹脂が
６０〜９５重量％、架橋性モノマが５〜４０重量％、前
記１００重量％に対し、０．１〜３重量％の開始剤およ
び／または硬化触媒とすることなどである。

樹脂組成物の均一混合は、たとえば、以下のようにして
行う。すなわち、樹脂組成物またはその原材料ヲ、トリ
クロロエチレン、クロロホルム。

塩化メチレン、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素、キ
シレン、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素、アセ
トン等のケトン類、四塩化炭素のうちから選んだ単独ま
たは混合溶媒に５〜５０重量％の割合で完全溶解させ均
一混合するのである。

この樹脂組成物の溶液は、溶媒を除きやすくするため、
キャスティング用フィルム上で薄層にしくたとえば、キ
ャスティング用フィルム上に５〜５００μｍの厚みに塗
布または流延し）、十分に乾燥させて均一混合した樹脂
組成物のシートを得る。前記のキャスティング用フィル
ムは、ポリエチレンテレフタレート（以下、ｒＰＥＴＪ
　、！：略ｔ）フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリイミドフィルムなどの前記の
溶媒に不溶のものであり、かつ、離型処理されているも
のが好ましい。このようにして樹脂組成物の混合を行え
ば、均一に、樹脂を溶融させることなく、比較的低温で
より容易に行えるが、これ以外の方法で混合をおこなっ
てもよい。樹脂組成物が均一混合されているか否かは、
光学式ディスク基板として最も重要な透明性、複屈折性
に影響を与えるので重要である。

このようにするなどして均一に混合された樹脂組成物は
、たとえば、前記のシートを粉砕および／または切断す
ることにより、粉末および／またはフレーク状とし、こ
れを射出成形、トランスファー成形、圧縮成形などのい
ずれかの方法を用いて、スタンパが装着されている成形
型で成形を行い、同時に熱架橋（熱硬化）反応を行わせ
る。この際、成形条件は適宜選択する。架橋性モノマの
架橋反応は、開始剤の反応温度に依存するため、加熱時
間、加熱温度は適宜選ばれる。たとえば、加熱温度は１
５０〜２５０℃、加熱時間は３〜３０分程度である。ス
タンパにより、グループ、あるいは、凹凸のピットなど
が付けられる。

このようにするなど、この発明の製法により得られた光
学式ディスク基板は、架橋性モノマが三次元架橋を起こ
していて、ポリカーボネートポリメチルメタクリレート
等の熱可塑性樹脂の持つ光学的均質さを失うことなく、
高い耐熱ダレ性を有する。グループまたは凹凸のピント
などが付けられている面には、必要に応じて記録材料の
膜が設けられ、必要に応じてさらに反射膜、保護膜など
が設けられ、光学式ディスクに仕上げられる。

この発明の製法により得られる光学式ディスク基板は、
記録／再生・消去が繰り返し行われるＥ・ＤＲＡＷ型の
光学式ディスクに適しているが、再生専用型、ＤＲＡＷ
型などの種々の光学式ディスクにも使える。

つぎに、実施例および比較例について説明する（実施例
１） ポリメチルメタクリレート（三菱レイヨン側のアクリペ
ットＶＨ）７０重量部、架橋性モノマとしてトリメチロ
ールプロパントリメタクリレート３０重量部、開始剤と
して２・５−ジメチル−２・５−ジー（ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシ）ヘキシン−３（日本油脂−のバーへキシ
ン２５Ｂ）２重ｉｔ部をトリクロロエチレンに溶解させ
て３０重量％濃度の溶液とし、脱泡装置付反応器で均質
になるまで十分攪拌した。このあと、脱泡を行い、溶液
ブレンド物となった樹脂組成物を得た。この樹脂組成物
を、塗工機を用いてＰＥＴフィルム上に厚み３００℃１
ｍとなるように塗布した。これをそのまま風乾させ、さ
らに、乾燥機で温度６０℃で６分間乾燥させたのち、生
成した樹脂組成物のシートをＰＥＴフィルムから離型し
、さらに、８０℃で１時間乾燥させた。この乾燥後のシ
ートを細かく切断し、フレーク状として、スタンバを装
着した成形型内で、２１０℃、　　２５０　ｋｇ／ｃｒ
ｌの条件で１２分間成形を行い、光学式ディスク基板を
得た。

（実施例２〜５） 第１表に示されている配合の原材料を用いるようにした
ほかは、実施例１と同様にして光学式ディスク基板を得
た。

（比較例１〜２） 比較例１．２とも第１表に示されているように、熱可塑
性樹脂に架橋性モノマおよび開始剤を混合しないで通常
の射出成形を行って、光学式ディスク基板を得た。

実施例１〜５および比較例１．２で得られた各光学式デ
ィスク基板について、物性を調べた結果を第１表に示す
。

第１表より実施例１〜５で得られた光学式ディスク基板
は、比較例１．　２と比べ、ガラス転移温度は下がるも
のの、耐熱ダレ性は良好であることがわかる。これは、
架橋性モノマが三次元架橋をしているためである。また
、実施例１〜５で得られた各光学式ディスク基板は、そ
の他の光学特性も、熱可塑性樹脂が持つ特徴を失ってい
ないことがわかる。吸水率もほぼ同等である。

〔発明の効果〕

この発明にかかる光学式ディスク基板の製法は、以上に
みるように、光学的に透明な熱可塑性樹脂および架橋性
モノマを含む樹脂組成物を用いて、架橋性モノマの三次
元架橋を起こさせつつ成形する（熱硬化成形する）ので
、熱可塑性樹脂の持つ光学的均質さを失うことなく、耐
熱ダレ性の良好な光学式ディスク基板を得ることができ
る。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学的に透明な熱可塑性樹脂と、ラジカル反応基
   およびエポキシ基のうち少なくとも一方を分子あたり２
   個以上有する架橋性モノマが混合されている樹脂組成物
   を、前記架橋性モノマの三次元架橋を起こさせつつ成形
   する光学式ディスク基板の製法。
2. （２）成形することが、スタンパを装着している成形型
   内で行われる特許請求の範囲第１項記載の光学式ディス
   ク基板の製法。
3. （３）スタンパが、トラッキング用の案内溝を付けるた
   めのものである特許請求の範囲第２項記載の光学式ディ
   スク基板の製法。
4. （４）熱可塑性樹脂と架橋性モノマの混合が均一に行わ
   れている特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   に記載の光学式ディスク基板の製法
5. （５）樹脂組成物は、熱可塑性樹脂を６０〜９５重量部
   、架橋性モノマを５〜４０重量部、ラジカル開始剤およ
   び硬化触媒の少なくとも一方を０．１〜３重量部の各割
   合で含むものである特許請求の範囲第１項ないし第４項
   のいずれかに記載の光学式ディスク基板の製法。
6. （６）熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート、ポリスルフ
   ォン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルクロライ
   ド、ポリスチレン、ならびに、ポリメチルメタクリレー
   トおよび／またはポリビニルクロライドおよび／または
   ポリスチレンを主成分とする共重合体からなる群の中か
   ら選ばれた少なくとも１種である特許請求の範囲第１項
   ないし第５項のいずれかに記載の光学式ディスク基板の
   製法。
7. （７）架橋性モノマが、エステル（メタ）アクリレート
   類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ
   ）アクリレート類、エーテル（メタ）アクリレート類、
   メラミン（メタ）アクリレート類、アルキド（メタ）ア
   クリレート類、トリアリルシアヌレート、トリアリルイ
   ソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニル
   ベンゼン、ジアリルフタレートおよび多官能エポキシ類
   からなる群の中から選ばれた少なくとも１種である特許
   請求の範囲第１項記ないし第６項のいずれかに記載の光
   学式ディスク基板の製法。
8. （８）樹脂組成物が、熱可塑性樹脂および架橋性モノマ
   を溶剤に溶解させて混合し、後に溶剤を揮発させて得ら
   れる特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記
   載の光学式ディスク基板の製法。